JPH08273587A - High frequency induction coupling plasma mass spectrometer - Google Patents
High frequency induction coupling plasma mass spectrometerInfo
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- JPH08273587A JPH08273587A JP7078578A JP7857895A JPH08273587A JP H08273587 A JPH08273587 A JP H08273587A JP 7078578 A JP7078578 A JP 7078578A JP 7857895 A JP7857895 A JP 7857895A JP H08273587 A JPH08273587 A JP H08273587A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、高周波誘導結合プラズ
マ（ＩＣＰ）イオン源を用いて試料をイオン化し、生じ
たイオンをプラズマインターフェースで加速して磁場型
質量分析計（ＭＳ）に導入する高周波誘導結合プラズマ
質量分析装置（ＩＣＰ−ＭＳ）に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a high frequency inductively coupled plasma (ICP) ion source to ionize a sample, accelerates the generated ions with a plasma interface, and introduces them into a magnetic field mass spectrometer (MS). The present invention relates to an inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP-MS).
【０００２】[0002]
【従来の技術】図６は従来の高周波誘導結合プラズマ質
量分析装置の例を説明するための図であり、４１はＩＣ
Ｐイオン源、４２はプラズマインターフェース、４３は
サンプリングコーン、４４はスキマーコーン、４５は接
地電極、４６は電磁石、４７は検出器、４８は質量分析
計を示す。図６において、プラズマイオンは、ＩＣＰイ
オン源４１により生成され、サンプリングコーン４３及
びスキマーコーン４４を通ってプラズマインターフェー
ス４２内に導入される。サンプリングコーン４３及びス
キマーコーン４４には、加速電圧電源４９から所定の正
の高電圧が印加され、また、接地電極４５は、接地電位
となされているから、プラズマイオンは、スキマーコー
ン４４と接地電極４５との間で加速され、接地電極４５
以後は、等速度運動を行って質量分析計４８に導入され
る。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a diagram for explaining an example of a conventional high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, 41 is an IC.
P ion source, 42 plasma interface, 43 sampling cone, 44 skimmer cone, 45 ground electrode, 46 electromagnet, 47 detector, 48 mass spectrometer. In FIG. 6, plasma ions are generated by the ICP ion source 41 and introduced into the plasma interface 42 through the sampling cone 43 and the skimmer cone 44. A predetermined positive high voltage is applied from the accelerating voltage power source 49 to the sampling cone 43 and the skimmer cone 44, and the ground electrode 45 is set to the ground potential. 45 is accelerated between the ground electrode 45
After that, it is introduced into the mass spectrometer 48 after performing constant velocity motion.
【０００３】質量分析計４８は、質量分析用磁場を形成
するための電磁石４６と検出器４７とで構成され、電磁
石４６のコイル（図示せず）には、磁場電源５０から分
析の対象となっている質量数に対応する電流が供給され
ている。これによって、当該質量数を有するイオンは、
質量分析用磁場で軌道を曲げられ、検出器４７に収束さ
れる。The mass spectrometer 48 is composed of an electromagnet 46 for forming a magnetic field for mass analysis and a detector 47. A coil (not shown) of the electromagnet 46 is an object of analysis from a magnetic field power source 50. The current corresponding to the mass number being supplied is being supplied. Thereby, the ions having the mass number concerned are
The orbit is bent by the magnetic field for mass analysis, and it is converged on the detector 47.
【０００４】ところで、高分解能ＩＣＰ−ＭＳで同位体
比を測定する場合、検出器は、１つであるため、同時に
同位体イオンを検出することができない。そこで、検出
器を同位体比測定用ＭＳと同様に複数個並べて同位体比
を同時検出可能にしたものも提案されている。By the way, when the isotope ratio is measured by the high resolution ICP-MS, the number of the detectors is one, and therefore the isotope ions cannot be detected at the same time. Therefore, a detector in which a plurality of detectors are arranged in the same manner as the MS for isotope ratio measurement so that the isotope ratio can be simultaneously detected has been proposed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、検出器を複数
個並べて同位体比を同時検出可能にしたものは、分解能
が低分解能の条件のときのみ可能になっている。ＩＣＰ
−ＭＳでは、特に質量数８０以下に種々の干渉イオンが
存在する。例えばイオウ（Ｓ）の同位体比を測定する
と、イオウには同位体がｍ／ｚ３２、３３、３４、３６
の４本があり、〔表１〕に示すようにそれぞれ大きな干
渉イオンが存在する。However, the arrangement in which a plurality of detectors are arranged so that the isotope ratio can be detected simultaneously is possible only when the resolution is low. ICP
In MS, various interfering ions are present especially at a mass number of 80 or less. For example, when the isotope ratio of sulfur (S) is measured, the isotopes of sulfur are m / z 32, 33, 34, 36.
, And there are large interfering ions, as shown in [Table 1].
【０００６】[0006]
【表１】 これらの干渉イオンを分離して測定するためには、最高
分解能５０００が要求される。つまり、高分解能条件で
ないと、元素のイオンのみの測定が不可能となる。[Table 1] A maximum resolution of 5000 is required to measure these interfering ions separately. In other words, it is impossible to measure only the elemental ions unless the conditions are high resolution.
【０００７】本発明は、上記の課題を解決するものであ
って、高分解能条件で同位体比が同時に測定可能な高周
波誘導結合プラズマ質量分析装置を提供することを目的
とするものである。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer capable of simultaneously measuring isotope ratios under high resolution conditions.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】そのために本発明は、高
周波誘導結合プラズマイオン源を用いて試料をイオン化
し、生じたイオンをプラズマインターフェースで加速し
て磁場型質量分析計に導入する高周波誘導結合プラズマ
質量分析装置において、同位体のフォーカスラインに沿
ってコレクタースリットを有する検出器を複数チャンネ
ル配置したことを特徴とし、各検出器は、イオン・電子
変換ダイノードと電子増倍検出器、あるいはファラディ
ケージ検出器からなり、また、コレクタースリットは、
圧電素子を用いてスリット幅を制御するように構成した
ことを特徴とするものである。To this end, the present invention is directed to high frequency inductive coupling in which a sample is ionized using a high frequency inductively coupled plasma ion source and the generated ions are accelerated by a plasma interface and introduced into a magnetic field mass spectrometer. The plasma mass spectrometer is characterized by arranging multiple detector channels with collector slits along the isotope focus line.Each detector has an ion-electron conversion dynode and an electron multiplication detector, or a Faraday cage. It consists of a detector, and the collector slit is
It is characterized in that the slit width is controlled by using a piezoelectric element.
【０００９】[0009]
【作用】本発明の高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
では、同位体のフォーカスラインに沿ってコレクタース
リットを有する検出器を複数チャンネル配置し、さら
に、各検出器は、イオン・電子変換ダイノードと電子増
倍検出器、あるいはファラディケージ検出器からなり、
また、コレクタースリットは、圧電素子を用いてスリッ
ト幅を制御するように構成したので、各検出器から高分
解能条件で同位体比が同時に測定することができる。In the high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer of the present invention, a plurality of detectors having collector slits are arranged along the focus line of the isotope, and each detector further comprises an ion-electron conversion dynode and an electron multiplier. A double detector or a Faraday cage detector,
In addition, since the collector slit is configured to control the slit width by using a piezoelectric element, the isotope ratio can be simultaneously measured from each detector under high resolution conditions.
【００１０】[0010]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１は本発明に係る高周波誘導結合プラズマ質
量分析装置の１実施例を示す図であり、Ｓ１〜Ｓ３はコ
レクタースリット、４〜６は検出部、７はイオン・電子
変換ダイノード、８は電子増倍検出器、９はスリット角
度調整機構、１０はＸＹ移動機構を示す。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the present invention. S1 to S3 are collector slits, 4 to 6 are detection parts, 7 is an ion-electron conversion dynode, and 8 is an electron multiplier. A double detector, 9 is a slit angle adjusting mechanism, and 10 is an XY moving mechanism.
【００１１】図１において、コレクタースリットＳ１〜
Ｓ３は、同位体のフォーカスラインに沿って配置したも
のであり、これらの背後に検出部４〜６が配置される。
検出部４〜６は、それぞれイオン・電子変換ダイノード
７と電子増倍検出器８で構成され、イオン・電子変換ダ
イノード７でイオンを２次電子に変換してそれを電子増
倍検出器８で１０4 〜１０6 に増幅して検出している。
スリット角度調整機構９は、各コレクタースリットＳ１
〜Ｓ３の角度を例えば手動で調整する機構であり、ＸＹ
移動機構１０は、チャンネル２の検出部５を固定してチ
ャンネル１とチャンネル３の検出部４、６を各スリット
とそれぞれ一体的に例えば手動でＸＹ方向に移動する機
構である。また、図示しないが、コレクタースリットＳ
１〜Ｓ３は、圧電素子を用いてスリット幅を制御する機
構を備えたものである。In FIG. 1, collector slits S1.about.
S3 is arranged along the focus line of the isotope, and the detection units 4 to 6 are arranged behind them.
Each of the detection units 4 to 6 is composed of an ion / electron conversion dynode 7 and an electron multiplication detector 8, and the ion / electron conversion dynode 7 converts an ion into a secondary electron and the electron multiplication detector 8 converts it. It is detected by amplifying to 10 4 to 10 6 .
The slit angle adjusting mechanism 9 includes each collector slit S1.
Is a mechanism for manually adjusting the angle of S3 to S3.
The moving mechanism 10 is a mechanism that fixes the detection unit 5 of the channel 2 and moves the detection units 4 and 6 of the channels 1 and 3 integrally with each slit, for example, manually in the XY directions. Although not shown, collector slit S
1 to S3 are provided with a mechanism for controlling the slit width using a piezoelectric element.
【００１２】図１に示した高周波誘導結合プラズマ質量
分析装置では、同時検出ハウジングとして、上記のよう
に中央のチャンネル２のコレクタースリットＳ２をイオ
ン光学系の中心軌道上のイオンフォーカス位置に配置す
ると共に、チャンネル１及びチャンネル３のコレクター
スリットＳ１、Ｓ３をフォーカスラインに沿って並べ、
しかもコレクタースリットＳ１〜Ｓ３は、圧電素子を用
いてスリット幅を制御するように構成している。In the high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer shown in FIG. 1, the collector slit S2 of the central channel 2 is arranged at the ion focus position on the central orbit of the ion optical system as a simultaneous detection housing as described above. , Channel 1 and channel 3 collector slits S1 and S3 are aligned along the focus line,
Moreover, the collector slits S1 to S3 are configured to control the slit width by using a piezoelectric element.
【００１３】図２はイオウの同位体比を測定する同時検
出ハウジングの具体的な計算例を説明するための図、図
３はスリット幅を説明するための図である。先に〔表
１〕に示したイオウの同位体比を測定する場合の各コレ
クタースリットＳ１〜Ｓ３の位置を、日本電子株式会社
製ＨＸ−１１０型質量分析装置について計算すると、図
２に示すようにフォーカスラインは光軸に対してθ＝２
０°の角度を有し、ｍ／ｚ３３を検出するコレクタース
リットＳ２に対して、ｍ／ｚ３２を検出するためのチャ
ンネル１のコレクタースリットＳ１は、光軸に沿って前
方２３．７０９３ｍｍ、フォーカスラインに沿って前方
２５．２３０９ｍｍの位置になり、ｍ／ｚ３４を検出す
るためのチャンネル３のコレクタースリットＳ３は、光
軸に沿って後方２２．９９９９ｍｍ、フォーカスライン
に沿って後方２４．４７６０ｍｍの位置になる。実施例
では、イオン・電子変換ダイノード７と電子増倍検出器
８とを組み合わせることによって、図１に示すように検
出部４〜６を狭いスペースで収納することができ、３チ
ャンネルの検出部を計算値に合わせて配置することがで
きる。また、スリット幅については、最高分解能５００
０とすると、図３に示すように像幅が２６μｍ、像中心
距離が５６μｍとなる。FIG. 2 is a diagram for explaining a specific calculation example of the simultaneous detection housing for measuring the isotope ratio of sulfur, and FIG. 3 is a diagram for explaining the slit width. When the positions of the collector slits S1 to S3 in the case of measuring the sulfur isotope ratio shown in [Table 1] are calculated for the HX-110 mass spectrometer manufactured by JEOL Ltd., as shown in FIG. The focus line is θ = 2 with respect to the optical axis
The collector slit S1 of the channel 1 for detecting m / z 32 has an angle of 0 °, and the collector slit S2 for detecting m / z 32 is 23.7093 mm forward along the optical axis, and is located at the focus line. Along the front, the position is 25.2309 mm, and the collector slit S3 of the channel 3 for detecting m / z 34 is at the rear, 22.9999 mm along the optical axis, and the rear, 24.4760 mm along the focus line. . In the embodiment, by combining the ion-electron conversion dynode 7 and the electron multiplication detector 8, the detectors 4 to 6 can be housed in a narrow space as shown in FIG. It can be arranged according to the calculated value. For slit width, the maximum resolution is 500
When it is 0, the image width is 26 μm and the image center distance is 56 μm as shown in FIG.
【００１４】なお、図２の計算はフォーカスラインを直
線と仮定して行っているが、実際のフォーカスラインは
曲線であり、計算結果と実際の装置ではズレが生じる。
そのため、各チャンネルの位置設定は以下のように行わ
れる。Note that the calculation of FIG. 2 is performed assuming that the focus line is a straight line, but the actual focus line is a curve, and a deviation occurs between the calculation result and the actual device.
Therefore, the position setting of each channel is performed as follows.
【００１５】中央のチャンネル２は固定なので、このチ
ャンネル２でｍ／ｚ３３のイオンが検出されるように、
質量分析系の磁場強度を調節し固定する。次に、予め図
２の位置付近に配置されているチャンネル１、３のスリ
ットＳ１、Ｓ３を各検出部４、６とそれぞれ一体的に、
図２の位置付近で移動させつつ検出出力をモニターする
ことにより、スリットＳ１、Ｓ３でｍ／ｚ３２、３４の
イオンがそれぞれ最も高い強度で検出できる位置を求
め、チャンネル１、３をその位置で固定する。Since the central channel 2 is fixed, so that ions of m / z 33 are detected in this channel 2,
Adjust and fix the magnetic field strength of the mass spectrometry system. Next, the slits S1 and S3 of the channels 1 and 3 arranged in advance near the position of FIG.
By monitoring the detection output while moving in the vicinity of the position shown in FIG. 2, the positions where the ions of m / z 32 and 34 at the slits S1 and S3 can be detected with the highest intensity are obtained, and the channels 1 and 3 are fixed at that position. To do.
【００１６】このように、中央のチャンネルを固定して
そのチャンネルについては磁場強度を調節して検出すべ
きイオンビームとの位置合わせを行い、その他のチャン
ネルについてスリットを移動させて位置合わせを行うこ
とにより、少ない数の移動機で短時間に位置設定を行う
ことができる。As described above, the central channel is fixed, the magnetic field strength of the channel is adjusted to align with the ion beam to be detected, and the slits of the other channels are moved to align. With this, it is possible to set the position in a short time with a small number of mobile devices.
【００１７】図４は本発明に係る高周波誘導結合プラズ
マ質量分析装置の他の実施例を示す図であり、コレクタ
ースリットＳ１〜Ｓ３の後方に配置する検出部にファラ
ディケージ検出器１２〜１４を用い、コレクタースリッ
トＳ１〜Ｓ３とファラディケージ検出器１２〜１４との
間にサプレッサー１１を配置したものである。FIG. 4 is a view showing another embodiment of the high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the present invention, in which the Faraday cage detectors 12 to 14 are used in the detectors arranged behind the collector slits S1 to S3. The suppressor 11 is arranged between the collector slits S1 to S3 and the Faraday cage detectors 12 to 14.
【００１８】図５は本発明に係る高周波誘導結合プラズ
マ質量分析装置の同時検出ハウジングの出力信号処理系
及び制御系の構成例を示す図であり、２１は同時検出ユ
ニット、２２は信号切り換えユニット、２３はアナログ
メータ、２４は電子増倍検出器用電源、２５はスリット
幅コントロール用電源、２６はサプレッサ用電源、２７
はプリアンプ、２８は電子増倍検出器電極、２９はスリ
ット幅コントロール用圧電素子、３０はサプレッサ電
極、３１、３２はデータ処理装置を示す。FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of an output signal processing system and a control system of the simultaneous detection housing of the high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the present invention, 21 is a simultaneous detection unit, 22 is a signal switching unit, 23 is an analog meter, 24 is a power supply for electron multiplication detector, 25 is a power supply for slit width control, 26 is a power supply for suppressor, 27
Is a preamplifier, 28 is an electron multiplication detector electrode, 29 is a slit width controlling piezoelectric element, 30 is a suppressor electrode, and 31 and 32 are data processing devices.
【００１９】図５において、プリアンプ２７は、図１や
図４に示す各検出部からの検出信号を入力して所定のレ
ベルに増幅するものであり、アナログメータ２３は、プ
リアンプ２７の出力信号をモニタするものである。デー
タ処理装置３２は、３チャンネルの信号を同時にＡ／Ｄ
変換し処理する機能を有するものであり、データ処理装
置３１は、３チャンネルの信号を同時にＡ／Ｄ変換し処
理する機能を有せず、１チャンネルずつ処理するもので
ある。つまり、同時検出ユニット２１は、信号切り換え
ユニット２２を通してプリアンプ２７の出力信号を１チ
ャンネルずつ切り換えてデータ処理装置３１で処理する
こともでき、３チャンネル同時にデータ処理装置３２で
処理することもできるようにするものであり、電子増倍
検出器用電源２４、スリット幅コントロール用電源２
５、さらにはファラディケージ検出器の場合に用いるサ
プレッサ用電源２６を備えている。そして、電子増倍検
出器用電源２４により電子増倍検出器電極２８の印加電
圧を制御し、スリット幅コントロール用電源２５により
スリット幅コントロール用圧電素子２９を駆動してコレ
クタースリット幅を制御し、サプレッサ用電源２６によ
りサプレッサ電極３０の印加電圧を制御している。In FIG. 5, the preamplifier 27 is for inputting the detection signals from the respective detecting sections shown in FIGS. 1 and 4 and amplifying the signals to a predetermined level, and the analog meter 23 outputs the output signal of the preamplifier 27. It is something to monitor. The data processing device 32 simultaneously A / D signals of three channels
The data processing device 31 has a function of converting and processing, and does not have a function of A / D converting and processing signals of three channels at the same time, and processes the data one channel at a time. That is, the simultaneous detection unit 21 can switch the output signal of the preamplifier 27 through the signal switching unit 22 one channel at a time to be processed by the data processing device 31, or can be processed by the data processing device 32 at the same time for three channels. The power source 24 for the electron multiplication detector and the power source 2 for the slit width control
5, and a suppressor power supply 26 used in the case of a Faraday cage detector. Then, the electron multiplication detector power supply 24 controls the voltage applied to the electron multiplication detector electrode 28, and the slit width control power supply 25 drives the slit width control piezoelectric element 29 to control the collector slit width and suppressor. The power supply 26 controls the voltage applied to the suppressor electrode 30.
【００２０】なお、本発明は、上記の実施例に限定され
るものではなく、種々の変形が可能である。例えば上記
の実施例では、イオウの同位体比を測定するもので説明
したが、他の元素の同位体比を測定する場合には、各同
位体イオンのフォーカス位置がイオウの場合とは異なる
ので、各チャンネルの相対位置関係をＸＹ移動機構を用
いて調整して、すべてのコレクタースリットを目的とす
る元素の各同位体イオンのフォーカス位置に配置する必
要がある。また、コレクタースリットにスリット角度調
整機構を設けたが、スリット角度だけでなく、さらに各
コレクタースリットを独立して移動可能とするように移
動機構を設けるようにしてもよい。The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made. For example, in the above example, the explanation has been made by measuring the isotope ratio of sulfur, but when measuring the isotope ratio of other elements, the focus position of each isotope ion is different from that in the case of sulfur. , It is necessary to adjust the relative positional relationship of each channel using an XY moving mechanism and arrange all the collector slits at the focus position of each isotope ion of the target element. Further, although the slit angle adjusting mechanism is provided in the collector slit, not only the slit angle but also a moving mechanism may be provided so that each collector slit can be moved independently.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、複数のコレクタースリットをフォーカスライ
ンに沿って配置すると共に、各スリットの後にイオン検
出器を設けたので、高分解能条件で同位体比を測定する
ことが可能となる。しかも、各コレクタースリット、検
出器に対して、それぞれ独立にスリット幅の調整や移動
を行うための機構を設けることにより、異なる元素の同
位体存在比を測定することもできる。As is apparent from the above description, according to the present invention, a plurality of collector slits are arranged along the focus line and an ion detector is provided after each slit, so that a high resolution condition can be obtained. It is possible to measure the isotope ratio. Moreover, the isotope abundance ratio of different elements can be measured by providing each collector slit and detector with a mechanism for adjusting and moving the slit width independently.
【図１】 本発明に係る高周波誘導結合プラズマ質量分
析装置の１実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the present invention.
【図２】 イオウの同位体比を測定する同時検出ハウジ
ングの具体的な計算例を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a specific calculation example of a simultaneous detection housing for measuring the isotope ratio of sulfur.
【図３】 スリット幅を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a slit width.
【図４】 本発明に係る高周波誘導結合プラズマ質量分
析装置の他の実施例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing another embodiment of the high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the present invention.
【図５】 本発明に係る高周波誘導結合プラズマ質量分
析装置の同時検出ハウジングの出力信号処理系及び制御
系の構成例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of an output signal processing system and a control system of the simultaneous detection housing of the high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the present invention.
【図６】 従来の高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
の例を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining an example of a conventional high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer.
Ｓ１〜Ｓ３…コレクタースリット、４〜６…検出部、７
…イオン・電子変換ダイノード、８…電子増倍検出器、
９…スリット角度調整機構、１０…ＸＹ移動機構S1 to S3 ... Collector slit, 4 to 6 ... Detection unit, 7
… Ion-electron conversion dynode, 8… Electron multiplication detector,
9 ... Slit angle adjusting mechanism, 10 ... XY moving mechanism
Claims (4)
て試料をイオン化し、生じたイオンをプラズマインター
フェースで加速して磁場型質量分析計に導入する高周波
誘導結合プラズマ質量分析装置において、同位体のフォ
ーカスラインに沿ってコレクタースリットを有する検出
器を複数チャンネル配置したことを特徴とする高周波誘
導結合プラズマ質量分析装置。1. An isotope focus in a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer in which a sample is ionized using a high frequency inductively coupled plasma ion source, and the generated ions are accelerated by a plasma interface and introduced into a magnetic field type mass spectrometer. A high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, wherein a plurality of detectors having collector slits are arranged along a line.
ドと電子増倍検出器からなることを特徴とする請求項１
記載の高周波誘導結合プラズマ質量分析装置。2. Each detector comprises an ion-electron conversion dynode and an electron multiplication detector.
A high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to the above.
らなることを特徴とするからなることを特徴とする請求
項１記載の高周波誘導結合プラズマ質量分析装置。3. The high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to claim 1, wherein each detector comprises a Faraday cage detector.
てスリット幅を制御するように構成したことを特徴とす
る請求項１記載の高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置。4. The high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to claim 1, wherein the collector slit is configured to control the slit width by using a piezoelectric element.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7078578A JPH08273587A (en) | 1995-04-04 | 1995-04-04 | High frequency induction coupling plasma mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7078578A JPH08273587A (en) | 1995-04-04 | 1995-04-04 | High frequency induction coupling plasma mass spectrometer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08273587A true JPH08273587A (en) | 1996-10-18 |
Family
ID=13665793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7078578A Withdrawn JPH08273587A (en) | 1995-04-04 | 1995-04-04 | High frequency induction coupling plasma mass spectrometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08273587A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| ITMI20090996A1 (en) * | 2009-06-08 | 2010-12-09 | Amdl Societa A Responsabilita Lim Itata | EQUIPMENT FOR MASS SPECTROMETRY |
| DE102016009641B4 (en) | 2015-08-14 | 2023-07-06 | Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh | Detector and slit configuration in an isotopic ratio mass spectrometer |
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1995
- 1995-04-04 JP JP7078578A patent/JPH08273587A/en not_active Withdrawn
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