JPH0829973A - Photopolymerized composition - Google Patents
Photopolymerized compositionInfo
- Publication number
- JPH0829973A JPH0829973A JP15881294A JP15881294A JPH0829973A JP H0829973 A JPH0829973 A JP H0829973A JP 15881294 A JP15881294 A JP 15881294A JP 15881294 A JP15881294 A JP 15881294A JP H0829973 A JPH0829973 A JP H0829973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- hydrogen atom
- alkyl group
- parts
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は可視光の領域にまで感度
を有する新規な光重合性組成物に関するものであり、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用で
きる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel photopolymerizable composition having sensitivity in the visible light region, and can be used commercially for printing, copying, resist formation and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光重合性組成物は一般にエチレン性不飽
和化合物またはその他のタイプの重合性化合物、光開始
剤または光開始剤系そして好ましくは溶媒可溶性または
水性またはアルカリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含
有している。ところが、これらの多くの既知の有用な光
重合性組成物は、使用されている開始剤がスペクトルの
紫外部領域以外では活性化されないものが多いため、そ
の応用範囲が限定されているのが現状である。また光源
として紫外線でなく可視光線を用いたり，アルゴンイオ
ンレーザーなどの可視部領域に大きな発振強度を有する
レーザーで走査露光することが画像形成技術として要求
されている。そのために可視光線に対して高い感度を有
する光重合性材料が要望され、可視光に対して高感度な
光開始剤の開発が望まれている。そこで高感度を有する
光開始剤として、特開昭５４−１５５２９２号公報には
ヘキサアリールビスイミダゾールを含む系、特開昭５８
−１５５０３号公報には活性ハロゲン化合物と３−ケト
置換クマリン化合物の系、特開昭５６−４６０４号公報
には３−ケト置換クマリンとＮ−フェニルグリシンの
系、特開昭６１−９７６５０号公報には３−置換クマリ
ンとキナゾリノン誘導体との組合せ、特開昭６１−１２
３６０３号公報にはヘキサアリールビスイミダゾールと
３−ケト置換クマリンとの組合せの光開始剤系が開示さ
れている。Photopolymerizable compositions generally include ethylenically unsaturated compounds or other types of polymerizable compounds, photoinitiators or photoinitiator systems and preferably solvent soluble or aqueous or alkali soluble organic polymeric binder compounds. Contains. However, many of these known useful photopolymerizable compositions are limited in their application range because many of the initiators used are not activated outside the ultraviolet region of the spectrum. Is. Further, it is required as an image forming technique to use visible light instead of ultraviolet light as a light source or perform scanning exposure with a laser having a large oscillation intensity in a visible region such as an argon ion laser. Therefore, a photopolymerizable material having high sensitivity to visible light is desired, and development of a photoinitiator having high sensitivity to visible light is desired. As a photoinitiator having high sensitivity, JP-A-54-155292 discloses a system containing hexaarylbisimidazole, JP-A-58.
-15503 discloses a system of an active halogen compound and a 3-keto-substituted coumarin compound, JP-A-56-4604 discloses a system of a 3-keto-substituted coumarin and N-phenylglycine, and JP-A-61-97650. Is a combination of a 3-substituted coumarin and a quinazolinone derivative, JP-A-61-12
3603 discloses a photoinitiator system of a combination of hexaarylbisimidazole and a 3-keto substituted coumarin.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記の光
開始剤系では感度が不十分であり、より低出力のレーザ
ーで高速度で走査露光するためには、さらに高感度な光
開始剤系を見出すことを課題とするものである。However, the above-mentioned photoinitiator system has insufficient sensitivity, and in order to perform scanning exposure with a laser having a lower output at a high speed, a photoinitiator system having a higher sensitivity is found. This is an issue.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題を解
決すべく、つまり、光重合性組成物の可視光に対する感
度を向上させる目的で、光開始剤系について鋭意、研
究、努力した結果、遂に本発明を完成するに到った。す
なわち本発明は、少なくとも一種の常温で非ガス状のエ
チレン性不飽和化合物、光開始剤および増感剤を含有し
てなる光重合性組成物において、増感剤として、一般式
化１で示される新規な化合物を含有することを特徴とし
た光重合性組成物である。In order to solve the above problems, that is, to improve the sensitivity of the photopolymerizable composition to visible light, the present invention has been made as a result of earnest research, efforts and efforts on a photoinitiator system. Finally, the present invention has been completed. That is, the present invention is a photopolymerizable composition containing at least one non-gaseous ethylenically unsaturated compound at room temperature, a photoinitiator and a sensitizer, and is represented by the general formula 1 as a sensitizer. The photopolymerizable composition is characterized by containing the novel compound described above.
【０００５】本発明において使用されるエチレン性不飽
和化合物は、遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反
応に適した単量体であり、例えば、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレン
グリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレートなどが挙げられる。The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is a monomer suitable for a chain growth addition reaction initiated by free radicals, and examples thereof include pentaerythritol triacrylate, polyethylene glycol diacrylate and triethylene glycol. Examples thereof include diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate.
【０００６】本発明に使用される光開始剤は、特に限定
するものではないが、α−カルボニル化合物、アシロイ
ンエーテル、芳香族アシロイン化合物、多核キノン、ヘ
キサアリールビスイミダゾール、トリハロメチル−Ｓ−
トリアジン、アクリジン、フェナジン、また、トリフェ
ニルスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩などの
オニウム塩、チタノセン、鉄アレン錯体、過酸化物など
が含まれる。その使用量は、光重合性層の全組成物の0.
2〜20重量％より好ましくは、 1〜10重量％の範囲であ
る。 本発明に使用される増感剤は、前記一般式化１で
表され、化学線を吸収して、光開始剤に対して電子供与
体として働き、電子移動後、カチオンラジカルとなると
考えられる。しかし、本化合物のカチオンラジカルは不
安定なために分解し、二酸化炭素やシリルカチオンを遊
離して自らはラジカルに変化すると推測され、そのため
ラジカル生成の効率が向上し、光重合性組成物の感度が
増加すると考えられる。好ましい増感剤の具体例を以下
に示す。The photoinitiator used in the present invention is not particularly limited, but α-carbonyl compounds, acyloin ethers, aromatic acyloin compounds, polynuclear quinones, hexaarylbisimidazoles, trihalomethyl-S-
Also included are triazine, acridine, phenazine, onium salts such as triphenylsulfonium salts and diaryliodonium salts, titanocene, iron allene complexes, peroxides and the like. The amount used is 0. of the total composition of the photopolymerizable layer.
It is more preferably 2 to 20% by weight, and more preferably 1 to 10% by weight. The sensitizer used in the present invention is represented by the above general formula 1, absorbs actinic rays, acts as an electron donor to the photoinitiator, and is considered to become a cation radical after electron transfer. However, it is presumed that the cation radical of this compound decomposes due to its instability and liberates carbon dioxide and silyl cations to transform itself into a radical, thus improving the efficiency of radical generation and increasing the sensitivity of the photopolymerizable composition. Is expected to increase. Specific examples of preferable sensitizers are shown below.
【０００７】[0007]
【化２】 Embedded image
【０００８】[0008]
【化３】 Embedded image
【０００９】[0009]
【化４】 [Chemical 4]
【００１０】[0010]
【化５】 Embedded image
【００１１】[0011]
【化６】 [Chemical 6]
【００１２】[0012]
【化７】 [Chemical 7]
【００１３】[0013]
【化８】 Embedded image
【００１４】[0014]
【化９】 [Chemical 9]
【００１５】[0015]
【化１０】 [Chemical 10]
【００１６】[0016]
【化１１】 [Chemical 11]
【００１７】[0017]
【化１２】 [Chemical 12]
【００１８】[0018]
【化１３】 本発明の増感剤は、新規化合物であるが、例えば化１４
に示した反応経路で製造することができる。[Chemical 13] The sensitizer of the present invention is a novel compound, for example,
It can be produced by the reaction route shown in.
【００１９】[0019]
【化１４】 原料であるＮ置換アミノサリチルアルデヒド（２）とシ
アノメチル置換体をエタノールのような有機溶媒中で、
ピペリジンのような塩基の存在下で反応させ、これを希
塩酸でリフラックスすると化合物（３）が得られる。そ
して、塩化第一スズを用いてニトロ基を還元して化合物
（４）を得られる。これをエタノールのような有機溶媒
中、酢酸ナトリウムの様な塩基存在下でブロモ酢酸と反
応させると、化合物（５）が得られる。本発明組成物中
には好ましくは熱可塑性高分子量有機重合体結合剤を存
在させてもよい。重合体結合剤タイプとしては（１）テ
レフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸お
よびヘキサヒドロテレフタル酸に基くコポリエステル、
（２）ポリアミド、（３）ビニリデンクロリド共重合
体、（４）エチレン／ビニルアセテート共重合体、
（５）セルロースエーテル、（６）ポリエチレン、
（７）合成ゴム、（８）セルロースエステル、（９）ポ
リビニルアセテート／アクリレートおよびポリビニルア
セテート／メタクリレート共重合体を含むポリビニルエ
ステル、（10）ポリアクリレートおよびポリα−アルキ
ルアクリレートエステル例えばポリメチルアクリレート
およびポリエチルメタクリレート、（11）4,000 〜4,00
0,000 の重量平均分子量を有する高分子量エチレンオキ
シド重合体（ポリエチレングリコール）、（12) ポリ塩
化ビニルおよびその共重合体、(13)ポリビニルアセター
ル、(14)ポリホルムアルデヒド、(15)ポリウレタン、(1
6)ポリカーボネートおよび(17)ポリスチレンが挙げられ
る。Embedded image The N-substituted aminosalicyl aldehyde (2) as a raw material and the cyanomethyl-substituted product are placed in an organic solvent such as ethanol,
The compound (3) is obtained by reacting in the presence of a base such as piperidine and refluxing this with dilute hydrochloric acid. Then, the nitro group is reduced with stannous chloride to obtain the compound (4). When this is reacted with bromoacetic acid in the presence of a base such as sodium acetate in an organic solvent such as ethanol, compound (5) is obtained. Preferably, a thermoplastic high molecular weight organic polymer binder may be present in the composition of the present invention. Polymer binder types include (1) copolyesters based on terephthalic acid, isophthalic acid, sebacic acid, adipic acid and hexahydroterephthalic acid,
(2) polyamide, (3) vinylidene chloride copolymer, (4) ethylene / vinyl acetate copolymer,
(5) cellulose ether, (6) polyethylene,
(7) Synthetic rubber, (8) Cellulose ester, (9) Polyvinyl ester including polyvinyl acetate / acrylate and polyvinyl acetate / methacrylate copolymer, (10) Polyacrylate and poly α-alkyl acrylate ester such as polymethyl acrylate and poly Ethyl methacrylate, (11) 4,000-4,00
High molecular weight ethylene oxide polymer (polyethylene glycol) having a weight average molecular weight of 0,000, (12) polyvinyl chloride and its copolymers, (13) polyvinyl acetal, (14) polyformaldehyde, (15) polyurethane, (1
6) polycarbonate and (17) polystyrene.
【００２０】本発明組成物において、特に好ましい重合
体結合剤としては、未露光光重合性コーティングが例え
ばアルカリ性溶液である主として水性の溶液には可溶性
であるが、活性線放射の露光後は比較的それに不溶性と
なるような重合体結合剤が好ましい。典型的にはこれら
の要求を満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例
えば遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合体である。メ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン酸
共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイ
ン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル基を
有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合体に
環状酸無水物を付加させた物などがある。結合剤は、 0
〜80重量％、好ましくは、30〜70重量％である。In the compositions of the present invention, a particularly preferred polymeric binder is one in which the unexposed photopolymerizable coating is soluble in predominantly aqueous solutions, such as alkaline solutions, but relatively after exposure to actinic radiation. Polymeric binders that are insoluble in it are preferred. Polymers that typically meet these requirements are carboxylated polymers, such as vinyl addition polymers containing free carboxylic acid groups. There are methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer and the like. In addition, there are cellulose having a carboxyl group in the side chain, a polymer having a hydroxyl group in the side chain and a cyclic acid anhydride added thereto, and the like. Binder is 0
-80% by weight, preferably 30-70% by weight.
【００２１】更に、その他に光重合性組成物を製造中あ
るいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合
物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤
を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤として
は、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ジ−ｔ−ブ
チルカテコール、ベンゾキノン、２−メルカプトベンズ
イミダゾール、Ｎ−ニトロフェニルヒドロキシアミン第
一セリウムなどが挙げられる。熱重合禁止剤の添加量
は、全組成物に対して、0.01〜5重量％が好ましい。ま
た必要に応じて、不活性添加物、例えば非重合性可塑
剤、染料、顔料および充填剤などは光重合性を著しく阻
害しない程度に配合してもよい。本発明において、光重
合性組成物の厚みは0.01〜250μｍであり、好ましくは0
〜50μｍである。望ましい厚みは用途により決められ
る。In addition, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photopolymerizable composition. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol and di-t.
-Butyl-p-cresol, pyrogallol, di-t-butylcatechol, benzoquinone, 2-mercaptobenzimidazole, N-nitrophenylhydroxyamine primary cerium and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 5% by weight based on the total composition. Further, if necessary, an inert additive such as a non-polymerizable plasticizer, a dye, a pigment and a filler may be blended to such an extent that the photopolymerizability is not significantly impaired. In the present invention, the thickness of the photopolymerizable composition is 0.01 to 250 μm, preferably 0.
~ 50 μm. The desired thickness is determined by the application.
【００２２】本発明に使用される支持体にすべての天然
または合成支持体、好ましくは可撓性または剛性のフィ
ルムまたはシートの形で存在し得るものを含む。例えば
素材は金属シートまたは箔、合成有機樹脂のシートまた
はフィルム、セルロース紙、ファイバーボードその他ま
たはこれらの物質の２種またはそれ以上のものの複合体
でありうる。特定の素材としてはアリミナプラストアル
ミニウム、アノード処理アルミニウム、アルミプラスト
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム、静電放電処理ポリエチレンテレ
フタレートフィルム、ポリビニルアルコールをコーティ
ングした紙、交叉結合ポリエステルコーティング紙、ナ
イロン、ガラス、セルロースアセテートフィルムその他
が挙げられる。特定の素材は一般に関連する適用目的に
より決定される。例えば印刷回路が製造される場合に
は、素材はファイバーボード上に銅をコーティングした
プレートでありうる。平版印刷プレートの製造において
は、素材はアノード処理アルミニウムでありうる。The supports used in the present invention include all natural or synthetic supports, preferably those which may be present in the form of flexible or rigid films or sheets. For example, the material can be a metal sheet or foil, a synthetic organic resin sheet or film, cellulosic paper, fiberboard or the like or a composite of two or more of these materials. Specific materials include alimina plast aluminum, anodized aluminum, alumin plast polyethylene terephthalate film, polyethylene terephthalate film, electrostatic discharge treated polyethylene terephthalate film, polyvinyl alcohol coated paper, cross-linked polyester coated paper, nylon, glass, cellulose. Acetate film and the like can be mentioned. The particular material will generally be determined by the relevant application purpose. For example, if a printed circuit is manufactured, the material can be a copper coated plate on a fiberboard. In the manufacture of lithographic printing plates, the material can be anodized aluminum.
【００２３】[0023]
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、ここに部および％は重量基準である。 実施例１ ブラシ研磨した厚さ0.24mmのアルミニウム板を5％水酸
化ナトリウムに30℃１分浸漬した後、水洗後硝酸で中和
洗浄し水洗した。これを10％硫酸中で電流密度3Ａ／ｄm
2で3ｇ／m2の厚さになるように陽極酸化処理した。その
後、70℃2％３号水ガラスに１分間浸漬後、水洗乾燥し
てアルミ基板を得た。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, in which parts and% are based on weight. Example 1 A brush-polished aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was immersed in 5% sodium hydroxide at 30 ° C. for 1 minute, washed with water, then neutralized with nitric acid and washed with water. The current density is 3 A / dm in 10% sulfuric acid.
2 was anodized to a thickness of 3 g / m 2 . After that, the aluminum substrate was obtained by immersing in 70 ° C. 2% No. 3 water glass for 1 minute, washing with water and drying.
【００２４】次に下記組成の感光層塗工液を塗布し、熱
風乾燥機にて100℃１分間乾燥し、厚さ2.0ｇ／m2の塗膜
を得た。 （感光層塗工液組成） ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸） 52部 85／15モル比 分子量 8万 テトラエチレングリコールジアクリレート 40部 2,2'-(O-クロロフェニル)-4,4',5,5'-テトラフェニルビスイミダゾール 5部 増感剤（表１に示す） 3部 メタノール 200部 酢酸エチル 80部 クロロホルム 120部 次に下記組成の保護層塗工液を塗布し、熱風乾燥機にて
100℃１分間乾燥し、１ｇ／m2の厚さの保護層を設けて
試験片を得た。 （保護層塗工液組成） ポリビニルアルコール 100部 （完全ケン化、重合度 500） ノニオン系界面活性剤 1部 （ノイゲンＥＡ１５０ 第一工業製薬） 水 900部 上記試験片上にネガフィルムとして21√(2) ステップタ
ブレット（大日本スクリーン社製グレーフィルムスケー
ル）を重ねて、キセノンランプ（ウシオ電気社製 UXL-
500 D-0 ）に東芝社製干渉フィルター KL-49と同色ガラ
スフィルター Y-45 を組み合わせた光源（490nm ）で15
cmの距離から２分間露光した後、30℃、ネガ型ＰＳ版用
現像液（富士写真フィルム DN-3C）１：１希釈液に20
秒間浸漬し、水洗して未硬化部分を除去し乾燥した後、
21√(2) ステップタブレットの完全硬化のステップ段数
を調べ、それを表１に示した。表１より明らかなよう
に、本発明に基づくサンプル（１〜７）は従来知られて
いる増感剤を配合したサンプル（８〜10）に比べて490n
mの光に対して高感度であることが判る。Next, a photosensitive layer coating solution having the following composition was applied and dried in a hot air dryer at 100 ° C. for 1 minute to obtain a coating film having a thickness of 2.0 g / m 2 . (Composition of photosensitive layer coating liquid) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid) 52 parts 85/15 molar ratio Molecular weight 80,000 Tetraethylene glycol diacrylate 40 parts 2,2 '-(O-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-Tetraphenylbisimidazole 5 parts Sensitizer (shown in Table 1) 3 parts Methanol 200 parts Ethyl acetate 80 parts Chloroform 120 parts Next, apply a protective layer coating solution having the following composition and apply to a hot air dryer. hand
It was dried at 100 ° C. for 1 minute, and a protective layer having a thickness of 1 g / m 2 was provided to obtain a test piece. (Composition of coating liquid for protective layer) Polyvinyl alcohol 100 parts (Completely saponified, degree of polymerization 500) Nonionic surfactant 1 part (Neugen EA150 Daiichi Kogyo Seiyaku) Water 900 parts 21√ (2 ) Stack step tablets (Dainippon Screen gray film scale) on top of each other, and then use a xenon lamp (UXL-UXL-
15) with a light source (490 nm) that combines a Toshiba interference filter KL-49 and a glass filter Y-45 of the same color with 500 D-0).
After exposing for 2 minutes from the distance of cm, the solution for negative PS plate (Fuji Photo Film DN-3C) was diluted with 1: 1 diluted solution at 30 ° C for 20 minutes.
Immerse for 2 seconds, wash with water to remove uncured part and dry,
21√ (2) The step number of complete curing of the step tablet was investigated, and it is shown in Table 1. As is clear from Table 1, the samples (1 to 7) according to the present invention have 490n in comparison with the samples (8 to 10) containing the conventionally known sensitizer.
It can be seen that it has high sensitivity to m light.
【００２５】[0025]
【表１】 実施例１に記載されたアルミ基板の上に下記組成の感光
層塗工液を塗布し、熱風乾燥して、厚さ1.8ｇ／m2の塗
膜を得た。 （感光層塗工液組成物） ポリ(メタクリル酸メチル/メタクリル酸/メタクリル酸n-ヘキシル) 50部 モル比 65／15／20 テトラエチレングリコールジメタクリレート 40部 (η5-シクロペタジエニル)(η6-トルエン)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート 5部 増感剤 3部 メチルエチルケトン 150部 ジメチルホルムアミド 150部 次に実施例１と同じ保護層塗工液を塗布し、熱風乾燥機
にて100℃１分間乾燥し、1.2ｇ／m2 厚さの保護層を設
けて試験片を得た。上記試験片を実施例１と同じように
露光、現像して、完全硬化のステップ段数を調べ、それ
を表２に示した。実施例１と同様に本発明に基づくサン
プルは高感度であることが判る。[Table 1] On the aluminum substrate described in Example 1, a photosensitive layer coating liquid having the following composition was applied and dried with hot air to obtain a coating film having a thickness of 1.8 g / m 2 . (Photosensitive layer coating liquid composition) Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid / n-hexyl methacrylate) 50 parts Molar ratio 65/15/20 Tetraethylene glycol dimethacrylate 40 parts (η 5 -Cyclopetadienyl) ( η 6 -Toluene) iron (II) hexafluorophosphate 5 parts Sensitizer 3 parts Methyl ethyl ketone 150 parts Dimethylformamide 150 parts Next, the same protective layer coating solution as in Example 1 was applied and dried at 100 ° C. with a hot air dryer. After drying for a minute, a protective layer having a thickness of 1.2 g / m 2 was provided to obtain a test piece. The above test piece was exposed and developed in the same manner as in Example 1 to check the number of steps for complete curing. The results are shown in Table 2. As with Example 1, it can be seen that the sample according to the present invention has high sensitivity.
【００２６】[0026]
【表２】 [Table 2]
【００２７】[0027]
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は可視光に対し
て高感度を示すため、低いエネルギーの露光光源を使用
することができ、与えられた時間内に多数の原版を露光
および現像できる。また露光源を原版より遠ざけること
ができるため、その光線が平行化され、例えば網点画像
を形成する場合、垂直の側部を有するシャープな網点を
形成することができるなど種々の利点を有する。Since the photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to visible light, a low energy exposure light source can be used, and a large number of original plates can be exposed and developed within a given time. it can. Further, since the exposure source can be moved away from the original plate, its light rays are collimated, which has various advantages such as the ability to form sharp halftone dots having vertical sides when forming a halftone image. .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０８Ｆ 2/50 ＭＤＭ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location // C08F 2/50 MDM
Claims (1)
ン性不飽和化合物、光開始剤および増感剤を含有してな
る光重合性組成物において、増感剤として、下記一般式
化１で示される新規な化合物を含有することを特徴とし
た光重合性組成物。 【化１】 （式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ
11、Ｒ12は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲノアルキル基、アル
コキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルカルボニ
ル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、シア
ノ基、ハロゲン原子を示し、お互いに結合して環を形成
してもよい。Ｒ4、Ｒ5 は水素原子又はアルキル基を示
し、Ｒ3、Ｒ 6と結合してもよい。ｎは０又は１であり、
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はアルキル基を示す。ＸはＯ、Ｓ、Ｎ
Ｒ16（Ｒ16は水素原子又はアルキル基）を示し、Ｙは
Ｏ、Ｓ、ＮＲ17（Ｒ17は水素原子又はアルキル基）を示
す。）1. At least one non-gaseous ethylene at room temperature
Free of unsaturated unsaturated compounds, photoinitiators and sensitizers
In the photopolymerizable composition having the following general formula,
Characterized by containing a novel compound represented by Chemical formula 1
Photopolymerizable composition. [Chemical 1](R in the formula1, R2, R3, R6, R7, R8, R9, RTen, R
11, R12Is hydrogen atom, alkyl group, alkoxyalkyl
Group, hydroxyalkyl group, halogenoalkyl group, al
Coxy group, alkoxyalkoxy group, alkylcarbonyl
Group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, shear
Group, a halogen atom, which bind to each other to form a ring
May be. RFour, RFiveRepresents a hydrogen atom or an alkyl group
Then R3, R 6May be combined with n is 0 or 1,
R13, R14, RFifteenRepresents an alkyl group. X is O, S, N
R16(R16Represents a hydrogen atom or an alkyl group), and Y represents
O, S, NR17(R17Represents a hydrogen atom or an alkyl group)
You )
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15881294A JPH0829973A (en) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | Photopolymerized composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15881294A JPH0829973A (en) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | Photopolymerized composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829973A true JPH0829973A (en) | 1996-02-02 |
Family
ID=15679908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15881294A Pending JPH0829973A (en) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | Photopolymerized composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829973A (en) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6605617B2 (en) | 2000-09-11 | 2003-08-12 | Chiron Corporation | Quinolinone derivatives |
| US6756383B2 (en) | 2000-09-01 | 2004-06-29 | Chiron Corporation | Heterocyclic derivatives of quinolinone benimidazoles |
| WO2006081445A2 (en) | 2005-01-27 | 2006-08-03 | Novartis Vaccines And Diagnostics Inc. | Treatment of metastasized tumors |
| US7470709B2 (en) | 2002-08-23 | 2008-12-30 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Benzimidazole quinolinones and uses thereof |
| US7825132B2 (en) | 2002-08-23 | 2010-11-02 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Inhibition of FGFR3 and treatment of multiple myeloma |
| US7838527B2 (en) | 2002-11-13 | 2010-11-23 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Methods of treating cancer and related methods |
| US7875624B2 (en) | 2004-02-20 | 2011-01-25 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Modulating and measuring cellular adhesion |
| DE112010000772T5 (en) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive lithographic printing plate material |
| EP2465857A1 (en) | 2005-05-17 | 2012-06-20 | Novartis AG | Methods for synthesizing heterocyclic compounds |
| US8299081B2 (en) | 2005-05-13 | 2012-10-30 | Novartis Ag | Methods for treating drug resistant cancer |
| DE112011101165T5 (en) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
| US8614216B2 (en) | 2005-05-23 | 2013-12-24 | Novartis Ag | Crystalline and other forms of 4-amino-5-fluoro-3-[6-(4-methylpiperazin-1-yl)-1H-benzimidazol-2-yl]-1H-quinolin-2-one lactic acid salts |
| EP2762475A1 (en) | 2003-11-07 | 2014-08-06 | Novartis Vaccines and Diagnostics, Inc. | Pharmaceutically acceptable salts of quinolinone compounds and their medical use |
| EP2772257A1 (en) | 2005-11-29 | 2014-09-03 | Novartis AG | Formulations of quinolinones |
| JPWO2016039405A1 (en) * | 2014-09-12 | 2017-06-29 | 住友化学株式会社 | Compound and colored curable resin composition containing the compound |
-
1994
- 1994-07-11 JP JP15881294A patent/JPH0829973A/en active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7138409B2 (en) | 2000-09-01 | 2006-11-21 | Chiron Corporation | Heterocyclic compounds |
| US6756383B2 (en) | 2000-09-01 | 2004-06-29 | Chiron Corporation | Heterocyclic derivatives of quinolinone benimidazoles |
| US6759417B2 (en) | 2000-09-01 | 2004-07-06 | Chiron Corporation | Heterocyclic compounds |
| US7368459B2 (en) | 2000-09-01 | 2008-05-06 | Chiron Corporation | Heterocyclic compounds |
| US7335774B2 (en) | 2000-09-11 | 2008-02-26 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Quinolinone derivatives |
| US6800760B2 (en) | 2000-09-11 | 2004-10-05 | Chiron Corporation | Quinolinone derivatives |
| US6605617B2 (en) | 2000-09-11 | 2003-08-12 | Chiron Corporation | Quinolinone derivatives |
| US6774237B2 (en) | 2000-09-11 | 2004-08-10 | Chiron Corporation | Quinolinone derivatives |
| US6762194B2 (en) | 2000-09-11 | 2004-07-13 | Chiron Corporation | Quinolinone derivatives |
| US7598268B2 (en) | 2000-09-11 | 2009-10-06 | Novartis Vaccines & Diagnostics, Inc. | Quinolinone derivatives |
| EP2573079A2 (en) | 2002-08-23 | 2013-03-27 | Novartis Vaccines and Diagnostics, Inc. | Benzimidazole quinolinones and uses thereof |
| US7470709B2 (en) | 2002-08-23 | 2008-12-30 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Benzimidazole quinolinones and uses thereof |
| US7825132B2 (en) | 2002-08-23 | 2010-11-02 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Inhibition of FGFR3 and treatment of multiple myeloma |
| US7838527B2 (en) | 2002-11-13 | 2010-11-23 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Methods of treating cancer and related methods |
| EP2762475A1 (en) | 2003-11-07 | 2014-08-06 | Novartis Vaccines and Diagnostics, Inc. | Pharmaceutically acceptable salts of quinolinone compounds and their medical use |
| US7875624B2 (en) | 2004-02-20 | 2011-01-25 | Novartis Vaccines And Diagnostics, Inc. | Modulating and measuring cellular adhesion |
| WO2006081445A2 (en) | 2005-01-27 | 2006-08-03 | Novartis Vaccines And Diagnostics Inc. | Treatment of metastasized tumors |
| EP2301546A1 (en) | 2005-01-27 | 2011-03-30 | Novartis Vaccines and Diagnostics, Inc. | Treatment of metastasized tumors |
| US8299081B2 (en) | 2005-05-13 | 2012-10-30 | Novartis Ag | Methods for treating drug resistant cancer |
| EP2465857A1 (en) | 2005-05-17 | 2012-06-20 | Novartis AG | Methods for synthesizing heterocyclic compounds |
| US8222413B2 (en) | 2005-05-17 | 2012-07-17 | Novartis Ag | Methods for synthesizing heterocyclic compounds |
| US8614216B2 (en) | 2005-05-23 | 2013-12-24 | Novartis Ag | Crystalline and other forms of 4-amino-5-fluoro-3-[6-(4-methylpiperazin-1-yl)-1H-benzimidazol-2-yl]-1H-quinolin-2-one lactic acid salts |
| EP2772257A1 (en) | 2005-11-29 | 2014-09-03 | Novartis AG | Formulations of quinolinones |
| DE112010000772T5 (en) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive lithographic printing plate material |
| DE112011101165T5 (en) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
| JPWO2016039405A1 (en) * | 2014-09-12 | 2017-06-29 | 住友化学株式会社 | Compound and colored curable resin composition containing the compound |
| JP2020090676A (en) * | 2014-09-12 | 2020-06-11 | 住友化学株式会社 | Compound, and colored curable resin composition including compound |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0106351B1 (en) | Photopolymerizable photosensitive composition | |
| JP2757375B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
| US5229253A (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
| US5049479A (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
| AU631731B2 (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
| JPH0743896A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH0829973A (en) | Photopolymerized composition | |
| JP3118520B2 (en) | Production method of printing plate or photoresist by imagewise irradiation of photopolymerizable recording material | |
| JPS5974551A (en) | N-alkylindolilidene and n-alkylbenzothiazolilidene alkanones | |
| JPS6231844A (en) | Lithographic plate material | |
| JPH0635189A (en) | Photopolymerizable mixture and recording material prepared from said mixture | |
| JP2606259B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH063546B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH08297367A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH0588244B2 (en) | ||
| JPH06167807A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH06332173A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH0980750A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH06332172A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPS6032176B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH0743905A (en) | Photopolymerizable photosensitive material | |
| JP3508310B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPS61270747A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JPH01205153A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JP2701453B2 (en) | Photopolymerizable composition |