JPH08313712A - 回折格子パターンおよびその作製方法 - Google Patents

回折格子パターンおよびその作製方法

Info

Publication number
JPH08313712A
JPH08313712A JP11845495A JP11845495A JPH08313712A JP H08313712 A JPH08313712 A JP H08313712A JP 11845495 A JP11845495 A JP 11845495A JP 11845495 A JP11845495 A JP 11845495A JP H08313712 A JPH08313712 A JP H08313712A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
diffraction grating
pattern
substrate
photosensitive material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11845495A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshitaka Toda
敏貴 戸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP11845495A priority Critical patent/JPH08313712A/ja
Publication of JPH08313712A publication Critical patent/JPH08313712A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Holo Graphy (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】簡便な装置・動作によって、回折格子からなる
セルを構成単位とするリップマン型の回折格子パターン
を作製できる方法の提供。 【構成】光の反射方向、拡散方向、または光の散乱性
が、領域毎に特定される光反射面を有する光反射体をマ
スター基板とし、前記基板に感光材料を近接して配置
し、感光材料側からコヒーレント光を入射し、感光材料
を透過する光と、感光材料を透過して前記基板で反射さ
れる光とを干渉させ、感光材料に前記基板のパターンを
露光・複製する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板の表面に微細な回
折格子(グレーティング)をセル(ドット)毎に配置す
ることにより形成される回折格子パターンに関し、特
に、レーザー光を干渉させることによって、ドット状の
回折格子からなるパターンを作製する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザー光の2光束干渉によって、基板
の表面に回折格子からなる複数の微少なドットを所望に
配置し、回折格子パターンからなるディスプレイを得る
方法として、以下に挙げる手法が公知である。
【0003】2光束干渉法として、本出願人による特開
昭60−156004号公報や特開平5−241007
号公報などに代表される一連の方法が公知である。この
方法は、2本のコヒーレント光(レーザービーム)を感
光材料上で交叉させ、ドット単位で露光することにより
双方のコヒーレント光を干渉させて、ドットに形成され
る微少な干渉縞(回折格子)を、そのピッチ・方向・光
強度を適宜変化させて、次々と露光記録し、回折格子ド
ット(セル)の集まりからなるパターンを作製する方法
である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】既知の2光束干渉法で
は、複雑な光学系(少なくとも、レーザー光源,シャッ
ター,ビームの分岐手段,ビームを交叉させるための結
像系,感光材料を搭載するステージ,ステージを所望に
駆動させる手段)が必要であると共に、回折格子の空間
周波数(格子縞のピッチ)や方向(格子縞の方向)を変
える際には、空間周波数毎あるいは方向毎に光学系の一
部を制御して、光の入射角度あるいは入射方向を変える
などの機械的動作が必要となる。また、大きいサイズあ
るいは複雑な回折格子パターンを作製する場合には非常
に時間と労力を要する。
【0005】本発明は、大きいサイズあるいは複雑な回
折格子パターンであっても、簡便な装置・動作によって
作製できる方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、下記の公知技術を組み合わせて利用する。
【0007】(1) オパール効果を奏する画像形成体 「回折」ではなく「反射」の物理現象を利用して、特殊
な視覚効果をかもしだす画像形成体として、本出願人に
よる実公昭62−10116号公報に例示されるものが
公知である。
【0008】前記画像形成体は、金属面(反射面)に、
万線状波形凹凸パターン群が複数組集合してなり、且つ
それぞれの前記パターン群における万線方向を種々の方
向に変化させてなるものであり、前記パターン群の断面
形状は略々正弦波状で、ピッチは0.08mm〜0.13mmで、ピ
ッチ幅とエンボス深度の割合が7:1〜10:1、であ
る。
【0009】前記画像形成体は、その表面に形成するエ
ンボスパターンを構成するそれぞれの万線状凹凸パター
ン群における万線方向を種々の方向に振ってあるため、
パターン表面での反射光の反射方向が様々に変化するの
で、見る角度や方向を様々に変化させると、各万線状凹
凸パターン群の濃淡や輝きが動的に変化し(オパール効
果という)、極めて美麗な効果をかもしだすようになっ
ている。
【0010】(2) リップマン型ホログラムのコンタクト
・コピー リップマン型ホログラムのマスター(原版)に感光材料
を密着させ、感光材料側よりコヒーレント光を入射し、
感光材料を透過する光と、感光材料を透過して前記マス
ターから回折されるホログラム画像の再生光とを干渉さ
せ、感光材料に前記マスターのパターンを露光・複製す
る方法も周知である。
【0011】すなわち、本発明で提案する回折格子パタ
ーンの作製方法は、上記(1) の画像形成体(光反射体)
をマスター基板とし、前記基板に感光材料を近接して配
置し、感光材料側からレーザー光などのコヒーレント光
を入射し、感光材料を透過する光と、感光材料を透過し
て前記画像形成体で反射される光とを干渉させ、感光材
料に前記マスターのパターンを露光・複製することによ
って、特定方向にのみ光を反射もしくは拡散する回折格
子、または多方向に光を散乱する回折格子、からなるセ
ルを構成単位とする体積位相型(リップマン型)回折格
子パターンを作製する方法である。
【0012】
【作用】上記公報に例示される2光束干渉法では、感光
材料上に形成される回折格子パターンは、レリーフ型
(干渉縞を凹凸の形態で記録。前記凹凸の深さは、1μ
m以下程度)である。本発明は、リップマン型の回折格
子パターンであり、感光材料の厚さ方向に、干渉縞を透
過率分布や屈折率分布の形態として記録することにな
る。
【0013】コンタクト・コピー法を利用するため、既
存の手法のように、レーザー光を2光束に分割し感光材
料上で交叉させる必要がなく、マスター基板に形成され
た各領域(反射面)をセル単位とするパターンが簡便に
作製される。
【0014】光反射体からの反射光の方向に依存し、作
製される回折格子の空間周波数や方向が変化する。これ
らは、作製された回折格子を観察するときの、視覚可能
な方向や視覚される色などの条件を決定する。
【0015】異なる方向に光を反射(または、拡散・散
乱)する複数の領域を有する光反射体を用いることで、
多方向からの観察を想定したパターンを、ただ一度の露
光によって作製することができる。
【0016】また、上記(1) の画像形成体(光反射体)
は、反射・拡散方向を決定するセル(領域)に形成され
ている万線状波形凹凸パターン群の断面形状は、既存の
回折格子パターンに形成されている格子縞の凹凸よりも
粗いものであるため、任意の前記画像形成体を作製する
ことは、従来方法による回折格子パターンの作製よりも
容易である。
【0017】
【実施例】図1に、本発明による作製方法の概要を示
す。光の反射(拡散)方向が領域毎に特定される光反射
面を有する光反射体(マスター基板)の上に、感光材料
を密接させて載置し、感光材料側から十分な広さの平行
光(コヒーレント光)を入射する。
【0018】図2は、前記マスター基板を構成する領域
である光反射面(鏡面。請求項4に対応)における光の
反射の様子を示している。この場合、入射光に対し、光
反射面の傾斜角θに依存して反射光の出射角γが決定す
る。入射光の入射角がαの時に、γ=2θ−αである。
【0019】図3は、光反射面の前に配置された感光材
料中での光の干渉を示している。すなわち、入射光が感
光材料に入射し、感光材料の透過率に依存して透過した
光が光反射面に到達する。光反射面では前述の反射角γ
で光が反射され、感光材料で入射光と反射光とが干渉し
合い、干渉縞が感光材料中で、透過率分布または屈折率
分布として記録される。
【0020】図1の光反射体上には、これらの光反射面
を領域単位として、前記単位が所望に配置されている。
それぞれの光反射面は、予め決められた方向に光を反射
するため、個々の光反射面に応じて、感光材料中の個々
の領域に、反射光の出射方向に応じた回折格子が形成さ
れる。
【0021】従って、マスター基板の全面に渡る拡げら
れたコヒーレント光を1度露光するだけで、必要な領域
には回折格子パターンが記録される。
【0022】尚、拡げたコヒーレント光をマスター基板
の全面に露光するだけでなく、ビーム状のコヒーレント
光をマスター基板の全面に及ぶように走査露光を行う手
法もある。この場合は、一括露光に比べて露光に要する
時間が増大することは言うまでもないが、感光材料上の
単位面積に関しては露光時間を短くすることができ、光
学系の振動の影響などを受けにくくなる。さらに、露光
位置によって露光強度を適宜調節することも自在とな
る。
【0023】または、位置によって露光/非露光を任意
に選択することによって、感光材料に回折格子パターン
が形成される箇所と形成されない箇所とを設けることが
自在となり、双方の箇所の差異(回折の有無)によっ
て、マスター基板に形成された各領域の組み合わせから
なるパターンとは異なるパターン表示を行うこともでき
る。
【0024】上記の、回折の有無によるパターン表示
は、走査露光によらずに、拡げたコヒーレント光を選択
的に透過させるマスクを介在させて露光することによっ
ても可能である。(請求項7に対応)
【0025】光反射体(マスター基板)が、予め画像や
文字などを表現するように配置されていれば(請求項2
に対応)、得られた回折格子パターンはそれらを表示す
ることができる。
【0026】この際、マスター基板に光反射面・光拡散
面がない領域については、感光材料に回折格子セルが形
成されないため、コントラストの高い像が得られる。
(請求項6,請求項7に対応)
【0027】図4は、マスター基板を構成する領域の反
射面の角度が異なる複数種の光反射体(正反射面・拡散
反射面)の例を示す。同図に示す6種類の反射面は、そ
れぞれが一領域(作製される回折格子1セル)に対応す
る。
【0028】左のマスター基板が、反射面の傾斜角が一
番大きく、前記マスター基板を露光複製する場合に、反
射面からの反射光が全て感光材料に到達しないこと(鋸
歯状なため、遮られる成分)もあるので、感光材料の全
面に渡って回折格子が形成されない部分も生じてしま
う。
【0029】感光材料をマスター基板に対して密接させ
るほど、上記要因は減少し、感光材料の全面に渡って回
折格子が形成される度合いが高くなる。このことは、正
反射面の場合も拡散反射面の場合も、鋸歯状のピッチが
等しいならば、右のマスター基板(反射面の傾斜角が小
さい)ほど顕著となる。また、反射面の傾斜角が等しい
ならば、鋸歯状のピッチが小さい(すなわち、反射面を
細かく分割した)場合に、同じことが言える。
【0030】図5は、各領域が正反射(鏡面反射)する
光反射体の例を示す。すなわち、この光反射体の各領域
(および、マスター基板全体)は、表面が一様な平面で
あり、前記平面の配置角度に依存する方向にのみ入射光
を正反射させる鏡面であって、前記配置角度が一様な場
合であり、特定の方向にのみ光を反射するため(請求項
4に対応)、作製される回折格子セルは非常に単純にな
り、特定の方向に対しては回折光の輝度も高い。特に、
鏡面反射面のない領域が、透光/光吸収特性を有する場
合(請求項6に対応)、このことは一層顕著である。
【0031】図6は、各領域が1方向にのみ光拡散性を
有する(左の図で、反射点から紙面内での反射であり、
反射角度のみが異なって、ある分布を持って反射する)
光反射体の例を示す。拡散光は、各領域の傾斜の分布に
依存して、特定の分布を持って反射するため(請求項5
に対応)、作製される回折格子セルは特定の方向にのみ
光を拡散する機能を有する。拡散方向については、特定
の指向性(紙面内)の中で、広い角度から回折光を観察
することができる一方、それ以外からは回折光を観察し
づらい。
【0032】一方、光反射体として、光を散乱する機能
を有するものを用いると、作製される回折格子は複雑な
ものとなり、光を散乱する性質を持ち、広い範囲から回
折光を観察可能となる。
【0033】尚、本発明では、「拡散」とは特定の指向
性(図6において、一定の面内)を有し、角度に応じた
分布を持って反射することを意味し、「散乱」とは特定
の指向性を持たないで、すなわち、方向も角度も全くラ
ンダムに反射することを意味する。
【0034】図7は、正反射面(鏡面反射面)におけ
る、反射面と作製される回折格子との対応を示す。マス
ター基板の光反射面における万線のピッチDは、通常数
十μm以上のオーダーであり、化学的なエッチングある
いは物理的な切削などにより容易に形成できる。
【0035】一方、感光材料中に形成される回折格子の
ピッチd(通常、サブミクロンオーダー)は、露光時の
入射角と反射角に依存するものであり、従って光反射面
の傾斜角に依存する。
【0036】また、リップマン型(体積位相型)の回折
格子(ホログラム)は、感光材料の表裏からの光線同士
の干渉により、厚さ方向に干渉縞が記録される。レリー
フ型(表面凹凸型)では、感光材料の片面からの光線同
士の干渉による干渉縞が、現像処理によって凹凸の形態
となる。(図11の概念図を参照)
【0037】本発明においては、比較的粗い光反射体
(マスター基板)を作製するだけで、簡便に、複雑で細
かい回折格子を形成することが可能である。
【0038】例えば、図8に示すように、光反射体の外
形を任意の形状にすれば、作製される回折格子も同一の
形状となり、さらに複雑なパターンが非常に容易に形成
できることになる。
【0039】図9に、光反射体(マスター基板)の一例
を示す。例えば、a,bの部分が正反射面、cの部分が
光拡散面で形成されているとすると、作製される回折格
子パターンは図10のようになる。
【0040】すなわち、回折格子パターンの領域A,B
は、それぞれ単純な回折格子で形成されているため、非
常に明るく、しかし限られた方向からのみ回折光が観察
される。
【0041】Cの部分は相対的に鈍く光るが、A,Bに
比べ広い範囲から回折光が観察できる。従って、これら
単純な回折格子と複雑な回折格子との組み合わせによ
り、Cのような部分で観察者の注意を引き、A,Bのよ
うな部分で輝度の高い像を観察させる、などの効果を出
すことができる。
【0042】また、それぞれの光反射体における光の反
射方向を適切に設計することで、これらの観察可能な視
点位置を適当に設定することにより、視点変化に伴い観
察される画像が変化するような効果も容易に実現でき
る。
【0043】さらに、光散乱効果を有するパターンを同
時に形成すると、一層変化に富んだ画像を観察させるこ
とができる。
【0044】
【発明の効果】本発明による顕著な効果を以下に列挙す
る。 a)感光材料およびマスター基板に対して、入射する光
は1光束でよいため、光学系が簡便なもので済み、振動
などの外部からの影響を受けにくく、安定して回折格子
パターンを作製できる。 b)粗い構造の光反射体から細かい回折格子が作製でき
るため、化学エッチングや物理的な切削などの簡易な手
法により、光反射体を適切に作れば、マスター基板を適
宜変更することが可能であり、複雑なパターンも容易に
作製できる。 c)空間周波数毎あるいは回折格子の方向毎に光学系を
制御して、それぞれ独立した露光を行う必要はなく、作
製工程が非常に簡便になる。 d)光反射体は斜面を有しているが、1つ1つの光反射
面の面積が十分小さければ、感光材料との距離は光反射
体上の全ての位置で十分近づけることができ、安定して
高精度な回折格子パターンが作製できる。従って、高画
質な画像も表現できる。 e)光反射体内の領域で平面状の鏡面である光反射面を
用いた場合には、対応する感光材料の部分には、直線的
な格子縞から成る単純な回折格子が記録され、観察可能
な視点は限られるが観察時の輝度が高い回折格子が作製
される。 f)光反射体内の領域で光拡散性の領域を用いた場合、
対応する感光材料の部分には、その拡散性に応じてある
程度広い範囲に光を回折する機能を有する回折格子が記
録され、特定範囲から光って見える比較的視域の広い回
折格子が作製される。 g)光反射体上の光反射面もしくは光拡散面以外の部分
に、光を吸収もしくは透過する機能を持たせることによ
り、光反射体での反射光(もしくは拡散光)のみを干渉
させることができ、S/Nの良い回折格子パターンが作
製できる。 h)光反射体内の領域で光散乱性の領域を用いた場合、
対応する感光材料の部分には、前記領域に対応する部分
は、非常に広い範囲に光を回折する機能を有する回折格
子が記録され、広範囲から光って見える視域の広い回折
格子が作製される。 i)位置によって露光/非露光を任意に選択することに
よって、感光材料に回折格子パターンが形成される箇所
と形成されない箇所とを設けることが自在となり、双方
の箇所の差異(回折の有無)によって、マスター基板に
形成された各領域の組み合わせからなるパターンとは異
なるパターン表示を行うこともできる。 j)複雑な回折格子パターンを簡便かつ安定に、しかも
極めて短時間に作製可能である。しかも、本発明によっ
て得られた回折格子パターンは光反射体に対応する各領
域毎に観察できる視点を設定でき、非常に複雑なものと
なり、視覚効果およびセキュリティ性が高い。
【0045】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による作製方法の概要を示す説明図。
【図2】光反射面(鏡面)における光の反射の様子を示
す説明図。
【図3】感光材料中での光の干渉を示す説明図。
【図4】反射面の角度が異なる複数種の光反射体を示す
説明図。
【図5】各領域が鏡面反射する光反射体を示す説明図。
【図6】各領域が1方向にのみ光拡散性を有する光反射
体を示す説明図。
【図7】反射面と作製される回折格子との対応を示す説
明図。
【図8】反射面の形状と作製される回折格子の形状との
対応を示す説明図。
【図9】光反射体(マスター基板)の一例を示す説明
図。
【図10】図9に対応して作製される回折格子の一例を
示す説明図。
【図11】感光材料における干渉縞記録を概念的に示す
模式図。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光の反射方向、拡散方向、または光の散乱
    性が、領域毎に特定される光反射面を有する光反射体を
    マスター基板とし、 前記基板の光反射面側に感光材料を近接して配置し、 感光材料側よりコヒーレント光を入射し、 感光材料を透過する光と、感光材料を透過して前記基板
    の光反射面で反射する光とを干渉させ、感光材料に干渉
    縞を前記領域に対応した回折格子からなるセルとして記
    録することによって、 前記セルを構成単位とする、前記基板に応じたパターン
    を作製することを特徴とする回折格子パターンの作製方
    法。
  2. 【請求項2】光反射体の各領域を画素とし、前記画素の
    集まりによって、光反射面に任意の画像や文字が形成さ
    れた光反射体をマスター基板として用い、 任意の画像や文字が形成された回折格子パターンを作製
    することを特徴とする請求項1に記載の回折格子パター
    ンの作製方法。
  3. 【請求項3】光反射体の各領域毎に、反射光強度や反射
    角度が任意に異なるマスター基板を用い、前記基板に応
    じて、回折格子パターンの各セルの色や明るさを任意に
    変化させることを特徴とする請求項1または請求項2に
    記載の回折格子パターンの作製方法。
  4. 【請求項4】表面が一様な平面であり、前記平面の配置
    角度に依存する方向にのみ入射光を正反射させる鏡面
    を、光反射体の少なくとも一領域とするマスター基板を
    用いることを特徴とする請求項1〜請求項3の何れかに
    記載の回折格子パターンの作製方法。
  5. 【請求項5】特定方向にのみ光拡散性を有する光拡散性
    反射面を、光反射体の少なくとも一領域とするマスター
    基板を用いることを特徴とする請求項1〜請求項4の何
    れかに記載の回折格子パターンの作製方法。
  6. 【請求項6】光を吸収もしくは透過する部分を有する光
    反射体をマスター基板として用いることにより、前記基
    板に応じて、回折格子の形成される箇所と、回折格子の
    形成されない箇所と、からなるパターンを作製すること
    を特徴とする請求項1〜請求項5の何れかに記載の回折
    格子パターンの作製方法。
  7. 【請求項7】遮光部分によって特定のパターンが形成さ
    れた透光性基板を、感光材料のどちらか片面に近接して
    配置することにより、 マスター基板に応じた回折格子パターンの形成される箇
    所と、 前記透光性基板の遮光部分に応じて、回折格子の形成さ
    れない箇所と、からなる上記特定のパターンを作製する
    ことを特徴とする請求項1〜請求項6の何れかに記載の
    回折格子パターンの作製方法。
  8. 【請求項8】特定方向に光を反射する回折格子、特定方
    向に光を拡散する回折格子、広範囲に光を散乱させる回
    折格子、回折格子の存在しない部分、などから適宜選択
    される少なくとも2種のセルを構成単位とする体積位相
    型回折格子パターン。
JP11845495A 1995-05-17 1995-05-17 回折格子パターンおよびその作製方法 Pending JPH08313712A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11845495A JPH08313712A (ja) 1995-05-17 1995-05-17 回折格子パターンおよびその作製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11845495A JPH08313712A (ja) 1995-05-17 1995-05-17 回折格子パターンおよびその作製方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08313712A true JPH08313712A (ja) 1996-11-29

Family

ID=14737050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11845495A Pending JPH08313712A (ja) 1995-05-17 1995-05-17 回折格子パターンおよびその作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08313712A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11295507A (ja) * 1998-04-16 1999-10-29 Dainippon Printing Co Ltd 光拡散素子及びそれを用いた画像表示システム
JP2008263232A (ja) * 2003-01-15 2008-10-30 Asml Holding Nv Euvリソグラフィシステムのために調整された反射型回折素子の収差測定方法および装置
JP2009020134A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Sharp Corp ホログラム素子、ホログラム素子作製装置、ホログラム素子作製方法、およびホログラム再生装置
JP2009181962A (ja) * 1999-07-08 2009-08-13 Luminit Llc 1または複数の一体型ディフューザを有する光導波路
JP2009532726A (ja) * 2006-04-06 2009-09-10 オーファウデー キネグラム アーゲー 体積ホログラムを有する多層体

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11295507A (ja) * 1998-04-16 1999-10-29 Dainippon Printing Co Ltd 光拡散素子及びそれを用いた画像表示システム
JP2009181962A (ja) * 1999-07-08 2009-08-13 Luminit Llc 1または複数の一体型ディフューザを有する光導波路
JP4689730B2 (ja) * 1999-07-08 2011-05-25 旭化成株式会社 1または複数の一体型ディフューザを有する光導波路
JP2008263232A (ja) * 2003-01-15 2008-10-30 Asml Holding Nv Euvリソグラフィシステムのために調整された反射型回折素子の収差測定方法および装置
JP2009532726A (ja) * 2006-04-06 2009-09-10 オーファウデー キネグラム アーゲー 体積ホログラムを有する多層体
JP2009020134A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Sharp Corp ホログラム素子、ホログラム素子作製装置、ホログラム素子作製方法、およびホログラム再生装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4717221A (en) Diffractive color and texture effects for the graphic arts
JP3268625B2 (ja) 3次元画像表示装置
EP0415230B1 (en) Method for making edge faded holograms
EP0064067B2 (en) Method for generating a diffractive graphical composition
US6097514A (en) Hologram replicating method, and volume hologram
JP2000509851A (ja) 後方スクリーン投射ディスプレイシステムにおいて横方向色一定性を与えるように作製および使用される透過ホログラフィック拡散板
US7423719B2 (en) Optical film using diffraction grating and display device using the same
JP2751721B2 (ja) 回折格子パターンを有するディスプレイ
US4629282A (en) Diffractive color and texture effects for the graphic arts
JP2863533B2 (ja) ホログラフィ・ミラーの製造方法
EP0768565B1 (en) Light-diffusing screen
JPH08313712A (ja) 回折格子パターンおよびその作製方法
US4918469A (en) Diffractive color and texture effects for the graphic arts
US3635539A (en) Wide-angle holographic apparatus
JPH11202112A (ja) 回折光学素子
KR100271742B1 (ko) 투명형 홀로그램을 생성하기 위한 방법
JPH08313713A (ja) 回折格子パターンの作製方法
JP2011118034A (ja) 画像形成体
JP2001116908A (ja) 光学シートおよびそれを用いたディスプレイ
US6052209A (en) Hologram reproduction process and volume hologram
GB2193343A (en) A decorative surface and a method of producing it
KR100206689B1 (ko) 역반사체판 및 이를 이용한 홀로그래픽 스크린 제작 방법
JP2003307626A (ja) ホログラム反射板およびその製造方法
JP3830000B2 (ja) 拡散ホログラム原版及び拡散ホログラム
KR100590519B1 (ko) 3차원 표시장치의 홀로그램소자 제작용 디퓨저 제조방법및 이를 적용한 홀로그램 소자 제작방법

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20031217

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20031224

A521 Written amendment

Effective date: 20040223

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040921