JPH0831328A - Plasma display panel and its manufacture - Google Patents
Plasma display panel and its manufactureInfo
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- JPH0831328A JPH0831328A JP18652894A JP18652894A JPH0831328A JP H0831328 A JPH0831328 A JP H0831328A JP 18652894 A JP18652894 A JP 18652894A JP 18652894 A JP18652894 A JP 18652894A JP H0831328 A JPH0831328 A JP H0831328A
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰという）とその製造方法に係り、
より詳細には、反射層の放電用***の形状を均一にし、
放電特性に優れた反射層を備えたＰＤＰと、該反射層
を、寸法・位置精度良く形成できるＰＤＰの製造方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) and its manufacturing method,
More specifically, the shape of the discharge holes of the reflective layer is made uniform,
The present invention relates to a PDP having a reflective layer having excellent discharge characteristics, and a method for manufacturing the PDP capable of forming the reflective layer with high dimensional and positional accuracy.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＰＤＰ、例えば、直流型ＰＤＰの場合、
その基本構成の例を、図５、６に示す。すなわち、直流
型ＰＤＰは、一定の空間を隔てて絶縁板よりなる前面板
１と背面板２を配し、該両板１、２間に相対向して交差
するアノード電極群（陽極）３とカソード電極群（陰
極）４を設け、また両電極群３、４間に、光のクロスト
ークを防ぎ、両電極群３、４間を一定に隔て、放電空間
を確保するための障壁５を設け、該障壁５により表示セ
ル６と補助セル７を形成し、かつ表示セル６内の背面板
２に反射層８を設けると共に、反射層８のうちの電極３
の上に位置する反射層８に四角形の放電用***９を設
け、更に両電極群３、４間に希ガスを封入した構成とさ
れている。2. Description of the Related Art In the case of a PDP, for example, a DC type PDP,
Examples of the basic configuration are shown in FIGS. That is, in the DC PDP, a front plate 1 and a back plate 2 made of an insulating plate are arranged with a certain space therebetween, and an anode electrode group (anode) 3 that is opposed to and intersects between the both plates 1 and 2. A cathode electrode group (cathode) 4 is provided, and a barrier 5 is provided between the two electrode groups 3 and 4 to prevent light crosstalk and to keep the two electrode groups 3 and 4 at a constant distance to secure a discharge space. A display cell 6 and an auxiliary cell 7 are formed by the barrier 5, the reflective layer 8 is provided on the back plate 2 in the display cell 6, and the electrode 3 of the reflective layer 8 is provided.
A rectangular discharge small hole 9 is provided in the reflective layer 8 located on the upper side, and a rare gas is further sealed between the two electrode groups 3 and 4.
【０００３】そして、このＰＤＰの発光は、補助セル７
における種火放電から荷電粒子などの供給をプライミン
グパス１０を通じて受けながら表示セル６の内部に表示
用放電を起こして紫外線を発生させる。この紫外線によ
って励起された蛍光面１１、１２、１３から可視光を得
る。従って、このカラーＰＤＰでは、高輝度を得るため
のメモリー駆動のため、あるいは色滲み防止のため、表
示セルを形成する障壁は密閉型が必要となる。また螢光
体の発光を有効に利用し、輝度を向上させるために白色
で緻密な反射層８が必要となる。The light emitted from the PDP is the auxiliary cell 7
While receiving the supply of charged particles and the like from the seed fire discharge through the priming path 10, the display discharge is generated inside the display cell 6 to generate ultraviolet rays. Visible light is obtained from the phosphor screens 11, 12, and 13 excited by the ultraviolet rays. Therefore, in this color PDP, the barrier for forming the display cell needs to be hermetically sealed in order to drive the memory to obtain high brightness or prevent color bleeding. In addition, the white and dense reflective layer 8 is required in order to effectively utilize the light emission of the phosphor and to improve the brightness.
【０００４】ところで、このＰＤＰにおける反射層は、
一般的に、絶縁体の上に反射層形成用ペーストを厚膜印
刷法によって印刷し、該反射層形成用ペーストを焼成す
ることで形成している（特開平６−５２０７号公報参
照）。By the way, the reflective layer in this PDP is
Generally, it is formed by printing a reflection layer forming paste on an insulator by a thick film printing method and baking the reflection layer forming paste (see JP-A-6-5207).
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、この厚膜印刷
法を用いて反射層と、放電用***を形成する場合、次の
ような問題がある。すなわち、 反射層形成用ペーストのだれにより、放電用***の
形状および開口面積にバラツキが発生し、このバラツキ
により、各表示セルの発光輝度にバラツキが生じやす
い。 また、放電用***を、絶縁体のアノード電極の上に
正確に位置させる必要があるが、その位置精度の向上に
限度があり、特に、近年の大画面化の際の位置精度を確
保する要請に対応できない。 更に、放電用***が四角形状で、そのコーナー部
が、９０°に近い鋭角に形成されているため、その焼成
時に、焼成収縮が生じて、該***の形状に焼成による歪
みが発生する。そして、この焼成による歪みによって小
穴形状のバラツキを招き、この形状バラツキがセル間の
輝度のバラツキ原因となり、ＰＤＰの表示特性が低下す
る。等の問題がある。However, when the reflective layer and the small holes for discharge are formed by using the thick film printing method, there are the following problems. That is, due to the sagging of the reflection layer forming paste, variations occur in the shape and opening area of the discharge small holes, and this variation easily causes variations in the emission brightness of each display cell. In addition, the discharge small hole needs to be accurately positioned on the anode electrode of the insulator, but there is a limit to the improvement of the position accuracy, and in particular, it is required to secure the position accuracy when the screen is enlarged in recent years. Can't handle. Further, since the discharge small holes are quadrangular and the corners thereof are formed at an acute angle close to 90 °, firing shrinkage occurs during the baking, and distortion due to baking occurs in the shape of the small holes. Then, the distortion due to the firing causes variations in the shape of the small holes, and the variations in the shapes cause variations in the luminance between cells, and the display characteristics of the PDP deteriorate. There is a problem such as.
【０００６】そこで、本発明者は、このような形状バラ
ツキをなくし、位置精度を向上させるために種々、研究
した結果、ＰＤＰにおける障壁を形成する場合に有効な
フォトグラフィ法を用いることによって、焼成による形
状の歪みを低減し、形状および開口面積にバラツキがな
く、位置精度を向上させることが可能な反射層を形成で
きることを究明した。Therefore, the present inventor has conducted various studies in order to eliminate such shape variations and improve the positional accuracy, and as a result, by using a photography method effective in forming a barrier in a PDP, baking is performed. It has been clarified that it is possible to form a reflective layer that can reduce the distortion of the shape due to the shape, has no variation in the shape and the opening area, and can improve the positional accuracy.
【０００７】本発明は、上述した課題に対処して創作し
たものであって、その目的とする処は、反射層の放電用
***の形状を均一にし、放電特性に優れた反射層を備え
たＰＤＰと、該反射層を、寸法・位置精度良く形成でき
るＰＤＰの製造方法を提供することにある。The present invention has been made in response to the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to make the shape of the discharge holes of the reflective layer uniform and to provide a reflective layer having excellent discharge characteristics. An object of the present invention is to provide a PDP and a PDP manufacturing method capable of forming the reflective layer with high dimensional and positional accuracy.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】そして、上記課題を解決
するための手段としての本発明のＰＤＰは、一定の空間
を隔てて一対の絶縁板を配し、該両絶縁板間に複数の電
極群および障壁を設け、該障壁により表示セルを形成
し、かつ該表示セルの底面の少なくとも一部に反射層を
設けると共に、前記電極の上に位置する反射層に放電用
***を設け、該放電用***形状を円形、または多角形の
コーナー部を曲面に形成してなる構成としている。A PDP of the present invention as a means for solving the above-mentioned problems has a pair of insulating plates arranged with a certain space therebetween and a plurality of electrodes between the insulating plates. A group and a barrier are provided, a display cell is formed by the barrier, and a reflective layer is provided on at least a part of the bottom surface of the display cell, and a small hole for discharge is provided in the reflective layer located on the electrode. The small eyelet shape is circular or polygonal corners are formed on the curved surface.
【０００９】また、本発明のＰＤＰの製造方法は、表示
セルの底面の少なくとも一部に形成される反射層が、電
極を形成した絶縁板上の全面に反射層形成用のネガ型感
光性ペーストを塗布してペースト層を得る第一工程と、
該ペースト層を乾燥した後、該ペースト層の反射層形成
部に選択的に紫外線を照射・露光する第二工程と、該第
一および第二工程を必要により数回繰り返して所望とす
る厚みペースト層の反射層形成部を得た後、現像液を用
いて該塗布膜を均一に現像して反射層パターンを得る第
三工程と、該反射層パターンを焼成し、該反射層パター
ン中の有機成分を揮散させ、無機成分のみからなるガラ
ス化した白色の反射層を得る第四工程を経て形成される
構成としている。Further, in the method for manufacturing a PDP of the present invention, the reflective layer formed on at least a part of the bottom surface of the display cell has a negative photosensitive paste for forming the reflective layer on the entire surface of the insulating plate on which the electrode is formed. The first step of applying to obtain a paste layer,
After drying the paste layer, a second step of selectively irradiating and exposing the reflective layer forming portion of the paste layer with ultraviolet rays, and a paste having a desired thickness by repeating the first and second steps several times as necessary. After obtaining the reflective layer forming part of the layer, a third step of uniformly developing the coating film with a developing solution to obtain a reflective layer pattern, and baking the reflective layer pattern to form an organic layer in the reflective layer pattern. It is configured to be formed through a fourth step of volatilizing the components and obtaining a vitrified white reflective layer consisting of only the inorganic components.
【００１０】更に、本発明のＰＤＰの製造方法は、表示
セルの底面の少なくとも一部に形成される反射層が、電
極を形成した絶縁板上に形成する反射層と同等もしくは
それ以上の厚みのポジ型フォトレジストを塗布してポジ
型フォトレジスト層を得る第一工程と、該ポジ型フォト
レジスト層における反射層形成部に選択的に紫外線を照
射・露光する第二工程と、該露光されたポジ型フォトレ
ジスト層の反射層形成部をアルカリ現像液により現像
し、該反射層形成部を除去して開口部を形成する第三工
程と、該開口部に反射層形成用ペーストを充填する第四
工程と、該反射層形成用ペーストが開口部に充填された
ポジ型フォトレジスト層に紫外線を全面照射して現像液
に対して可溶性にした後、該ポジ型フォトレジスト層を
アルカリ現像液により現像し、該ポジ型フォトレジスト
層を除去して反射層形成用ペーストのパターンのみを残
し、反射層パターンを形成する第五工程と、該反射層パ
ターンを焼成し、該反射層パターン中の有機成分を揮散
させ、無機成分のみからなるガラス化した白色の反射層
を得る第六工程を経て形成される構成としている。Further, in the method for manufacturing a PDP of the present invention, the reflective layer formed on at least a part of the bottom surface of the display cell has a thickness equal to or greater than that of the reflective layer formed on the insulating plate on which the electrodes are formed. The first step of applying a positive photoresist to obtain a positive photoresist layer, the second step of selectively irradiating and exposing the reflective layer forming portion of the positive photoresist layer with ultraviolet light, and the exposed step A third step of developing the reflection layer forming portion of the positive photoresist layer with an alkali developing solution to remove the reflection layer forming portion to form an opening, and filling the opening with a reflection layer forming paste. In four steps, the positive photoresist layer whose openings are filled with the reflection layer forming paste is irradiated with ultraviolet rays over the whole surface to make it soluble in a developing solution, and then the positive photoresist layer is made into an alkaline developing solution. Yo The fifth step of developing, removing the positive photoresist layer and leaving only the pattern of the reflection layer forming paste, and forming the reflection layer pattern; and baking the reflection layer pattern to form an organic layer in the reflection layer pattern. It is configured to be formed through a sixth step of volatilizing the components and obtaining a vitrified white reflective layer consisting of only the inorganic components.
【００１１】[0011]
【作用】本発明のＰＤＰは、表示セルの底面の少なくと
も一部に反射層を設けることにより、蛍光体の発光した
可視光を有効に利用でき、また電極の上に位置する反射
層に放電用***を設け、該放電用***形状を円形、また
は多角形のコーナー部を曲面に形成したことにより、該
反射層と放電用***を形成するに際し、その焼成時の焼
成収縮による亀裂の発生を軽減できるように作用する。In the PDP of the present invention, the visible light emitted from the phosphor can be effectively utilized by providing the reflective layer on at least a part of the bottom surface of the display cell, and the reflective layer located on the electrode is used for discharging. By forming a small hole and forming the discharge small hole in a circular shape or a polygonal corner portion into a curved surface, when forming the reflection layer and the discharge small hole, the occurrence of cracks due to firing shrinkage during baking is reduced. Act as you can.
【００１２】また、本発明の請求項２、３のＰＤＰの製
造方法は、ネガ型感光性ペーストまたはポジ型フォトレ
ジストを用い、フォトリソグラフィ法により反射層と放
電用***を形成するので、ガラス化した白色で緻密な反
射層が寸法・位置精度良く形成でき、また電極の上に放
電用***が、所定の形状に、かつバラツキなく形成でき
るように作用する。Further, in the method for manufacturing a PDP according to claims 2 and 3 of the present invention, since the negative type photosensitive paste or the positive type photoresist is used and the reflection layer and the discharge small holes are formed by the photolithography method, vitrification is performed. The white and dense reflective layer can be formed with high dimensional and positional accuracy, and the discharge small holes can be formed on the electrode in a predetermined shape and without variations.
【００１３】[0013]
【実施例】以下、図面を参照しながら、本発明を具体化
した実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１４】−実施例１− 本実施例は、ＤＣ型ＰＤＰであって、前述した従来技術
で説明し、図５に示すように、一定の空間を隔てて絶縁
板よりなる前面板１と背面板２を配し、該両板１、２間
に相対向して交差するアノード電極３とカソード電極４
を設け、また両電極３、４間に、光のクロストークを防
ぎ、両電極部３、４間を一定に隔て、放電空間を確保す
るための障壁５を設け、該障壁５により表示セル６と補
助セル７を形成し、かつ両電極３、４間に希ガスを封入
した構成（図５参照）とし、また背面板２の上面で、表
示セル６内に反射層８を設け、またアノード電極３の上
に位置する反射層８に放電用***９を設けている。そし
て、本実施例のＰＤＰにあっては、放電用***９は、図
１に示すように、四角形の***であって、その各コーナ
ー部９ａを曲面に形成している。-Embodiment 1-This embodiment is a DC type PDP, which is described in the above-mentioned prior art and as shown in FIG. A face plate 2 is arranged, and an anode electrode 3 and a cathode electrode 4 that face each other and intersect between the both plates 1 and 2.
A barrier 5 is provided between the electrodes 3 and 4 to prevent crosstalk of light and to secure a discharge space between the electrodes 3 and 4 by a constant distance. And an auxiliary cell 7 are formed, and a rare gas is sealed between the electrodes 3 and 4 (see FIG. 5). Further, a reflective layer 8 is provided in the display cell 6 on the upper surface of the back plate 2, and the anode is A small hole 9 for discharge is provided in the reflective layer 8 located on the electrode 3. In the PDP of this embodiment, the discharge small holes 9 are square small holes as shown in FIG. 1, and each corner portion 9a is formed into a curved surface.
【００１５】前面板１と背面板２は、ガラス板等よりな
る絶縁基板であって、前面板１の内側には、カソード電
極４を平行に複数本設け、また背面板２の内側には、ア
ノード電極３が、カソード電極と直交するように複数本
設けられている。アノード電極３は、Ｎｉ，Ａｌ等の導
体金属、あるいはこれらの合金、更にこれらの金属に少
量のガラスを混入したペーストを用い、表示電極３ａと
補助電極３ｂからなる。またカソード電極４としては、
酸化インジウム、酸化スズを蒸着した透明電極を用いて
いる。The front plate 1 and the rear plate 2 are insulating substrates made of a glass plate or the like. Inside the front plate 1, a plurality of cathode electrodes 4 are provided in parallel, and inside the rear plate 2, A plurality of anode electrodes 3 are provided so as to be orthogonal to the cathode electrodes. The anode electrode 3 is formed of a display electrode 3a and an auxiliary electrode 3b using a conductive metal such as Ni or Al, or an alloy thereof, or a paste obtained by mixing a small amount of glass into these metals. Further, as the cathode electrode 4,
A transparent electrode formed by depositing indium oxide and tin oxide is used.
【００１６】障壁５は、アノード電極３に平行な三本の
縦障壁５ｂと、カソード電極４に平行で、縦障壁５ｂと
直交する複数本の横障壁５ａで形成し、縦障壁５ｂと横
障壁５ａにより区画された複数個の空間に、カソード電
極４と表示電極３ａにより表示セル６を形成している。
そして、この障壁５を、複数個並列に設け、隣接する障
壁５，５間の空間に、補助電極３ｂとカソード電極４に
より補助セル７を形成している。The barrier 5 is formed by three vertical barriers 5b parallel to the anode electrode 3 and a plurality of horizontal barriers 5a parallel to the cathode electrode 4 and orthogonal to the vertical barrier 5b. A display cell 6 is formed by the cathode electrode 4 and the display electrode 3a in a plurality of spaces partitioned by 5a.
A plurality of the barriers 5 are provided in parallel, and the auxiliary cell 7 is formed by the auxiliary electrode 3b and the cathode electrode 4 in the space between the adjacent barriers 5 and 5.
【００１７】反射層８は、放電用***９からの放電によ
って、螢光体の発光した可視光を有効に利用するための
層であって、反射率が高く白色化したガラス層で形成し
ている。反射層８は、背面板２の上に形成されていて、
通常、その厚みが、１０μｍ〜６０μｍで、４０μｍ程
度が好ましい。そして、反射層８の上に、前記障壁５が
形成されている。放電用***９は、コーナー部９ａに、
曲率半径：５０μｍのアールを形成している。The reflective layer 8 is a layer for effectively utilizing the visible light emitted from the fluorescent substance by the discharge from the discharge holes 9, and is formed of a whitened glass layer having a high reflectance. There is. The reflective layer 8 is formed on the back plate 2,
Usually, the thickness is 10 μm to 60 μm, preferably about 40 μm. The barrier 5 is formed on the reflective layer 8. The discharge small hole 9 is provided at the corner 9a.
A radius of curvature is 50 μm.
【００１８】次に、本実施例のＰＤＰにおける反射層８
の形成方法について説明する。本実施例における反射層
の形成方法は、概略すると、図２に示すように、ネガ
型感光性ペースト層形成工程、紫外線露光工程、反
射層パターン形成工程、焼成工程、の四工程を有す
る。以下、各工程について説明する。Next, the reflection layer 8 in the PDP of this embodiment.
A method of forming the will be described. The method of forming the reflective layer in this embodiment has four steps, namely, a negative photosensitive paste layer forming step, an ultraviolet exposure step, a reflective layer pattern forming step, and a baking step, as shown in FIG. Hereinafter, each step will be described.
【００１９】−ネガ型感光性ペースト層形成工程（第一
工程）− 本工程は、アノード電極３を設けた絶縁板２上の全面に
反射層形成用のネガ型感光性ペーストを塗布してペース
ト層２０を得る工程である（図２ａ参照）。ここで、該
ネガ型感光性ペーストとしては、鉛ホウ珪酸ガラス：４
０〜８０重量部、アルミナ：１０〜３０重量部、酸化チ
タン：１０〜３０重量部の割合で含有する無機粉末、よ
り好ましくは、鉛ホウ珪酸ガラス：６５重量部、アルミ
ナ：２０重量部、酸化チタン：１５重量部の割合で含有
する無機粉末：１００重量部に、紫外線硬化樹脂：２０
〜１００重量部、（好ましくは、５０重量部）と、溶剤
を混合して得たペーストを用いる。ここで、前記無機粉
末としたのは、後工程の焼成によって白色、緻密化する
こと、また障壁５と焼成時の収縮バランス性のよいこ
と、反射率が高いことを考慮したことによる。なお、該
紫外線硬化樹脂としては、紫外線照射により硬化して現
像液に不溶化するもので、例えば、ポリエステルアクリ
レート、ポリエステルメタクリエート等の、少なくとも
１個の不飽和結合を有するポリマー等を用いることがで
き、また溶剤としては、ｎ−ブチルエーテルアセテート
を用いることができる。-Negative-type photosensitive paste layer forming step (first step) -In this step, a negative-type photosensitive paste for forming a reflective layer is applied to the entire surface of the insulating plate 2 provided with the anode electrode 3 to form a paste. This is the step of obtaining the layer 20 (see FIG. 2a). Here, as the negative type photosensitive paste, lead borosilicate glass: 4
0 to 80 parts by weight, alumina: 10 to 30 parts by weight, titanium oxide: 10 to 30 parts by weight of inorganic powder, more preferably lead borosilicate glass: 65 parts by weight, alumina: 20 parts by weight, oxidation Titanium: Inorganic powder contained in a ratio of 15 parts by weight: 100 parts by weight, ultraviolet curing resin: 20
~ 100 parts by weight (preferably 50 parts by weight) and a paste obtained by mixing a solvent are used. Here, the reason why the inorganic powder is used is that it is white and densified by baking in the subsequent step, that the barrier 5 and the shrinkage balance at the time of baking are good, and that the reflectance is high. The ultraviolet curable resin is a resin that is cured by being irradiated with ultraviolet rays and insolubilized in a developing solution. For example, a polymer having at least one unsaturated bond such as polyester acrylate or polyester methacrylate can be used. Also, n-butyl ether acetate can be used as the solvent.
【００２０】−紫外線露光工程（第二工程）− 本工程は、ペースト層２０を乾燥した後、ペースト層２
０の反射層形成部２１に紫外線を照射・露光して、反射
層形成部２１を硬化させる工程である（図２ｂ参照）。
ここで、該紫外線の照射・露光は、補助セル７に該当す
る部分と、放電用***９に該当する部分を遮蔽できるマ
スク２２を用い行う。また、紫外線の照射量は、ペース
ト層２０の底まで露光硬化する量とすることが必要であ
る。-Ultraviolet exposure step (second step) -In this step, after the paste layer 20 is dried, the paste layer 2 is formed.
This is a step of irradiating and exposing the 0 reflective layer forming portion 21 with ultraviolet rays to cure the reflective layer forming portion 21 (see FIG. 2B).
Here, the irradiation / exposure of the ultraviolet rays is performed by using a mask 22 that can shield a portion corresponding to the auxiliary cell 7 and a portion corresponding to the discharge small hole 9. Further, it is necessary that the irradiation amount of ultraviolet rays be an amount by which the bottom of the paste layer 20 is exposed and cured.
【００２１】−反射層パターン形成工程（第三工程）− 本工程は、前二工程を数回繰り返し、所望とする厚みの
反射層形成層２３を得た後、現像液を用いて該反射層形
成層２３を均一に現像して反射層パターン２５を得る工
程である（図２ｃ参照）。すなわち、ペースト層２０の
塗布形成、ペースト層２０の反射層形成部２１に紫外線
照射・露光し、硬化を繰り返し、所望とする厚みの反射
層形成層２３を形成した後、この反射層形成層２３を現
像液で現像し、アノード電極３の表示電極３ａ上に位置
形成される放電用***９を形成する部位と、補助電極３
ｂの部位に該当する非露光部２４を溶出して反射層パタ
ーン２５を得る。ここで、前記現像液としては、前記ペ
ーストに含有される紫外線硬化樹脂の種類に応じて選択
して用いる。-Reflective Layer Pattern Forming Step (Third Step) -This step is repeated the previous two steps several times to obtain a reflective layer forming layer 23 having a desired thickness, and then the developing layer is used to develop the reflective layer. In this step, the formation layer 23 is uniformly developed to obtain the reflection layer pattern 25 (see FIG. 2c). That is, after coating and forming the paste layer 20, irradiating and exposing the reflection layer forming portion 21 of the paste layer 20 with ultraviolet rays, and repeating the curing to form the reflection layer forming layer 23 having a desired thickness, the reflection layer forming layer 23 is formed. Is developed with a developing solution to form a discharge small hole 9 formed on the display electrode 3a of the anode electrode 3, and the auxiliary electrode 3
The non-exposed portion 24 corresponding to the portion b is eluted to obtain the reflective layer pattern 25. Here, the developing solution is selected and used according to the type of the ultraviolet curable resin contained in the paste.
【００２２】−焼成工程（第四工程）− 本工程は、反射層パターン２５を焼成し（図２ｄ参
照）、反射層パターン２５中の有機成分を揮散させ、無
機成分のみからなるガラス化した白色の反射層８を得る
工程である（図２ｅ参照）。ここで、反射層パターン２
５の焼成温度は、４５０℃〜６００℃、好ましくは５８
０℃とする。そして、この焼成により、反射層パターン
２５を形成するペーストの樹脂等の有機成分が揮散し、
焼結・ガラス化した無機成分が残り、この残存した無機
成分が白色の反射層８を形成し、また同時にコーナー部
９ａにアールを有する放電用***９をアノード電極３上
に形成する。-Firing Step (Fourth Step) -In this step, the reflection layer pattern 25 is fired (see FIG. 2d) to volatilize the organic components in the reflection layer pattern 25, and vitrified white consisting of only inorganic components. This is a step of obtaining the reflective layer 8 of (see FIG. 2e). Here, the reflective layer pattern 2
The firing temperature of 5 is 450 ° C to 600 ° C, preferably 58 ° C.
Set to 0 ° C. Then, by this firing, organic components such as resin of the paste forming the reflection layer pattern 25 are volatilized,
The sintered and vitrified inorganic component remains, and the remaining inorganic component forms the white reflective layer 8, and at the same time, the discharge small hole 9 having the radius at the corner 9a is formed on the anode electrode 3.
【００２３】そして、以上の工程により形成した反射層
８は、緻密、白色化した反射率の高いものであり、また
放電用***９は、アノード電極３上に位置ずれなく、か
つ亀裂の発生もなく形成できた。更に、この方法により
形成した反射層８、放電用***９を備えたＰＤＰは、表
示セル間の輝度のバラツキが少なく、大画面化に対応で
きるものであった。The reflective layer 8 formed by the above steps is dense, whitened and has a high reflectance, and the discharge small holes 9 are not displaced on the anode electrode 3 and cracks are not generated. It could be formed without. Further, the PDP provided with the reflective layer 8 and the discharge small holes 9 formed by this method has little variation in the brightness between the display cells and can cope with a large screen.
【００２４】−実施例２− 本実施例のＰＤＰにあっては、図３に示すように、放電
用***９を、円形状***として形成し、反射層８、放電
用***９を、ポジ型フォトレジストを用いるフォトリソ
グラフィ法によって形成している。その他の構成につい
ては、前述した実施例１と同様であるので、その説明を
省略する。Embodiment 2 In the PDP of this embodiment, as shown in FIG. 3, the discharge small holes 9 are formed as circular small holes, and the reflection layer 8 and the discharge small holes 9 are positive type. It is formed by a photolithography method using a photoresist. Other configurations are the same as those in the first embodiment described above, and thus the description thereof is omitted.
【００２５】次に、本実施例のＰＤＰにおける反射層８
の形成方法について説明する。本実施例における反射層
の形成方法は、概略すると、図４に示すように、ポジ
型フォトレジスト層形成工程、紫外線露光工程、開
口部形成工程、反射層形成用ペースト充填工程、反
射層パターン形成工程、焼成工程、の六工程を有す
る。以下、各工程について説明する。Next, the reflective layer 8 in the PDP of this embodiment.
A method of forming the will be described. The method of forming the reflective layer in the present embodiment is roughly shown in FIG. 4, in which a positive photoresist layer forming step, an ultraviolet exposure step, an opening forming step, a reflective layer forming paste filling step, and a reflective layer pattern forming step are performed. There are six steps, a firing step and a firing step. Hereinafter, each step will be described.
【００２６】−ポジ型フォトレジスト層形成工程（第一
工程）− 本工程は、アノード電極３を設けた絶縁板２上にポジ型
フォトレジストを塗布してポジ型フォトレジスト層３０
を得る工程である（図４ａ参照）。ここで、ポジ型フォ
トレジスト層３０の厚みは、絶縁板２上に形成する反射
層８と同等もしくはそれ以上の厚みとする。なお、該ポ
ジ型フォトレジストとしては、ヘキストジャパン製のＡ
Ｚ４９０３を用いた。—Positive Photoresist Layer Forming Step (First Step) — In this step, the positive photoresist layer 30 is formed by applying a positive photoresist onto the insulating plate 2 provided with the anode electrode 3.
(See FIG. 4a). Here, the thickness of the positive photoresist layer 30 is equal to or larger than that of the reflective layer 8 formed on the insulating plate 2. The positive photoresist is A manufactured by Hoechst Japan.
Z4903 was used.
【００２７】−紫外線露光工程（第二工程）− 本工程は、ポジ型フォトレジスト層３０における反射層
形成部３１を、マスク３２を用いて紫外線を照射・露光
する工程である（図４ｂ参照）。ここで、該紫外線の照
射・露光は、補助セル７に該当する部分と、放電用***
９に該当する部分を遮蔽できるマスク３２を用い行う。
また、紫外線の照射量は、ポジ型フォトレジスト層３０
の底まで露光する量とすることが必要である。-Ultraviolet Exposure Step (Second Step) -This step is a step of irradiating and exposing the reflective layer forming portion 31 of the positive photoresist layer 30 with ultraviolet rays using a mask 32 (see FIG. 4b). . Here, the irradiation / exposure of the ultraviolet rays is performed by using a mask 32 capable of shielding a portion corresponding to the auxiliary cell 7 and a portion corresponding to the discharge small hole 9.
In addition, the irradiation amount of ultraviolet rays is set to the positive photoresist layer 30.
It is necessary to set the exposure amount to the bottom.
【００２８】−開口部形成工程（第三工程）− 本工程は、露光されたポジ型フォトレジスト層３０をア
ルカリ現像液により現像し、反射層形成部３１を溶出・
除去して開口部３３を形成する工程である（図４ｃ参
照）。従って、放電用***８、補助セル７に該当する部
位以外のポジ型フォトレジスト層３０がアルカリ現像液
によって現像・溶出することで、開口部３３を得ること
ができる。-Opening Forming Step (Third Step) -In this step, the exposed positive photoresist layer 30 is developed with an alkaline developer to elute the reflection layer forming portion 31.
This is a step of removing and forming the opening 33 (see FIG. 4C). Therefore, the opening 33 can be obtained by developing and eluting the positive photoresist layer 30 other than the portion corresponding to the discharge small hole 8 and the auxiliary cell 7 with the alkaline developer.
【００２９】−反射層形成用ペースト充填工程（第四工
程）− 本工程は、開口部３３に反射層形成用ペースト３４を充
填する工程である（図４ｄ参照）。該反射層形成用ペー
ストは、前述した実施例１で用いた無機粉末に、メタア
クリル系樹脂１〜２０重量部、好ましくは、５重量部と
溶剤を混合して得たペーストを用いる。-Reflective Layer Forming Paste Filling Step (Fourth Step) -This step is a step of filling the opening 33 with the reflective layer forming paste 34 (see FIG. 4d). As the paste for forming the reflection layer, a paste obtained by mixing the inorganic powder used in Example 1 described above with 1 to 20 parts by weight, preferably 5 parts by weight of a methacrylic resin and a solvent is used.
【００３０】−反射層パターン形成工程（第五工程）− 本工程は、反射層形成用ペースト３４が充填されたポジ
型フォトレジスト層３０に紫外線を照射し、残存するポ
ジ型フォトレジスト３０ａを現像液に対して可溶性した
後、アルカリ現像液で現像して、該ポジ型フォトレジス
ト３０ａを除去し、反射層形成用ペースト３４のパター
ンのみを残し、反射層パターン３５を形成する工程であ
る（図４ｅ、図４ｆ参照）。ここで、反射層形成用ペー
スト３４が充填されたポジ型フォトレジスト層３０への
紫外線の照射は、通常、開口部３３に充填した反射層形
成用ペースト３４が、ポジ型フォトレジスト層３０の上
に付着・残存しているので、この付着した反射層形成用
ペースト３４を研磨除去した後に行うか、あるいは反射
層形成用ペースト充填工程（第四工程）の前段階で行う
ようにしている。また、必要に応じて、絶縁体２の裏面
側から紫外線を照射することもある。このようにするこ
とで紫外線を十分に照射できる。そして、アノード電極
３の表示電極３ａ上に位置形成される放電用***９を形
成する部位と、補助電極３ｂの部位に残存するポジ型フ
ォトレジストを除去し、反射層８を形成する反射層パタ
ーン３５を得る。—Reflective Layer Pattern Forming Step (Fifth Step) — In this step, the positive photoresist layer 30 filled with the reflective layer forming paste 34 is irradiated with ultraviolet rays to develop the remaining positive photoresist 30a. After being soluble in the liquid, it is developed with an alkali developing solution to remove the positive photoresist 30a and leave only the pattern of the reflective layer forming paste 34 to form the reflective layer pattern 35 (FIG. 4e, see FIG. 4f). Here, when the positive photoresist layer 30 filled with the reflective layer forming paste 34 is irradiated with ultraviolet rays, the reflective layer forming paste 34 filled in the openings 33 is usually formed on the positive photoresist layer 30. Since it adheres to and remains on the substrate, it is performed after the adhered reflective layer forming paste 34 is removed by polishing, or before the reflective layer forming paste filling step (fourth step). Further, ultraviolet rays may be irradiated from the back surface side of the insulator 2 as needed. By doing so, ultraviolet rays can be sufficiently irradiated. Then, the positive photoresist remaining on the portion of the anode electrode 3 where the discharge small hole 9 is formed on the display electrode 3a and the portion of the auxiliary electrode 3b are removed, and the reflection layer pattern for forming the reflection layer 8 is formed. Get 35.
【００３１】−焼成工程（第六工程）− 本工程は、前述した実施例１における焼成工程と同様で
ある。そして、この焼成により、反射層パターン３５中
の有機成分を揮散させ、無機成分のみからなるガラス化
した白色の反射層８を得ることができ（図４ｇ参照）、
同時に円形状の放電用***９がアノード電極３上に形成
できる。-Firing Step (Sixth Step) -This step is the same as the firing step in Example 1 described above. By this firing, the organic component in the reflective layer pattern 35 is volatilized, and the vitrified white reflective layer 8 consisting of only the inorganic component can be obtained (see FIG. 4g).
At the same time, a circular discharge hole 9 can be formed on the anode electrode 3.
【００３２】そして、以上の工程により形成した反射層
８は、実施例１の場合と同じく、緻密、白色化した反射
率の高いものであり、また放電用***９は、アノード電
極３上に位置ずれなく、かつ亀裂の発生もなく形成でき
た。更に、この方法により形成した反射層８、放電用小
穴９を備えたＰＤＰは、表示セル間の輝度のバラツキが
少なく、大画面化に対応できるものであった。The reflective layer 8 formed by the above steps is dense and white and has a high reflectance as in the case of Example 1, and the discharge small holes 9 are located on the anode electrode 3. It could be formed without displacement and without generation of cracks. Further, the PDP provided with the reflective layer 8 and the discharge small holes 9 formed by this method has little variation in the brightness between the display cells and can cope with a large screen.
【００３３】次に、前述した実施例１、２によるＰＤＰ
の効果を確認するために、反射層と、コーナー部にア
ールを有する四角形の放電用***を、ネガ型感光性ペー
ストを用いたフォトリソグラフィ法により形成した場合
（実施例１）、反射層と、円形状の放電用***を、ポ
ジ型フォトレジストを用いたフォトリソグラフィ法によ
り形成した場合（実施例２）、反射層と、四角形の放
電用***を、厚膜印刷法で形成した場合（従来手法）、
反射層と、四角形の放電用***を、ネガ型感光性ペー
ストを用いたフォトリソグラフィ法により形成した場合
（比較手法）のそれぞれについて、反射層８の形成によ
る放電用***９の位置精度と、焼成による亀裂発生率を
調べた処、表１に示すような結果を得た。なお、位置精
度は、Ｂ５サイズ基板におけるＮｉ電極（アノード電
極）との最大ズレ量で測定し、また亀裂発生率は、複数
個の放電用***から無作為に１００個選出し、その亀裂
のある個数を数えた。Next, the PDP according to the first and second embodiments described above.
In order to confirm the effect of (1), when a reflection layer and a square discharge hole having a rounded corner are formed by a photolithography method using a negative photosensitive paste (Example 1), When the circular discharge holes are formed by a photolithography method using a positive photoresist (Example 2), the reflective layer and the square discharge holes are formed by a thick film printing method (conventional method). ),
For each of the case where the reflective layer and the rectangular discharge small holes are formed by the photolithography method using the negative photosensitive paste (comparative method), the positional accuracy of the discharge small holes 9 by the formation of the reflective layer 8 and the firing When the crack generation rate was examined, the results shown in Table 1 were obtained. The positional accuracy is measured by the maximum deviation amount from the Ni electrode (anode electrode) on the B5 size substrate, and the crack generation rate is 100 randomly selected from a plurality of discharge small holes, and the cracks are present. I counted the number.
【００３４】そして、その結果、従来手法、比較手法の
場合、全ての放電用***に亀裂が認められたのに対し
て、実施例１の場合は、１０％の放電用***に亀裂が認
められただけであり、実施例２の場合には、全く亀裂が
認められなかった。また従来手法の場合、±２０μｍの
ずれが認められたの対して、比較手法、実施例１、２の
場合は、±５μｍのずれが認められたに過ぎなかった。
このことより、本実施例によれば、位置精度が良く、か
つ亀裂の発生しない放電用***を得ることができること
が確認できた。そして、この亀裂発生率、位置精度の差
が、表示セル間に大きな輝度バラツキの相違として表
れ、従来手法、比較手法の場合、ＰＤＰの表示特性の低
下が認められた。As a result, in the conventional method and the comparative method, cracks were observed in all the discharge small holes, whereas in the case of Example 1, 10% of the discharge small holes were cracked. No cracks were observed at all in the case of Example 2. Further, in the case of the conventional method, a deviation of ± 20 μm was recognized, whereas in the case of the comparative method, Examples 1 and 2, a deviation of ± 5 μm was only recognized.
From this, it was confirmed that according to the present example, it is possible to obtain the discharge small holes with good positional accuracy and without generation of cracks. Then, the difference in the crack generation rate and the positional accuracy appears as a large difference in the luminance variation between the display cells, and in the case of the conventional method and the comparative method, the deterioration of the display characteristics of the PDP was recognized.
【００３５】なお、本発明は、上述した実施例に限定さ
れるものでなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で変
形実施できる構成を含む。因に、前述した実施例におい
ては、放電用***を、円形、コーナー部にアールを形成
した四角形のもので説明したが、楕円形、その他多角形
のコーナー部にアールを形成した形状であってもよいこ
とは当然である。更に、前述した各実施例においては、
ＤＣ型ＰＤＰを例にとって説明したが、本発明は、その
他のすべてのＰＤＰにもあてはまることは当然である。The present invention is not limited to the above-described embodiments, but includes configurations that can be modified and implemented within the scope of the present invention. Incidentally, in the above-described embodiment, the discharge eyelet is described as a circular shape and a quadrangular shape with rounded corners, but it may be an elliptical shape or a shape with rounded corners of other polygons. Of course it is good. Furthermore, in each of the above-described embodiments,
Although the DC-type PDP has been described as an example, the present invention is naturally applicable to all other PDPs.
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
の請求項１のＰＤＰによれば、表示セルの底面の少なく
とも一部に反射層を設けることにより、蛍光体の発光し
た可視光を有効に利用でき、また電極の上に位置する反
射層に放電用***を設け、該放電用***を円形、または
多角形のコーナー部を曲面とした形状により、該反射層
と放電用***を形成するに際し、その焼成時の該放電用
***の歪の発生を軽減できるという効果を有する。As is apparent from the above description, according to the PDP of claim 1 of the present invention, the visible light emitted from the phosphor is provided by providing the reflective layer on at least a part of the bottom surface of the display cell. The reflection layer and the discharge small hole can be effectively used, and the discharge small hole is formed in the reflection layer located on the electrode, and the discharge small hole has a circular shape or a polygonal corner portion with a curved surface to form the reflection layer and the discharge small hole. In doing so, there is an effect that it is possible to reduce the occurrence of distortion of the discharge small holes during the firing.
【００３７】また、本発明の請求項２、３のＰＤＰの製
造方法によれば、ネガ型感光性ペーストまたはポジ型フ
ォトレジストを用い、フォトリソグラフィ法により反射
層と放電用***を形成するので、ガラス化した白色で緻
密な反射層が寸法・位置精度良く形成でき、また電極の
上に放電用***が、所定の形状に、かつバラツキなく形
成できるという効果を有する。Further, according to the method for manufacturing a PDP of claims 2 and 3 of the present invention, since the negative photosensitive paste or the positive photoresist is used to form the reflective layer and the discharge small holes by the photolithography method, It has an effect that a vitrified white and dense reflective layer can be formed with high dimensional and positional accuracy, and discharge small holes can be formed on the electrode in a predetermined shape and without variation.
【００３８】従って、本発明によれば、反射層の放電用
***の形状を均一にし、放電特性に優れた反射層を備え
たＰＤＰと、該反射層を、寸法・位置精度良く形成でき
るＰＤＰの製造方法を提供できる。Therefore, according to the present invention, there are provided a PDP having a reflective layer having a uniform discharge hole in the reflective layer and excellent in discharge characteristics, and a PDP capable of forming the reflective layer with high dimensional and positional accuracy. A manufacturing method can be provided.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】 本発明の実施例を示し、放電用***をコーナ
ー部にアールを形成した四角形穴とした場合のＰＤＰの
概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a PDP in which an electric discharge small hole is a square hole having rounded corners according to an embodiment of the present invention.
【図２】 ネガ型感光性ペーストを使用して反射層を形
成する構成を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a structure in which a reflective layer is formed using a negative photosensitive paste.
【図３】 放電用***を円形穴とした場合のＰＤＰの概
略斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view of a PDP in which the discharge small holes are circular holes.
【図４】 ポジ型フォトレジストを使用して反射層を形
成する構成を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a structure in which a reflective layer is formed using a positive photoresist.
【図５】 ＰＤＰの模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a PDP.
【図６】 放電用***を四角形穴とした場合の従来例の
ＰＤＰの概略斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view of a conventional PDP in which the discharge small holes are square holes.
１・・・前面板、２・・・背面板、３・・・アノード電
極、３ａ・・・表示電極、３ｂ・・・補助電極、４・・
・カソード電極、５・・・障壁、５ａ・・・横障壁、５
ｂ・・・縦障壁、６・・・表示セル、７・・・補助セ
ル、８・・・反射層、９・・・放電用***、９ａ・・・
放電用***のコーナー部、１０・・・プライミングパ
ス、１１，１２，１３・・・螢光体、２０・・・ペース
ト層、２１・・・反射層形成部、２２・・・マスク、２
３・・・反射層形成層、２４・・・非露光部、２５・・
・反射層パターン、３０・・・ポジ型フォトレジスト
層、３０ａ・・・残存するポジ型フォトレジスト、３１
・・・反射層形成部、３２・・・マスク、３３・・・開
口部、３４・・・反射層形成用ペースト、３５・・・反
射層パターン1 ... Front plate, 2 ... Back plate, 3 ... Anode electrode, 3a ... Display electrode, 3b ... Auxiliary electrode, 4 ...
・ Cathode electrode, 5 ... Barrier, 5a ... Horizontal barrier, 5
b ... Vertical barrier, 6 ... Display cell, 7 ... Auxiliary cell, 8 ... Reflective layer, 9 ... Discharge small hole, 9a ...
Corners of small holes for discharge, 10 ... Priming path, 11, 12, 13 ... Fluorescent material, 20 ... Paste layer, 21 ... Reflective layer forming section, 22 ... Mask, 2
3 ... Reflective layer forming layer, 24 ... Non-exposed portion, 25 ...
-Reflective layer pattern, 30 ... Positive photoresist layer, 30a ... Remaining positive photoresist, 31
... Reflecting layer forming part, 32 ... Mask, 33 ... Opening part, 34 ... Reflecting layer forming paste, 35 ... Reflecting layer pattern
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 俊宏 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 河井 貴志 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 村上 宏 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 栗山 孝夫 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 宗本 英治 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshihiro Kato 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Inside the broadcasting technology laboratory of Japan Broadcasting Corporation (72) Takashi Kawai 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Broadcasting Technology Institute of Japan Broadcasting Corporation (72) Inventor Hiroshi Murakami 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Inside Broadcasting Technology Laboratory of Japan Broadcasting Association (72) Takao Kuriyama 1-10 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo No. 11 Broadcasting Technology Institute of Japan Broadcasting Corporation (72) Inventor Eiji Munemoto 1-10-11 Kinuta, Setagaya-ku, Tokyo Inside Broadcasting Technology Laboratory of Japan Broadcasting Corporation
Claims (3)
し、該両絶縁板間に複数の電極群および障壁を設け、該
障壁により表示セルを形成し、かつ該表示セルの底面の
少なくとも一部に反射層を設けると共に、該電極の上に
位置する反射層に放電用***を設け、該放電用***形状
を円形、または多角形のコーナー部を曲面に形成してな
ることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。1. A pair of insulating plates are arranged with a constant space therebetween, a plurality of electrode groups and barriers are provided between the insulating plates, and a display cell is formed by the barriers, and a bottom surface of the display cell is formed. A reflecting layer is provided at least in part, and a small hole for discharge is provided in the reflecting layer located on the electrode, and the small hole for discharge is formed in a circular shape or a polygonal corner portion is formed in a curved surface. Plasma display panel.
し、該両絶縁板間に複数の電極群および障壁を設け、該
障壁により表示セルを形成し、かつ該表示セルの底面の
少なくとも一部に反射層を設けると共に、前記電極の上
に位置する反射層に放電用***を設けてなるプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法であって、該反射層が、前
記絶縁板上の全面に反射層形成用のネガ型感光性ペース
トを塗布してペースト層を得る第一工程と、該ペースト
層を乾燥した後、該ペースト層の反射層形成部に選択的
に紫外線を照射・露光する第二工程と、該第一および第
二工程を必要により数回繰り返して所望とする厚みペー
スト層の反射層形成部を得た後、現像液を用いて該塗布
膜を均一に現像して反射層パターンを得る第三工程と、
該反射層パターンを焼成し、該反射層パターン中の有機
成分を揮散させ、無機成分のみからなるガラス化した白
色の反射層を得る第四工程を経て形成されることを特徴
とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。2. A pair of insulating plates are arranged with a constant space therebetween, a plurality of electrode groups and barriers are provided between the insulating plates, and the display cells are formed by the barriers. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: providing a reflective layer on at least a part of the reflective layer; and providing a discharge hole in the reflective layer located on the electrode, wherein the reflective layer reflects on the entire surface of the insulating plate. A first step of applying a negative photosensitive paste for layer formation to obtain a paste layer, and a second step of drying the paste layer and then selectively irradiating and exposing the reflection layer forming portion of the paste layer with ultraviolet rays. After the step and the first and second steps are repeated several times as necessary to obtain a reflection layer forming part of a desired thickness paste layer, the coating film is uniformly developed using a developing solution to form a reflection layer pattern. The third step of obtaining
A plasma display panel, which is formed through a fourth step of baking the reflective layer pattern to volatilize the organic component in the reflective layer pattern to obtain a vitrified white reflective layer consisting of only an inorganic component. Manufacturing method.
し、該両絶縁板間に複数の電極群および障壁を設け、該
障壁により表示セルを形成し、かつ該表示セルの底面の
少なくとも一部に反射層を設けると共に、前記電極の上
に位置する反射層に放電用***を設けてなるプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法であって、該反射層が、前
記絶縁板上に形成する反射層と同等もしくはそれ以上の
厚みのポジ型フォトレジストを塗布してポジ型フォトレ
ジスト層を得る第一工程と、該ポジ型フォトレジスト層
における反射層形成部に選択的に紫外線を照射・露光す
る第二工程と、該露光されたポジ型フォトレジスト層の
反射層形成部をアルカリ現像液により現像し、該反射層
形成部を除去して開口部を形成する第三工程と、該開口
部に反射層形成用ペーストを充填する第四工程と、該反
射層形成用ペーストが開口部に充填されたポジ型フォト
レジスト層に紫外線を全面照射して現像液に対して可溶
性にした後、該ポジ型フォトレジスト層をアルカリ現像
液により現像し、該ポジ型フォトレジスト層を除去して
反射層形成用ペーストのパターンのみを残し、反射層パ
ターンを形成する第五工程と、該反射層パターンを焼成
し、該反射層パターン中の有機成分を揮散させ、無機成
分のみからなるガラス化した白色の反射層を得る第六工
程を経て形成されることを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。3. A pair of insulating plates are arranged with a constant space therebetween, a plurality of electrode groups and barriers are provided between the insulating plates, and the display cells are formed by the barriers. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising: providing a reflective layer at least at a part thereof; and providing a discharge hole in the reflective layer located on the electrode, wherein the reflective layer is formed on the insulating plate. First step of applying a positive photoresist having a thickness equal to or greater than that of the layer to obtain a positive photoresist layer, and selectively irradiating / exposing ultraviolet rays on the reflection layer forming portion of the positive photoresist layer The second step, the third step of developing the reflective layer forming portion of the exposed positive photoresist layer with an alkali developing solution to remove the reflective layer forming portion to form an opening, and the opening step Reflective layer forming page And a fourth step of filling the reflective layer forming paste into the opening to solubilize it in a developing solution by irradiating the whole surface of the positive type photoresist layer with ultraviolet rays. Is developed with an alkali developing solution, the positive type photoresist layer is removed to leave only the pattern of the reflective layer forming paste, and a fifth step of forming the reflective layer pattern and baking the reflective layer pattern A method for producing a plasma display panel, which is formed through a sixth step of volatilizing an organic component in a layer pattern to obtain a vitrified white reflective layer made of only an inorganic component.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18652894A JP3565905B2 (en) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | Plasma display panel and manufacturing method thereof |
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| JPH0831328A true JPH0831328A (en) | 1996-02-02 |
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ID=16190079
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3565905B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000003763A (en) * | 1998-06-29 | 2000-01-25 | 김영환 | Method for forming transparent electrode of plasma display panel |
| US6670063B1 (en) | 1999-06-09 | 2003-12-30 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Fuel cell system |
| JP2006310162A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Ttt:Kk | Discharge type display device |
| KR100787467B1 (en) * | 2007-02-16 | 2007-12-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | Display apparatus and the fabrication method thereof |
-
1994
- 1994-07-14 JP JP18652894A patent/JP3565905B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3565905B2 (en) | 2004-09-15 |
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