JPH08323629A - 遠心式研掃材投射装置における研掃材投射領域の制御方法およびその制御装置 - Google Patents

遠心式研掃材投射装置における研掃材投射領域の制御方法およびその制御装置

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JPH08323629A
JPH08323629A JP15217095A JP15217095A JPH08323629A JP H08323629 A JPH08323629 A JP H08323629A JP 15217095 A JP15217095 A JP 15217095A JP 15217095 A JP15217095 A JP 15217095A JP H08323629 A JPH08323629 A JP H08323629A
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JP
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polishing
cleaning material
projection
impeller
projection area
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JP15217095A
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English (en)
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Hitoshi Rokutanda
等 六反田
Hiroaki Suzuki
浩昭 鈴木
Tetsuya Miyashita
哲也 宮下
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Sintokogio Ltd
Original Assignee
Sintokogio Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 インペラの回転により研掃材に遠心力を付与
して研掃材を投射する装置における研掃材投射領域の制
御方法において、被処理品に対応させて研掃材の投射量
や投射速度を変更したとき、研掃材投射領域を所望のも
のに容易に変更できるようにする。 【構成】 研掃材のインペラへの基準供給量と研掃材の
投射領域の中心位置との相関関係、および研掃材の基準
投射速度と研掃材の投射領域の中心位置との相関関係を
予め求めておき、その後、被処理品の形態に対応させて
研掃材のインペラへの供給量および研掃材の投射速度を
特定し、もって、研掃材のインペラへの基準供給量と研
掃材の投射領域の中心位置との相関関係、および研掃材
の基準投射速度と研掃材の投射領域の中心位置との相関
関係に基づき、研掃材投射領域の中心位置を決定するよ
うにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、遠心式研掃材投射装置
における研掃材投射領域の制御方法および研掃材投射領
域の制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】遠心式研掃材投射装置によって投射され
る研掃材は、各種の被処理品に対して研掃材の投射量、
投射速度、投射領域等の点において、被処理品の形状、
被処理面の広さ等の形態に対応した的確な条件で投射さ
れることが望ましい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の遠心式
研掃材投射装置では、被処理品の変更に伴い、その被処
理品に対応した研掃材の投射量あるいは投射速度に変え
ようとすると、研掃材の投射領域の中心位置がずれ、研
掃効率が悪くなるなどの問題があった。従って、従来
は、被処理品が変った場合、研掃材の投射領域の中心位
置を決定するコントロールゲージの研掃材排出口の位置
を変えて投射領域の中心位置を変更するようにしている
が、コントロールゲージの研掃材排出口の位置を決定す
るためには、その被処理品に対して研掃材の投射量ある
いは投射速度の変更に伴う投射領域の変化について多く
のテストを行わなければならず、しかも、コントロール
ゲージの研掃材排出口の位置を決定した後は、研掃投射
装置を分解してコントロールゲージの研掃材排出口の位
置を変更し、その後再度組み立てなければならず、手間
隙が非常にかかるなどの新たな問題が生じている。本発
明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的
は、被処理品に対応させて研掃材の投射量や投射速度を
変更したとき、研掃材投射領域を所望のものに容易に変
更することが可能な遠心式研掃材投射装置における研掃
材投射領域の制御方法および研掃材投射領域の制御装置
を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに第1発明における遠心式研掃材投射装置における研
掃材投射領域の制御方法は、インペラの回転により研掃
材に遠心力を付与して研掃材を投射する遠心式研掃材投
射装置における研掃材投射領域の制御方法であって、前
記研掃材のインペラへの基準供給量と前記研掃材の投射
領域の中心位置との相関関係、および前記研掃材の基準
投射速度と前記研掃材の投射領域の中心位置との相関関
係を予め求めておき、その後、被処理品の形態に対応さ
せて前記研掃材のインペラへの基準供給量および研掃材
の基準投射速度を特定し、もって、前記研掃材のインペ
ラへの基準供給量と前記研掃材の投射領域の中心位置と
の相関関係、および前記研掃材の基準投射速度と前記研
掃材の投射領域の中心位置との相関関係に基づき、研掃
材投射領域の中心位置を決定するようにすることを特徴
とする。
【0005】
【作用】このように構成されたものは、被処理品の形態
に対応した前記研掃材のインペラへの供給量および研掃
材の投射速度を特定すると、予め求めた研掃材のインペ
ラへの基準供給量と研掃材の投射領域の中心位置との相
関関係、およびインペラの基準回転数と研掃材の投射領
域の中心位置との相関関係に基づき、その研掃材の供給
量および投射速度に対応した遠心式研掃材投射装置にお
ける研掃材の投射領域の中心位置を決定することができ
ることとなる。
【0006】なお、前述の研掃材の基準供給量およびイ
ンペラの基準回転数は、その遠心式研掃材投射装置にお
いて一般に多く用いられているものをいう。
【0007】上記の目的を達成するために第2発明にお
ける遠心式研掃材投射装置における研掃材投射領域の制
御装置は、図1に示すように、インペラの回転により研
掃材に遠心力を付与して研掃材を投射する遠心式研掃材
投射装置における研掃材投射領域の制御装置であって、
予め求めた前記研掃材のインペラへの基準供給量と前記
研掃材の投射領域の中心位置との相関関係、および前記
インペラの基準回転数と前記研掃材の投射領域の中心位
置との相関関係に係るデーターを記憶する記憶手段1
と、前記研掃材のインペラへの供給量を特定する供給量
特定機構2と、前記遠心式研掃材投射装置3における研
掃材投射領域の中心位置を変更するコントロールゲージ
を作動するコントロールゲージ作動機構4と、回転数可
変機構を備えた前記インペラ回転駆動用の駆動機構5
と、前記研掃材のインペラへの供給量および研掃材の投
射速度の特定により、前記記憶手段のデーターに基づき
被処理品の形態に対応した前記コントロールゲージの研
掃材排出口の位置を演算してそのコントロールゲージの
研掃材排出口位置に見合ったコントロールゲージの作動
回転量に係る指令信号を前記コントロールゲージ作動機
構4に出す演算手段6と、を具備したことを特徴とす
る。
【0008】
【作用】このように構成されたものは、被処理品の形態
に対応した前記研掃材のインペラへの供給量および研掃
材の投射速度を特定して演算手段1に入力すると、演算
手段6は、供給量特定機構2の開口度と駆動機構5の回
転数とをそれぞれ所望のものにし、さらに記憶手段1に
記憶されている予め求めた研掃材のインペラへの基準供
給量と研掃材の投射領域の中心位置との相関関係、およ
びインペラの基準回転数と研掃材の投射領域との相関関
係に係るデータから必要なデータを読み出し、被処理品
の形態に対応した前記コントロールゲージの研掃材排出
口の位置を演算し、コントロールゲージの研掃材排出口
位置に見合ったコントロールゲージの作動回転量に係る
指令信号を、前記コントロールゲージ作動機構4に出
す。この結果、コントロールゲージ作動機構4は、コン
トロールゲージの研掃材排出口の位置を所望のものにす
べくコントロールゲージを回転させることとなる。
【0009】
【実施例】本発明の実施例について図2〜図4に基づき
詳細に説明する。図2に示すように、研掃室を構成する
キャビネット21の天井の上面には、遠心式研掃材投射
装置3と、コントロールゲージを作動するコントロール
ゲージ作動機構4と、回転数可変機構を備えた前記イン
ペラ回転駆動用の駆動機構5とが、それぞれ設置してあ
り、研掃材投射装置3の研掃材供給口には、研掃材貯蔵
ホッパ22の排出口が、供給量特定機構2および誘導管
23を介して連通接続してある。
【0010】そして、前記供給量特定機構2は、図3お
よび図4に示すように、ホッパ22の排出口にフランジ
24を介して装着され上下方向へ延びるとともに下端部
が円弧状を成す内筒25と、この内筒25の下部に回転
軸26を介して正逆回動可能に装着されて内筒25の下
端開口部の開口度を制御するゲート27と、前記フラン
ジ24に装着されて前記内筒25およびゲート27を包
囲する外筒28と、外筒28の外面に装着されたサーボ
モータ29と、サーボモータ29の出力軸と前記回転軸
26とを連結する伝動手段30と、で構成してある。
【0011】また、研掃材投射装置3においては、図5
および図6に示すように、インペラ31を包囲するカバ
ー本体32の右側壁外面に、中央部に孔33を有する補
助カバー34が装着してあり、孔33にはコロガリ軸受
35が嵌着してある。コロガリ軸受35の内側には短尺
円筒体36が嵌着してあって、円筒体36は前記カバー
本体32の側壁外面に垂直な中心軸を有して垂直面内で
回転可能とされている。
【0012】また、円筒体36には、この円筒体36を
貫通するとともに前記インペラ31に挿入したコントロ
ールゲージ37の右端が、嵌合挿入されかつその鍔部3
7aを円筒体36に掛止させて着脱自在に取り付けてあ
り、コントロールゲージ37は、研掃材排出口37bを
有し、かつその右端には、ゴム製の環状弾性部材38を
介して導入筒39の左端が当接してあり、導入筒39は
コントロールゲージ37と挟持機構40とをもって着脱
自在に挟持されている。そして、挟持機構40は、図6
に示すように、前記円筒体36の右端に装着した押え部
材41を介して前記補助カバー34に取り付けた左右方
向へ延びる支持部材42と、支持部材42に螺着した押
えボルト43とで構成してある(図5参照)。
【0013】また、図6に示すように、前記コロガリ軸
受35における転動体35aの左側位置には環状の充填
部材44が装着してあり、充填部材44は、フェルトま
たは金属繊維を固めて製造した構成を成していてある程
度の伸縮性を有しており、かつ補助カバー34の左面に
取り付けたライナ45により押えられるようにして支持
されている。そして、ライナ45は、下部に凹み46が
形成してあって、ライナ45と円筒体36との間におけ
る上部位置から研掃材が仮に侵入しても、その研掃材は
その凹み46から落下できるようになっている。
【0014】なお、図中47は円筒体36を回転させる
コントロールゲージ作動機構4としての電動シリンダ、
48はインペラ31を回転させる駆動機構5としての減
速機付きモータ、49はカバーライナである。そして、
前記電動シリンダ47の伸縮作動により、コントロール
ゲージ37は円筒体36を介して正逆回転するようにな
っている。
【0015】また、図2に示すように、前記電動シリン
ダ47、減速機付きモータ48、サーボモータ29に
は、マイクロコンピュータ50が電気的に接続してあ
り、マイクロコンピュータ50は、予め求めた前記イン
ペラ31への研掃材の供給量である供給量特定機構2か
らの研掃材の排出量と、前記研掃材の投射領域の中心位
置との相関関係、および前記インペラ31の基準回転数
である減速機付きモータ48の基準回転数と前記研掃材
の投射領域の中心位置との相関関係に係るデーターを記
憶する記憶手段1としての機能と、供給量特定機構2か
らの研掃材の排出量(前記インペラ31への研掃材の供
給量)および研掃材の投射速度の特定により、前記マイ
クロコンピュータ50のデーターに基づき被処理品の形
態に対応した前記コントロールゲージ37の研掃材排出
口37b位置を演算して前記コントロールゲージ作動機
構4に作動の指令信号を出す演算手段6としての機能と
を備えている。
【0016】このように構成したものは、被処理品の形
態に対応した前記研掃材のインペラ31への供給量(研
掃材の投射量)および研掃材の投射速度を特定して演算
手段1に入力すると、演算手段1は、次のような演算を
行う。すなわち、供給量特定機構2のサーボモータ29
を正逆駆動して内筒25の開口度を所望のものにし、か
つ駆動機構5のモータ48の回転数を所望のものにし、
さらにマイクロコンピュータ50に記憶されている予め
求めた研掃材のインペラ31への基準供給量(研掃材の
基準投射量)と研掃材の投射領域の中心位置との相関関
係、およびインペラ31の基準回転数(研掃材の基準投
射速度)と研掃材の投射領域との相関関係に係るデータ
から必要なデータを読み出し、読み出したデータと、決
定した研掃材の投射量および投射速度とをそれぞれ比較
して、被処理品に対応した研掃材の投射領域の中心位置
を得るべく前記コントロールゲージ37の研掃材排出口
37b位置を算出する。
【0017】例えば、この研掃材排出口37b位置を得
るための前記コントロールゲージ37の回転量をγ角度
とすると、γ角度は、研掃材の特定投射量について基準
状態から目標状態の投射流域の中心位置を得るための前
記コントロールゲージ37の回転角度αと、研掃材の特
定投射速度について基準状態から目標状態の投射流域の
中心位置を得るための前記コントロールゲージ37の回
転角度βとを加算して得ることができる。この算出結果
に基づき、前記電動シリンダ47が正転駆動または逆転
駆動されて、コントロールゲージ37の研掃材排出口3
7bの位置は所望のものに変更されることとなる。
【0018】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明
は、前記研掃材のインペラへの基準供給量と前記研掃材
の投射領域の中心位置との相関関係、および前記研掃材
の基準投射速度と前記研掃材の投射領域の中心位置との
相関関係を予め求めておき、その後、被処理品の形態に
対応させて前記研掃材のインペラへの基準供給量および
研掃材の基準投射速度を特定し、もって、前記研掃材の
インペラへの基準供給量と前記研掃材の投射領域の中心
位置との相関関係、および前記研掃材の基準投射速度と
前記研掃材の投射領域の中心位置との相関関係に基づ
き、研掃材投射領域の中心位置を決定するようにしたか
ら、被処理品に対応させて研掃材の投射量や投射速度を
変更したとき、研掃材投射領域を所望のものに容易に変
更することが可能になるなどの優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】第2発明のクレーム対応図である。
【図2】本発明の一実施例の概略正面図である。
【図3】図2のA部拡大縦断面図である。
【図4】図3のB−B断面図である。
【図5】図2のC部拡大図である。
【図6】図5のC−C断面図である。
【符号の説明】
1 記憶手段 2 供給量特定機構 3 研掃材投射装置 4 コントロールゲージ作動機構 5 駆動機構 6 演算手段

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インペラの回転により研掃材に遠心力を
    付与して研掃材を投射する遠心式研掃材投射装置におけ
    る研掃材投射領域の制御方法であって、前記研掃材のイ
    ンペラへの基準供給量と前記研掃材の投射領域の中心位
    置との相関関係、および前記研掃材の基準投射速度と前
    記研掃材の投射領域の中心位置との相関関係を予め求め
    ておき、その後、被処理品の形態に対応させて前記イン
    ペラへの研掃材の供給量および研掃材の投射速度を特定
    し、もって、前記研掃材のインペラへの基準供給量と前
    記研掃材の投射領域の中心位置との相関関係、および前
    記研掃材の基準投射速度と前記研掃材の投射領域の中心
    位置との相関関係に基づき、研掃材投射領域の中心位置
    を決定するようにすることを特徴とする遠心式研掃材投
    射装置における研掃材投射領域の制御方法。
  2. 【請求項2】 インペラの回転により研掃材に遠心力を
    付与して研掃材を投射する遠心式研掃材投射装置におけ
    る研掃材投射領域の制御装置であって、予め求めた前記
    研掃材のインペラへの基準供給量と前記研掃材の投射領
    域の中心位置との相関関係、および前記インペラの基準
    回転数と前記研掃材の投射領域の中心位置との相関関係
    に係るデーターを記憶する記憶手段1と、前記研掃材の
    インペラへの供給量を特定する供給量特定機構2と、前
    記遠心式研掃材投射装置3における研掃材投射領域の中
    心位置を変更するコントロールゲージを作動するコント
    ロールゲージ作動機構4と、回転数可変機構を備えた前
    記インペラ回転駆動用の駆動機構5と、前記研掃材のイ
    ンペラへの供給量および研掃材の投射速度の特定によ
    り、前記記憶手段のデーターに基づき被処理品の形態に
    対応した前記コントロールゲージの研掃材排出口の位置
    を演算してそのコントロールゲージの研掃材排出口位置
    に見合ったコントロールゲージの作動回転量に係る指令
    信号を前記コントロールゲージ作動機構4に出す演算手
    段6と、を具備したことを特徴とする遠心式研掃材投射
    装置における研掃材投射領域の制御装置。
JP15217095A 1995-05-26 1995-05-26 遠心式研掃材投射装置における研掃材投射領域の制御方法およびその制御装置 Pending JPH08323629A (ja)

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