JPH08311065A - ベンゾフラン誘導体およびそれを含んでなる医薬組成物 - Google Patents
ベンゾフラン誘導体およびそれを含んでなる医薬組成物Info
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- JPH08311065A JPH08311065A JP5595096A JP5595096A JPH08311065A JP H08311065 A JPH08311065 A JP H08311065A JP 5595096 A JP5595096 A JP 5595096A JP 5595096 A JP5595096 A JP 5595096A JP H08311065 A JPH08311065 A JP H08311065A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】すぐれた血糖および血中脂質低下作用を有する
新規化合物を提供する。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、 【化２】 はカチオンを放出しうる基を、Ｒ1は炭素鎖を介して結
合していてもよく、置換されていてもよい複素環残基
を、Ｒ2は水素等を、Ｙは炭素数１〜８の２価または３
価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示し、ベンゼン環は
さらに置換されていてもよい。］で表される化合物また
はその塩。
新規化合物を提供する。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、 【化２】 はカチオンを放出しうる基を、Ｒ1は炭素鎖を介して結
合していてもよく、置換されていてもよい複素環残基
を、Ｒ2は水素等を、Ｙは炭素数１〜８の２価または３
価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示し、ベンゼン環は
さらに置換されていてもよい。］で表される化合物また
はその塩。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は血糖および血中脂質
低下作用を有する新規ベンゾフラン誘導体およびそれを
含んでなる糖尿病治療剤に関する。
低下作用を有する新規ベンゾフラン誘導体およびそれを
含んでなる糖尿病治療剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】糖尿病の治療剤としては、従来から種々
のビグアナイド系化合物およびスルホニルウレア系化合
物が用いられてきた。しかし、ビグアナイド系化合物は
乳酸アシドーシスを引き起こすため、現在ほとんど用い
られておらず、またスルホニルウレア系化合物は強力な
血糖低下作用を有するが、しばしば重篤な低血糖を引き
起こし、使用上の注意が必要である。また、このような
欠点のない血糖および脂質低下作用を有するテトラゾー
ル、２,４−オキサゾリジンジオンおよび２,４−チアゾ
リジンジオン誘導体が知られている。テトラゾール誘導
体は、例えば、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミ
ストリー（Journal of Medicinal Chemistry）、３５
巻、９４４頁（１９９２年）、米国特許第４,８４５,２
１３号（１９８９）、ＥＰ６０４,９８３−Ａ１（１９
９３）などに、２,４−オキサゾリジンジオン誘導体
は、例えば、特開平３−１７０４７８号、ＷＯ９２０２
５２０−Ａ１などに、２,４−チアゾリジンジオン誘導
体は、特開昭６１−８５３７２号、特開昭６４−１３０
８８号、特開平１−２７２５７３号、特開平１−２７２
５７４号、特開平２−１６７２２５号、特開平３−９０
０７８号、特開平５−１５７５２２号、特開平６−８０
６６７号、特開平５−２１３９１３号、特開平６−９６
２９号、ＷＯ９４２２８５７、ＥＰ６０４,９８３−Ａ
１、特開平３−２１７３号、特開平４−６６５７９号、
特開平４−６９３８３号などに記載されている。
のビグアナイド系化合物およびスルホニルウレア系化合
物が用いられてきた。しかし、ビグアナイド系化合物は
乳酸アシドーシスを引き起こすため、現在ほとんど用い
られておらず、またスルホニルウレア系化合物は強力な
血糖低下作用を有するが、しばしば重篤な低血糖を引き
起こし、使用上の注意が必要である。また、このような
欠点のない血糖および脂質低下作用を有するテトラゾー
ル、２,４−オキサゾリジンジオンおよび２,４−チアゾ
リジンジオン誘導体が知られている。テトラゾール誘導
体は、例えば、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミ
ストリー（Journal of Medicinal Chemistry）、３５
巻、９４４頁（１９９２年）、米国特許第４,８４５,２
１３号（１９８９）、ＥＰ６０４,９８３−Ａ１（１９
９３）などに、２,４−オキサゾリジンジオン誘導体
は、例えば、特開平３−１７０４７８号、ＷＯ９２０２
５２０−Ａ１などに、２,４−チアゾリジンジオン誘導
体は、特開昭６１−８５３７２号、特開昭６４−１３０
８８号、特開平１−２７２５７３号、特開平１−２７２
５７４号、特開平２−１６７２２５号、特開平３−９０
０７８号、特開平５−１５７５２２号、特開平６−８０
６６７号、特開平５−２１３９１３号、特開平６−９６
２９号、ＷＯ９４２２８５７、ＥＰ６０４,９８３−Ａ
１、特開平３−２１７３号、特開平４−６６５７９号、
特開平４−６９３８３号などに記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、テトラ
ゾール、２,４−オキサゾリジンジオンあるいは２,４−
チアゾリジンジオンなど各種５員複素環誘導体について
種々検討を加えた結果、各々、５位置換基上にベンゾフ
ラン環を有する新規誘導体が血糖および脂質低下作用を
有することを見いだし、本発明を完成した。
ゾール、２,４−オキサゾリジンジオンあるいは２,４−
チアゾリジンジオンなど各種５員複素環誘導体について
種々検討を加えた結果、各々、５位置換基上にベンゾフ
ラン環を有する新規誘導体が血糖および脂質低下作用を
有することを見いだし、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式
般式
【化９】 ［式中、
【化１０】 はカチオンを放出しうる基（ただし、
【化１１】 は単結合または二重結合を示す。）を、Ｒ1は炭素鎖を
介して結合していてもよく、置換されていてもよい複素
環残基を、Ｒ2は水素、ハロゲン原子、置換されていて
もよい炭化水素残基、保護されていてよい水酸基または
保護されていてよいアミノ基を、Ｙは炭素数１〜８の２
価または３価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示し、ベ
ンゼン環はさらに置換されていてもよい。］で表される
化合物またはその塩、および、一般式（Ｉ）で表される
化合物（ベンゾフラン誘導体）またはその薬理学的に許
容しうる塩を有効成分として含有してなる医薬組成物を
提供するものである。
介して結合していてもよく、置換されていてもよい複素
環残基を、Ｒ2は水素、ハロゲン原子、置換されていて
もよい炭化水素残基、保護されていてよい水酸基または
保護されていてよいアミノ基を、Ｙは炭素数１〜８の２
価または３価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示し、ベ
ンゼン環はさらに置換されていてもよい。］で表される
化合物またはその塩、および、一般式（Ｉ）で表される
化合物（ベンゾフラン誘導体）またはその薬理学的に許
容しうる塩を有効成分として含有してなる医薬組成物を
提供するものである。
【０００５】上記一般式（Ｉ）中、部分構造式
【化１２】 で示されるカチオンを放出しうる基は、化学的に（例え
ば、酸化、還元あるいは加水分解などの化学反応など）
または生物学的に、すなわち生理的条件下（例えば、生
体内酵素による酸化、還元あるいは加水分解などの生体
内反応など）で、カチオンを放出しうる基またはそれに
変じ得る基であってもよい。カチオンを放出しうる基と
しては、例えば（１）カチオンを放出しうる５員の複素
環基、（２）シアノ基、（３）カルボキシル基、（４）
Ｃ2-7アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル等）、（５）Ｃ7-11アリールオ
キシカルボニル基（例、フェニルオキシカルボニル，ナ
フチルオキシカルボニル等）、（６）炭素原子以外に例
えば窒素原子，硫黄原子，酸素原子等のヘテロ原子を１
ないし４個含む５または６員複素環−オキシカルボニル
基（例、ピリジルオキシカルボニル，チエニルオキシカ
ルボニル等）、（７）スルホン酸基、（８）Ｃ1-4アル
キル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチルなど）でモノ置換されていてもよ
いスルファモイル基、（９）ホスホン酸基、（１０）ジ
−Ｃ1-4アルコキシホスホリル基（例、ジメトキシホス
ホリル，ジエトキシホスホリル，ジプロポキシホスホリ
ル等）、（１１）Ｃ1-4アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチルな
ど）でモノ置換されていてもよいカルバモイル基、（１
２）Ｃ2-7アルキルスルホニルチオカルバモイル基
（例、メチルスルホニルチオカルバモイル，エチルスル
ホニルチオカルバモイル等）および（１３）トリフルオ
ロメタンスルホン酸アミド基（−ＮＨＳＯ2ＣＦ3）等が
挙げられる。
ば、酸化、還元あるいは加水分解などの化学反応など）
または生物学的に、すなわち生理的条件下（例えば、生
体内酵素による酸化、還元あるいは加水分解などの生体
内反応など）で、カチオンを放出しうる基またはそれに
変じ得る基であってもよい。カチオンを放出しうる基と
しては、例えば（１）カチオンを放出しうる５員の複素
環基、（２）シアノ基、（３）カルボキシル基、（４）
Ｃ2-7アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル等）、（５）Ｃ7-11アリールオ
キシカルボニル基（例、フェニルオキシカルボニル，ナ
フチルオキシカルボニル等）、（６）炭素原子以外に例
えば窒素原子，硫黄原子，酸素原子等のヘテロ原子を１
ないし４個含む５または６員複素環−オキシカルボニル
基（例、ピリジルオキシカルボニル，チエニルオキシカ
ルボニル等）、（７）スルホン酸基、（８）Ｃ1-4アル
キル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチルなど）でモノ置換されていてもよ
いスルファモイル基、（９）ホスホン酸基、（１０）ジ
−Ｃ1-4アルコキシホスホリル基（例、ジメトキシホス
ホリル，ジエトキシホスホリル，ジプロポキシホスホリ
ル等）、（１１）Ｃ1-4アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチルな
ど）でモノ置換されていてもよいカルバモイル基、（１
２）Ｃ2-7アルキルスルホニルチオカルバモイル基
（例、メチルスルホニルチオカルバモイル，エチルスル
ホニルチオカルバモイル等）および（１３）トリフルオ
ロメタンスルホン酸アミド基（−ＮＨＳＯ2ＣＦ3）等が
挙げられる。
【０００６】上記カチオンを放出しうる５員の複素環基
としては、Ｎ、Ｏ、Ｓから選ばれた１ないし４個を環構
成原子とする５員の複素環基、例えば、
としては、Ｎ、Ｏ、Ｓから選ばれた１ないし４個を環構
成原子とする５員の複素環基、例えば、
【化１３】 などが挙げられる。
【０００７】カチオンを放出しうる基は、好ましくは、
カチオンを放出しうる５員の複素環基である。なかで
も、式
カチオンを放出しうる５員の複素環基である。なかで
も、式
【化１４】 で表される基がさらに好ましい。カチオンを放出しうる
基は、特に好ましくは、式
基は、特に好ましくは、式
【化１５】 で表される基である。
【０００８】Ｒ1で示される、炭素鎖を介して結合して
いてもよく、置換されていてもよい複素環残基は、直接
−Ｏ−に結合しているものでもよく、炭素鎖を介して−
Ｏ−に結合しているものでもよいが、炭素鎖を介して結
合しているものが好ましい。炭素鎖は、直鎖状であって
も分枝状であってもよく、また飽和であっても不飽和で
あってもよい。炭素鎖は、好ましくは炭素数１〜８の２
価の炭化水素基であり、炭素数１〜４のものがさらに好
ましい。複素環残基としては、環構成原子として少なく
とも１個の窒素原子を含む５または６員環または縮合環
が挙げられる。該複素環残基は、不飽和結合を有する芳
香環であるものが好ましく、環構成原子として２個以上
の窒素原子を有していてもよく、また、窒素原子の他に
酸素原子，イオウ原子などの異項原子を有していてもよ
い。該複素環残基の具体例としては、例えば、ピロリル
（２−ピロリル）、ピラゾリル（３−ピラゾリル）、イ
ミダゾリル（２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、
トリアゾリル（１,２,３−トリアゾール−４−イル、
１,２,４−トリアゾール−３−イル）、テトラゾリル、
オキサゾリル（２−オキサゾリル、４−オキサゾリ
ル）、チアゾリル（２−チアゾリル、４−チアゾリル）
などが挙げられる。これらの複素環残基は、環の任意の
位置に１個以上の置換基を有していてもよく、該置換基
としては炭化水素残基、複素環基またはアミノ基が挙げ
られ、これらはさらに置換基を有していてもよい。
いてもよく、置換されていてもよい複素環残基は、直接
−Ｏ−に結合しているものでもよく、炭素鎖を介して−
Ｏ−に結合しているものでもよいが、炭素鎖を介して結
合しているものが好ましい。炭素鎖は、直鎖状であって
も分枝状であってもよく、また飽和であっても不飽和で
あってもよい。炭素鎖は、好ましくは炭素数１〜８の２
価の炭化水素基であり、炭素数１〜４のものがさらに好
ましい。複素環残基としては、環構成原子として少なく
とも１個の窒素原子を含む５または６員環または縮合環
が挙げられる。該複素環残基は、不飽和結合を有する芳
香環であるものが好ましく、環構成原子として２個以上
の窒素原子を有していてもよく、また、窒素原子の他に
酸素原子，イオウ原子などの異項原子を有していてもよ
い。該複素環残基の具体例としては、例えば、ピロリル
（２−ピロリル）、ピラゾリル（３−ピラゾリル）、イ
ミダゾリル（２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、
トリアゾリル（１,２,３−トリアゾール−４−イル、
１,２,４−トリアゾール−３−イル）、テトラゾリル、
オキサゾリル（２−オキサゾリル、４−オキサゾリ
ル）、チアゾリル（２−チアゾリル、４−チアゾリル）
などが挙げられる。これらの複素環残基は、環の任意の
位置に１個以上の置換基を有していてもよく、該置換基
としては炭化水素残基、複素環基またはアミノ基が挙げ
られ、これらはさらに置換基を有していてもよい。
【０００９】該炭化水素残基としては、脂肪族炭化水素
残基、脂環族炭化水素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残
基、芳香脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基が挙
げられる。脂肪族炭化水素残基としては、例えば炭素数
１〜８の脂肪族炭化水素残基が挙げられる。このような
脂肪族炭化水素残基としては、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ネオペンチル、tert−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシ
ル、ヘプチル、オクチルなどの炭素数１〜８の飽和脂肪
族炭化水素残基（例、アルキル基）、好ましくは炭素数
１〜４のもの、および、例えば、エテニル、１−プロペ
ニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、
３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペン
テニル、２ーペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセニル、３
−ヘキセニル、２，４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニ
ル、１−ヘプテニル、１−オクテニル、エチニル、１−
プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチ
ニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニ
ル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニ
ル、３−ヘキシニル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘ
キシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなど炭素数
２〜８の不飽和脂肪族炭化水素残基（例、アルケニル
基、アルカジエニル基、アルキニル基、アルカジイニル
基）、好ましくは炭素数２〜４のものが挙げられる。
残基、脂環族炭化水素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残
基、芳香脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基が挙
げられる。脂肪族炭化水素残基としては、例えば炭素数
１〜８の脂肪族炭化水素残基が挙げられる。このような
脂肪族炭化水素残基としては、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ネオペンチル、tert−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシ
ル、ヘプチル、オクチルなどの炭素数１〜８の飽和脂肪
族炭化水素残基（例、アルキル基）、好ましくは炭素数
１〜４のもの、および、例えば、エテニル、１−プロペ
ニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、
３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペン
テニル、２ーペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセニル、３
−ヘキセニル、２，４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニ
ル、１−ヘプテニル、１−オクテニル、エチニル、１−
プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチ
ニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニ
ル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニ
ル、３−ヘキシニル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘ
キシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなど炭素数
２〜８の不飽和脂肪族炭化水素残基（例、アルケニル
基、アルカジエニル基、アルキニル基、アルカジイニル
基）、好ましくは炭素数２〜４のものが挙げられる。
【００１０】脂環族炭化水素残基としては、例えば炭素
数３〜７の脂環族炭化水素残基が挙げられる。このよう
な脂環族炭化水素残基としては、例えば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素
残基（例、シクロアルキル基）、好ましくは炭素数５ま
たは６のもの、および １−シクロペンテニル、２−シ
クロペンテニル、３−シクロペンテニル、１−シクロヘ
キセニル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニ
ル、１−シクロヘプテニル、２−シクロヘプテニル、３
−シクロヘプテニル、２，４−シクロヘプタジエニルな
どの炭素数５〜７の不飽和脂環族炭化水素残基（例、シ
クロアルケニル基、シクロアルカジエニル基）、好まし
くは炭素数５または６のものが挙げられる。脂環族−脂
肪族炭化水素残基としては、上記脂環族炭化水素残基と
脂肪族炭化水素残基とが結合したもののうち、炭素数４
〜９のものが挙げられる。このような脂環族−脂肪族炭
化水素残基としては、例えば、シクロプロピルメチル、
シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロペ
ンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３−シク
ロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２−シク
ロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチル、シ
クロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、シクロ
ヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどが挙げられ
る。芳香脂肪族炭化水素残基としては、例えば炭素数７
〜１３の芳香脂肪族炭化水素残基が挙げられる。このよ
うな芳香脂肪族炭化水素残基としては、例えば、ベンジ
ル、フェネチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプ
ロピル、２−フェニルプロピル、１−フェニルプロピル
など炭素数７〜９のフェニルアルキル、α−ナフチルメ
チル、α−ナフチルエチル、β−ナフチルメチル、β−
ナフチルエチルなど炭素数１１〜１３のナフチルアルキ
ルが挙げられる。芳香族炭化水素残基としては、例え
ば、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素残基が挙げられ
る。このような芳香族炭化水素残基としては、例えば、
フェニル、ナフチル（α−ナフチル、β−ナフチル）な
どが挙げられる。
数３〜７の脂環族炭化水素残基が挙げられる。このよう
な脂環族炭化水素残基としては、例えば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素
残基（例、シクロアルキル基）、好ましくは炭素数５ま
たは６のもの、および １−シクロペンテニル、２−シ
クロペンテニル、３−シクロペンテニル、１−シクロヘ
キセニル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニ
ル、１−シクロヘプテニル、２−シクロヘプテニル、３
−シクロヘプテニル、２，４−シクロヘプタジエニルな
どの炭素数５〜７の不飽和脂環族炭化水素残基（例、シ
クロアルケニル基、シクロアルカジエニル基）、好まし
くは炭素数５または６のものが挙げられる。脂環族−脂
肪族炭化水素残基としては、上記脂環族炭化水素残基と
脂肪族炭化水素残基とが結合したもののうち、炭素数４
〜９のものが挙げられる。このような脂環族−脂肪族炭
化水素残基としては、例えば、シクロプロピルメチル、
シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロペ
ンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３−シク
ロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２−シク
ロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチル、シ
クロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、シクロ
ヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどが挙げられ
る。芳香脂肪族炭化水素残基としては、例えば炭素数７
〜１３の芳香脂肪族炭化水素残基が挙げられる。このよ
うな芳香脂肪族炭化水素残基としては、例えば、ベンジ
ル、フェネチル、１−フェニルエチル、３−フェニルプ
ロピル、２−フェニルプロピル、１−フェニルプロピル
など炭素数７〜９のフェニルアルキル、α−ナフチルメ
チル、α−ナフチルエチル、β−ナフチルメチル、β−
ナフチルエチルなど炭素数１１〜１３のナフチルアルキ
ルが挙げられる。芳香族炭化水素残基としては、例え
ば、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素残基が挙げられ
る。このような芳香族炭化水素残基としては、例えば、
フェニル、ナフチル（α−ナフチル、β−ナフチル）な
どが挙げられる。
【００１１】該複素環基は、環構成原子として炭素以外
にＮ、ＯおよびＳから選ばれた１ないし３個の原子を含
む５または６員環であって、炭素を介して結合する基で
あり、その具体例としては、例えば、チエニル（２−チ
エニル、３−チエニル）、フリル（２−フリル、３−フ
リル）、ピリジル（２−ピリジル、３−ピリジル、４−
ピリジル）、チアゾリル（２−チアゾリル、４−チアゾ
リル、５−チアゾリル）、オキサゾリル（２−オキサゾ
リル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イミダ
ゾリル（２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イ
ミダゾリル）、ピリミジニル（２−ピリミジニル、４−
ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミジニ
ル）、ピラジニル、ピリダジニル（３−ピリダジニル、
４−ピリダジニル、５−ピリダジニル、６−ピリダジニ
ルなどの不飽和のもの、ピペリジニル（２−ピペリジニ
ル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル）、ピロリジ
ニル（２−ピロリジニル、３−ピロリジニル）、モルホ
リニル（２−モルホリニル、３−モルホリニル）、テト
ラヒドロフリル（２−テトラヒドロフリル、３−テトラ
ヒドロフリル）などの飽和のものが挙げられる。
にＮ、ＯおよびＳから選ばれた１ないし３個の原子を含
む５または６員環であって、炭素を介して結合する基で
あり、その具体例としては、例えば、チエニル（２−チ
エニル、３−チエニル）、フリル（２−フリル、３−フ
リル）、ピリジル（２−ピリジル、３−ピリジル、４−
ピリジル）、チアゾリル（２−チアゾリル、４−チアゾ
リル、５−チアゾリル）、オキサゾリル（２−オキサゾ
リル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イミダ
ゾリル（２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イ
ミダゾリル）、ピリミジニル（２−ピリミジニル、４−
ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミジニ
ル）、ピラジニル、ピリダジニル（３−ピリダジニル、
４−ピリダジニル、５−ピリダジニル、６−ピリダジニ
ルなどの不飽和のもの、ピペリジニル（２−ピペリジニ
ル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル）、ピロリジ
ニル（２−ピロリジニル、３−ピロリジニル）、モルホ
リニル（２−モルホリニル、３−モルホリニル）、テト
ラヒドロフリル（２−テトラヒドロフリル、３−テトラ
ヒドロフリル）などの飽和のものが挙げられる。
【００１２】該アミノ基は置換されていてもよく、置換
されたアミノ基としては、Ｎ−モノ置換アミノ基および
Ｎ,Ｎ−ジ置換アミノ基が挙げられる。「Ｎ−モノ置換
アミノ基」とは、置換基１個を有するアミノ基を意味
し、該置換基の例としては、例えば、低級アルキル基
（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチルなど炭素数１〜４のもの）、シクロア
ルキル基（例、シクロペンチル、シクロヘキシルなど炭
素数３〜７のもの）、アリール基（例、フェニル、ナフ
チルなど炭素数６〜１４のもの）、芳香族複素環基
（例、ピリジル、チエニル、フリル、オキサゾリル、チ
アゾリルなど）、非芳香族複素環基（例、ピペリジニ
ル、ピロリジニル、モルホリニルなど）、アラルキル基
（例、ベンジル、フェネチルなど炭素数７〜１３のも
の）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル等のアル
カノイル基などの炭素数１〜６のもの）、カルバモイル
基、Ｎ−モノ置換カルバモイル基（例、Ｎ−メチルカル
バモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカル
バモイルなど）、Ｎ,Ｎ−ジ置換カルバモイル基（例、
Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチ
ルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルな
ど）、低級アルコキシカルボニル基（例、メトキシカル
ボニル，エトキシカルボニル，プロポキシカルボニルな
ど炭素数２〜５のもの）、ヒドロキシル基、低級アルコ
キシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シなど炭素数１〜４のもの）、アラルキルオキシ基
（例、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、ナフチルメ
チルオキシなど炭素数７〜１３のもの）などが挙げられ
る。
されたアミノ基としては、Ｎ−モノ置換アミノ基および
Ｎ,Ｎ−ジ置換アミノ基が挙げられる。「Ｎ−モノ置換
アミノ基」とは、置換基１個を有するアミノ基を意味
し、該置換基の例としては、例えば、低級アルキル基
（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチルなど炭素数１〜４のもの）、シクロア
ルキル基（例、シクロペンチル、シクロヘキシルなど炭
素数３〜７のもの）、アリール基（例、フェニル、ナフ
チルなど炭素数６〜１４のもの）、芳香族複素環基
（例、ピリジル、チエニル、フリル、オキサゾリル、チ
アゾリルなど）、非芳香族複素環基（例、ピペリジニ
ル、ピロリジニル、モルホリニルなど）、アラルキル基
（例、ベンジル、フェネチルなど炭素数７〜１３のも
の）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル等のアル
カノイル基などの炭素数１〜６のもの）、カルバモイル
基、Ｎ−モノ置換カルバモイル基（例、Ｎ−メチルカル
バモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカル
バモイルなど）、Ｎ,Ｎ−ジ置換カルバモイル基（例、
Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチ
ルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイルな
ど）、低級アルコキシカルボニル基（例、メトキシカル
ボニル，エトキシカルボニル，プロポキシカルボニルな
ど炭素数２〜５のもの）、ヒドロキシル基、低級アルコ
キシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シなど炭素数１〜４のもの）、アラルキルオキシ基
（例、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、ナフチルメ
チルオキシなど炭素数７〜１３のもの）などが挙げられ
る。
【００１３】「Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノ基」とは、置換基
２個を有するアミノ基を意味し、該置換基の一方の例と
しては、上記「Ｎ−モノ置換アミノ基」における置換基
と同様のものが挙げられ、他方の例としては、例えば、
低級アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチルなど炭素数１〜４のも
の）、シクロアルキル基（例、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チルなど炭素数３〜７のもの）、アリール基（例、フェ
ニル、ナフチルなど炭素数６〜１４のもの）、アラルキ
ル基（例、ベンジル、フェネチルなど炭素数７〜１３の
もの）などが挙げられる。また、２個の置換基が窒素原
子と一緒になって環状アミノ基を形成する場合もあり、
この様な環状アミノ基の例としては、例えば、１−アゼ
チジニル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピペ
ラジノおよび４位に低級アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピルなど炭素数１〜４のもの）、アラルキル基
（例、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチルなど炭素
数７〜１３のもの）、アリール基（例、フェニル、４−
メチルフェニル、ナフチルなど炭素数６〜１４のもの）
などを有するピペラジノなどが挙げられる。
２個を有するアミノ基を意味し、該置換基の一方の例と
しては、上記「Ｎ−モノ置換アミノ基」における置換基
と同様のものが挙げられ、他方の例としては、例えば、
低級アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチルなど炭素数１〜４のも
の）、シクロアルキル基（例、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チルなど炭素数３〜７のもの）、アリール基（例、フェ
ニル、ナフチルなど炭素数６〜１４のもの）、アラルキ
ル基（例、ベンジル、フェネチルなど炭素数７〜１３の
もの）などが挙げられる。また、２個の置換基が窒素原
子と一緒になって環状アミノ基を形成する場合もあり、
この様な環状アミノ基の例としては、例えば、１−アゼ
チジニル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピペ
ラジノおよび４位に低級アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピルなど炭素数１〜４のもの）、アラルキル基
（例、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチルなど炭素
数７〜１３のもの）、アリール基（例、フェニル、４−
メチルフェニル、ナフチルなど炭素数６〜１４のもの）
などを有するピペラジノなどが挙げられる。
【００１４】上記Ｒ1で示される、炭素鎖を介して結合
していてもよく、置換されていてもよい複素環残基上の
置換基としての炭化水素残基、複素環基は、その任意の
位置に置換基を有していてもよい。すなわち、該炭化水
素残基が脂環族基を含む場合（すなわち、炭化水素残基
が脂肪族炭化水素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残基ま
たは芳香脂肪族炭化水素残基である場合）または該複素
環基が飽和のものである場合、その環上（Ｎ原子を含
む）には炭素数１〜３の低級アルキル基（例、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル）を１〜３個有してい
てもよい。また、該炭化水素残基が芳香族炭化水素残基
を含む場合（すなわち、炭化水素残基が芳香脂肪族炭化
水素残基または芳香族炭化水素残基である場合）または
複素環基が不飽和のものである場合、その環上には同一
または異なって１〜４個の置換基を有していてもよく、
該置換基としては、例えばハロゲン（例、フッ素、塩
素、ヨウ素等）、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、
トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基（例、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
など炭素数１〜４のもの）、低級アルキル基（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど炭素
数１〜４のもの）、低級アルコキシカルボニル基（例、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニルなど炭素数２〜４のもの）、低級アルキルチ
オ基（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオなど炭素数１〜３のもの）、低級アルキ
ルアミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチ
ルアミノなど炭素数１〜４のもの）などが挙げられる。
していてもよく、置換されていてもよい複素環残基上の
置換基としての炭化水素残基、複素環基は、その任意の
位置に置換基を有していてもよい。すなわち、該炭化水
素残基が脂環族基を含む場合（すなわち、炭化水素残基
が脂肪族炭化水素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残基ま
たは芳香脂肪族炭化水素残基である場合）または該複素
環基が飽和のものである場合、その環上（Ｎ原子を含
む）には炭素数１〜３の低級アルキル基（例、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル）を１〜３個有してい
てもよい。また、該炭化水素残基が芳香族炭化水素残基
を含む場合（すなわち、炭化水素残基が芳香脂肪族炭化
水素残基または芳香族炭化水素残基である場合）または
複素環基が不飽和のものである場合、その環上には同一
または異なって１〜４個の置換基を有していてもよく、
該置換基としては、例えばハロゲン（例、フッ素、塩
素、ヨウ素等）、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、
トリフルオロメチル基、低級アルコキシ基（例、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
など炭素数１〜４のもの）、低級アルキル基（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど炭素
数１〜４のもの）、低級アルコキシカルボニル基（例、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニルなど炭素数２〜４のもの）、低級アルキルチ
オ基（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオなど炭素数１〜３のもの）、低級アルキ
ルアミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチ
ルアミノなど炭素数１〜４のもの）などが挙げられる。
【００１５】Ｒ1で示される、炭素鎖を介して結合して
いてもよく、置換されていてもよい複素環残基が、その
置換基として２個以上の炭化水素残基を有し、かつこれ
らの炭化水素残基が互いに複素環上の隣接する位置に置
換しているとき、これらは互いに結合して縮合環を形成
していてもよい。この場合、該２個の炭化水素残基が互
いに連結して炭素数３〜５の飽和または不飽和の２価の
鎖状炭化水素残基を形成していることを意味する。該鎖
状炭化水素残基の具体例としては、例えば −ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2
−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
−などが挙げられる。
いてもよく、置換されていてもよい複素環残基が、その
置換基として２個以上の炭化水素残基を有し、かつこれ
らの炭化水素残基が互いに複素環上の隣接する位置に置
換しているとき、これらは互いに結合して縮合環を形成
していてもよい。この場合、該２個の炭化水素残基が互
いに連結して炭素数３〜５の飽和または不飽和の２価の
鎖状炭化水素残基を形成していることを意味する。該鎖
状炭化水素残基の具体例としては、例えば −ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2
−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
−などが挙げられる。
【００１６】Ｒ1で示される、炭素鎖を介して結合して
いてもよく、置換されていてもよい複素環残基における
複素環残基は、好ましくは一般式
いてもよく、置換されていてもよい複素環残基における
複素環残基は、好ましくは一般式
【化１６】 〔式中、Ｂ1はイオウ原子、酸素原子またはＮＲ4〔ただ
し、Ｒ4は水素原子、低級アルキル基またはアラルキル
基を示す。〕で示される基を、Ｂ2は窒素原子またはＣ
−Ｒ5（Ｒ5は水素原子またはそれぞれ置換されていても
よい炭化水素残基または複素環基を示す。）を、Ｒ3は
水素原子またはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素
残基もしくは複素環基を示し、Ｒ3とＲ5が隣接する炭素
原子にそれぞれ結合しているとき、Ｒ3とＲ5は互いに結
合して縮合環を形成していてもよい。〕で表されるもの
である。
し、Ｒ4は水素原子、低級アルキル基またはアラルキル
基を示す。〕で示される基を、Ｂ2は窒素原子またはＣ
−Ｒ5（Ｒ5は水素原子またはそれぞれ置換されていても
よい炭化水素残基または複素環基を示す。）を、Ｒ3は
水素原子またはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素
残基もしくは複素環基を示し、Ｒ3とＲ5が隣接する炭素
原子にそれぞれ結合しているとき、Ｒ3とＲ5は互いに結
合して縮合環を形成していてもよい。〕で表されるもの
である。
【００１７】ここにおいて、Ｒ4で示される低級アルキ
ル基としては、例えば、メチル、エチルなどの炭素数１
〜３のものが挙げられる。また、Ｒ4で示されるアラル
キル基としては、例えばベンジル、フェネチルなどの炭
素数７〜１３のものが挙げられる。Ｒ3およびＲ5で示さ
れる置換されていてもよい炭化水素残基または複素環基
において、炭化水素残基、複素環基およびこれらの置換
基としては、Ｒ1における複素環残基の置換基として上
記した炭化水素残基、複素環基およびそれらの置換基と
同様のものが挙げられる。Ｒ3とＲ5が結合して縮合環を
形成するとき、Ｒ1における複素環基がその置換基とし
て２個の炭化水素残基を互いに隣り合った位置に有する
ときに形成する縮合環として上記したものと同様のもの
が挙げられる。この複素環残基は、環上の可能な原子を
介して結合するが、窒素原子に隣接する炭素原子を介し
て結合する基であるのが望ましい。例えば、Ｂ1がＮＲ4
でＢ2がＣ−Ｒ5である場合はＢ2を介して結合する基も
好ましい例である。
ル基としては、例えば、メチル、エチルなどの炭素数１
〜３のものが挙げられる。また、Ｒ4で示されるアラル
キル基としては、例えばベンジル、フェネチルなどの炭
素数７〜１３のものが挙げられる。Ｒ3およびＲ5で示さ
れる置換されていてもよい炭化水素残基または複素環基
において、炭化水素残基、複素環基およびこれらの置換
基としては、Ｒ1における複素環残基の置換基として上
記した炭化水素残基、複素環基およびそれらの置換基と
同様のものが挙げられる。Ｒ3とＲ5が結合して縮合環を
形成するとき、Ｒ1における複素環基がその置換基とし
て２個の炭化水素残基を互いに隣り合った位置に有する
ときに形成する縮合環として上記したものと同様のもの
が挙げられる。この複素環残基は、環上の可能な原子を
介して結合するが、窒素原子に隣接する炭素原子を介し
て結合する基であるのが望ましい。例えば、Ｂ1がＮＲ4
でＢ2がＣ−Ｒ5である場合はＢ2を介して結合する基も
好ましい例である。
【００１８】上記式で示される複素環基の中でも特に一
般式
般式
【化１７】 〔式中、Ｒ5は上記と同意義であり、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8
は同一または異なって水素またはそれぞれ置換されてい
てもよい炭化水素残基あるいは複素環基を示し、Ｒ7と
Ｒ8が結合して縮合環を形成していてもよい。Ｂは酸素
原子またはイオウ原子を示す。〕で示されるチアゾリル
またはオキサゾリルが好ましい。
は同一または異なって水素またはそれぞれ置換されてい
てもよい炭化水素残基あるいは複素環基を示し、Ｒ7と
Ｒ8が結合して縮合環を形成していてもよい。Ｂは酸素
原子またはイオウ原子を示す。〕で示されるチアゾリル
またはオキサゾリルが好ましい。
【００１９】Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8で示される置換されていて
もよい炭化水素残基または複素環基において、炭化水素
残基、複素環基およびこれらの置換基としては、Ｒ1に
おける複素環残基の置換基として上記した炭化水素残
基、複素環基およびそれらの置換基と同様のものが挙げ
られる。Ｒ7およびＲ8は縮合環を形成していてもよく、
該縮合環としては、Ｒ1における複素環残基がその置換
基として２個の炭化水素残基を互いに隣り合った位置に
有するときに形成する縮合環として上記したものと同様
のものが挙げられる。
もよい炭化水素残基または複素環基において、炭化水素
残基、複素環基およびこれらの置換基としては、Ｒ1に
おける複素環残基の置換基として上記した炭化水素残
基、複素環基およびそれらの置換基と同様のものが挙げ
られる。Ｒ7およびＲ8は縮合環を形成していてもよく、
該縮合環としては、Ｒ1における複素環残基がその置換
基として２個の炭化水素残基を互いに隣り合った位置に
有するときに形成する縮合環として上記したものと同様
のものが挙げられる。
【００２０】一般式（Ｉ）中、Ｒ2は、水素、ハロゲン
原子、置換されていてもよい炭化水素残基、保護されて
いてもよい水酸基または保護されていてもよいアミノ基
を示す。ここにおいて、ハロゲン原子としては、例えば
フッ素、塩素またはヨウ素等が挙げられる。置換されて
いてもよい炭化水素残基における炭化水素残基およびそ
の置換基としては、Ｒ1における複素環残基の置換基と
して上記した炭化水素残基およびその置換基と同様のも
のが挙げられる。保護されていてもよい水酸基における
保護基としては、例えば、（１）炭素数１ないし６のア
ルキル基（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピ
ル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル
等）、（２）炭素数６ないし１４のアリール基（例、フ
ェニル，ナフチル等）、（３）炭素数７ないし１３のア
ラルキル基（例、ベンジル，フェネチル，ナフチルメチ
ル等）、（４）ホルミル、（５）炭素数２ないし７のア
ルキルカルボニル基（例、アセチル，プロピオニル，ブ
チリル，バレリル等）、（６）炭素数７ないし１１のア
リールオキシカルボニル基（例、フェニルオキシカルボ
ニル，ナフチルオキシカルボニル等）、（７）炭素数７
ないし１１のアリールカルボニル基（例、ベンゾイル，
ナフトイル等）、（８）炭素数８ないし１４のアラルキ
ルカルボニル基（例、ベンジルカルボニル，フェネチル
カルボニル等）、（９）ピラニルまたはフラニル、およ
び（１０）トリ−Ｃ1-4アルキルシリル基（例、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル等）等が挙げられる。こ
れらの保護基は、置換可能な位置に、例えばハロゲン原
子（例、塩素，臭素，フッ素等）、炭素数１ないし６の
アルキル基（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロ
ピル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチ
ル等）、炭素数６ないし１４のアリール（例、フェニ
ル，ナフチル等）、炭素数７ないし１３のアラルキル
（例、ベンジル，フェネチル，ナフチルメチル等）およ
びニトロ基から選ばれる１ないし４個の置換基を有して
いてもよい。
原子、置換されていてもよい炭化水素残基、保護されて
いてもよい水酸基または保護されていてもよいアミノ基
を示す。ここにおいて、ハロゲン原子としては、例えば
フッ素、塩素またはヨウ素等が挙げられる。置換されて
いてもよい炭化水素残基における炭化水素残基およびそ
の置換基としては、Ｒ1における複素環残基の置換基と
して上記した炭化水素残基およびその置換基と同様のも
のが挙げられる。保護されていてもよい水酸基における
保護基としては、例えば、（１）炭素数１ないし６のア
ルキル基（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピ
ル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル
等）、（２）炭素数６ないし１４のアリール基（例、フ
ェニル，ナフチル等）、（３）炭素数７ないし１３のア
ラルキル基（例、ベンジル，フェネチル，ナフチルメチ
ル等）、（４）ホルミル、（５）炭素数２ないし７のア
ルキルカルボニル基（例、アセチル，プロピオニル，ブ
チリル，バレリル等）、（６）炭素数７ないし１１のア
リールオキシカルボニル基（例、フェニルオキシカルボ
ニル，ナフチルオキシカルボニル等）、（７）炭素数７
ないし１１のアリールカルボニル基（例、ベンゾイル，
ナフトイル等）、（８）炭素数８ないし１４のアラルキ
ルカルボニル基（例、ベンジルカルボニル，フェネチル
カルボニル等）、（９）ピラニルまたはフラニル、およ
び（１０）トリ−Ｃ1-4アルキルシリル基（例、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル等）等が挙げられる。こ
れらの保護基は、置換可能な位置に、例えばハロゲン原
子（例、塩素，臭素，フッ素等）、炭素数１ないし６の
アルキル基（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロ
ピル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチ
ル等）、炭素数６ないし１４のアリール（例、フェニ
ル，ナフチル等）、炭素数７ないし１３のアラルキル
（例、ベンジル，フェネチル，ナフチルメチル等）およ
びニトロ基から選ばれる１ないし４個の置換基を有して
いてもよい。
【００２１】保護されていてもよいアミノ基における保
護基としては、例えば（１）ホルミル、（２）炭素数２
ないし７のアルキルカルボニル基（例、アセチル，プロ
ピオニル，ブチリル，バレリル等）、（３）炭素数７な
いし１１のアリールカルボニル基（例、ベンゾイル，ナ
フトイル等）、（４）炭素数２ないし７のアルキルオキ
シカルボニル基（例、メトキシカルボニル，エトキシカ
ルボニル等）、（５）炭素数７ないし１１のアリールオ
キシカルボニル基（例、フェニルオキシカルボニル，ナ
フチルオキシカルボニル等）、（６）炭素数８ないし１
４のアラルキルカルボニル基（例、ベンジルカルボニ
ル，フェネチルカルボニル等）、（７）トリチル基、お
よび（８）フタロイル基等が挙げられる。これらの保護
基は、置換可能な位置に、例えばハロゲン原子（例、塩
素，臭素，フッ素等）、炭素数２ないし７のアルキルカ
ルボニル基（例、アセチル，プロピオニル，ブチリル，
バレリル等）およびニトロ基から選ばれる１ないし３個
の置換基を有していてもよい。一般式（Ｉ）中、Ｒ
2は、特に好ましくは水素である。
護基としては、例えば（１）ホルミル、（２）炭素数２
ないし７のアルキルカルボニル基（例、アセチル，プロ
ピオニル，ブチリル，バレリル等）、（３）炭素数７な
いし１１のアリールカルボニル基（例、ベンゾイル，ナ
フトイル等）、（４）炭素数２ないし７のアルキルオキ
シカルボニル基（例、メトキシカルボニル，エトキシカ
ルボニル等）、（５）炭素数７ないし１１のアリールオ
キシカルボニル基（例、フェニルオキシカルボニル，ナ
フチルオキシカルボニル等）、（６）炭素数８ないし１
４のアラルキルカルボニル基（例、ベンジルカルボニ
ル，フェネチルカルボニル等）、（７）トリチル基、お
よび（８）フタロイル基等が挙げられる。これらの保護
基は、置換可能な位置に、例えばハロゲン原子（例、塩
素，臭素，フッ素等）、炭素数２ないし７のアルキルカ
ルボニル基（例、アセチル，プロピオニル，ブチリル，
バレリル等）およびニトロ基から選ばれる１ないし３個
の置換基を有していてもよい。一般式（Ｉ）中、Ｒ
2は、特に好ましくは水素である。
【００２２】Ｙで示される炭素数１〜８の２価または３
価の脂肪族炭化水素残基としては直鎖状、分枝状のいず
れでもよく、また飽和、不飽和のいずれでもよいが、炭
素数１〜７のものが好ましい。２価の脂肪族炭化水素残
基の具体例としては、例えば、−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）−、−
（ＣＨ2）3−、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）5−、−
（ＣＨ2）6−、−（ＣＨ2）7−などの飽和のもの、例え
ば、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ2−、−Ｃ（Ｃ2Ｈ5）＝ＣＨ−、−ＣＨ2−
ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−
ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−、−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−などの不飽
和のものでもよい。３価の脂肪族炭化水素残基の具体例
としては、例えば、−ＣＨ＝、−Ｃ（ＣＨ3）＝、−Ｃ
Ｈ2ＣＨ＝、−Ｃ（Ｃ2Ｈ5）＝、−（ＣＨ2）2−ＣＨ
＝、−（ＣＨ2）3−ＣＨ＝、−（ＣＨ2）4ＣＨ＝、−
（ＣＨ2）5−ＣＨ＝、−（ＣＨ2）6−ＣＨ＝などの飽和
のもの、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ（Ｃ2
Ｈ5）−ＣＨ＝、−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ
2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ
−ＣＨ＝などの不飽和のものでもよい。なかでも、炭素
数２〜５の飽和のものがより好ましく、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ
Ｈ2−が最も好ましい。
価の脂肪族炭化水素残基としては直鎖状、分枝状のいず
れでもよく、また飽和、不飽和のいずれでもよいが、炭
素数１〜７のものが好ましい。２価の脂肪族炭化水素残
基の具体例としては、例えば、−ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）−、−
（ＣＨ2）3−、−（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）5−、−
（ＣＨ2）6−、−（ＣＨ2）7−などの飽和のもの、例え
ば、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ2−、−Ｃ（Ｃ2Ｈ5）＝ＣＨ−、−ＣＨ2−
ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−
ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−、−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−などの不飽
和のものでもよい。３価の脂肪族炭化水素残基の具体例
としては、例えば、−ＣＨ＝、−Ｃ（ＣＨ3）＝、−Ｃ
Ｈ2ＣＨ＝、−Ｃ（Ｃ2Ｈ5）＝、−（ＣＨ2）2−ＣＨ
＝、−（ＣＨ2）3−ＣＨ＝、−（ＣＨ2）4ＣＨ＝、−
（ＣＨ2）5−ＣＨ＝、−（ＣＨ2）6−ＣＨ＝などの飽和
のもの、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ（Ｃ2
Ｈ5）−ＣＨ＝、−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ
2−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ＝、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ
−ＣＨ＝などの不飽和のものでもよい。なかでも、炭素
数２〜５の飽和のものがより好ましく、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ
Ｈ2−が最も好ましい。
【００２３】一般式（Ｉ）中、ベンゾフラン環における
ベンゼン環は、１ないし３個の置換基により置換されて
いてもよい。このような置換基としては、例えばハロゲ
ン（例、フッ素、塩素、ヨウ素等）、ヒドロキシ基、シ
アノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、低級アルコ
キシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシなど炭素数１〜４のもの）、低級ア
ルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチルなど炭素数１〜４のもの）、低級アルコキシ
カルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニルなど炭素数２〜４のも
の）、低級アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオなど炭素数１〜３
のもの）、低級アルキルアミノ基（メチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジメチルアミノなど炭素数１〜４のもの）な
どが挙げられる。ベンゾフラン環におけるベンゼン環
は、無置換であることが好ましい。
ベンゼン環は、１ないし３個の置換基により置換されて
いてもよい。このような置換基としては、例えばハロゲ
ン（例、フッ素、塩素、ヨウ素等）、ヒドロキシ基、シ
アノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、低級アルコ
キシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシなど炭素数１〜４のもの）、低級ア
ルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチルなど炭素数１〜４のもの）、低級アルコキシ
カルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニルなど炭素数２〜４のも
の）、低級アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオなど炭素数１〜３
のもの）、低級アルキルアミノ基（メチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジメチルアミノなど炭素数１〜４のもの）な
どが挙げられる。ベンゾフラン環におけるベンゼン環
は、無置換であることが好ましい。
【００２４】一般式（Ｉ）中、ＹおよびＲ2はベンゾフ
ラン環の２または３位に、Ｒ1−Ｏはベンゾフラン環の
４，５，６または７位にそれぞれ結合することを示す。
Ｒ1−Ｏはベンゾフラン環の６位に結合することが好ま
しく、Ｙはベンゾフラン環の２位に結合することが好ま
しい。
ラン環の２または３位に、Ｒ1−Ｏはベンゾフラン環の
４，５，６または７位にそれぞれ結合することを示す。
Ｒ1−Ｏはベンゾフラン環の６位に結合することが好ま
しく、Ｙはベンゾフラン環の２位に結合することが好ま
しい。
【００２５】一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい
例としては、例えばＲ1がメチレン基を介して結合し、
フェニルまたは／およびメチルで置換されていてもよい
オキサゾール基を、部分構造式
例としては、例えばＲ1がメチレン基を介して結合し、
フェニルまたは／およびメチルで置換されていてもよい
オキサゾール基を、部分構造式
【化１８】 Ｒ2が水素を、Ｙが炭素数１〜４の２価または３価の脂
肪族炭化水素残基を示し、Ｒ1−Ｏがベンゾフラン環の
６位に、Ｙがベンゾフラン環の２位にそれぞれ結合する
化合物が挙げられる。
肪族炭化水素残基を示し、Ｒ1−Ｏがベンゾフラン環の
６位に、Ｙがベンゾフラン環の２位にそれぞれ結合する
化合物が挙げられる。
【００２６】一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい
具体例としては、例えば、５−［２−［６−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−
ベンゾフラニル］エチル］−１Ｈ−テトラゾール、５−
［３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−
１Ｈ−テトラゾール、５−［４−［６−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベン
ゾフラニル］ブチル］−１Ｈ−テトラゾール、５−［６
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）−２−ベンゾフラニルメチリデン］−２,４−チ
アゾリジンジオン、５−［６−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ルメチル］−２,４−チアゾリジンジオン、５−［３−
［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−２,４
−チアゾリジンジオン、５−［６−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフ
ラニルメチル］−２,４−オキサゾリジンジオン、５−
［３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−
２,４−オキサゾリジンジオンまたは５−［３−［５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラ
ゾール等が挙げられ、なかでも、５−［３−［６−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
−２−ベンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾー
ルが特に好ましい。
具体例としては、例えば、５−［２−［６−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−
ベンゾフラニル］エチル］−１Ｈ−テトラゾール、５−
［３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−
１Ｈ−テトラゾール、５−［４−［６−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベン
ゾフラニル］ブチル］−１Ｈ−テトラゾール、５−［６
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）−２−ベンゾフラニルメチリデン］−２,４−チ
アゾリジンジオン、５−［６−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ルメチル］−２,４−チアゾリジンジオン、５−［３−
［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−２,４
−チアゾリジンジオン、５−［６−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフ
ラニルメチル］−２,４−オキサゾリジンジオン、５−
［３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−
２,４−オキサゾリジンジオンまたは５−［３−［５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラ
ゾール等が挙げられ、なかでも、５−［３−［６−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
−２−ベンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾー
ルが特に好ましい。
【００２７】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
（以下、化合物（Ｉ）という）の塩としては薬学的に許
容される塩が好ましく、例えば、無機塩基との塩、有機
塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性また
は酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基との
塩の好適な例としては、例えば、ナトリウム塩、カリウ
ム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム
塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩
の好適な例としては、例えば、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジア
ミンなどとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例
としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リ
ン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例
としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フ
マール酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、
コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられ
る。塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例え
ば、アルギニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げ
られ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例え
ば、アスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げら
れる。これらの塩の中でもナトリウム塩、カリウム塩が
最も好ましい。
（以下、化合物（Ｉ）という）の塩としては薬学的に許
容される塩が好ましく、例えば、無機塩基との塩、有機
塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性また
は酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基との
塩の好適な例としては、例えば、ナトリウム塩、カリウ
ム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム
塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩
の好適な例としては、例えば、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジア
ミンなどとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例
としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リ
ン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例
としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フ
マール酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、
コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられ
る。塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例え
ば、アルギニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げ
られ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例え
ば、アスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げら
れる。これらの塩の中でもナトリウム塩、カリウム塩が
最も好ましい。
【００２８】本発明の化合物（Ｉ）またはその薬理学的
に許容しうる塩は、毒性が低く血糖および血中脂質低下
作用およびインスリン感受性増強作用を有し、そのま
ま、または自体公知の薬理学的に許容しうる担体、賦形
剤、増量剤などと混合して、哺乳動物（例、ヒト、マウ
ス、ラット、ウサギ、イヌ、ネコ、ウシ、ウマ、ブタ、
サル等）に対して、糖尿病治療剤、インスリン感受性増
強剤、高脂血症治療剤または血圧降下剤として用いるこ
とができる。本発明の化合物（Ｉ）は低毒性で、例え
ば、実施例７の化合物を１日当たり１５ｍｇ／ｋｇの割
合で４日間マウスに経口投与した場合、体重および肝臓
重量には、コントロールに対し何等変化は認められなか
った。投与方法は通常、例えば、錠剤、カプセル剤（ソ
フトカプセル、マイクロカプセルを含む）、散剤、顆粒
剤などとして経口的に用いられるが、場合によっては注
射剤、坐剤、ペレットなどとして非経口的に投与でき
る。投与量は成人に経口投与する場合１日０.０５〜１
０ｍｇ／ｋｇであり、この量を１日１回〜３回投与する
のが望ましい。本発明の化合物（Ｉ）は、薬学的に許容
しうる担体と配合し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤
などの固形製剤；またはシロップ剤、注射剤などの液状
製剤として経口または非経口的に投与することができ
る。
に許容しうる塩は、毒性が低く血糖および血中脂質低下
作用およびインスリン感受性増強作用を有し、そのま
ま、または自体公知の薬理学的に許容しうる担体、賦形
剤、増量剤などと混合して、哺乳動物（例、ヒト、マウ
ス、ラット、ウサギ、イヌ、ネコ、ウシ、ウマ、ブタ、
サル等）に対して、糖尿病治療剤、インスリン感受性増
強剤、高脂血症治療剤または血圧降下剤として用いるこ
とができる。本発明の化合物（Ｉ）は低毒性で、例え
ば、実施例７の化合物を１日当たり１５ｍｇ／ｋｇの割
合で４日間マウスに経口投与した場合、体重および肝臓
重量には、コントロールに対し何等変化は認められなか
った。投与方法は通常、例えば、錠剤、カプセル剤（ソ
フトカプセル、マイクロカプセルを含む）、散剤、顆粒
剤などとして経口的に用いられるが、場合によっては注
射剤、坐剤、ペレットなどとして非経口的に投与でき
る。投与量は成人に経口投与する場合１日０.０５〜１
０ｍｇ／ｋｇであり、この量を１日１回〜３回投与する
のが望ましい。本発明の化合物（Ｉ）は、薬学的に許容
しうる担体と配合し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤
などの固形製剤；またはシロップ剤、注射剤などの液状
製剤として経口または非経口的に投与することができ
る。
【００２９】薬学的に許容しうる担体としては、製剤素
材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いら
れ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊
剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等
張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。ま
た、必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤
などの製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適
な例としては、例えば、乳糖、白糖、Ｄ-マンニトー
ル、デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが
挙げられる。滑沢剤の好適な例としては、例えば、ステ
アリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タル
ク、コロイドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な
例としては、例えば、結晶セルロース、白糖、Ｄ-マン
ニトール、デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドンなどが挙げられる。崩壊剤の好適な例として
は、例えば、デンプン、カルボキシメチルセルロース、
カルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメ
ロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウ
ムなどが挙げられる。溶剤の好適な例としては、例え
ば、注射用水、アルコール、プロピレングリコール、マ
クロゴール、ゴマ油、トウモロコシ油などが挙げられ
る。
材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いら
れ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊
剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等
張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。ま
た、必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤
などの製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適
な例としては、例えば、乳糖、白糖、Ｄ-マンニトー
ル、デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが
挙げられる。滑沢剤の好適な例としては、例えば、ステ
アリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タル
ク、コロイドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な
例としては、例えば、結晶セルロース、白糖、Ｄ-マン
ニトール、デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドンなどが挙げられる。崩壊剤の好適な例として
は、例えば、デンプン、カルボキシメチルセルロース、
カルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメ
ロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウ
ムなどが挙げられる。溶剤の好適な例としては、例え
ば、注射用水、アルコール、プロピレングリコール、マ
クロゴール、ゴマ油、トウモロコシ油などが挙げられ
る。
【００３０】溶解補助剤の好適な例としては、例えば、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、Ｄ-
マンニトール、安息香酸ベンジル、エタノール、トリス
アミノメタン、コレステロール、トリエタノールアミ
ン、炭酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなどが挙げら
れる。懸濁化剤の好適な例としては、例えば、ステアリ
ルトリエタノールアミン、ラウリル硫酸ナトリウム、ラ
ウリルアミノプロピオン酸、レシチン、塩化ベンザルコ
ニウム、塩化ベンゼトニウム、モノステアリン酸グリセ
リンなどの界面活性剤；例えば、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロー
スナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロースなどの親水性高分子などが挙げられ
る。等張化剤の好適な例としては、例えば、塩化ナトリ
ウム、グリセリン、Ｄ-マンニトールなどが挙げられ
る。緩衝剤の好適な例としては、例えばリン酸塩、酢酸
塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液などが挙げられ
る。無痛化剤の好適な例としては、例えば、ベンジルア
ルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例として
は、例えば、パラオキシ安息香酸エステル類、クロロブ
タノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコー
ル、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗酸
化剤の好適な例としては、例えば、亜硫酸塩、アスコル
ビン酸などが挙げられる。
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、Ｄ-
マンニトール、安息香酸ベンジル、エタノール、トリス
アミノメタン、コレステロール、トリエタノールアミ
ン、炭酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなどが挙げら
れる。懸濁化剤の好適な例としては、例えば、ステアリ
ルトリエタノールアミン、ラウリル硫酸ナトリウム、ラ
ウリルアミノプロピオン酸、レシチン、塩化ベンザルコ
ニウム、塩化ベンゼトニウム、モノステアリン酸グリセ
リンなどの界面活性剤；例えば、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロー
スナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロースなどの親水性高分子などが挙げられ
る。等張化剤の好適な例としては、例えば、塩化ナトリ
ウム、グリセリン、Ｄ-マンニトールなどが挙げられ
る。緩衝剤の好適な例としては、例えばリン酸塩、酢酸
塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液などが挙げられ
る。無痛化剤の好適な例としては、例えば、ベンジルア
ルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例として
は、例えば、パラオキシ安息香酸エステル類、クロロブ
タノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコー
ル、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗酸
化剤の好適な例としては、例えば、亜硫酸塩、アスコル
ビン酸などが挙げられる。
【００３１】以下、本発明の化合物（Ｉ）の製造法につ
いて説明する。化合物（Ｉ）は、自体公知の方法、例え
ば以下に示す方法あるいはこれに準ずる方法により製造
することができる。 （１）カチオンを放出しうる基がテトラゾールである化
合物（Ｉ−Ａ）の合成法
いて説明する。化合物（Ｉ）は、自体公知の方法、例え
ば以下に示す方法あるいはこれに準ずる方法により製造
することができる。 （１）カチオンを放出しうる基がテトラゾールである化
合物（Ｉ−Ａ）の合成法
【化１９】 ［式中の各記号は上記と同意義である。］
【００３２】カチオンを放出しうる基がテトラゾールで
ある化合物（Ｉ−Ａ）は、ニトリル誘導体（ＩＩ）とア
ジド化合物との反応により製造される。化合物（ＩＩ）
から化合物（Ｉ−Ａ）への反応は、例えば、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Journal
of American Chemical Society）、８０巻、３９０８頁
（１９５８年）記載の方法に従い、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド中、塩化アンモニウムおよびナトリウムアジ
ドとの反応で行われる。塩化アンモニウムおよびナトリ
ウムアジドの使用量は、化合物（ＩＩ）１モルにつき１
〜７モル、好ましくは１〜５モルであり、５０℃〜１８
０℃で１〜５０時間で行われる。また、化合物（ＩＩ）
から化合物（Ｉ−Ａ）への反応は、ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー（Journal of Organic Che
mistry）、５６巻、２３９５頁（１９９１年）記載の方
法に従い、化合物（ＩＩ）をアジ化トリメチル錫または
アジ化トリブチル錫との反応後、酸で処理することによ
っても行われる。このようにして得られる化合物（Ｉ−
Ａ）およびその塩は、公知の分離精製手段、例えば、濃
縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマ
トグラフィーなどにより単離精製することができる。
ある化合物（Ｉ−Ａ）は、ニトリル誘導体（ＩＩ）とア
ジド化合物との反応により製造される。化合物（ＩＩ）
から化合物（Ｉ−Ａ）への反応は、例えば、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Journal
of American Chemical Society）、８０巻、３９０８頁
（１９５８年）記載の方法に従い、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド中、塩化アンモニウムおよびナトリウムアジ
ドとの反応で行われる。塩化アンモニウムおよびナトリ
ウムアジドの使用量は、化合物（ＩＩ）１モルにつき１
〜７モル、好ましくは１〜５モルであり、５０℃〜１８
０℃で１〜５０時間で行われる。また、化合物（ＩＩ）
から化合物（Ｉ−Ａ）への反応は、ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー（Journal of Organic Che
mistry）、５６巻、２３９５頁（１９９１年）記載の方
法に従い、化合物（ＩＩ）をアジ化トリメチル錫または
アジ化トリブチル錫との反応後、酸で処理することによ
っても行われる。このようにして得られる化合物（Ｉ−
Ａ）およびその塩は、公知の分離精製手段、例えば、濃
縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマ
トグラフィーなどにより単離精製することができる。
【００３３】（２）カチオンを放出しうる基が２,４−
オキサゾリジンジオンである化合物（Ｉ−Ｂ）の合成法
オキサゾリジンジオンである化合物（Ｉ−Ｂ）の合成法
【化２０】 ［式中、Ｙ1は結合手または２価の脂肪族炭化水素残基
を示し、他の各記号は上記と同意義である。］
を示し、他の各記号は上記と同意義である。］
【００３４】Ｙ1で示される脂肪族炭化水素残基は、Ｙ
で示される炭素数１〜８の２価または３価の脂肪族炭化
水素残基のうち、炭素数１〜７の２価のものである。化
合物（Ｉ−Ｂ１）は、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）と
２,４−オキサゾリジンジオンの縮合により製造され
る。この反応は、塩基の存在下溶媒中で行われる。該溶
媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、２−メトキシエタノール等のアルコ
ール類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素類；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、
テトラヒドロフラン等のエーテル類；Ｎ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸およびこれ
らの混合溶媒が挙げられる。該塩基としては、ナトリウ
ムアルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシドなど）；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
酢酸ナトリウム等のアルカリ金属塩；水素化ナトリウム
等の金属水素化物；ピペリジン、ピペラジン、ピロリジ
ン、モルホリン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミ
ンなどの２級アミン類が用いられる。２,４−オキサゾ
リジンジオンの使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対して１
〜１０モル当量、好ましくは１〜５モル当量である。塩
基の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対して０．０１〜５
モル当量、好ましくは０．０５〜２モル当量である。本
反応は０〜１８０℃、好ましくは５０〜１３０℃で０．
５〜３０時間かけて行われる。このようにして得られる
化合物（Ｉ−Ｂ１）は、公知の分離精製手段、例えば、
濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロ
マトグラフィーなどにより単離精製することができ、ま
た、２,４−オキサゾリジンジオン環５位の二重結合に
関し、（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物として得られる
こともある。
で示される炭素数１〜８の２価または３価の脂肪族炭化
水素残基のうち、炭素数１〜７の２価のものである。化
合物（Ｉ−Ｂ１）は、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）と
２,４−オキサゾリジンジオンの縮合により製造され
る。この反応は、塩基の存在下溶媒中で行われる。該溶
媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、２−メトキシエタノール等のアルコ
ール類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素類；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、
テトラヒドロフラン等のエーテル類；Ｎ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸およびこれ
らの混合溶媒が挙げられる。該塩基としては、ナトリウ
ムアルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシドなど）；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
酢酸ナトリウム等のアルカリ金属塩；水素化ナトリウム
等の金属水素化物；ピペリジン、ピペラジン、ピロリジ
ン、モルホリン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミ
ンなどの２級アミン類が用いられる。２,４−オキサゾ
リジンジオンの使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対して１
〜１０モル当量、好ましくは１〜５モル当量である。塩
基の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対して０．０１〜５
モル当量、好ましくは０．０５〜２モル当量である。本
反応は０〜１８０℃、好ましくは５０〜１３０℃で０．
５〜３０時間かけて行われる。このようにして得られる
化合物（Ｉ−Ｂ１）は、公知の分離精製手段、例えば、
濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロ
マトグラフィーなどにより単離精製することができ、ま
た、２,４−オキサゾリジンジオン環５位の二重結合に
関し、（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物として得られる
こともある。
【００３５】
【化２１】 ［式中、Ｒ1’は飽和の炭素鎖を介して結合していても
よく、置換されていてもよい複素環残基を、Ｙ2は結合
手または２価の飽和脂肪族炭化水素残基を示し、他の各
記号は上記と同意義である。］
よく、置換されていてもよい複素環残基を、Ｙ2は結合
手または２価の飽和脂肪族炭化水素残基を示し、他の各
記号は上記と同意義である。］
【００３６】Ｙ2で示される飽和脂肪族炭化水素残基
は、前記したＹ1で示される炭素数１〜７の２価の脂肪
族炭化水素残基のうち飽和のものである。Ｒ1’で示さ
れる飽和の炭素鎖を介して結合していてもよく、置換さ
れていてもよい複素環残基としては、Ｒ1で示される炭
素鎖を介して結合していてもよく、置換されていてもよ
い複素環残基のうち炭素鎖が飽和のものである。化合物
（Ｉ−Ｂ１）を還元反応に付すことにより化合物（Ｉ−
Ｂ２）を製造することができる。本還元反応は、常法に
従い溶媒中、触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰囲
気中で行われる。該溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシ
エタノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル類；クロロホルム、ジクロロメタン、１,１,２,２
−テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；酢
酸エチル、酢酸、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよび
これらの混合溶媒が挙げられる。触媒としては、ニッケ
ル化合物等の金属、パラジウム，白金，ロジウムなどの
遷移金属触媒等を用いることにより有利に行われる。反
応温度は、０〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃、反
応時間は０．５〜５０時間である。このようにして得ら
れる化合物（Ｉ−Ｂ２）は、公知の分離精製手段、例え
ば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィーなどにより単離精製することができ
る。
は、前記したＹ1で示される炭素数１〜７の２価の脂肪
族炭化水素残基のうち飽和のものである。Ｒ1’で示さ
れる飽和の炭素鎖を介して結合していてもよく、置換さ
れていてもよい複素環残基としては、Ｒ1で示される炭
素鎖を介して結合していてもよく、置換されていてもよ
い複素環残基のうち炭素鎖が飽和のものである。化合物
（Ｉ−Ｂ１）を還元反応に付すことにより化合物（Ｉ−
Ｂ２）を製造することができる。本還元反応は、常法に
従い溶媒中、触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰囲
気中で行われる。該溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシ
エタノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル類；クロロホルム、ジクロロメタン、１,１,２,２
−テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；酢
酸エチル、酢酸、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドおよび
これらの混合溶媒が挙げられる。触媒としては、ニッケ
ル化合物等の金属、パラジウム，白金，ロジウムなどの
遷移金属触媒等を用いることにより有利に行われる。反
応温度は、０〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃、反
応時間は０．５〜５０時間である。このようにして得ら
れる化合物（Ｉ−Ｂ２）は、公知の分離精製手段、例え
ば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィーなどにより単離精製することができ
る。
【００３７】（３）カチオンを放出しうる基が２,４−
チアゾリジンジオンである化合物（Ｉ−Ｃ）の合成法
チアゾリジンジオンである化合物（Ｉ−Ｃ）の合成法
【化２２】 ［式中の各記号は上記と同意義である。］
【００３８】化合物（Ｉ−Ｃ１）は、アルデヒド化合物
（ＩＩＩ）と２,４−チアゾリジンジオンの縮合により
製造される。本反応はＢ法と同様にして行われる。。こ
のようにして得られる化合物（Ｉ−Ｃ１）は、公知の分
離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶
出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離
精製することができる。化合物（Ｉ−Ｃ１）は、２，４
−チアゾリジンジオン環５位の二重結合に関し、（Ｅ）
体および（Ｚ）体の混合物として得られることもある。
（ＩＩＩ）と２,４−チアゾリジンジオンの縮合により
製造される。本反応はＢ法と同様にして行われる。。こ
のようにして得られる化合物（Ｉ−Ｃ１）は、公知の分
離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶
出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離
精製することができる。化合物（Ｉ−Ｃ１）は、２，４
−チアゾリジンジオン環５位の二重結合に関し、（Ｅ）
体および（Ｚ）体の混合物として得られることもある。
【００３９】
【化２３】 ［式中の各記号は上記と同意義である。］
【００４０】本法は、Ｃ法と同様にして行われる。この
ようにして得られる化合物（Ｉ−Ｃ２）は、公知の分離
精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。
ようにして得られる化合物（Ｉ−Ｃ２）は、公知の分離
精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。
【００４１】（４）カチオンを放出しうる基が２−チオ
キソチアゾリジン−４−オンである化合物（Ｉ−Ｄ）の
合成法
キソチアゾリジン−４−オンである化合物（Ｉ−Ｄ）の
合成法
【化２４】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００４２】本法では、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）と
ローダニンの縮合により２−チオキソチアゾリジン−４
−オン誘導体（Ｉ−Ｄ１）を製造する。本反応はＢ法と
同様にして行われる。このようにして得られる化合物
（Ｉ−Ｄ１）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減
圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。化合物
（Ｉ−Ｄ１）は、２−チオキソチアゾリジン−４−オン
環５位の二重結合に関し、（Ｅ）体および（Ｚ）体の混
合物として得られることもある。
ローダニンの縮合により２−チオキソチアゾリジン−４
−オン誘導体（Ｉ−Ｄ１）を製造する。本反応はＢ法と
同様にして行われる。このようにして得られる化合物
（Ｉ−Ｄ１）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減
圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。化合物
（Ｉ−Ｄ１）は、２−チオキソチアゾリジン−４−オン
環５位の二重結合に関し、（Ｅ）体および（Ｚ）体の混
合物として得られることもある。
【００４３】
【化２５】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００４４】本法ではＦ法で得られた化合物（Ｉ−Ｄ
１）を還元することにより化合物（Ｉ−Ｄ２）を製造す
る。本反応はＣ法と同様にして行われる。このようにし
て得られる化合物（Ｉ−Ｄ２）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
１）を還元することにより化合物（Ｉ−Ｄ２）を製造す
る。本反応はＣ法と同様にして行われる。このようにし
て得られる化合物（Ｉ−Ｄ２）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
【００４５】（５）カチオンを放出しうる基が２，４−
イミダゾリジンジオンである化合物（Ｉ−Ｅ）の合成法
イミダゾリジンジオンである化合物（Ｉ−Ｅ）の合成法
【化２６】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００４６】本法では、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）と
ヒダントインの縮合により２，４−イミダゾリジンジオ
ン誘導体（Ｉ−Ｅ１）を製造する。本反応はＢ法と同様
にして行われる。このようにして得られる化合物（Ｉ−
Ｅ１）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。化合物（Ｉ−
Ｅ１）は、２，４−イミダゾリジンジオン環５位の二重
結合に関し、（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物として得
られることもある。
ヒダントインの縮合により２，４−イミダゾリジンジオ
ン誘導体（Ｉ−Ｅ１）を製造する。本反応はＢ法と同様
にして行われる。このようにして得られる化合物（Ｉ−
Ｅ１）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。化合物（Ｉ−
Ｅ１）は、２，４−イミダゾリジンジオン環５位の二重
結合に関し、（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物として得
られることもある。
【００４７】
【化２７】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００４８】本法ではＨ法で得られた化合物（Ｉ−Ｅ
１）を還元することにより化合物（Ｉ−Ｅ２）を製造す
る。本反応はＣ法と同様にして行われる。このようにし
て得られる化合物（Ｉ−Ｅ２）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
１）を還元することにより化合物（Ｉ−Ｅ２）を製造す
る。本反応はＣ法と同様にして行われる。このようにし
て得られる化合物（Ｉ−Ｅ２）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
【００４９】（６）カチオンを放出しうる基が１，２，
４−オキサジアゾール−５−オンである化合物（Ｉ−
Ｆ）の合成法
４−オキサジアゾール−５−オンである化合物（Ｉ−
Ｆ）の合成法
【化２８】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００５０】本法は、ニトリル誘導体（ＩＩ）をアミド
キシム体（ＩＶ）とした後、閉環することによりオキサ
ジアゾール−５−オン体（Ｉ−Ｆ）を得るものである。
化合物（ＩＩ）からアミドキシム体（ＩＶ）への反応
は、化合物（ＩＩ）１モルに対してヒドロキシルアミン
を２〜１０モル程度使用して、通常の有機溶媒中で行わ
れる。かかる溶媒としては、アミド類（例、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドな
ど）、スルホキシド類（例、ジメチルスルホキシドな
ど）、アルコール類（例、メタノール、エタノールな
ど）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタ
ン、クロロホルムなど）などが挙げられる。かかるヒド
ロキシルアミンとして、無機酸塩（例、塩酸ヒドロキシ
ルアミン、硫酸ヒドロキシルアミンなど）や有機酸塩
（例、シュウ酸ヒドロキシルアミンなど）を用いる時
は、適当な塩基（例、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、水素化ナトリウムな
ど）を当量程度共存させ、２０〜１２０℃で１〜２４時
間程度反応を行う。このようにして得られたアミドキシ
ム体（ＩＶ）は、クロル炭酸エステル（例、クロル炭酸
メチル、クロル炭酸エチルなど）と塩基共存下（例、ト
リエチルアミン、ピリジン、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウムなど）、通常の溶媒中（例、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニ
トリル、ピリジンなど）で反応させることによりＯ−ア
シル体を得る。反応は、通常アミドキシム体（ＩＶ）１
モルに対して２〜５モルのクロル炭酸エステルおよび２
〜５モルの塩基存在下溶媒中で行われる。反応温度は０
℃〜５０℃、反応時間は１〜１０時間程度である。
キシム体（ＩＶ）とした後、閉環することによりオキサ
ジアゾール−５−オン体（Ｉ−Ｆ）を得るものである。
化合物（ＩＩ）からアミドキシム体（ＩＶ）への反応
は、化合物（ＩＩ）１モルに対してヒドロキシルアミン
を２〜１０モル程度使用して、通常の有機溶媒中で行わ
れる。かかる溶媒としては、アミド類（例、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドな
ど）、スルホキシド類（例、ジメチルスルホキシドな
ど）、アルコール類（例、メタノール、エタノールな
ど）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタ
ン、クロロホルムなど）などが挙げられる。かかるヒド
ロキシルアミンとして、無機酸塩（例、塩酸ヒドロキシ
ルアミン、硫酸ヒドロキシルアミンなど）や有機酸塩
（例、シュウ酸ヒドロキシルアミンなど）を用いる時
は、適当な塩基（例、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、水素化ナトリウムな
ど）を当量程度共存させ、２０〜１２０℃で１〜２４時
間程度反応を行う。このようにして得られたアミドキシ
ム体（ＩＶ）は、クロル炭酸エステル（例、クロル炭酸
メチル、クロル炭酸エチルなど）と塩基共存下（例、ト
リエチルアミン、ピリジン、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウムなど）、通常の溶媒中（例、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニ
トリル、ピリジンなど）で反応させることによりＯ−ア
シル体を得る。反応は、通常アミドキシム体（ＩＶ）１
モルに対して２〜５モルのクロル炭酸エステルおよび２
〜５モルの塩基存在下溶媒中で行われる。反応温度は０
℃〜５０℃、反応時間は１〜１０時間程度である。
【００５１】このようにして得られたＯ−アシルアミド
キシム体から閉環体（Ｉ−Ｆ）への反応は、通常の溶媒
中加熱することにより行われる。かかる溶媒としては、
芳香族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン
など）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジクロロエタンなど）などが挙げら
れる。反応は、Ｏ−アシルアミドキシム体を溶媒中１〜
１０時間加熱することにより行われる。このようにして
得られる化合物（Ｉ−Ｆ）は、公知の分離精製手段、例
えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィーなどにより単離精製することができ
る。
キシム体から閉環体（Ｉ−Ｆ）への反応は、通常の溶媒
中加熱することにより行われる。かかる溶媒としては、
芳香族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン
など）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなど）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジクロロエタンなど）などが挙げら
れる。反応は、Ｏ−アシルアミドキシム体を溶媒中１〜
１０時間加熱することにより行われる。このようにして
得られる化合物（Ｉ−Ｆ）は、公知の分離精製手段、例
えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィーなどにより単離精製することができ
る。
【００５２】（７）カチオンを放出しうる基が１，２，
４−オキサジアゾール−５−チオンである化合物（Ｉ−
Ｇ）の合成法
４−オキサジアゾール−５−チオンである化合物（Ｉ−
Ｇ）の合成法
【化２９】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００５３】本法は、前記Ｉ法において化合物（Ｉ−
Ｆ）の合成中間体として得られるアミドキシム体（Ｉ
Ｖ）を閉環することによりチオケトン体（Ｉ−Ｇ）を製
造するものである。アミドキシム体（ＩＶ）からチオケ
トン体（Ｉ−Ｇ）への反応は、アミドキシム体（ＩＶ）
１モルに対して１，１'−チオカルボニルジイミダゾー
ルを１〜１０モル程度使用して、有機溶媒中で行われ
る。かかる溶媒としては、エーテル類（例、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、ハロゲン化炭化水素類
（例、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン
など）、アセトニトリル、アセトンなどが挙げられる。
また該塩基としては、アミン類（例、ピリジン、トリエ
チルアミン、２，６−ジメチルピリジン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなど）な
どが挙げられる。本反応は、溶媒中−３０℃〜３０℃で
０.５〜１０時間程度で行うのが望ましい。このように
して得られる化合物（Ｉ−Ｇ）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
Ｆ）の合成中間体として得られるアミドキシム体（Ｉ
Ｖ）を閉環することによりチオケトン体（Ｉ−Ｇ）を製
造するものである。アミドキシム体（ＩＶ）からチオケ
トン体（Ｉ−Ｇ）への反応は、アミドキシム体（ＩＶ）
１モルに対して１，１'−チオカルボニルジイミダゾー
ルを１〜１０モル程度使用して、有機溶媒中で行われ
る。かかる溶媒としては、エーテル類（例、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、ハロゲン化炭化水素類
（例、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン
など）、アセトニトリル、アセトンなどが挙げられる。
また該塩基としては、アミン類（例、ピリジン、トリエ
チルアミン、２，６−ジメチルピリジン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなど）な
どが挙げられる。本反応は、溶媒中−３０℃〜３０℃で
０.５〜１０時間程度で行うのが望ましい。このように
して得られる化合物（Ｉ−Ｇ）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
【００５４】（８）カチオンを放出しうる基が１，２，
３，５−オキサチアジアゾール−２−オキシドである化
合物（Ｉ−Ｈ）の合成法
３，５−オキサチアジアゾール−２−オキシドである化
合物（Ｉ−Ｈ）の合成法
【化３０】 ［式中の各記号は前記と同意義である。］
【００５５】本法は、前記Ｉ法における化合物（Ｉ−
Ｆ）の合成中間体として得られるアミドキシム体（Ｉ
Ｖ）を閉環することにより１，２，３，５−オキサチア
ジアゾール−２−オキシド体（Ｉ−Ｈ）を得るものであ
る。アミドキシム体（ＩＶ）から１，２，３，５−オキ
サチアジアゾール−２−オキシド体（Ｉ−Ｈ）への反応
は、アミドキシム体（ＩＶ）を有機溶媒中（例、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホ
ルムなど）、塩基（例、ピリジン、トリエチルアミンな
ど）の存在下、塩化チオニルと反応させて化合物（Ｉ−
Ｈ）を製造する。本反応は、アミドキシム体（ＩＶ）１
モルに対して、１〜３モル程度の塩基存在下、溶媒中−
３０℃〜３０℃で２〜１０モル程度の塩化チオニルを加
え、０.５〜１０時間で行うのが望ましい。このように
して得られる化合物（Ｉ−Ｈ）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
Ｆ）の合成中間体として得られるアミドキシム体（Ｉ
Ｖ）を閉環することにより１，２，３，５−オキサチア
ジアゾール−２−オキシド体（Ｉ−Ｈ）を得るものであ
る。アミドキシム体（ＩＶ）から１，２，３，５−オキ
サチアジアゾール−２−オキシド体（Ｉ−Ｈ）への反応
は、アミドキシム体（ＩＶ）を有機溶媒中（例、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホ
ルムなど）、塩基（例、ピリジン、トリエチルアミンな
ど）の存在下、塩化チオニルと反応させて化合物（Ｉ−
Ｈ）を製造する。本反応は、アミドキシム体（ＩＶ）１
モルに対して、１〜３モル程度の塩基存在下、溶媒中−
３０℃〜３０℃で２〜１０モル程度の塩化チオニルを加
え、０.５〜１０時間で行うのが望ましい。このように
して得られる化合物（Ｉ−Ｈ）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
【００５６】（９）カチオンを放出しうる基が１，２，
４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオンである化合物
（Ｉ−Ｉ）の合成法
４−オキサジアゾリジン−３，５−ジオンである化合物
（Ｉ−Ｉ）の合成法
【化３１】 ［式（ＶＩＩ）中、Ａ1、Ａ2は同一または異なって、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または
アリールオキシ基を、他の記号は前記と同意義を示
す。］
ロゲン原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または
アリールオキシ基を、他の記号は前記と同意義を示
す。］
【００５７】Ａ1，Ａ2で表されるハロゲン原子として
は、例えば塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、アルコキ
シ基としては、低級アルコキシ基（例、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、ブトキシ等炭素数１〜４のもの）
が、アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基等
炭素数７〜１３のものが、アリールオキシ基としては、
フェノキシ基等炭素数６〜１４のものが挙げられる。本
法では、アルデヒド（ＩＩＩ）を、メタノール，エタノ
ールなどのアルコール類、ベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類などの有機溶媒または水ある
いはこれらの混合溶媒など反応に不活性な溶媒中、必要
により酢酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸などの
触媒の存在下に、必要により共沸脱水装置や脱水剤を用
いて、ヒドロキシルアミンまたはその塩とを反応させ、
生成するシッフ塩基をボラン−ピリジン錯体、水素化ホ
ウ素ナトリウム等還元的アミノ化に常用される還元剤に
より還元することによって化合物（Ｖ）を製造する。つ
いで、化合物（Ｖ）を、メタノール，エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフランなどのエーテル類な
ど反応に不活性な有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
中、必要により塩酸など酸触媒の存在下に、シアン酸ア
ルカリ金属を反応させ化合物（ＶＩ）を製造する。つい
で化合物（ＶＩ）に、一般式（ＶＩＩ）で表されるカル
ボニル化合物と反応させることにより化合物（Ｉ−Ｉ）
を製造することができる。本反応は、有機溶媒中（例、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、メタノール、エタノール、２−メトキシエタ
ノール、ジメチルスルホキシド等）、化合物（ＶＩ）１
モルに対して１〜３モル程度の化合物（ＶＩＩ）を用
い、好ましくは塩基（水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等）の存在下、０℃〜１５０℃で行うのが望ましい。
このようにして得られる化合物（Ｉ−Ｉ）は、公知の分
離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。
は、例えば塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、アルコキ
シ基としては、低級アルコキシ基（例、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、ブトキシ等炭素数１〜４のもの）
が、アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基等
炭素数７〜１３のものが、アリールオキシ基としては、
フェノキシ基等炭素数６〜１４のものが挙げられる。本
法では、アルデヒド（ＩＩＩ）を、メタノール，エタノ
ールなどのアルコール類、ベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類などの有機溶媒または水ある
いはこれらの混合溶媒など反応に不活性な溶媒中、必要
により酢酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸などの
触媒の存在下に、必要により共沸脱水装置や脱水剤を用
いて、ヒドロキシルアミンまたはその塩とを反応させ、
生成するシッフ塩基をボラン−ピリジン錯体、水素化ホ
ウ素ナトリウム等還元的アミノ化に常用される還元剤に
より還元することによって化合物（Ｖ）を製造する。つ
いで、化合物（Ｖ）を、メタノール，エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフランなどのエーテル類な
ど反応に不活性な有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
中、必要により塩酸など酸触媒の存在下に、シアン酸ア
ルカリ金属を反応させ化合物（ＶＩ）を製造する。つい
で化合物（ＶＩ）に、一般式（ＶＩＩ）で表されるカル
ボニル化合物と反応させることにより化合物（Ｉ−Ｉ）
を製造することができる。本反応は、有機溶媒中（例、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキ
シエタン、メタノール、エタノール、２−メトキシエタ
ノール、ジメチルスルホキシド等）、化合物（ＶＩ）１
モルに対して１〜３モル程度の化合物（ＶＩＩ）を用
い、好ましくは塩基（水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等）の存在下、０℃〜１５０℃で行うのが望ましい。
このようにして得られる化合物（Ｉ−Ｉ）は、公知の分
離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。
【００５８】（１０）カチオンを放出しうる基がシアノ
基である化合物（ＩＩ）の合成法
基である化合物（ＩＩ）の合成法
【化３２】 ［式中、Ｒ9は低級アルキル基を、ｑは０、１または２
を表し、他の記号は上記と同意義である。］
を表し、他の記号は上記と同意義である。］
【００５９】Ｒ9で表される低級アルキル基としては、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル等炭素数１〜４のものが挙げられる。本法では、ま
ずアルデヒド誘導体（ＩＩＩ−１）をシアノメチルホス
ホン酸エステル誘導体（ＶＩＩＩ）と反応させて不飽和
ニトリル誘導体（ＩＩ−１）を製造する。化合物（ＩＩ
Ｉ−１）と化合物（ＶＩＩＩ）との反応は、常法に従い
塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタンなどのエーテル類；メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類；クロロホルム、ジ
クロロメタン、１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。
該塩基としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等
のアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ,
Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類；水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどの金属水素化物；ナトリウムエ
トキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シド等が挙げられ、これらの塩基の使用量は、化合物
（ＩＩＩ−１）１モルに対して１〜５モル程度が好まし
い。化合物（ＶＩＩＩ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ−
１）１モルに対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程
度である。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、好ましく
は−１０〜１００℃で行われる。反応時間は０．５〜３
０時間である。ついで、化合物（ＩＩ−１）を接触還元
に付すことにより、化合物（ＩＩ−２）を製造する。本
還元反応はＣ法と同様にして行われる。このようにして
製造されたニトリル化合物（ＩＩ−１）および（ＩＩ−
２）は公知の分離精製手段、例えば、濃縮、溶媒抽出、
晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により単離
精製することができる。
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル等炭素数１〜４のものが挙げられる。本法では、ま
ずアルデヒド誘導体（ＩＩＩ−１）をシアノメチルホス
ホン酸エステル誘導体（ＶＩＩＩ）と反応させて不飽和
ニトリル誘導体（ＩＩ−１）を製造する。化合物（ＩＩ
Ｉ−１）と化合物（ＶＩＩＩ）との反応は、常法に従い
塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタンなどのエーテル類；メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類；クロロホルム、ジ
クロロメタン、１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。
該塩基としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等
のアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ,
Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類；水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどの金属水素化物；ナトリウムエ
トキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シド等が挙げられ、これらの塩基の使用量は、化合物
（ＩＩＩ−１）１モルに対して１〜５モル程度が好まし
い。化合物（ＶＩＩＩ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ−
１）１モルに対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程
度である。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、好ましく
は−１０〜１００℃で行われる。反応時間は０．５〜３
０時間である。ついで、化合物（ＩＩ−１）を接触還元
に付すことにより、化合物（ＩＩ−２）を製造する。本
還元反応はＣ法と同様にして行われる。このようにして
製造されたニトリル化合物（ＩＩ−１）および（ＩＩ−
２）は公知の分離精製手段、例えば、濃縮、溶媒抽出、
晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により単離
精製することができる。
【００６０】
【化３３】 ［式中、ｎは１〜６の整数を、Ｗはハロゲン原子を表
し、他の記号は上記と同意義である。］
し、他の記号は上記と同意義である。］
【００６１】Ｗで表されるハロゲン原子としては、例え
ば塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。本法では、ま
ず、アルデヒド誘導体（ＩＩＩ−２）とホスホニウム塩
（ＩＸ）を縮合して化合物（ＩＩ−３）を製造する。本
反応は、常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われ
る。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール、プロパノール等のアルコール類；クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒が挙
げられる。該塩基としては水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム等のアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類；水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等の金属水素化物；ナトリウ
ムエトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブ
トキシド等が挙げられ、これらの塩基の使用量は化合物
（ＩＩＩ−２）に対して１〜５モル程度が好ましい。化
合物（ＩＸ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ−２）１モル
に対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程度である。
本反応は、通常、−５０℃〜１５０℃、好ましくは−１
０〜１００℃で行われる。反応時間は０．５〜３０時間
である。ついで、化合物（ＩＩ−３）を接触還元に付す
ことにより、化合物（ＩＩ−４）を製造する。本還元反
応はＣ法と同様にして行われる。このようにして製造さ
れたニトリル化合物（ＩＩ−３）および（ＩＩ−４）は
公知の分離精製手段、例えば、濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により単離精製す
ることができる。
ば塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。本法では、ま
ず、アルデヒド誘導体（ＩＩＩ−２）とホスホニウム塩
（ＩＸ）を縮合して化合物（ＩＩ−３）を製造する。本
反応は、常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われ
る。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール、プロパノール等のアルコール類；クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドおよびこれらの混合溶媒が挙
げられる。該塩基としては水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム等のアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類；水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等の金属水素化物；ナトリウ
ムエトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブ
トキシド等が挙げられ、これらの塩基の使用量は化合物
（ＩＩＩ−２）に対して１〜５モル程度が好ましい。化
合物（ＩＸ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ−２）１モル
に対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程度である。
本反応は、通常、−５０℃〜１５０℃、好ましくは−１
０〜１００℃で行われる。反応時間は０．５〜３０時間
である。ついで、化合物（ＩＩ−３）を接触還元に付す
ことにより、化合物（ＩＩ−４）を製造する。本還元反
応はＣ法と同様にして行われる。このようにして製造さ
れたニトリル化合物（ＩＩ−３）および（ＩＩ−４）は
公知の分離精製手段、例えば、濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により単離精製す
ることができる。
【００６２】
【化３４】 ［式中、Ｒ10は低級アルキル基を、ｐは０、１または２
を、Ｑは脱離基を表し、他の記号は上記と同意義であ
る。］
を、Ｑは脱離基を表し、他の記号は上記と同意義であ
る。］
【００６３】Ｒ10 で表される低級アルキル基として
は、Ｒ9で表される低級アルキル基として例示したもの
と同様のものが挙げられる。Ｑで表される脱離基として
は、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子の他、メタン
スルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−ト
ルエンスルホニルオキシ等が挙げられる。本法では、ま
ず、アルデヒド誘導体（ＩＩＩ−２）と化合物（Ｘ）を
縮合して不飽和エステル誘導体（ＸＩ）を製造する。本
反応は、Ｎ法の化合物（ＩＩＩ−１）と化合物（ＶＩＩ
Ｉ）の反応と同様にして行われる。ついで、化合物（Ｘ
Ｉ）を接触還元して飽和エステル誘導体（ＸＩＩ）を製
造する。本還元反応はＣ法と同様にして行われる。つい
で、化合物（ＸＩＩ）を還元反応に付し、アルコール誘
導体（ＸＩＩＩ）を製造する。本還元反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物によ
る還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび
置換ボランによる還元等が用いられる。すなわち、この
反応は化合物（ＸＩＩ）を還元剤で処理することにより
行われる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素リチウム等の水素化ホウ素アルカリ金属、
水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物およ
びボラン化合物等が挙げられる。この反応は、反応に影
響を及ぼさない溶媒中で行われる。該溶媒としては、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン等のエーテル類；メタノール、エタノール、プロパ
ノール等のアルコール類；クロロホルム、ジクロロメタ
ン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合溶媒が還元剤の種類により適宜
選択して用いられる。反応温度は通常−５０℃〜１５０
℃、好ましくは−１０〜１００℃で行われる。反応時間
は０．５〜３０時間である。
は、Ｒ9で表される低級アルキル基として例示したもの
と同様のものが挙げられる。Ｑで表される脱離基として
は、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子の他、メタン
スルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−ト
ルエンスルホニルオキシ等が挙げられる。本法では、ま
ず、アルデヒド誘導体（ＩＩＩ−２）と化合物（Ｘ）を
縮合して不飽和エステル誘導体（ＸＩ）を製造する。本
反応は、Ｎ法の化合物（ＩＩＩ−１）と化合物（ＶＩＩ
Ｉ）の反応と同様にして行われる。ついで、化合物（Ｘ
Ｉ）を接触還元して飽和エステル誘導体（ＸＩＩ）を製
造する。本還元反応はＣ法と同様にして行われる。つい
で、化合物（ＸＩＩ）を還元反応に付し、アルコール誘
導体（ＸＩＩＩ）を製造する。本還元反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物によ
る還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび
置換ボランによる還元等が用いられる。すなわち、この
反応は化合物（ＸＩＩ）を還元剤で処理することにより
行われる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素リチウム等の水素化ホウ素アルカリ金属、
水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物およ
びボラン化合物等が挙げられる。この反応は、反応に影
響を及ぼさない溶媒中で行われる。該溶媒としては、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン等のエーテル類；メタノール、エタノール、プロパ
ノール等のアルコール類；クロロホルム、ジクロロメタ
ン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合溶媒が還元剤の種類により適宜
選択して用いられる。反応温度は通常−５０℃〜１５０
℃、好ましくは−１０〜１００℃で行われる。反応時間
は０．５〜３０時間である。
【００６４】ついで、化合物（ＸＩＩＩ）をハロゲン化
剤あるいはスルホニル化剤と反応させて（ＸＩＶ）を製
造する。ハロゲン化剤としては、塩酸、塩化チオニル、
三臭化リンなどが好んで用いられ、この場合、Ｑが塩素
または臭素である化合物（ＸＩＶ）が生成する。本反応
は、適宜の不活性溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン等）中、ある
いは過剰のハロゲン化剤を溶媒として−１０〜８０℃で
行われる。ハロゲン化剤の使用量は、化合物（ＸＩＩ
Ｉ）１モルに対して１〜２０モルである。スルホニル化
剤としてはメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンス
ルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド等が好
んで用いられ、Ｑがそれぞれメタンスルホニルオキシ、
ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオ
キシで示される化合物（ＸＩＶ）が生成する。本反応は
適宜の不活性溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、ジクロロメタン等）中、塩基（た
とえばトリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等）の存在下に−１０〜３０℃で行われ
る。スルホニル化剤および塩基の使用量は、化合物（Ｘ
ＩＩＩ）１モルに対してそれぞれ１〜２モルである。以
上のようにして生成したＱが塩素、臭素あるいはスルホ
ニルオキシである化合物（ＸＩＶ）１モルに対して、ヨ
ウ化ナトリウムあるいはヨウ化カリウムを１〜２モル反
応させてＱがヨウ素である化合物（ＸＩＶ）を製造する
こともできる。この場合反応はアセトン、２−ブタノ
ン、メタノール、エタノール等の溶媒中、２０〜８０℃
で行われる。
剤あるいはスルホニル化剤と反応させて（ＸＩＶ）を製
造する。ハロゲン化剤としては、塩酸、塩化チオニル、
三臭化リンなどが好んで用いられ、この場合、Ｑが塩素
または臭素である化合物（ＸＩＶ）が生成する。本反応
は、適宜の不活性溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン等）中、ある
いは過剰のハロゲン化剤を溶媒として−１０〜８０℃で
行われる。ハロゲン化剤の使用量は、化合物（ＸＩＩ
Ｉ）１モルに対して１〜２０モルである。スルホニル化
剤としてはメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンス
ルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド等が好
んで用いられ、Ｑがそれぞれメタンスルホニルオキシ、
ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオ
キシで示される化合物（ＸＩＶ）が生成する。本反応は
適宜の不活性溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、ジクロロメタン等）中、塩基（た
とえばトリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等）の存在下に−１０〜３０℃で行われ
る。スルホニル化剤および塩基の使用量は、化合物（Ｘ
ＩＩＩ）１モルに対してそれぞれ１〜２モルである。以
上のようにして生成したＱが塩素、臭素あるいはスルホ
ニルオキシである化合物（ＸＩＶ）１モルに対して、ヨ
ウ化ナトリウムあるいはヨウ化カリウムを１〜２モル反
応させてＱがヨウ素である化合物（ＸＩＶ）を製造する
こともできる。この場合反応はアセトン、２−ブタノ
ン、メタノール、エタノール等の溶媒中、２０〜８０℃
で行われる。
【００６５】ついで、化合物（ＸＩＶ）をシアン化カリ
ウム、またはシアン化ナトリウムと反応させることによ
り化合物（ＩＩ−５）を製造する。反応は、通常溶媒
（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、アセトン、２−ブタノン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等）中、０〜１００℃で行われ、シアン化カリウムまた
はシアン化ナトリウムの使用量は、化合物（ＸＩＶ）１
モルに対して１〜５モルである。このようにして製造さ
れたニトリル化合物（ＩＩ−５）は公知の分離精製手
段、たとえば濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、ク
ロマトグラフィー等により単離精製することができる。
上記した化合物（ＩＩ）は、前記したＡ法およびＪ法に
おける原料化合物としても用いられる。
ウム、またはシアン化ナトリウムと反応させることによ
り化合物（ＩＩ−５）を製造する。反応は、通常溶媒
（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、アセトン、２−ブタノン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等）中、０〜１００℃で行われ、シアン化カリウムまた
はシアン化ナトリウムの使用量は、化合物（ＸＩＶ）１
モルに対して１〜５モルである。このようにして製造さ
れたニトリル化合物（ＩＩ−５）は公知の分離精製手
段、たとえば濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、ク
ロマトグラフィー等により単離精製することができる。
上記した化合物（ＩＩ）は、前記したＡ法およびＪ法に
おける原料化合物としても用いられる。
【００６６】（１１）カチオンを放出しうる基がアルコ
キシカルボニル基である化合物（ＸＩ）および（ＸＩ
Ｉ）の合成法 化合物（ＸＩ）および（ＸＩＩ）は、前記したＰ法にし
たがって製造することができる。このようにして製造さ
れた化合物（ＸＩ）および（ＸＩＩ）は公知の分離精製
手段、たとえば濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィー等により単離精製することができ
る。
キシカルボニル基である化合物（ＸＩ）および（ＸＩ
Ｉ）の合成法 化合物（ＸＩ）および（ＸＩＩ）は、前記したＰ法にし
たがって製造することができる。このようにして製造さ
れた化合物（ＸＩ）および（ＸＩＩ）は公知の分離精製
手段、たとえば濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィー等により単離精製することができ
る。
【００６７】（１２）カチオンを放出しうる基がカルボ
キシル基である化合物の合成法 上記した化合物（ＩＩ），（ＸＩ）または（ＸＩＩ）を
加水分解することにより、カチオンを放出しうる基がカ
ルボキシル基である化合物を製造することができる。加
水分解は、通常反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で、塩
基あるいは酸と接触することにより行われる。反応に悪
影響を及ぼさない溶媒としては、例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール等のアルコール類；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびこれらの混
合溶媒が挙げられる。塩基としては、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩等が用いられる。
塩基の使用量は、原料化合物１モルに対して、１〜３モ
ル程度である。酸としては、塩酸，臭化水素酸等の無機
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸が用いられる。
酸の使用量は、原料化合物１モルに対して１モル〜大過
剰量である。酸を用いる場合、大過剰量の酸を溶媒とし
て用いてもよい。反応温度は、通常−５０℃〜１５０
℃、好ましくは−１０℃〜１００℃で行われる。反応時
間は０．５〜３０時間程度である。このようにして製造
された化合物は公知の分離精製手段、たとえば濃縮、溶
媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等に
より単離精製することができる。
キシル基である化合物の合成法 上記した化合物（ＩＩ），（ＸＩ）または（ＸＩＩ）を
加水分解することにより、カチオンを放出しうる基がカ
ルボキシル基である化合物を製造することができる。加
水分解は、通常反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で、塩
基あるいは酸と接触することにより行われる。反応に悪
影響を及ぼさない溶媒としては、例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール等のアルコール類；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびこれらの混
合溶媒が挙げられる。塩基としては、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩等が用いられる。
塩基の使用量は、原料化合物１モルに対して、１〜３モ
ル程度である。酸としては、塩酸，臭化水素酸等の無機
酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸が用いられる。
酸の使用量は、原料化合物１モルに対して１モル〜大過
剰量である。酸を用いる場合、大過剰量の酸を溶媒とし
て用いてもよい。反応温度は、通常−５０℃〜１５０
℃、好ましくは−１０℃〜１００℃で行われる。反応時
間は０．５〜３０時間程度である。このようにして製造
された化合物は公知の分離精製手段、たとえば濃縮、溶
媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等に
より単離精製することができる。
【００６８】前記したＢ法、Ｄ法、Ｆ法、Ｈ法、Ｍ法、
Ｎ法、Ｏ法およびＰ法の原料化合物として用いられるア
ルデヒド誘導体（ＩＩＩ）は、例えば、つぎのＱ法また
はＲ法によって製造することができる。
Ｎ法、Ｏ法およびＰ法の原料化合物として用いられるア
ルデヒド誘導体（ＩＩＩ）は、例えば、つぎのＱ法また
はＲ法によって製造することができる。
【化３５】 ［式中の各記号は上記と同意義である。］
【００６９】本法では、まず、不飽和エステル誘導体
（ＸＩ）を還元反応に付し、アルコール誘導体（ＸＶ）
を製造する。本還元反応は、Ｐ法における化合物（ＸＩ
Ｉ）の還元反応と同様にして行われるが、還元剤として
は水素化ジイソブチルアルミニウムを用いることにより
有利に行われる。ついで、化合物（ＸＶ）を酸化反応に
付し、不飽和アルデヒド誘導体（ＩＩＩ−３）を製造す
る。本酸化反応は、自体公知の方法で行うことができ
る。例えば、二酸化マンガンによる酸化、クロム酸によ
る酸化、ジメチルスルホキシドによる酸化等が用いられ
る。すなわち、この反応は化合物（ＸＶ）を酸化剤で処
理することにより行われる。酸化剤としては、二酸化マ
ンガン、無水クロム酸等が用いられるが、二酸化マンガ
ンを用いることにより有利に行われる。この反応は、反
応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。該溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン等のエーテル類；クロロホルム、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合溶媒が酸化剤の種類により適宜
選択して用いられる。反応温度は通常−５０℃〜１５０
℃、好ましくは−１０〜１００℃で行われる。反応時間
は０．５〜３０時間である。このようにして得られるア
ルデヒド誘導体（ＩＩＩ−３）は公知の分離精製手段、
たとえば濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマ
トグラフィー等により単離精製することができる。
（ＸＩ）を還元反応に付し、アルコール誘導体（ＸＶ）
を製造する。本還元反応は、Ｐ法における化合物（ＸＩ
Ｉ）の還元反応と同様にして行われるが、還元剤として
は水素化ジイソブチルアルミニウムを用いることにより
有利に行われる。ついで、化合物（ＸＶ）を酸化反応に
付し、不飽和アルデヒド誘導体（ＩＩＩ−３）を製造す
る。本酸化反応は、自体公知の方法で行うことができ
る。例えば、二酸化マンガンによる酸化、クロム酸によ
る酸化、ジメチルスルホキシドによる酸化等が用いられ
る。すなわち、この反応は化合物（ＸＶ）を酸化剤で処
理することにより行われる。酸化剤としては、二酸化マ
ンガン、無水クロム酸等が用いられるが、二酸化マンガ
ンを用いることにより有利に行われる。この反応は、反
応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。該溶媒として
は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン等のエーテル類；クロロホルム、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合溶媒が酸化剤の種類により適宜
選択して用いられる。反応温度は通常−５０℃〜１５０
℃、好ましくは−１０〜１００℃で行われる。反応時間
は０．５〜３０時間である。このようにして得られるア
ルデヒド誘導体（ＩＩＩ−３）は公知の分離精製手段、
たとえば濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマ
トグラフィー等により単離精製することができる。
【００７０】
【化３６】 ［式中の各記号は上記と同意義である。］
【００７１】本法は、Ｑ法と同様にして行われる。すな
わち、化合物（ＸＶＩ）の還元反応はＱ法における化合
物（ＸＩ）の還元反応と同様に、また化合物（ＸＶＩ
Ｉ）の酸化反応はＱ法における化合物（ＸＶ）の酸化反
応と同様にして化合物（ＩＩＩ−１）とすることができ
る。このようにして得られるアルデヒド誘導体（ＩＩＩ
−１）は公知の分離精製手段、たとえば濃縮、溶媒抽
出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により
単離精製することができる。
わち、化合物（ＸＶＩ）の還元反応はＱ法における化合
物（ＸＩ）の還元反応と同様に、また化合物（ＸＶＩ
Ｉ）の酸化反応はＱ法における化合物（ＸＶ）の酸化反
応と同様にして化合物（ＩＩＩ−１）とすることができ
る。このようにして得られるアルデヒド誘導体（ＩＩＩ
−１）は公知の分離精製手段、たとえば濃縮、溶媒抽
出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により
単離精製することができる。
【００７２】Ｒ法の原料化合物（ＸＶＩ）は、例えば、
つぎの方法によって製造することができる。
つぎの方法によって製造することができる。
【化３７】 ［式中、Ｔは低級アルキル基、アラルキル基およびアシ
ル基を、他の記号は上記と同意義である。］
ル基を、他の記号は上記と同意義である。］
【００７３】Ｔで表される低級アルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、tert−ブチル等炭素数１〜４のものが、アラルキル
基としては、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、ト
リチル等炭素数７〜１９のものが、また、アシル基とし
ては、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等、炭素数
１〜４の低級アルキルあるいは炭素数６〜１４の芳香族
炭化水素にカルボニル基が結合したものが挙げられる。
本法では、まず、保護基Ｔで置換した水酸基を有する化
合物（ＸＶＩＩＩ）と化合物（ＸＩＸ）を縮合して化合
物（ＸＸ）を製造する。本反応は、常法に従い塩基の存
在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノ
ール等のアルコール類；クロロホルム、ジクロロメタ
ン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。該塩基とし
ては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ
金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアニリン等のアミン類；水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等の金属水素化物；ナトリウムエトキシド、ナト
リウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これらの塩基の使用量は、化合物（ＸＶＩＩＩ）１
モルに対して１〜５モル程度が好ましい。化合物（ＸＩ
Ｘ）の使用量は、化合物（ＸＶＩＩＩ）１モルに対し１
〜５モル、好ましくは１〜３モル程度である。本反応は
通常−２０℃〜１８０℃、好ましくは０〜１２０℃で行
われる。反応時間は０．５〜３０時間である。
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、tert−ブチル等炭素数１〜４のものが、アラルキル
基としては、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、ト
リチル等炭素数７〜１９のものが、また、アシル基とし
ては、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等、炭素数
１〜４の低級アルキルあるいは炭素数６〜１４の芳香族
炭化水素にカルボニル基が結合したものが挙げられる。
本法では、まず、保護基Ｔで置換した水酸基を有する化
合物（ＸＶＩＩＩ）と化合物（ＸＩＸ）を縮合して化合
物（ＸＸ）を製造する。本反応は、常法に従い塩基の存
在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノ
ール等のアルコール類；クロロホルム、ジクロロメタ
ン、１,２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。該塩基とし
ては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ
金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアニリン等のアミン類；水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等の金属水素化物；ナトリウムエトキシド、ナト
リウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これらの塩基の使用量は、化合物（ＸＶＩＩＩ）１
モルに対して１〜５モル程度が好ましい。化合物（ＸＩ
Ｘ）の使用量は、化合物（ＸＶＩＩＩ）１モルに対し１
〜５モル、好ましくは１〜３モル程度である。本反応は
通常−２０℃〜１８０℃、好ましくは０〜１２０℃で行
われる。反応時間は０．５〜３０時間である。
【００７４】ついで、化合物（ＸＸ）を分子内縮合する
ことにより、化合物（ＸＸＩ）を製造する。本反応は、
常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン等のエーテル類；メタノール、エ
タノール、プロパノール等のアルコール類；クロロホル
ム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類；酢酸エチル、ピリジン、アセトニト
リル、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、酢酸、無水酢酸およびこれらの混合溶媒が挙げ
られる。該塩基としては水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属
塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルア
ニリン、１,８−ジアザビシクロ［５,４,０］−７−ウ
ンデセン等のアミン類；水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム等の金属水素化物；ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これらの塩基の使用量は、化合物（ＸＸ）１モルに
対して１〜５モル程度が好ましい。本反応は、通常−２
０℃〜１８０℃、好ましくは０〜１２０℃で行われる。
反応時間は０．５〜３０時間である。
ことにより、化合物（ＸＸＩ）を製造する。本反応は、
常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン等のエーテル類；メタノール、エ
タノール、プロパノール等のアルコール類；クロロホル
ム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類；酢酸エチル、ピリジン、アセトニト
リル、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、酢酸、無水酢酸およびこれらの混合溶媒が挙げ
られる。該塩基としては水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属
塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルア
ニリン、１,８−ジアザビシクロ［５,４,０］−７−ウ
ンデセン等のアミン類；水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム等の金属水素化物；ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これらの塩基の使用量は、化合物（ＸＸ）１モルに
対して１〜５モル程度が好ましい。本反応は、通常−２
０℃〜１８０℃、好ましくは０〜１２０℃で行われる。
反応時間は０．５〜３０時間である。
【００７５】ついで、化合物（ＸＸＩ）を脱保護して化
合物（ＸＸＩＩ）を製造する。本反応は、保護基Ｔの種
類により常法どおり適宜行われる。ついで、化合物（Ｘ
ＸＩＩ）と化合物（ＸＸＩＩＩ）を縮合して化合物（Ｘ
ＶＩ）を製造する。本反応は、化合物（ＸＸＩＩＩ）と
化合物（ＸＩＸ）の反応と同様にして行われる。このよ
うにして製造された化合物（ＸＶＩ）は公知の分離精製
手段、例えば、濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィー等により単離精製することができ
る。
合物（ＸＸＩＩ）を製造する。本反応は、保護基Ｔの種
類により常法どおり適宜行われる。ついで、化合物（Ｘ
ＸＩＩ）と化合物（ＸＸＩＩＩ）を縮合して化合物（Ｘ
ＶＩ）を製造する。本反応は、化合物（ＸＸＩＩＩ）と
化合物（ＸＩＸ）の反応と同様にして行われる。このよ
うにして製造された化合物（ＸＶＩ）は公知の分離精製
手段、例えば、濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、
クロマトグラフィー等により単離精製することができ
る。
【００７６】
【発明の実施の形態】以下に実験例、実施例および参考
例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
実験例 マウスにおける血糖および血中脂質低下作用 被検化合物を粉末飼料（ＣＥ−２、日本クレア）に０．
００５％混合し、ＫＫＡy−マウス(９〜１４週令）に自
由に４日間与えた。この間、水は自由に与えた。血液を
眼窩静脈そうから採取し、血漿を用いてグルコースとト
リグリセライドを酵素法によりそれぞれイアトロケム−
ＧＬＵ（Ａ）キット（ヤトロン社）およびイアトロ−Ｍ
Ａ７０１ＴＧキット（ヤトロン社）を用いて定量した。
それぞれの薬物投与群の値は、薬物非投与群に対する低
下率（％）で表し、表１に示した。
００５％混合し、ＫＫＡy−マウス(９〜１４週令）に自
由に４日間与えた。この間、水は自由に与えた。血液を
眼窩静脈そうから採取し、血漿を用いてグルコースとト
リグリセライドを酵素法によりそれぞれイアトロケム−
ＧＬＵ（Ａ）キット（ヤトロン社）およびイアトロ−Ｍ
Ａ７０１ＴＧキット（ヤトロン社）を用いて定量した。
それぞれの薬物投与群の値は、薬物非投与群に対する低
下率（％）で表し、表１に示した。
【００７７】
【表１】 ───────────────────────── 化合物 血糖低下作用 脂質低下作用 （実施例番号） （％） （％） ───────────────────────── ２ ６１ ９２ ６ ４０ ２７ ７ ３８ ２６ ８ ６１ ７０ ─────────────────────────
【００７８】このように、本発明の化合物（Ｉ）および
その塩は、優れた血糖および血中脂質低下作用を有し、
糖尿病治療剤、インスリン感受性増強剤、高脂血症治療
剤、高血圧治療剤など医薬品として有用である。
その塩は、優れた血糖および血中脂質低下作用を有し、
糖尿病治療剤、インスリン感受性増強剤、高脂血症治療
剤、高血圧治療剤など医薬品として有用である。
【００７９】実施例１ ２−（２−シアノエチル）−６−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン
（１．２０ｇ）、アジ化ナトリウム（１．０９ｇ）、塩
化アンモニウム（０．９０ｇ）およびＮ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（３０ｍｌ）の混合物を１３０〜１４０℃
で１６時間かきまぜた。反応混合物を水に注いで酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（ＭｇＳＯ
4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付した。メタノール−クロロホルム
（５：９５、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、５−［２−
［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−２−ベンゾフラニル］エチル］−１Ｈ−テ
トラゾール（１．０５ｇ、７８％）を得た。ジクロロメ
タン−メタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 １７７〜１７８℃。 元素分析値 Ｃ22Ｈ19Ｎ5Ｏ3として 計算値：Ｃ，６５．８３； Ｈ，４．７７； Ｎ，１７．４５ 実測値：Ｃ，６５．５７； Ｈ，４．９７； Ｎ，１７．４４
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン
（１．２０ｇ）、アジ化ナトリウム（１．０９ｇ）、塩
化アンモニウム（０．９０ｇ）およびＮ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（３０ｍｌ）の混合物を１３０〜１４０℃
で１６時間かきまぜた。反応混合物を水に注いで酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（ＭｇＳＯ
4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付した。メタノール−クロロホルム
（５：９５、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、５−［２−
［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−２−ベンゾフラニル］エチル］−１Ｈ−テ
トラゾール（１．０５ｇ、７８％）を得た。ジクロロメ
タン−メタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 １７７〜１７８℃。 元素分析値 Ｃ22Ｈ19Ｎ5Ｏ3として 計算値：Ｃ，６５．８３； Ｈ，４．７７； Ｎ，１７．４５ 実測値：Ｃ，６５．５７； Ｈ，４．９７； Ｎ，１７．４４
【００８０】実施例２ 実施例１と同様にして、５−［３−［６−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾールを得
た。収率 ５８％。ジクロロメタン−メタノールから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １３９〜１４０℃。
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾールを得
た。収率 ５８％。ジクロロメタン−メタノールから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １３９〜１４０℃。
【００８１】実施例３ 実施例１と同様にして、５−［４−［６−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］ブチル］−１Ｈ−テトラゾールを得た。
収率 ５５％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１４〜１１
５℃。
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］ブチル］−１Ｈ−テトラゾールを得た。
収率 ５５％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１４〜１１
５℃。
【００８２】実施例４ ６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）−２−ベンゾフランカルボアルデヒド（１．２
０ｇ）、２,４−チアゾリジンジオン（０．４６５
ｇ）、ピペリジン（０．１２ｇ）およびエタノール（４
０ｍｌ）の混合物を還流下に２時間加熱した。冷後、析
出した５−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチリデ
ン］−２,４−チアゾリジンジオンの結晶（１．４６
ｇ、９４％）を得た。クロロホルム−エタノールから再
結晶した。黄色プリズム晶。融点 ２７２〜２７３℃。 元素分析値 Ｃ23Ｈ16Ｎ2Ｏ5Ｓ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，６３．２２； Ｈ，３．８１； Ｎ，６．４１ 実測値：Ｃ，６３．１６； Ｈ，３．６２； Ｎ，６．３１
トキシ）−２−ベンゾフランカルボアルデヒド（１．２
０ｇ）、２,４−チアゾリジンジオン（０．４６５
ｇ）、ピペリジン（０．１２ｇ）およびエタノール（４
０ｍｌ）の混合物を還流下に２時間加熱した。冷後、析
出した５−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチリデ
ン］−２,４−チアゾリジンジオンの結晶（１．４６
ｇ、９４％）を得た。クロロホルム−エタノールから再
結晶した。黄色プリズム晶。融点 ２７２〜２７３℃。 元素分析値 Ｃ23Ｈ16Ｎ2Ｏ5Ｓ・１／４Ｈ2Ｏとして 計算値：Ｃ，６３．２２； Ｈ，３．８１； Ｎ，６．４１ 実測値：Ｃ，６３．１６； Ｈ，３．６２； Ｎ，６．３１
【００８３】実施例５ ５−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチリデン］−
２,４−チアゾリジンジオン（０．８０ｇ）、パラジウ
ム−炭素（５％、１．６０ｇ）およびテトラヒドロフラ
ン（２５０ｍｌ）の混合物を、室温、３．２ｋｇｆ／ｃ
ｍ2の水素圧で８時間接触還元した。触媒を濾別し、濾
液をさらに同条件下１６時間接触還元した。触媒を濾別
後、濾液を減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−クロロホル
ム（１：５、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、５−［６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニルメチル］−２,４−チアゾリ
ジンジオンの結晶（０．３０５ｇ、３８％）を得た。ジ
クロロメタン−メタノールから再結晶した。黄色針状
晶。融点 １７９〜１８０℃。 元素分析値 Ｃ23Ｈ18Ｎ2Ｏ5Ｓとして 計算値：Ｃ，６３．５８； Ｈ，４．１８； Ｎ，６．４５ 実測値：Ｃ，６３．５１； Ｈ，３．９６； Ｎ，６．５２
リルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチリデン］−
２,４−チアゾリジンジオン（０．８０ｇ）、パラジウ
ム−炭素（５％、１．６０ｇ）およびテトラヒドロフラ
ン（２５０ｍｌ）の混合物を、室温、３．２ｋｇｆ／ｃ
ｍ2の水素圧で８時間接触還元した。触媒を濾別し、濾
液をさらに同条件下１６時間接触還元した。触媒を濾別
後、濾液を減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−クロロホル
ム（１：５、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、５−［６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニルメチル］−２,４−チアゾリ
ジンジオンの結晶（０．３０５ｇ、３８％）を得た。ジ
クロロメタン−メタノールから再結晶した。黄色針状
晶。融点 １７９〜１８０℃。 元素分析値 Ｃ23Ｈ18Ｎ2Ｏ5Ｓとして 計算値：Ｃ，６３．５８； Ｈ，４．１８； Ｎ，６．４５ 実測値：Ｃ，６３．５１； Ｈ，３．９６； Ｎ，６．５２
【００８４】実施例６ （Ｅ）−３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］アクロ
レイン（１．００ｇ）、２,４−チアゾリジンジオン
（０．４９ｇ）、ピペリジン（０．２４ｇ）および酢酸
（２０ｍｌ）の混合物を還流下に２時間加熱した。反応
混合物を減圧下に濃縮し、析出した結晶（０．７９ｇ）
を濾取した。その結晶をテトラヒドロフラン（２００ｍ
ｌ）に溶解し、パラジウム−炭素（５％、１．６０ｇ）
を加え、３．２ｋｇｆ／ｃｍ2の水素圧で８時間接触還
元した。触媒を濾別し、濾液をさらに同条件下８時間接
触還元した。触媒を濾別後、濾液を減圧下に濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−クロロホルム（１：９、ｖ／ｖ）で溶出す
る部分から、５−［３−［６−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ル］プロピル］−２,４−チアゾリジンジオンの結晶
（０．３４ｇ、２６％）を得た。ジクロロメタン−メタ
ノールから再結晶した。黄色プリズム晶。融点 １６７
〜１６８℃。 元素分析値 Ｃ25Ｈ22Ｎ2Ｏ5Ｓとして 計算値：Ｃ，６４．９２； Ｈ，４．７９； Ｎ，６．０６ 実測値：Ｃ，６４．６３； Ｈ，４．８５； Ｎ，５．９５
オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］アクロ
レイン（１．００ｇ）、２,４−チアゾリジンジオン
（０．４９ｇ）、ピペリジン（０．２４ｇ）および酢酸
（２０ｍｌ）の混合物を還流下に２時間加熱した。反応
混合物を減圧下に濃縮し、析出した結晶（０．７９ｇ）
を濾取した。その結晶をテトラヒドロフラン（２００ｍ
ｌ）に溶解し、パラジウム−炭素（５％、１．６０ｇ）
を加え、３．２ｋｇｆ／ｃｍ2の水素圧で８時間接触還
元した。触媒を濾別し、濾液をさらに同条件下８時間接
触還元した。触媒を濾別後、濾液を減圧下に濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−クロロホルム（１：９、ｖ／ｖ）で溶出す
る部分から、５−［３−［６−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ル］プロピル］−２,４−チアゾリジンジオンの結晶
（０．３４ｇ、２６％）を得た。ジクロロメタン−メタ
ノールから再結晶した。黄色プリズム晶。融点 １６７
〜１６８℃。 元素分析値 Ｃ25Ｈ22Ｎ2Ｏ5Ｓとして 計算値：Ｃ，６４．９２； Ｈ，４．７９； Ｎ，６．０６ 実測値：Ｃ，６４．６３； Ｈ，４．８５； Ｎ，５．９５
【００８５】実施例７ ６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）−２−ベンゾフランカルボアルデヒド（１．７
０ｇ）、２,４−オキサゾリジンジオン（１．５５
ｇ）、ピロリジン（０．３６５ｇ）およびエタノール
（４０ｍｌ）の混合物を還流下に３時間加熱した。反応
混合物を水に注いで析出した結晶を濾取した。その結晶
をテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）に溶解し、パラジ
ウム−炭素（０．４０ｇ）を加え、室温、１気圧で接触
還元した。触媒を濾別後、濾液を減圧下に濃縮し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。メ
タノール−クロロホルム（２：９８、ｖ／ｖ）で溶出す
る部分から、５−［６−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチ
ル］−２,４−オキサゾリジンジオンの結晶（０．１４
ｇ、６．６％）を得た。ジクロロメタン−メタノールか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １７２〜１７３
℃。 元素分析値 Ｃ23Ｈ18Ｎ2Ｏ6として 計算値：Ｃ，６６．０３； Ｈ，４．３４； Ｎ，６．７０ 実測値：Ｃ，６５．９５； Ｈ，４．３１； Ｎ，６．７１
トキシ）−２−ベンゾフランカルボアルデヒド（１．７
０ｇ）、２,４−オキサゾリジンジオン（１．５５
ｇ）、ピロリジン（０．３６５ｇ）およびエタノール
（４０ｍｌ）の混合物を還流下に３時間加熱した。反応
混合物を水に注いで析出した結晶を濾取した。その結晶
をテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）に溶解し、パラジ
ウム−炭素（０．４０ｇ）を加え、室温、１気圧で接触
還元した。触媒を濾別後、濾液を減圧下に濃縮し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。メ
タノール−クロロホルム（２：９８、ｖ／ｖ）で溶出す
る部分から、５−［６−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチ
ル］−２,４−オキサゾリジンジオンの結晶（０．１４
ｇ、６．６％）を得た。ジクロロメタン−メタノールか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １７２〜１７３
℃。 元素分析値 Ｃ23Ｈ18Ｎ2Ｏ6として 計算値：Ｃ，６６．０３； Ｈ，４．３４； Ｎ，６．７０ 実測値：Ｃ，６５．９５； Ｈ，４．３１； Ｎ，６．７１
【００８６】実施例８ 実施例７と同様にして、５−［３−［６−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］プロピル］−２,４−オキサゾリジンジ
オンの結晶を得た。収率 ２５％。ジクロロメタン−メ
タノールから再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １
５９〜１６０℃。
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］プロピル］−２,４−オキサゾリジンジ
オンの結晶を得た。収率 ２５％。ジクロロメタン−メ
タノールから再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １
５９〜１６０℃。
【００８７】実施例９ 実施例１と同様にして、５−［３−［５−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾールを得
た。収率 ８２％。アセトン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １３６〜１３７
℃。
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾールを得
た。収率 ８２％。アセトン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １３６〜１３７
℃。
【００８８】実施例１０ 水素化ナトリウム（６０％，油性，０．２０ｇ）を６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）ベンゾフラン−２−カルボアルデヒド（１．５０
ｇ）とジエチル シアノメチルホスホネート（０．８８
ｇ）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）溶液
に０℃で徐々に加え、室温で１時間かきまぜた。反応混
合物を氷水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢酸エチル（２
００ｍｌ）で抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4）後、パラジウム−炭素（５％、０．７０ｇ）
を加え、室温、１気圧で接触還元した。触媒を濾別し、
濾液を濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付した。酢酸エチル−クロロホルム（２：９
８、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−（２−シアノエ
チル）−６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンゾフランの結晶（１．３４ｇ、８
３％）を得た。ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ９２〜９３℃。
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）ベンゾフラン−２−カルボアルデヒド（１．５０
ｇ）とジエチル シアノメチルホスホネート（０．８８
ｇ）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）溶液
に０℃で徐々に加え、室温で１時間かきまぜた。反応混
合物を氷水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢酸エチル（２
００ｍｌ）で抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4）後、パラジウム−炭素（５％、０．７０ｇ）
を加え、室温、１気圧で接触還元した。触媒を濾別し、
濾液を濃縮後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付した。酢酸エチル−クロロホルム（２：９
８、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−（２−シアノエ
チル）−６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンゾフランの結晶（１．３４ｇ、８
３％）を得た。ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ９２〜９３℃。
【００８９】実施例１１ 水素化ナトリウム（６０％、油性、０．２０ｇ）を３−
シアノプロピルトリフェニルホスホニウム ブロミド
（２．０７ｇ）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０
ｍｌ）溶液に室温で徐々に加え、１時間かきまぜた。６
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）ベンゾフラン−２−カルボアルデヒド（１．４０
ｇ）を加え、７０〜８０℃で２時間かきまぜた。反応混
合物を氷水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢酸エチル（２
００ｍｌ）で抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン
（１：２、ｖ／ｖ）で溶出する部分から油状物を得た。
これをテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）に溶解し、パラ
ジウム−炭素（５％、０．７０ｇ）を加え、室温、１気
圧で接触還元した。触媒を濾別し、濾液を濃縮後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢
酸エチル−ヘキサン（１：３、ｖ／ｖ）で溶出する部分
から、２−（４−シアノブチル）−６−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラ
ンの結晶（０．９７ｇ、６０％）を得た。ジエチルエー
テル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
８７〜８８℃。
シアノプロピルトリフェニルホスホニウム ブロミド
（２．０７ｇ）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０
ｍｌ）溶液に室温で徐々に加え、１時間かきまぜた。６
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）ベンゾフラン−２−カルボアルデヒド（１．４０
ｇ）を加え、７０〜８０℃で２時間かきまぜた。反応混
合物を氷水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢酸エチル（２
００ｍｌ）で抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン
（１：２、ｖ／ｖ）で溶出する部分から油状物を得た。
これをテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）に溶解し、パラ
ジウム−炭素（５％、０．７０ｇ）を加え、室温、１気
圧で接触還元した。触媒を濾別し、濾液を濃縮後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢
酸エチル−ヘキサン（１：３、ｖ／ｖ）で溶出する部分
から、２−（４−シアノブチル）−６−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラ
ンの結晶（０．９７ｇ、６０％）を得た。ジエチルエー
テル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
８７〜８８℃。
【００９０】実施例１２ 水素化ナトリウム（６０％、油性、０．７２ｇ）を６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）ベンゾフラン−２−カルボアルデヒド（６．００
ｇ）とトリエチル ホスホノアセテート（４．０４ｇ）
のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）溶液に
０℃で徐々に加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合
物を氷水に注ぎ、析出した（Ｅ）−エチル ３−［６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］アクリレートの結晶を得
た。ジクロロメタン−エタノールから再結晶し、無色プ
リズム晶（７．０３ｇ、９７％）を得た。融点 １４１
〜１４２℃。
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）ベンゾフラン−２−カルボアルデヒド（６．００
ｇ）とトリエチル ホスホノアセテート（４．０４ｇ）
のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）溶液に
０℃で徐々に加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合
物を氷水に注ぎ、析出した（Ｅ）−エチル ３−［６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］アクリレートの結晶を得
た。ジクロロメタン−エタノールから再結晶し、無色プ
リズム晶（７．０３ｇ、９７％）を得た。融点 １４１
〜１４２℃。
【００９１】実施例１３ ３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロパノール
（０．８８ｇ）、塩化メタンスルホニル（０．３３５
ｇ）、トリエチルアミン（０．２９５ｇ）およびジクロ
ロメタン（３０ｍｌ）の混合物を室温で１４時間かきま
ぜた。反応混合物を２Ｎ塩酸で洗浄、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後、溶媒を留去した。残留物をＮ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（３０ｍｌ）に溶解し、シアン化カリウム
（０．２４ｇ）を加え、９０〜１００℃で４時間かきま
ぜた。反応混合物を水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン
（１：４、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−（３−シ
アノプロピル）−６−（５−メチル−２−フェニル−４
−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフランの結晶を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し、無色プリズム晶
（０．６５ｇ、７２％）を得た。融点 ９４〜９５℃。
リルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロパノール
（０．８８ｇ）、塩化メタンスルホニル（０．３３５
ｇ）、トリエチルアミン（０．２９５ｇ）およびジクロ
ロメタン（３０ｍｌ）の混合物を室温で１４時間かきま
ぜた。反応混合物を２Ｎ塩酸で洗浄、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後、溶媒を留去した。残留物をＮ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（３０ｍｌ）に溶解し、シアン化カリウム
（０．２４ｇ）を加え、９０〜１００℃で４時間かきま
ぜた。反応混合物を水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン
（１：４、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−（３−シ
アノプロピル）−６−（５−メチル−２−フェニル−４
−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフランの結晶を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し、無色プリズム晶
（０．６５ｇ、７２％）を得た。融点 ９４〜９５℃。
【００９２】実施例１４ 実施例１２と同様にして、５−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−
カルボアルデヒドとトリエチル ホスホノアセテートを
反応させて、（Ｅ）−エチル ３−［５−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］アクリレートを得た。収率 ９３％。ア
セトン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色針
状晶。融点 １２０〜１２１℃。
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−
カルボアルデヒドとトリエチル ホスホノアセテートを
反応させて、（Ｅ）−エチル ３−［５−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］アクリレートを得た。収率 ９３％。ア
セトン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色針
状晶。融点 １２０〜１２１℃。
【００９３】実施例１５ 実施例１３と同様にして、３−［５−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾ
フラニル］プロパノールをメシル化後、シアン化ナトリ
ウムを反応させ、２−（３−シアノプロピル）−５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）ベンゾフランを得た。収率 ８０％。アセトン−イ
ソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １１４〜１１５℃。
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾ
フラニル］プロパノールをメシル化後、シアン化ナトリ
ウムを反応させ、２−（３−シアノプロピル）−５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）ベンゾフランを得た。収率 ８０％。アセトン−イ
ソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １１４〜１１５℃。
【００９４】製剤例１ 錠剤の製剤例 （１）５−［３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４− オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］− １Ｈ−テトラゾール（実施例２の化合物） １０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロースカルシウム ４４ｇ （５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １２０ｇ （１）、（２）、（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後、製粒を行う。この製粒末に１
４ｇの（４）および１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠
剤とすることにより、一錠あたり（１）１０ｍｇを含有
する錠剤１０００錠を製造する。
水で練合し、真空乾燥後、製粒を行う。この製粒末に１
４ｇの（４）および１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠
剤とすることにより、一錠あたり（１）１０ｍｇを含有
する錠剤１０００錠を製造する。
【００９５】製剤例２ 錠剤の製剤例 （１）５−［３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４− オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］− ２,４−オキサゾリジンジオン（実施例８の化合物） ３０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロースカルシウム ４４ｇ （５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １４０ｇ （１）、（２）、（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後、製粒を行う。この製粒末に１
４ｇの（４）および１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠
剤とすることにより、一錠あたり（１）３０ｍｇを含有
する錠剤１０００錠を製造する。
水で練合し、真空乾燥後、製粒を行う。この製粒末に１
４ｇの（４）および１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠
剤とすることにより、一錠あたり（１）３０ｍｇを含有
する錠剤１０００錠を製造する。
【００９６】参考例１ ４−メトキシサリチルアルデヒド（２１．０ｇ）、ブロ
モ酢酸メチル（２２．２ｇ）、炭酸カリウム（２２．９
ｇ）およびＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５０ｍ
ｌ）の混合物を９０〜１００℃で１時間かきまぜた。反
応混合物を氷水に注いで、析出したメチル ２−ホルミ
ル−５−メトキシフェノキシアセテートの結晶（２７．
７ｇ、９０％）を濾取した。アセトン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０９
〜１１０℃。
モ酢酸メチル（２２．２ｇ）、炭酸カリウム（２２．９
ｇ）およびＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５０ｍ
ｌ）の混合物を９０〜１００℃で１時間かきまぜた。反
応混合物を氷水に注いで、析出したメチル ２−ホルミ
ル−５−メトキシフェノキシアセテートの結晶（２７．
７ｇ、９０％）を濾取した。アセトン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０９
〜１１０℃。
【００９７】参考例２ メチル ２−ホルミル−５−メトキシフェノキシアセテ
ート（２７．７ｇ）、１,８−ジアザビシクロ［５,４,
０］−７−ウンデセン（４０．８ｇ）およびトルエン
（２００ｍｌ）の混合物を還流下に４時間加熱した。反
応混合物を減圧下に濃縮し、残留物に６Ｎ塩酸を加え、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥
（ＭｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物に１０％塩酸
−メタノール（３０ｍｌ）を加え、７０〜８０℃で４時
間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、水を加え酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。クロロホルム−ヘキサン
（１：２、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、メチル ６−
メトキシベンゾフラン−２−カルボキシレート（１４．
３ｇ、５７％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピル
エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点９７〜
９８℃。
ート（２７．７ｇ）、１,８−ジアザビシクロ［５,４,
０］−７−ウンデセン（４０．８ｇ）およびトルエン
（２００ｍｌ）の混合物を還流下に４時間加熱した。反
応混合物を減圧下に濃縮し、残留物に６Ｎ塩酸を加え、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥
（ＭｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物に１０％塩酸
−メタノール（３０ｍｌ）を加え、７０〜８０℃で４時
間加熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、水を加え酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。クロロホルム−ヘキサン
（１：２、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、メチル ６−
メトキシベンゾフラン−２−カルボキシレート（１４．
３ｇ、５７％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピル
エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点９７〜
９８℃。
【００９８】参考例３ 三臭化ホウ素（２４．９ｇ）をメチル ６−メトキシベ
ンゾフラン−２−カルボキシレート（１８．６ｇ）のジ
クロロメタン（２００ｍｌ）溶液に０℃で滴下後、室温
で１日かきまぜた。反応混合物を氷水に注いで、酢酸エ
チル（３００ｍｌ）を加えた。有機層を水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物に１０％塩酸−メ
タノール（６０ｍｌ）を加え、７０〜８０℃で５時間加
熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、析出したメチル
６−ヒドロキシベンゾフラン−２−カルボキシレート
の結晶（１０．７５ｇ）をジエチルエーテル−イソプロ
ピルエーテル（２：１、ｖ／ｖ）を用いて濾取した。濾
液を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付した。ジエチルエーテル−ヘキサン（１：２、
ｖ／ｖ）で溶出する部分から、メチル ６−ヒドロキシ
ベンゾフラン−２−カルボキシレート（１．７５ｇ）を
得た。全収率 ７３％。ジエチルエーテル−イソプロピ
ルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
７６〜１７７℃。
ンゾフラン−２−カルボキシレート（１８．６ｇ）のジ
クロロメタン（２００ｍｌ）溶液に０℃で滴下後、室温
で１日かきまぜた。反応混合物を氷水に注いで、酢酸エ
チル（３００ｍｌ）を加えた。有機層を水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物に１０％塩酸−メ
タノール（６０ｍｌ）を加え、７０〜８０℃で５時間加
熱した。反応混合物を減圧下に濃縮し、析出したメチル
６−ヒドロキシベンゾフラン−２−カルボキシレート
の結晶（１０．７５ｇ）をジエチルエーテル−イソプロ
ピルエーテル（２：１、ｖ／ｖ）を用いて濾取した。濾
液を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付した。ジエチルエーテル−ヘキサン（１：２、
ｖ／ｖ）で溶出する部分から、メチル ６−ヒドロキシ
ベンゾフラン−２−カルボキシレート（１．７５ｇ）を
得た。全収率 ７３％。ジエチルエーテル−イソプロピ
ルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
７６〜１７７℃。
【００９９】参考例４ メチル ６−ヒドロキシベンゾフラン−２−カルボキシ
レート（１．７５ｇ）、４−クロロメチル−５−メチル
−２−フェニルオキサゾール（２．００ｇ）、炭酸カリ
ウム（１．５１ｇ）およびＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（４０ｍｌ）の混合物を８０〜９０℃で１時間かきま
ぜた。反応混合物を氷水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−クロロホル
ム（１：９９、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、メチル
６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）ベンゾフラン−２−カルボキシレートの結晶
（３．００ｇ、９１％）を得た。ジクロロメタン−イソ
プロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 １２５〜１２６℃。
レート（１．７５ｇ）、４−クロロメチル−５−メチル
−２−フェニルオキサゾール（２．００ｇ）、炭酸カリ
ウム（１．５１ｇ）およびＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（４０ｍｌ）の混合物を８０〜９０℃で１時間かきま
ぜた。反応混合物を氷水に注ぎ、２Ｎ塩酸で中和後、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−クロロホル
ム（１：９９、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、メチル
６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）ベンゾフラン−２−カルボキシレートの結晶
（３．００ｇ、９１％）を得た。ジクロロメタン−イソ
プロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 １２５〜１２６℃。
【０１００】参考例５ 水素化リチウムアルミニウム（０．２８５ｇ）をメチル
６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）ベンゾフラン−２−カルボキシレート（２．
７０ｇ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液に０℃
で徐々に加え、１時間かきまぜた。反応混合物に１Ｎ塩
酸を注意深く加えた後、さらに水（３００ｍｌ）を加え
析出した６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−メタノールの結晶
をろ取した。クロロホルム−メタノールから再結晶し
た。無色プリズム晶（２．１７ｇ、８７％）を得た。融
点２０２〜２０３℃。
６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）ベンゾフラン−２−カルボキシレート（２．
７０ｇ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液に０℃
で徐々に加え、１時間かきまぜた。反応混合物に１Ｎ塩
酸を注意深く加えた後、さらに水（３００ｍｌ）を加え
析出した６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−メタノールの結晶
をろ取した。クロロホルム−メタノールから再結晶し
た。無色プリズム晶（２．１７ｇ、８７％）を得た。融
点２０２〜２０３℃。
【０１０１】参考例６ ６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）ベンゾフラン−２−メタノール（２１．０
ｇ）、活性二酸化マンガン（５２．０ｇ）およびテトラ
ヒドロフラン（８００ｍｌ）の混合物を６０〜６５℃で
６時間かきまぜた。不溶物を濾別後、濾液を濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−クロロホルム（２：９８、ｖ／ｖ）で溶出
する部分から、６−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−カルボアル
デヒドの結晶（１４．３ｇ、６９％）を得た。ジクロロ
メタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点 １３７〜１３８℃。
トキシ）ベンゾフラン−２−メタノール（２１．０
ｇ）、活性二酸化マンガン（５２．０ｇ）およびテトラ
ヒドロフラン（８００ｍｌ）の混合物を６０〜６５℃で
６時間かきまぜた。不溶物を濾別後、濾液を濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−クロロホルム（２：９８、ｖ／ｖ）で溶出
する部分から、６−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−カルボアル
デヒドの結晶（１４．３ｇ、６９％）を得た。ジクロロ
メタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点 １３７〜１３８℃。
【０１０２】参考例７ （Ｅ）−エチル ３−［６−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ル］アクリレート（１．３０ｇ）のテトラヒドロフラン
（５０ｍｌ）溶液にパラジウム−炭素（５％、０．７０
ｇ）を加え、室温、１気圧で接触還元した。触媒を濾別
し、濾液に水素化ホウ素ナトリウム（０．６１ｇ）を加
え、還流下にメタノール（１０ｍｌ）を滴下した。１時
間還流下に加熱後、反応混合物を水に注ぎ、２Ｎ塩酸で
中和後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗、
乾燥（ＭｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−
クロロホルム（１：５、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、
３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロパノールを
油状物（０．９０ｇ、７７％）として得た。 ＮＭＲ（δｐｐｍ，ＣＤＣｌ3）： １．４２（１Ｈ，
ｂｒｓ）， １．９−２．１（２Ｈ，ｍ）， ２．４４
（３Ｈ，ｓ）， ２．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ）， ３．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），
５．０２（２Ｈ，ｓ）， ６．３４（１Ｈ，ｓ），
６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２Ｈｚ）， ７．
１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）， ７．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ７．４−７．５（３Ｈ，
ｍ）， ７．９５−８．１（２Ｈ，ｍ）
ル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ル］アクリレート（１．３０ｇ）のテトラヒドロフラン
（５０ｍｌ）溶液にパラジウム−炭素（５％、０．７０
ｇ）を加え、室温、１気圧で接触還元した。触媒を濾別
し、濾液に水素化ホウ素ナトリウム（０．６１ｇ）を加
え、還流下にメタノール（１０ｍｌ）を滴下した。１時
間還流下に加熱後、反応混合物を水に注ぎ、２Ｎ塩酸で
中和後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗、
乾燥（ＭｇＳＯ4）後、溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−
クロロホルム（１：５、ｖ／ｖ）で溶出する部分から、
３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロパノールを
油状物（０．９０ｇ、７７％）として得た。 ＮＭＲ（δｐｐｍ，ＣＤＣｌ3）： １．４２（１Ｈ，
ｂｒｓ）， １．９−２．１（２Ｈ，ｍ）， ２．４４
（３Ｈ，ｓ）， ２．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ）， ３．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），
５．０２（２Ｈ，ｓ）， ６．３４（１Ｈ，ｓ），
６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２Ｈｚ）， ７．
１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）， ７．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ７．４−７．５（３Ｈ，
ｍ）， ７．９５−８．１（２Ｈ，ｍ）
【０１０３】参考例８ 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１
Ｍ、３９ｍｌ）を（Ｅ）−エチル ３−［６−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２
−ベンゾフラニル］アクリレート（５．２３ｇ）のジク
ロロメタン（２００ｍｌ）溶液に０℃で滴下した。５時
間かきまぜた後、反応混合物にメタノール（３ｍｌ）−
水（１０ｍｌ）を注意深く加えた。不溶物を濾別後、濾
液を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付した。酢酸エチル−クロロホルム（１：５、ｖ
／ｖ）で溶出する部分から、（Ｅ）−３−［６−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−
２−ベンゾフラニル］−２−プロペン−１−オールの結
晶（３．９０ｇ、８３％）を得た。アセトン−ヘキサン
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １４３〜１４
４℃。
Ｍ、３９ｍｌ）を（Ｅ）−エチル ３−［６−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２
−ベンゾフラニル］アクリレート（５．２３ｇ）のジク
ロロメタン（２００ｍｌ）溶液に０℃で滴下した。５時
間かきまぜた後、反応混合物にメタノール（３ｍｌ）−
水（１０ｍｌ）を注意深く加えた。不溶物を濾別後、濾
液を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付した。酢酸エチル−クロロホルム（１：５、ｖ
／ｖ）で溶出する部分から、（Ｅ）−３−［６−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−
２−ベンゾフラニル］−２−プロペン−１−オールの結
晶（３．９０ｇ、８３％）を得た。アセトン−ヘキサン
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １４３〜１４
４℃。
【０１０４】参考例９ （Ｅ）−３−［６−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］−２−
プロペン−１−オール（３．８５ｇ）、活性二酸化マン
ガン（８．００ｇ）およびジクロロメタン（１５０ｍ
ｌ）の混合物を室温で２時間かきまぜた。不溶物を濾別
後、濾液を濃縮して、（Ｅ）−３−［６−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］アクロレインの結晶（３．４０ｇ、８９
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １３２〜１３３
℃。
オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］−２−
プロペン−１−オール（３．８５ｇ）、活性二酸化マン
ガン（８．００ｇ）およびジクロロメタン（１５０ｍ
ｌ）の混合物を室温で２時間かきまぜた。不溶物を濾別
後、濾液を濃縮して、（Ｅ）−３−［６−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベ
ンゾフラニル］アクロレインの結晶（３．４０ｇ、８９
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １３２〜１３３
℃。
【０１０５】参考例１０ 参考例１と同様にして、５−メトキシサリチルアルデヒ
ドとブロモ酢酸メチルとの反応により、メチル ２−ホ
ルミル−４−メトキシフェノキシアセテートを得た。収
率 ８６％。アセトン−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 ７４〜７５℃。
ドとブロモ酢酸メチルとの反応により、メチル ２−ホ
ルミル−４−メトキシフェノキシアセテートを得た。収
率 ８６％。アセトン−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 ７４〜７５℃。
【０１０６】参考例１１ 参考例２と同様にして、メチル ２−ホルミル−４−メ
トキシフェノキシアセテートから、メチル ５−メトキ
シベンゾフラン−２−カルボキシレートを得た。収率
７１％。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点７８〜７９℃。
トキシフェノキシアセテートから、メチル ５−メトキ
シベンゾフラン−２−カルボキシレートを得た。収率
７１％。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点７８〜７９℃。
【０１０７】参考例１２ 参考例３と同様にして、メチル ５−メトキシベンゾフ
ラン−２−カルボキシレートからメチル ５−ヒドロキ
シベンゾフラン−２−カルボキシレートを得た。収率
８９％。アセトン−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １７２〜１７３℃。
ラン−２−カルボキシレートからメチル ５−ヒドロキ
シベンゾフラン−２−カルボキシレートを得た。収率
８９％。アセトン−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １７２〜１７３℃。
【０１０８】参考例１３ 参考例４と同様にして、メチル ５−ヒドロキシベンゾ
フラン−２−カルボキシレートと４−クロロメチル−５
−メチル−２−フェニルオキサゾールを反応させて、メ
チル ５−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）ベンゾフラン−２−カルボキシレートを
得た。収率 ８７％。アセトン−酢酸エチルから再結晶
した。無色プリズム晶。融点 １７７〜１７８℃。
フラン−２−カルボキシレートと４−クロロメチル−５
−メチル−２−フェニルオキサゾールを反応させて、メ
チル ５−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）ベンゾフラン−２−カルボキシレートを
得た。収率 ８７％。アセトン−酢酸エチルから再結晶
した。無色プリズム晶。融点 １７７〜１７８℃。
【０１０９】参考例１４ 参考例５と同様にして、メチル ５−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン
−２−カルボキシレートを還元して、５−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフ
ラン−２−メタノールを得た。収率 ７９％。アセトン
−メタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１６２〜１６３℃。
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン
−２−カルボキシレートを還元して、５−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフ
ラン−２−メタノールを得た。収率 ７９％。アセトン
−メタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１６２〜１６３℃。
【０１１０】参考例１５ 参考例６と同様にして、５−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−メ
タノールを酸化して、５−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−カル
ボアルデヒドを得た。収率 ４２％。アセトン−メタノ
ールから再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １３７
〜１３８℃。
ル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−メ
タノールを酸化して、５−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）ベンゾフラン−２−カル
ボアルデヒドを得た。収率 ４２％。アセトン−メタノ
ールから再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １３７
〜１３８℃。
【０１１１】参考例１６ 実施例１１と同様にして、（Ｅ）−エチル ３−［５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］アクリレートを水素化ジイ
ソブチルアルミニウムで還元して、（Ｅ）−３−［５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］−２−プロペン−１−オー
ルを得た。収率 ９０％。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １４５〜１４６℃。
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］アクリレートを水素化ジイ
ソブチルアルミニウムで還元して、（Ｅ）−３−［５−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］−２−プロペン−１−オー
ルを得た。収率 ９０％。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １４５〜１４６℃。
【０１１２】参考例１７ （Ｅ）−３−［５−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］−２−
プロペン−１−オール（２．００ｇ）のテトラヒドロフ
ラン（１００ｍｌ）溶液にパラジウム−炭素（５％、
０．３０ｇ）を加え、室温、１気圧で接触還元した。触
媒をろ別し、ろ液を濃縮して３−［５−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベン
ゾフラニル］プロパノールを得た。収率 ９３％。アセ
トン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １０１〜１０２℃。
オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル］−２−
プロペン−１−オール（２．００ｇ）のテトラヒドロフ
ラン（１００ｍｌ）溶液にパラジウム−炭素（５％、
０．３０ｇ）を加え、室温、１気圧で接触還元した。触
媒をろ別し、ろ液を濃縮して３−［５−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベン
ゾフラニル］プロパノールを得た。収率 ９３％。アセ
トン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １０１〜１０２℃。
【０１１３】
【発明の効果】本発明の化合物（Ｉ）またはその塩は、
すぐれた血糖および血中脂質低下作用を有する。
すぐれた血糖および血中脂質低下作用を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 417/14 ２６３ Ｃ０７Ｄ 417/14 ２６３ //(Ｃ０７Ｄ 413/14 257:04 263:32 307:79） (Ｃ０７Ｄ 413/14 263:32 263:44 307:79） (Ｃ０７Ｄ 417/14 263:32 277:34 307:79）
Claims (19)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、 【化２】 はカチオンを放出しうる基（ただし、 【化３】 は単結合または二重結合を示す。）を、Ｒ1は炭素鎖を
介して結合していてもよく、置換されていてもよい複素
環残基を、Ｒ2は水素、ハロゲン原子、置換されていて
もよい炭化水素残基、保護されていてよい水酸基または
保護されていてよいアミノ基を、Ｙは炭素数１〜８の２
価または３価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示し、ベ
ンゼン環はさらに置換されていてもよい。］で表される
化合物またはその塩。 - 【請求項２】カチオンを放出しうる基がカチオンを放出
しうる５員の複素環基である請求項１記載の化合物また
はその塩。 - 【請求項３】カチオンを放出しうる５員の複素環基が
Ｎ，Ｏ，Ｓから選ばれた１ないし４個を環構成原子とす
る５員の複素環基である請求項２記載の化合物またはそ
の塩。 - 【請求項４】部分構造式 【化４】 である請求項１記載の化合物またはその塩。
- 【請求項５】部分構造式 【化５】 である請求項１記載の化合物またはその塩。
- 【請求項６】部分構造式 【化６】 である請求項１記載の化合物またはその塩。
- 【請求項７】Ｒ1が炭素鎖を介して結合する置換されて
いてもよい複素環残基である請求項７記載の化合物また
はその塩。 - 【請求項８】炭素鎖が１〜８個の炭素原子を有するもの
である請求項７記載の化合物またはその塩。 - 【請求項９】複素環残基が、環構成原子として少なくと
も１個の窒素原子を含む５または６員環または縮合環で
ある請求項１記載の化合物またはその塩。 - 【請求項１０】複素環残基が、 【化７】 ［式中、Ｂ1はイオウ原子、酸素原子またはＮＲ4（ただ
し、Ｒ4は水素原子、低級アルキル基またはアラルキル
基を示す。）で示される基を、Ｂ2は窒素原子またはＣ
−Ｒ5（Ｒ5は水素原子またはそれぞれ置換されていても
よい炭化水素残基または複素環基を示す。）を、Ｒ3は
水素原子またはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素
残基もしくは複素環基を示し、Ｒ3とＲ5が隣接する炭素
原子にそれぞれ結合しているとき、Ｒ3とＲ5は互いに結
合して縮合環を形成していてもよい。］で示される請求
項７記載の化合物またはその塩。 - 【請求項１１】Ｒ3またはＲ5で示される複素環基が、環
構成原子として炭素以外にＮ，Ｏ，Ｓから選ばれた１な
いし３個の原子を含む５または６員環である請求項１０
記載の化合物またはその塩。 - 【請求項１２】Ｒ2が水素である請求項１記載の化合物
またはその塩。 - 【請求項１３】Ｙが−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−である請求項
１記載の化合物またはその塩。 - 【請求項１４】Ｒ1がメチレン基を介して結合し、フェ
ニルまたは／およびメチルで置換されていてもよいオキ
サゾール基を、部分構造式 【化８】 Ｒ2が水素を、Ｙが炭素数１〜４の２価または３価の脂
肪族炭化水素残基を示し、Ｒ1−Ｏがベンゾフラン環の
６位に、Ｙがベンゾフラン環の２位にそれぞれ結合する
請求項１記載の化合物またはその塩。 - 【請求項１５】５−［２−［６−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラ
ニル］エチル］−１Ｈ−テトラゾール、５−［３−［６
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テト
ラゾール、５−［４−［６−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニ
ル］ブチル］−１Ｈ−テトラゾール、５−［６−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−
２−ベンゾフラニルメチリデン］−２,４−チアゾリジ
ンジオン、５−［６−（５−メチル−２−フェニル−４
−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニルメチ
ル］−２,４−チアゾリジンジオン、５−［３−［６−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−２,４−チア
ゾリジンジオン、５−［６−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）−２−ベンゾフラニル
メチル］−２,４−オキサゾリジンジオン、５−［３−
［６−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−２−ベンゾフラニル］プロピル］−２,４
−オキサゾリジンジオンまたは５−［３−［５−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−
２−ベンゾフラニル］プロピル］−１Ｈ−テトラゾール
である請求項１記載の化合物またはその塩。 - 【請求項１６】請求項１記載の化合物またはその薬理学
的に許容し得る塩を含有してなる医薬組成物。 - 【請求項１７】糖尿病治療剤である請求項１６記載の医
薬組成物。 - 【請求項１８】インスリン感受性増強剤である請求項１
６記載の医薬組成物。 - 【請求項１９】高脂血症治療剤である請求項１６記載の
医薬組成物。
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|---|---|---|---|
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| JP7-54214 | 1995-03-14 | ||
| JP5421495 | 1995-03-14 | ||
| JP05595096A JP3893166B2 (ja) | 1995-03-14 | 1996-03-13 | ベンゾフラン誘導体およびそれを含んでなる医薬組成物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1996
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004041266A1 (ja) | 2002-11-08 | 2004-05-21 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | 受容体機能調節剤 |
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