JPH08271218A - 光電位置測定装置 - Google Patents
光電位置測定装置Info
- Publication number
- JPH08271218A JPH08271218A JP8054812A JP5481296A JPH08271218A JP H08271218 A JPH08271218 A JP H08271218A JP 8054812 A JP8054812 A JP 8054812A JP 5481296 A JP5481296 A JP 5481296A JP H08271218 A JPH08271218 A JP H08271218A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- scanning
- measuring device
- position measuring
- photoelectric position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 27
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 17
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 8
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 210000003323 beak Anatomy 0.000 description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 241000287463 Phalacrocorax Species 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4233—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
- G02B27/4255—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application for alignment or positioning purposes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/106—Scanning systems having diffraction gratings as scanning elements, e.g. holographic scanners
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4272—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
- G02B27/4277—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path being separated by an air space
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Vehicle Body Suspensions (AREA)
- Body Structure For Vehicles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単に構成されていて、低価格で作製できる
光電位置測定装置を提供する。 【解決手段】 光源の光を測定方向Ｘに相対的にずれた
格子１で位置に応じて変調し、回折した光ビーム束を互
いに干渉させ、互いに位相のずれた位置に依存する信号
を形成する多数の光検出器を備え、格子１の少なくとも
一つが同じかあるいは僅かに異なる横方向目盛周期 TT
の測定方向Ｘに順次配置された多数の格子領域２，３を
有し、これ等の格子領域２，３の各々がほぼ横方向に間
隔を置いた周期的なマークを有し、前記格子領域２，３
が測定方向に対して垂直に互いに位相をずらして配置さ
れ、この位相のずれが 180°とは異なり、前記マークで
横方向に回折した部分ビーム束が光検出器に向かう。
光電位置測定装置を提供する。 【解決手段】 光源の光を測定方向Ｘに相対的にずれた
格子１で位置に応じて変調し、回折した光ビーム束を互
いに干渉させ、互いに位相のずれた位置に依存する信号
を形成する多数の光検出器を備え、格子１の少なくとも
一つが同じかあるいは僅かに異なる横方向目盛周期 TT
の測定方向Ｘに順次配置された多数の格子領域２，３を
有し、これ等の格子領域２，３の各々がほぼ横方向に間
隔を置いた周期的なマークを有し、前記格子領域２，３
が測定方向に対して垂直に互いに位相をずらして配置さ
れ、この位相のずれが 180°とは異なり、前記マークで
横方向に回折した部分ビーム束が光検出器に向かう。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光源の光を互い
にづれた多数の格子により位置に応じて変調し、格子の
ところで回折した光ビーム束を互いに干渉させ、互いに
位相のずれ電気信号を形成する多数の光電検出器を備え
た光電位置測定装置に関する。
にづれた多数の格子により位置に応じて変調し、格子の
ところで回折した光ビーム束を互いに干渉させ、互いに
位相のずれ電気信号を形成する多数の光電検出器を備え
た光電位置測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の位置測定装置は、欧州特許第 0
163 362-B1 号明細書に記載されている。反射型の目盛
格子が走査格子に対して相対的に移動する。この走査格
子は、互いに 120°位相のずれた電気信号を発生せるた
め、溝幅に対するウェブ幅の比が一定の位相格子であ
る。３つの検出器の各々に一群の同じ方向の回折ビーム
が集束する。同じ方向の回折ビームのこの群には、所謂
発生した回折次数とも言われる。ｎ次の発生した回折次
数の回折ビームは、目盛板での反射を無視して前記格子
の一つのみによりｎ次の回折次数に偏向するような方
向、二つの格子の全系から出てゆくビームの群である。
163 362-B1 号明細書に記載されている。反射型の目盛
格子が走査格子に対して相対的に移動する。この走査格
子は、互いに 120°位相のずれた電気信号を発生せるた
め、溝幅に対するウェブ幅の比が一定の位相格子であ
る。３つの検出器の各々に一群の同じ方向の回折ビーム
が集束する。同じ方向の回折ビームのこの群には、所謂
発生した回折次数とも言われる。ｎ次の発生した回折次
数の回折ビームは、目盛板での反射を無視して前記格子
の一つのみによりｎ次の回折次数に偏向するような方
向、二つの格子の全系から出てゆくビームの群である。
【０００３】ドイツ特許第 34 16 864 C2 号明細書によ
りこの種の他の位置測定装置が知られている。目盛板の
基準マークの領域は、走査板のスリット構造体（振幅目
盛）で走査される並進目盛で構成されている。この並進
目盛は、測定方向に隣接配置れた多数の帯状の回折要素
で構成されている。これ等の回折要素は、格子のウェブ
が測定方向に平行に延びる並進格子である。個々の回折
要素はその横方向の目盛周期に関して異なり、それ故に
発生する光束は異なった方向に偏向する。この並進目盛
が走査板の隙間を通して照明されると、偏向した光ビー
ム束が生じ、その偏向角度は横方向目盛周期、従って照
明された並進格子領域に依存し、それから目盛板の位置
が導ける。偏向した種々の光ビーム束は一つのレンズに
よりこのレンズの焦点面内の種々の光検出器に集束す
る。
りこの種の他の位置測定装置が知られている。目盛板の
基準マークの領域は、走査板のスリット構造体（振幅目
盛）で走査される並進目盛で構成されている。この並進
目盛は、測定方向に隣接配置れた多数の帯状の回折要素
で構成されている。これ等の回折要素は、格子のウェブ
が測定方向に平行に延びる並進格子である。個々の回折
要素はその横方向の目盛周期に関して異なり、それ故に
発生する光束は異なった方向に偏向する。この並進目盛
が走査板の隙間を通して照明されると、偏向した光ビー
ム束が生じ、その偏向角度は横方向目盛周期、従って照
明された並進格子領域に依存し、それから目盛板の位置
が導ける。偏向した種々の光ビーム束は一つのレンズに
よりこのレンズの焦点面内の種々の光検出器に集束す
る。
【０００４】欧州特許第 0 220 757-B1 号明細書の位置
測定装置でも、目盛板は並進目盛を有する。この目盛板
は測定方向に順次配設された反射領域と、並進目盛を有
する領域とで構成されている。この並進目盛は位相格子
であり、この格子のパラメータは、発生する０次の回折
次数が消失し、他の回折次数が光検出器に入射しないよ
うに選択されている。従って、並進目盛の領域は光検出
器にとって反射領域と見なされない。
測定装置でも、目盛板は並進目盛を有する。この目盛板
は測定方向に順次配設された反射領域と、並進目盛を有
する領域とで構成されている。この並進目盛は位相格子
であり、この格子のパラメータは、発生する０次の回折
次数が消失し、他の回折次数が光検出器に入射しないよ
うに選択されている。従って、並進目盛の領域は光検出
器にとって反射領域と見なされない。
【０００５】その外、交差格子やよびチェス盤格子は二
つの測定方向の目盛板として知られている。欧州特許第
0 482 224-B1 号明細書の位置測定装置の格子線は、例
えば二つの測定方向に対して対角方向に延びているの
で、出てくる光は二つの方法で回折する。この格子は互
いに位相のずれた走査信号を発生させように構成されて
いない。何故なら、隣接する横方向の格子領域は 0°ま
たは 180°の横方向の位相のずれを有するからである。
つの測定方向の目盛板として知られている。欧州特許第
0 482 224-B1 号明細書の位置測定装置の格子線は、例
えば二つの測定方向に対して対角方向に延びているの
で、出てくる光は二つの方法で回折する。この格子は互
いに位相のずれた走査信号を発生させように構成されて
いない。何故なら、隣接する横方向の格子領域は 0°ま
たは 180°の横方向の位相のずれを有するからである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、簡
単に構成されていて、低価格で作製できる光電位置測定
装置を提供することにある。
単に構成されていて、低価格で作製できる光電位置測定
装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、光源８の光を測定方向Ｘに相対的にずれた多数
の格子４，１，１０，２０，３０，４０，５１，５２，
８０，５０，９０，１５１，１５２で位置に応じて変調
し、回折した光ビーム束を互いに干渉させ、互いに位相
のずれた位置に依存する信号を形成する多数の光検出器
６，７，６１，７１，６３，６４，６５，７１，７２，
７３，７４，７５を備え、格子４，１，１０，２０，３
０，４０，５１，５２，８０，５０，９０，１５１，１
５２の少なくとも一つが同じかあるいは僅かに異なる横
方向目盛周期 TT, TT1, TT2 の測定方向Ｘに順次配置さ
れた多数の格子領域２，３，１１〜１４，２１〜２４，
３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８２，９
１，９２，１５３〜１５６を有し、これ等の格子領域
２，３，１１〜１４，２１〜２４，３１，３２，４１，
４２，５３〜５６，８１，８２，９１，９２，１５３〜
１５６の各々がほぼ横方向に間隔を置いた周期的なマー
クを有し、前記格子領域２，３，１１〜１４，２１〜２
４，３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８
２，９１，９２，１５３〜１５６が測定方向に対して垂
直に互いに位相をずらして配置され、この位相のずれが
180°とは異なり、前記マークで横方向に回折した部分
ビーム束が光検出器６，７，６１〜６５，７１〜７５に
向かう光電位置測定装置によって解決されている。
により、光源８の光を測定方向Ｘに相対的にずれた多数
の格子４，１，１０，２０，３０，４０，５１，５２，
８０，５０，９０，１５１，１５２で位置に応じて変調
し、回折した光ビーム束を互いに干渉させ、互いに位相
のずれた位置に依存する信号を形成する多数の光検出器
６，７，６１，７１，６３，６４，６５，７１，７２，
７３，７４，７５を備え、格子４，１，１０，２０，３
０，４０，５１，５２，８０，５０，９０，１５１，１
５２の少なくとも一つが同じかあるいは僅かに異なる横
方向目盛周期 TT, TT1, TT2 の測定方向Ｘに順次配置さ
れた多数の格子領域２，３，１１〜１４，２１〜２４，
３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８２，９
１，９２，１５３〜１５６を有し、これ等の格子領域
２，３，１１〜１４，２１〜２４，３１，３２，４１，
４２，５３〜５６，８１，８２，９１，９２，１５３〜
１５６の各々がほぼ横方向に間隔を置いた周期的なマー
クを有し、前記格子領域２，３，１１〜１４，２１〜２
４，３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８
２，９１，９２，１５３〜１５６が測定方向に対して垂
直に互いに位相をずらして配置され、この位相のずれが
180°とは異なり、前記マークで横方向に回折した部分
ビーム束が光検出器６，７，６１〜６５，７１〜７５に
向かう光電位置測定装置によって解決されている。
【０００８】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【０００９】
【００１０】
【実施例】以下、若干の実施例を参照しながら、図面に
基づきこの発明をより詳しく説明する。図２０に示し、
簡単に説明する周知の位置測定装置の機能原理を最初に
考慮すれば、この発明による位置測定装置の機能原理を
より良く理解できる。光源１００の光をコリメータレン
ズ１０１でコリメートし、目盛周期 TA の位相格子１０
２に入射させる。この位相格子１０２は等しいウェブ幅
と隙間幅を有し、90°の位相差を有する。この場合、90
°の位相差はコリメートされたビーム束が位相格子１０
２を直接通過した後に、つまり近軸領域で隙間の領域に
対してウェブの領域が局部位相差 90 °（λ/4）を有す
る波面を有するように、屈折率に関してウェブの高さを
設計することを意味する。この位相格子１０２の作用に
より間隔 Z1 ＝ (n ＋1/2) TA2/λに周期 TA の干渉縞
１０４が発生する。ここで、n ＝ 0,1, 2, ・・・であ
り、λ＝波長、TA2/λ＝タルボット間隔である。前記間
隔 Z1には、目盛周期 TM ＝ TA の振幅目盛の他の格子
１０３がある。測定方向Ｘの二つの格子１０２，１０３
の相互位置、および干渉縞１０４に対する格子１０３の
位置に応じて、透過する光出力が異なり、光検出器１０
５で検出される。二つの格子１０２，１０３が測定方向
Ｘの相互にずれていると、光検出器１０５が周期的な走
査信号を出力する。
基づきこの発明をより詳しく説明する。図２０に示し、
簡単に説明する周知の位置測定装置の機能原理を最初に
考慮すれば、この発明による位置測定装置の機能原理を
より良く理解できる。光源１００の光をコリメータレン
ズ１０１でコリメートし、目盛周期 TA の位相格子１０
２に入射させる。この位相格子１０２は等しいウェブ幅
と隙間幅を有し、90°の位相差を有する。この場合、90
°の位相差はコリメートされたビーム束が位相格子１０
２を直接通過した後に、つまり近軸領域で隙間の領域に
対してウェブの領域が局部位相差 90 °（λ/4）を有す
る波面を有するように、屈折率に関してウェブの高さを
設計することを意味する。この位相格子１０２の作用に
より間隔 Z1 ＝ (n ＋1/2) TA2/λに周期 TA の干渉縞
１０４が発生する。ここで、n ＝ 0,1, 2, ・・・であ
り、λ＝波長、TA2/λ＝タルボット間隔である。前記間
隔 Z1には、目盛周期 TM ＝ TA の振幅目盛の他の格子
１０３がある。測定方向Ｘの二つの格子１０２，１０３
の相互位置、および干渉縞１０４に対する格子１０３の
位置に応じて、透過する光出力が異なり、光検出器１０
５で検出される。二つの格子１０２，１０３が測定方向
Ｘの相互にずれていると、光検出器１０５が周期的な走
査信号を出力する。
【００１１】この発明では、互いに位相のずれ位置に依
存する走査信号を発生させるため、特別な並進目盛を有
する走査格子１としての第一格子１０２が形成されてい
る。図１には、測定方向Ｘに周期的に並んだ横方向に模
様を付けた第一および第二格子領域２，３から鳴るこの
種の走査格子１が示してある。これ等の格子領域２，３
は測定方向Ｘに見て少なくともほぼ等しい幅である。第
一および第二の格子領域２，３の幅は目盛周期 TA を形
成し、目盛板の格子４の目盛周期ＴＭと同じである。第
一および第二格子領域２，３はＹ方向に見て同じ横方向
の目盛周期 TTの横方向格子で構成されている。横方向
格子領域２，３のマーク（格子のストライプ）はＹ方向
に横方向目盛周期 TT の４分の１ほど互いにずれてい
る。更に、両方の構成領域２，３は位相格子として形成
されている。この格子のウェブと隙間は、主に偶数の横
方向回折次数（0., ±2., ±4., ・・・) を抑制するよ
うに設計されている。これには、横方向のウェブ要素と
隙間要素がほぼ同じ幅を有し、ウェブが 180°(λ/2)
の位相差を有する。コリーメートされた光ビーム束がこ
の走査格子１に当たると、横方向に模様を付けた各格子
領域２，３は入射した光ビーム束をほぼ＋1.と−1.の横
方向回折次数に分離する。両方の格子領域２，３の横方
向目盛周期 TT が同じであるため、両方の格子領域２，
３の同じ横方向回折汁鵜は同じ偏向角度（Ｙ方向に）を
有する。両方の格子領域２，３の格子ストライプがＹ方
向に移動すると、各回折次数で二つの部分ビーム束が生
じる。これ等の部分ビーム束は近軸領域、つまり走査格
子１の直ぐ近くで互いに位相がずれている。この部分ビ
ーム束の位相のずれは図２に示してある。
存する走査信号を発生させるため、特別な並進目盛を有
する走査格子１としての第一格子１０２が形成されてい
る。図１には、測定方向Ｘに周期的に並んだ横方向に模
様を付けた第一および第二格子領域２，３から鳴るこの
種の走査格子１が示してある。これ等の格子領域２，３
は測定方向Ｘに見て少なくともほぼ等しい幅である。第
一および第二の格子領域２，３の幅は目盛周期 TA を形
成し、目盛板の格子４の目盛周期ＴＭと同じである。第
一および第二格子領域２，３はＹ方向に見て同じ横方向
の目盛周期 TTの横方向格子で構成されている。横方向
格子領域２，３のマーク（格子のストライプ）はＹ方向
に横方向目盛周期 TT の４分の１ほど互いにずれてい
る。更に、両方の構成領域２，３は位相格子として形成
されている。この格子のウェブと隙間は、主に偶数の横
方向回折次数（0., ±2., ±4., ・・・) を抑制するよ
うに設計されている。これには、横方向のウェブ要素と
隙間要素がほぼ同じ幅を有し、ウェブが 180°(λ/2)
の位相差を有する。コリーメートされた光ビーム束がこ
の走査格子１に当たると、横方向に模様を付けた各格子
領域２，３は入射した光ビーム束をほぼ＋1.と−1.の横
方向回折次数に分離する。両方の格子領域２，３の横方
向目盛周期 TT が同じであるため、両方の格子領域２，
３の同じ横方向回折汁鵜は同じ偏向角度（Ｙ方向に）を
有する。両方の格子領域２，３の格子ストライプがＹ方
向に移動すると、各回折次数で二つの部分ビーム束が生
じる。これ等の部分ビーム束は近軸領域、つまり走査格
子１の直ぐ近くで互いに位相がずれている。この部分ビ
ーム束の位相のずれは図２に示してある。
【００１２】図２は図１の断面 II − II を示す。第一
格子領域２に入射した光ビーム束は＋1.と−1.の回折次
数に分離し、発生した部分ビーム束は実線で示してあ
る。第二格子領域３に入射した光ビーム束も同じように
＋1.と−1.の回折次数に分離し、発生した部分ビーム束
は破線で示してある。＋1.の回折次数では、二つの領域
２，３の部分ビーム束の位相のずれは＋90°(+λ/4) に
なり、−1.の回折次数では−90°(-λ/4) になる。これ
等の局部的な位相のずれは、上に述べた従来技術（図１
６）の局部的な位相のずれと比較できる。それ故、この
発明による走査格子１の局部作用は、二つの横方向回折
次数の一方のみを考え、部分ビーム束の横方向に偏向を
無視すれば、通常の位相走査目盛の同じ局部作用とな
る。更に、領域２が領域３に対して 90 °の位相のずれ
になると、通常の位相走査目盛のウェブに相当する。こ
の発明による目盛の＋1.と−1.の横方向回折次数の作用
は、通常の走査目盛の作用であるが、半目盛周期（180
°）ほどずれている。
格子領域２に入射した光ビーム束は＋1.と−1.の回折次
数に分離し、発生した部分ビーム束は実線で示してあ
る。第二格子領域３に入射した光ビーム束も同じように
＋1.と−1.の回折次数に分離し、発生した部分ビーム束
は破線で示してある。＋1.の回折次数では、二つの領域
２，３の部分ビーム束の位相のずれは＋90°(+λ/4) に
なり、−1.の回折次数では−90°(-λ/4) になる。これ
等の局部的な位相のずれは、上に述べた従来技術（図１
６）の局部的な位相のずれと比較できる。それ故、この
発明による走査格子１の局部作用は、二つの横方向回折
次数の一方のみを考え、部分ビーム束の横方向に偏向を
無視すれば、通常の位相走査目盛の同じ局部作用とな
る。更に、領域２が領域３に対して 90 °の位相のずれ
になると、通常の位相走査目盛のウェブに相当する。こ
の発明による目盛の＋1.と−1.の横方向回折次数の作用
は、通常の走査目盛の作用であるが、半目盛周期（180
°）ほどずれている。
【００１３】この種の走査格子１をコリメートした光で
照らすと、ほぼ既知の間隔 Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λで二つ
の干渉縞系、＋1.の横方向回折次数から出るものと−1.
の横方向回折次数から出る系が生じる。しかし、二つの
干渉縞系は上に述べた理由により、180 °ほど互いに位
相がずれているので、一方の干渉縞系の干渉縞の最大値
が他方の干渉縞系の最小値と一致する。振幅目盛の形の
目盛格子４が間隔 Z1＝ (n+1/2)TA2/λ（n ＝ 0, 1, 2
・・・) にあるので、＋1.と−1.の横方向回折次数の透
過光は両方の格子１，４の相対移動時にその強度を逆相
に変調する。
照らすと、ほぼ既知の間隔 Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λで二つ
の干渉縞系、＋1.の横方向回折次数から出るものと−1.
の横方向回折次数から出る系が生じる。しかし、二つの
干渉縞系は上に述べた理由により、180 °ほど互いに位
相がずれているので、一方の干渉縞系の干渉縞の最大値
が他方の干渉縞系の最小値と一致する。振幅目盛の形の
目盛格子４が間隔 Z1＝ (n+1/2)TA2/λ（n ＝ 0, 1, 2
・・・) にあるので、＋1.と−1.の横方向回折次数の透
過光は両方の格子１，４の相対移動時にその強度を逆相
に変調する。
【００１４】レンズ５により＋1.と−1.の横方向回折次
数は分離している光検出器６，７に導かれるので、これ
等の光検出器はそれに応じて互いに位相のずれた信号を
出力する。走査板１９の上に走査格子１を有する位置測
定装置が図３に示してある。光源８，好ましくはＬＥＤ
ないしは半導体レーザーダイオードの光は第一レンズ９
によりコリメートされ、走査格子１に到達する。この走
査格子は図１と図２に詳しく説明されている。次いで、
透過した光ビーム束は目盛格子４に入射する。この目盛
格子４はほぼ Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λの間隔で、好ましく
は n＝ 0の場合の間隔にある。空間的に延びている光源
８（ＬＥＤ）では、好ましくはより短い間隔を選ぶ。何
故なら、光源８とコリメータレンズ９から成る照明ユニ
ットの発散により干渉縞系のコントラスと、従ってより
大きい走査間隔に対する走査信号の変調度が低下するか
らである。横方向の偏向角度がわずかにあっても、小さ
な横方向の目盛周期 TT により、最適な走査間隔が短く
なる。
数は分離している光検出器６，７に導かれるので、これ
等の光検出器はそれに応じて互いに位相のずれた信号を
出力する。走査板１９の上に走査格子１を有する位置測
定装置が図３に示してある。光源８，好ましくはＬＥＤ
ないしは半導体レーザーダイオードの光は第一レンズ９
によりコリメートされ、走査格子１に到達する。この走
査格子は図１と図２に詳しく説明されている。次いで、
透過した光ビーム束は目盛格子４に入射する。この目盛
格子４はほぼ Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λの間隔で、好ましく
は n＝ 0の場合の間隔にある。空間的に延びている光源
８（ＬＥＤ）では、好ましくはより短い間隔を選ぶ。何
故なら、光源８とコリメータレンズ９から成る照明ユニ
ットの発散により干渉縞系のコントラスと、従ってより
大きい走査間隔に対する走査信号の変調度が低下するか
らである。横方向の偏向角度がわずかにあっても、小さ
な横方向の目盛周期 TT により、最適な走査間隔が短く
なる。
【００１５】目盛格子４は測定方向Ｘに順次配設された
透明と非透明のストライプの振幅格子であり、このスト
ライプの角部分はＹ方向に延びてる（一部は図１０に示
してある）。目盛格子４を通過したビーム束は他のレン
ズ５により光検出器６，７に集束する。これ等の光検出
器はＹ方向、つまり測定方向Ｘに垂直に互いに間隔を設
けて配設されている。光検出器６の上には走査格子１の
二つの格子領域２，３の＋1.横方向回折次数が、また光
検出器７の上には走査格子１の二つの格子領域２，３の
−1.横方向回折次数が入射する。両方の光検出器６，７
は 180°互いに位相のずれた二つの信号を出力する。レ
ンズ５，９の作用により、光検出器６，７の上には、通
常非常に小さい光源８の像が生じる。それ故、目盛格子
４上の走査面が広いにもかかわらず、非常に小さいため
高速光検出６，７が使用される。このように発生した二
つの走査信号は、走査格子１と目盛格子４の共通の走査
領域から導かれるので、この発明により単一場走査の利
点が得られる。
透明と非透明のストライプの振幅格子であり、このスト
ライプの角部分はＹ方向に延びてる（一部は図１０に示
してある）。目盛格子４を通過したビーム束は他のレン
ズ５により光検出器６，７に集束する。これ等の光検出
器はＹ方向、つまり測定方向Ｘに垂直に互いに間隔を設
けて配設されている。光検出器６の上には走査格子１の
二つの格子領域２，３の＋1.横方向回折次数が、また光
検出器７の上には走査格子１の二つの格子領域２，３の
−1.横方向回折次数が入射する。両方の光検出器６，７
は 180°互いに位相のずれた二つの信号を出力する。レ
ンズ５，９の作用により、光検出器６，７の上には、通
常非常に小さい光源８の像が生じる。それ故、目盛格子
４上の走査面が広いにもかかわらず、非常に小さいため
高速光検出６，７が使用される。このように発生した二
つの走査信号は、走査格子１と目盛格子４の共通の走査
領域から導かれるので、この発明により単一場走査の利
点が得られる。
【００１６】今まで説明した例では、走査格子１の各目
盛周期 TA は測定方向Ｘに二つの格子領域２と３を有
し、これ等の格子領域は 0°と 180°からずれた横方向
の位相のずれを有する。各目盛周期 TA はこの発明によ
ればそれぞれ任意の位相のずれを有する多数の格子領域
にも分割できる。この場合、大切なことは、互いに位相
のずれた走査信号の発生に多数の格子領域が寄与し、こ
れ等は横方向に 0°と 180°からずれた位相のずれを有
する。図４には、目盛周期 TA 当たり４つのほぼ同じ幅
の領域１１，１２，１３，１４のあるこの種の走査格子
１０が示してある。各領域１１，１２，１３，１４には
測定方向Ｘに延びる同じ周期 TT のマーク（格子ストラ
イプ）を付けた横方向目盛がある。第二領域１２の格子
ストライプは第一領域１１の格子ストライプに対して 9
0 °ほど位相をずらして配置され、第三領域１３の格子
ストライプは第二格子領域１２に対して再び 90 °位相
をずらして配置され、第四領域１４の格子ストライプは
第二領域１２の格子ストライプと同位相である。従っ
て、位相位置 0°, 90°, 180°, 90°が生じる。
盛周期 TA は測定方向Ｘに二つの格子領域２と３を有
し、これ等の格子領域は 0°と 180°からずれた横方向
の位相のずれを有する。各目盛周期 TA はこの発明によ
ればそれぞれ任意の位相のずれを有する多数の格子領域
にも分割できる。この場合、大切なことは、互いに位相
のずれた走査信号の発生に多数の格子領域が寄与し、こ
れ等は横方向に 0°と 180°からずれた位相のずれを有
する。図４には、目盛周期 TA 当たり４つのほぼ同じ幅
の領域１１，１２，１３，１４のあるこの種の走査格子
１０が示してある。各領域１１，１２，１３，１４には
測定方向Ｘに延びる同じ周期 TT のマーク（格子ストラ
イプ）を付けた横方向目盛がある。第二領域１２の格子
ストライプは第一領域１１の格子ストライプに対して 9
0 °ほど位相をずらして配置され、第三領域１３の格子
ストライプは第二格子領域１２に対して再び 90 °位相
をずらして配置され、第四領域１４の格子ストライプは
第二領域１２の格子ストライプと同位相である。従っ
て、位相位置 0°, 90°, 180°, 90°が生じる。
【００１７】この種の走査格子１０を図３の位置測定装
置に使用すると、最適な走査間隔が大体 Z1 ＝ (n+1/4)
TA2/λである。この間隔では＋1.と−1.横方向回折次
数の光検出器６，７により互いに 180°位相のずれた二
つの信号が生じる。この短くなった走査間隔 Z1 は、照
明ユニット８，９の発散により、変調度がより大きい走
査間隔 Z1 で非常に低減する場合に特に有利である。
置に使用すると、最適な走査間隔が大体 Z1 ＝ (n+1/4)
TA2/λである。この間隔では＋1.と−1.横方向回折次
数の光検出器６，７により互いに 180°位相のずれた二
つの信号が生じる。この短くなった走査間隔 Z1 は、照
明ユニット８，９の発散により、変調度がより大きい走
査間隔 Z1 で非常に低減する場合に特に有利である。
【００１８】特定の応用例には、例えば照明ユニット
８，９の発散の作用が高まるので、走査信号の高調波成
分を低減するため、大きな走査間隔 Z1 を維持すること
が有利でもある。これには図５に示すような走査格子２
０が適している。走査格子２０は、再び４つの横方向の
格子領域２１〜２４を有する測定方向Ｘの目盛周期 TA
の格子で構成されている。横方向の格子領域２１〜２４
のマーク（格子ストラプ）は、位相位置 0°, 90°, 0
°, -90°が生じるように互いに位相をずらして配設さ
れている。最適走査間隔 Z1 はこの場合大体 (n+3/4) T
A2/λである。
８，９の発散の作用が高まるので、走査信号の高調波成
分を低減するため、大きな走査間隔 Z1 を維持すること
が有利でもある。これには図５に示すような走査格子２
０が適している。走査格子２０は、再び４つの横方向の
格子領域２１〜２４を有する測定方向Ｘの目盛周期 TA
の格子で構成されている。横方向の格子領域２１〜２４
のマーク（格子ストラプ）は、位相位置 0°, 90°, 0
°, -90°が生じるように互いに位相をずらして配設さ
れている。最適走査間隔 Z1 はこの場合大体 (n+3/4) T
A2/λである。
【００１９】他の実施例では、縦方向の目盛周期 TA に
わたり（つまり測定方向Ｘに）図６に示すように位相の
ずれの連続的な変化を示す走査格子３０が提案されてい
る。二つの横方向格子領域３１と３１のマークの連続的
な流れにより、位置測定装置の特定の特性が最適にな
る。つまり、走査信号の高調波成分を低減できるか、あ
るいは最適な走査間隔を任意の Cで所定の値 Z1 ＝ (n+
C) TA2/λに設定できる。図６で選択された正弦波状の
曲線では、特に三次の高調波を非常に強く低減できる。
この場合、横方向のウェブのずれの振幅 aは以下の条件
により与えられる。つまり、 a/TT＝ X3/(4πsin(3π*Z1*λ/TA2)) ここでΔY ＝ a*sin(2πX/TA) 局部的な横方向のウェブ
のずれ X3 ＝ベッセル関数 J3(X3) ＝ 0の零位置である この場合、走査間隔 Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λは特に有利で
ある。何故なら、基本波が多いな値を占めるからであ
る。他方、走査信号の最大変調度はa/TT＝ X1max/(4πs
in(π*Z1*λ/TA2))の与えられた走査間隔 Z1 で得ら
れ、ここでベッセル関数 J1 の最大値 X1maxである。光
源の広がりもこの場合考慮する必要があり、幾分小さな
走査間隔 Z1 となる。
わたり（つまり測定方向Ｘに）図６に示すように位相の
ずれの連続的な変化を示す走査格子３０が提案されてい
る。二つの横方向格子領域３１と３１のマークの連続的
な流れにより、位置測定装置の特定の特性が最適にな
る。つまり、走査信号の高調波成分を低減できるか、あ
るいは最適な走査間隔を任意の Cで所定の値 Z1 ＝ (n+
C) TA2/λに設定できる。図６で選択された正弦波状の
曲線では、特に三次の高調波を非常に強く低減できる。
この場合、横方向のウェブのずれの振幅 aは以下の条件
により与えられる。つまり、 a/TT＝ X3/(4πsin(3π*Z1*λ/TA2)) ここでΔY ＝ a*sin(2πX/TA) 局部的な横方向のウェブ
のずれ X3 ＝ベッセル関数 J3(X3) ＝ 0の零位置である この場合、走査間隔 Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λは特に有利で
ある。何故なら、基本波が多いな値を占めるからであ
る。他方、走査信号の最大変調度はa/TT＝ X1max/(4πs
in(π*Z1*λ/TA2))の与えられた走査間隔 Z1 で得ら
れ、ここでベッセル関数 J1 の最大値 X1maxである。光
源の広がりもこの場合考慮する必要があり、幾分小さな
走査間隔 Z1 となる。
【００２０】走査信号の高調波成分を低減するため、測
定方向Ｘに沿った横方向のマーク（格子シトライプ）
を、図７に示すように、異なった幅 bで構成することも
可能である。横方向の回折次数の個々の回折次数±１，
±２，・・・の回折効率は測定方向Ｘに沿った位置Ｘに
依存する。これ等の横方向回折次数は近軸場で考慮し
て、通常の位相目盛や振幅目盛の組み合わせの作用に相
当する。何故なら、近軸場では部分ビーム束の位相も振
幅も変調されるからである。個々のマークの（Ｙ方向
の）幅 bは変化し、この幅が例えば式、 sin(πb(x)/TT)＝√(sin(2πX/TA)) の解に応じて選択されると、走査信号は以下の間隔 Z1, Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λ でほぼ高調波を含まない。
定方向Ｘに沿った横方向のマーク（格子シトライプ）
を、図７に示すように、異なった幅 bで構成することも
可能である。横方向の回折次数の個々の回折次数±１，
±２，・・・の回折効率は測定方向Ｘに沿った位置Ｘに
依存する。これ等の横方向回折次数は近軸場で考慮し
て、通常の位相目盛や振幅目盛の組み合わせの作用に相
当する。何故なら、近軸場では部分ビーム束の位相も振
幅も変調されるからである。個々のマークの（Ｙ方向
の）幅 bは変化し、この幅が例えば式、 sin(πb(x)/TT)＝√(sin(2πX/TA)) の解に応じて選択されると、走査信号は以下の間隔 Z1, Z1 ＝ (n+1/2)TA2/λ でほぼ高調波を含まない。
【００２１】図７には、TT/4ほど互いに位相のずれた二
つの格子領域４１，４２から成るこの走査格子４０が示
してある。この場合、マーク（ウェブまたは隙間）の幅
b(x) は上の式に応じて変わる。図８には、測定方向Ｘ
に入り組んで配置された二群の走査格子５１，５２を有
する走査格子５９が示してある。各群は同じタイプの３
つの走査格子５１または５２で構成されている。一方の
群の走査格子５１または５２は再び縦方向の３つの目盛
周期 TA から成る。二つの群の走査格子５１，５２は横
方向の目盛周期 TT1と TT2で相違する。これ等の目盛周
期は例えば 5μm と 7μm の値である。更に、第二群の
走査格子５２は第一群の走査格子５１に対して測定方向
Ｘに (m+1/4) TA ほど間隔を置いて配置され、ここで m
＝ 1, 2 ・・である。第二群の走査格子５２の±1.横方
向回折次数の強度変調は第一群のそれに対してそれぞれ
90°ほど位相がずれている。二つの群のそれぞれ＋1.
と−1.回折次数を別々に検出して、それぞれ 90 °互い
に位相のずれた４つの走査信号が得られる。当然、各群
は３つの走査格子５１，５２以上から成り、各走査格子
５１，５２は３つの目盛周期 TA 以上から成る。
つの格子領域４１，４２から成るこの走査格子４０が示
してある。この場合、マーク（ウェブまたは隙間）の幅
b(x) は上の式に応じて変わる。図８には、測定方向Ｘ
に入り組んで配置された二群の走査格子５１，５２を有
する走査格子５９が示してある。各群は同じタイプの３
つの走査格子５１または５２で構成されている。一方の
群の走査格子５１または５２は再び縦方向の３つの目盛
周期 TA から成る。二つの群の走査格子５１，５２は横
方向の目盛周期 TT1と TT2で相違する。これ等の目盛周
期は例えば 5μm と 7μm の値である。更に、第二群の
走査格子５２は第一群の走査格子５１に対して測定方向
Ｘに (m+1/4) TA ほど間隔を置いて配置され、ここで m
＝ 1, 2 ・・である。第二群の走査格子５２の±1.横方
向回折次数の強度変調は第一群のそれに対してそれぞれ
90°ほど位相がずれている。二つの群のそれぞれ＋1.
と−1.回折次数を別々に検出して、それぞれ 90 °互い
に位相のずれた４つの走査信号が得られる。当然、各群
は３つの走査格子５１，５２以上から成り、各走査格子
５１，５２は３つの目盛周期 TA 以上から成る。
【００２２】図９には、図８の走査板５９を備えた位置
測定装置が示してある。光源８の光はレンズ９によりコ
リメートされ、走査板５９に達する。二つの群の走査格
子５１，５２の±1.回折次数の部分ビーム束は既知の走
査間隔 Z1 で目盛格子４に入射し、透過した部分ビーム
束は他のレンズ５により４つの光検出器６，７と６１，
７１に集束する。４つの光検出器６，７，６１，７１は
Ｙ方向に重ねて配置されている。異なった横方向の目盛
周期 TT1と TT2により、走査格子５１からの光ビーム束
は走査格子５２からの光ビーム束より別な方向に偏向す
るので、第二レンズ５により異なった光検出器６，７；
６１，７１に集束する。走査格子５１により＋1.の回折
次数に偏向した光ビーク束は光検出器６１に入射し、走
査格子５１により−1.の回折次数に偏向した光ビーク束
は光検出器７１に入射する。走査格子５２により＋1.の
回折次数に偏向した光ビーク束は光検出器６に入射し、
走査格子５２により−1.の回折次数に偏向した光ビーク
束は光検出器７に入射する。走査格子５１，５２の各々
は、既に説明した実施例（図１〜７）に応じて、あるい
はそれ等の組み合わせに応じて形成される。
測定装置が示してある。光源８の光はレンズ９によりコ
リメートされ、走査板５９に達する。二つの群の走査格
子５１，５２の±1.回折次数の部分ビーム束は既知の走
査間隔 Z1 で目盛格子４に入射し、透過した部分ビーム
束は他のレンズ５により４つの光検出器６，７と６１，
７１に集束する。４つの光検出器６，７，６１，７１は
Ｙ方向に重ねて配置されている。異なった横方向の目盛
周期 TT1と TT2により、走査格子５１からの光ビーム束
は走査格子５２からの光ビーム束より別な方向に偏向す
るので、第二レンズ５により異なった光検出器６，７；
６１，７１に集束する。走査格子５１により＋1.の回折
次数に偏向した光ビーク束は光検出器６１に入射し、走
査格子５１により−1.の回折次数に偏向した光ビーク束
は光検出器７１に入射する。走査格子５２により＋1.の
回折次数に偏向した光ビーク束は光検出器６に入射し、
走査格子５２により−1.の回折次数に偏向した光ビーク
束は光検出器７に入射する。走査格子５１，５２の各々
は、既に説明した実施例（図１〜７）に応じて、あるい
はそれ等の組み合わせに応じて形成される。
【００２３】説明した二つの位置測定装置はいずれも透
過光方法で動作する。この発明は、図１０に示すよう
に、所謂反射光方法でも使用できる。第二レンズ５の機
能も引き受けるただ一つのレンズ９を備えた特に単純な
構成がある。走査格子５９は図８のように形成される。
目盛格子４は反射式に形成されているので、走査板は二
回通過されるので、第一回の通過で＋1.と−1.の回折次
数に偏向した部分ビーム束は第二回目の通過で新たに横
方向に＋1.と−1.の回折次数に偏向され、＋2.と−2.の
合成回折次数（方向に関して）に現れる。４つの光検出
器６，７，６１，７１はレンズ９の焦点面の中あるいは
その近くに配置れているので、走査格子５１，５２の二
つの群の前記±2.の合成横方向回折次数を検出する。
過光方法で動作する。この発明は、図１０に示すよう
に、所謂反射光方法でも使用できる。第二レンズ５の機
能も引き受けるただ一つのレンズ９を備えた特に単純な
構成がある。走査格子５９は図８のように形成される。
目盛格子４は反射式に形成されているので、走査板は二
回通過されるので、第一回の通過で＋1.と−1.の回折次
数に偏向した部分ビーム束は第二回目の通過で新たに横
方向に＋1.と−1.の回折次数に偏向され、＋2.と−2.の
合成回折次数（方向に関して）に現れる。４つの光検出
器６，７，６１，７１はレンズ９の焦点面の中あるいは
その近くに配置れているので、走査格子５１，５２の二
つの群の前記±2.の合成横方向回折次数を検出する。
【００２４】走査格子５１，５２を一回通過すると、部
分ビーム束はＹ方向に偏向し、これにより目盛格子４で
Ｙ方向に反射した後、ずれて再び走査格子５９に達す
る。個々の走査格子５１，５２の視野限界は二回目の通
過で部分ビーム束と交差する。この濃淡は、与えられた
走査間隔 Z1 で異なった横方向目盛周期 TT1, TT2 によ
り二つの走査格子５１，５２に対して異なる。この濃淡
効果は走査格子５１，５２の延びがそれぞれ異なること
によりＹ方向に補償できる。
分ビーム束はＹ方向に偏向し、これにより目盛格子４で
Ｙ方向に反射した後、ずれて再び走査格子５９に達す
る。個々の走査格子５１，５２の視野限界は二回目の通
過で部分ビーム束と交差する。この濃淡は、与えられた
走査間隔 Z1 で異なった横方向目盛周期 TT1, TT2 によ
り二つの走査格子５１，５２に対して異なる。この濃淡
効果は走査格子５１，５２の延びがそれぞれ異なること
によりＹ方向に補償できる。
【００２５】走査板５９を二回目の通過で±2.の合成横
方向回折次数となって現れる部分ビーム束は異なった部
分ビーム束の重なりである。これ等の部分ビーム束は二
回の通過で異なった横方向に偏向される。つまり、一回
目の通過で＋3.の横方向回折次数に、そして二回目の通
過で−1.の横方向回折次数に偏向され部分ビーム束も＋
2.の横方向回折次数に現れ、光検出器６または６１に達
する。この部分ビーム束は＋1.の横方向回折次数に二回
偏向する部分ビーム束に比べて異なった通路を戻るの
で、二つの部分ビーム束の干渉性の重畳により、走査間
隔 Z1 に強く依存する走査信号が発生する。それ故、例
えば時間的および／または空間的に非干渉性の光源、例
えばＬＥＤあるいは縦または横方向の多重モードレーザ
ー、特に半導体レザーダイオードを使用して干渉性の重
畳を避けるべきである。干渉性の重畳を避ける他の可能
性は、所謂連続可変格子としての走査格子８０の格子領
域８１，８２を形成し、この走査格子の横方向目盛周期
TT がＹ方向の距離に応じて常時小さな値ほど変わるこ
とにある（図１１）。局部的な横方向目盛周期 TT(Y)の
連続変化により発生する光ビーム束はＹ方向に異なった
偏向を行う。強く異なった偏向を行うこれ等の部分ビー
ム束は共通の光検出器６または７に向かう。光検出器
６，７に入射する重なる部分ビーム束の間の光路差は、
Ｙ方向で位置に依存し、均されるので、干渉性の重畳が
壊れる。この構成は、特にレーザー光源を使用する場合
に有利である。
方向回折次数となって現れる部分ビーム束は異なった部
分ビーム束の重なりである。これ等の部分ビーム束は二
回の通過で異なった横方向に偏向される。つまり、一回
目の通過で＋3.の横方向回折次数に、そして二回目の通
過で−1.の横方向回折次数に偏向され部分ビーム束も＋
2.の横方向回折次数に現れ、光検出器６または６１に達
する。この部分ビーム束は＋1.の横方向回折次数に二回
偏向する部分ビーム束に比べて異なった通路を戻るの
で、二つの部分ビーム束の干渉性の重畳により、走査間
隔 Z1 に強く依存する走査信号が発生する。それ故、例
えば時間的および／または空間的に非干渉性の光源、例
えばＬＥＤあるいは縦または横方向の多重モードレーザ
ー、特に半導体レザーダイオードを使用して干渉性の重
畳を避けるべきである。干渉性の重畳を避ける他の可能
性は、所謂連続可変格子としての走査格子８０の格子領
域８１，８２を形成し、この走査格子の横方向目盛周期
TT がＹ方向の距離に応じて常時小さな値ほど変わるこ
とにある（図１１）。局部的な横方向目盛周期 TT(Y)の
連続変化により発生する光ビーム束はＹ方向に異なった
偏向を行う。強く異なった偏向を行うこれ等の部分ビー
ム束は共通の光検出器６または７に向かう。光検出器
６，７に入射する重なる部分ビーム束の間の光路差は、
Ｙ方向で位置に依存し、均されるので、干渉性の重畳が
壊れる。この構成は、特にレーザー光源を使用する場合
に有利である。
【００２６】図１０に示す位置測定装置の特別な利点
は、所謂中性回転点の位置にある。この中性回転点は、
その周りに走査部材６〜９，６１，７１あるいは目盛板
４を傾ける点として定義され、走査信号が目標位置に対
して位相のずれがないため、評価電子回路により求めた
位置測定値が一定になっている。図１０の位置測定装置
の中性回転点は目盛格子４の面内にある。目盛板の表面
の凹凸、特に測定方向Ｘの凹凸は、目盛格子４の面内に
ある回転軸の周りの目盛格子４の局部的な傾きに相当す
るが、平均化された位置測定値に影響を与えず、これは
測定装置の制度を著しく向上させる。この理由は、走査
板５９を二回目に通過した時の光ビーム束がＸ方向の位
置に無関係にＹ方向に回折することにある。通過した部
分ビーム束の強度は測定方向Ｘの出現位置に無関係であ
る。このため、光検出器６，７，６１，７１は全ての縦
方向回折次数を検出すべきで、少なくとも全ての 0. と
±1.および場合によっては更に±2.の回折次数を検出す
べきである。
は、所謂中性回転点の位置にある。この中性回転点は、
その周りに走査部材６〜９，６１，７１あるいは目盛板
４を傾ける点として定義され、走査信号が目標位置に対
して位相のずれがないため、評価電子回路により求めた
位置測定値が一定になっている。図１０の位置測定装置
の中性回転点は目盛格子４の面内にある。目盛板の表面
の凹凸、特に測定方向Ｘの凹凸は、目盛格子４の面内に
ある回転軸の周りの目盛格子４の局部的な傾きに相当す
るが、平均化された位置測定値に影響を与えず、これは
測定装置の制度を著しく向上させる。この理由は、走査
板５９を二回目に通過した時の光ビーム束がＸ方向の位
置に無関係にＹ方向に回折することにある。通過した部
分ビーム束の強度は測定方向Ｘの出現位置に無関係であ
る。このため、光検出器６，７，６１，７１は全ての縦
方向回折次数を検出すべきで、少なくとも全ての 0. と
±1.および場合によっては更に±2.の回折次数を検出す
べきである。
【００２７】図８の走査板５９は純単一場走査も可能に
なるように改良することができる。この種の走査板５７
は図１２に示してある。図８に比べて、横方向目盛周期
TT1を有する走査格子５１の横方向目盛周期 TT1の 1/4
ほど互いにずれた格子領域５３，５４は直接測定方向Ｘ
に隣接配置されているのでなく、横方向目盛周期 TT2を
有する他の走査格子５２の格子領域５５，５６がその間
に配置されている。このようにできている走査格子５０
の各目盛周期 TA は４つの等しい幅の格子領域５３〜５
６で構成されている。第一および第三の目盛領域５３，
５４はそれぞれ例えば 5μm の横方向目盛周期 TT1を有
する。この場合、格子領域５３，５４のマーク（格子ス
トライプ）は 90°に相当する TT1/4ほど互いに位相が
ずれている。これ等のマークは対応する第一横方向回折
次数で互いに 180°位相のずれた２つの第一走査信号を
発生する。その間にある第二および第四格子領域５５，
５６は例えば 7μm の TT1とは異なる共通の目盛周期 T
T2も有する。この場合、横方向格子ストライプはＹ方向
に 90°に相当する TT2/4ほど互いに位相がずれてい
る。横方向格子ストライプは対応する第一横方向回折次
数で同じように互いに180°位相のずれた二つの走査信
号を発生する。しかし、二つの走査信号は格子領域５
５，５６に対して格子領域５３，５４の幾何学的なずれ
（測定方向Ｘの）により、二つの第一走査信号に対して
90°位相がずれている。その結果、走査板９０の共通
領域から、従って目盛格子４からの互いに 90°位相の
ずれた４つの走査信号 0°, 90°, 180°, 270°が導か
れる。
なるように改良することができる。この種の走査板５７
は図１２に示してある。図８に比べて、横方向目盛周期
TT1を有する走査格子５１の横方向目盛周期 TT1の 1/4
ほど互いにずれた格子領域５３，５４は直接測定方向Ｘ
に隣接配置されているのでなく、横方向目盛周期 TT2を
有する他の走査格子５２の格子領域５５，５６がその間
に配置されている。このようにできている走査格子５０
の各目盛周期 TA は４つの等しい幅の格子領域５３〜５
６で構成されている。第一および第三の目盛領域５３，
５４はそれぞれ例えば 5μm の横方向目盛周期 TT1を有
する。この場合、格子領域５３，５４のマーク（格子ス
トライプ）は 90°に相当する TT1/4ほど互いに位相が
ずれている。これ等のマークは対応する第一横方向回折
次数で互いに 180°位相のずれた２つの第一走査信号を
発生する。その間にある第二および第四格子領域５５，
５６は例えば 7μm の TT1とは異なる共通の目盛周期 T
T2も有する。この場合、横方向格子ストライプはＹ方向
に 90°に相当する TT2/4ほど互いに位相がずれてい
る。横方向格子ストライプは対応する第一横方向回折次
数で同じように互いに180°位相のずれた二つの走査信
号を発生する。しかし、二つの走査信号は格子領域５
５，５６に対して格子領域５３，５４の幾何学的なずれ
（測定方向Ｘの）により、二つの第一走査信号に対して
90°位相がずれている。その結果、走査板９０の共通
領域から、従って目盛格子４からの互いに 90°位相の
ずれた４つの走査信号 0°, 90°, 180°, 270°が導か
れる。
【００２８】この発明によれば、測定方向Ｘに交互に配
置された異なる高さや異なる屈折率を有するウェブと隙
間により位相差が実現される従来技術の位相格子は、そ
れぞれ基本的に多数の格子領域の幾何学的に互いに位相
のずれた横方向マークを備えた横方向格子で置き換える
ことができる。つまり、この発明により、欧州特許第0
163 362 B1 号明細書で使用されている走査格子（基準
格子）も特に簡単に実現される。互いに 120°位相のず
れた３つの信号を発生させるため、図１３に示す他のこ
の発明による位相格子９０では、同じ目盛周期 TT のマ
ークが２つの横方向格子領域９１，９２に付けてある。
これ等のマークは 2TT/3（120 °に対応する) ほど横方
向に互いに位相がずれている。格子領域９１，９２は再
び振幅格子あるいは位相格子として形成されている。こ
こでも、横方向格子領域９１，９２を位相格子として形
成し、そのパラメータが 0.,±2., ±4.の横方向回折次
数を抑制するように選択されていると、特に有利であ
る。
置された異なる高さや異なる屈折率を有するウェブと隙
間により位相差が実現される従来技術の位相格子は、そ
れぞれ基本的に多数の格子領域の幾何学的に互いに位相
のずれた横方向マークを備えた横方向格子で置き換える
ことができる。つまり、この発明により、欧州特許第0
163 362 B1 号明細書で使用されている走査格子（基準
格子）も特に簡単に実現される。互いに 120°位相のず
れた３つの信号を発生させるため、図１３に示す他のこ
の発明による位相格子９０では、同じ目盛周期 TT のマ
ークが２つの横方向格子領域９１，９２に付けてある。
これ等のマークは 2TT/3（120 °に対応する) ほど横方
向に互いに位相がずれている。格子領域９１，９２は再
び振幅格子あるいは位相格子として形成されている。こ
こでも、横方向格子領域９１，９２を位相格子として形
成し、そのパラメータが 0.,±2., ±4.の横方向回折次
数を抑制するように選択されていると、特に有利であ
る。
【００２９】二つの格子領域９１，９２の幅は目盛周期
TA を形成する。一方の格子領域９１は 2TA/3の幅を有
し、他方の格子領域９２はTA/3の幅を有する（測定方向
Ｘに見て）。図１５には、図１３の走査格子９０を備え
た位置測定装置が示してある。光源８はコリメータレン
ズ９を介して走査格子９０を有する走査板９９を照明す
る。透過した光ビーム束は反射目盛格子４に入射し、再
び走査格子９０に偏向される。測定方向Ｘにそして横方
向に回折した部分ビーム束は光検出器６，６２，６３に
入射する。＋1.の回折次数に二回横方向回折して、＋2.
の合成回折次数の部分ビーム束が光検出器６，６２，６
３に入射する。
TA を形成する。一方の格子領域９１は 2TA/3の幅を有
し、他方の格子領域９２はTA/3の幅を有する（測定方向
Ｘに見て）。図１５には、図１３の走査格子９０を備え
た位置測定装置が示してある。光源８はコリメータレン
ズ９を介して走査格子９０を有する走査板９９を照明す
る。透過した光ビーム束は反射目盛格子４に入射し、再
び走査格子９０に偏向される。測定方向Ｘにそして横方
向に回折した部分ビーム束は光検出器６，６２，６３に
入射する。＋1.の回折次数に二回横方向回折して、＋2.
の合成回折次数の部分ビーム束が光検出器６，６２，６
３に入射する。
【００３０】図１４には、光検出器６，６２，６３およ
び７，７２，７３の可能な配置が示してある。光検出器
７，７２，７３は光検出器６，６２，６３が発生するの
と同じ信号（0°, 120°, -120°) を発生するので、図
１５の位置測定装置ではこれ等の信号を利用しない。横
方向に偏向させる走査格子９０を利用する利点は、一つ
の基準マーク９３，９４を同時に走査する場合、横方向
格子領域９１，９２および基準マーク９３の格子パラメ
ータを選択して部分ビーム束を分離することができる。
基準マーク９３，９４および目盛格子と走査格子４，９
０による部分ビーム束の過応答を防止するため、プリズ
ムの形をした付加的な偏向部材は不要である。基準マー
ク９３，９４を周知の方法で測定方向Ｘに未だ公開され
ていない欧州特許第 9510238.2号明細書の特に図３の連
続可変格子として形成すると特に有利である。基準マー
ク９３の連続可変格子ストライプは横方向の目盛を有
し、光検出器９５，９６により 180°互いに位相のずれ
た２つの信号を発生する。
び７，７２，７３の可能な配置が示してある。光検出器
７，７２，７３は光検出器６，６２，６３が発生するの
と同じ信号（0°, 120°, -120°) を発生するので、図
１５の位置測定装置ではこれ等の信号を利用しない。横
方向に偏向させる走査格子９０を利用する利点は、一つ
の基準マーク９３，９４を同時に走査する場合、横方向
格子領域９１，９２および基準マーク９３の格子パラメ
ータを選択して部分ビーム束を分離することができる。
基準マーク９３，９４および目盛格子と走査格子４，９
０による部分ビーム束の過応答を防止するため、プリズ
ムの形をした付加的な偏向部材は不要である。基準マー
ク９３，９４を周知の方法で測定方向Ｘに未だ公開され
ていない欧州特許第 9510238.2号明細書の特に図３の連
続可変格子として形成すると特に有利である。基準マー
ク９３の連続可変格子ストライプは横方向の目盛を有
し、光検出器９５，９６により 180°互いに位相のずれ
た２つの信号を発生する。
【００３１】図１６には、この発明による他の位置測定
装置が示してある。走査板１５９の上に走査格子１５１
と１５２が形成されている。目盛格子４を走査するた
め、２群の走査格子１５１，１５２が配置されている。
各群は同種の２つの走査格子１５１または１５２で構成
されている。各群の２つの走査格子１５１または１５２
は縦方向の目盛周期 TA の整数倍ほど互いにずらして配
置されている。各走査格子１５１，１５２は再び５つの
縦方向目盛周期 TA で構成されている。両方の群の走査
格子１５１，１５２は、図８の実施例に対して、異なっ
た横方向目盛周期によるのでなく、図１８と図１９から
分かるようにブレーズ角φ1 により異なっている。更
に、第二群の走査格子１５２は第一群の走査格子１５１
に比べて (m+1/4) TA ほど測定方向Ｘに間隔を置いて配
置され、ここで m＝ 0, 1, 2・・である。走査格子１５
２はブレーズ効果により発生した光ビームをほぼ＋1.の
横方向回折次数にのみ偏向させる。目盛格子４で反射し
て、走査格子１５２を二回目に通過すると、光ビームは
＋1.の横方向回折次数に再び偏向されるので、＋2.の合
成横方向回折次数の方向に出射し、レンズ９により異な
った縦回折次数を検出する光検出器６４，６５に集束す
る。
装置が示してある。走査板１５９の上に走査格子１５１
と１５２が形成されている。目盛格子４を走査するた
め、２群の走査格子１５１，１５２が配置されている。
各群は同種の２つの走査格子１５１または１５２で構成
されている。各群の２つの走査格子１５１または１５２
は縦方向の目盛周期 TA の整数倍ほど互いにずらして配
置されている。各走査格子１５１，１５２は再び５つの
縦方向目盛周期 TA で構成されている。両方の群の走査
格子１５１，１５２は、図８の実施例に対して、異なっ
た横方向目盛周期によるのでなく、図１８と図１９から
分かるようにブレーズ角φ1 により異なっている。更
に、第二群の走査格子１５２は第一群の走査格子１５１
に比べて (m+1/4) TA ほど測定方向Ｘに間隔を置いて配
置され、ここで m＝ 0, 1, 2・・である。走査格子１５
２はブレーズ効果により発生した光ビームをほぼ＋1.の
横方向回折次数にのみ偏向させる。目盛格子４で反射し
て、走査格子１５２を二回目に通過すると、光ビームは
＋1.の横方向回折次数に再び偏向されるので、＋2.の合
成横方向回折次数の方向に出射し、レンズ９により異な
った縦回折次数を検出する光検出器６４，６５に集束す
る。
【００３２】同じように、走査格子１５１の逆ブレーズ
角φ1 により対応する光ビームが再び縦方向に互いに間
隔を置いた光検出器７４，７５に偏向する。走査格子１
５１，１５２の格子領域１５３，１５４と１５５，１５
６を適当に形成することにより、光検出器６４，６５と
７４，７５から得られた走査信号は所望値ほど互いに位
相がずれている。例えば、光検出器６４と６５の走査信
号の間の 90 °の位相のずれは、横方向格子領域１５
５，１５６が同じ目盛周期 TTを有し、横方向に 2TT/3
ほど互いにずらして配置されている場合に達成される。
測定方向Ｘに見て、格子領域１５５と格子領域１５６は
それぞれ一つの目盛周期TA を形成する。この場合、格
子領域１５５の幅は約 2TA/3であり、格子領域１５６の
幅は約 TA/3 である。図１７に記入してあるように、走
査格子１５１の格子領域１５３と１５４に対して、光検
出器７４，７５の走査信号の間に 90 °の位相差にする
ため同じ状況が当てはまる。格子領域１５１に対して格
子領域１５２を幾何学的にずらことにより、光検出器７
４，７５に対する光検出器６４，６５の走査信号の位相
のずれを調整できる。幾何学的なずれが例えば TA/4 で
あれば、光検出器６４，６５の走査信号は光検出器７
４，７５に対して互いに 180°位相がずれている。従っ
て、簡単に通常必要とする互いに 90 °位相のずれた４
つの走査信号が得られ、単一場走査の利点が得られる。
利用する±1.の横方向回折次数の光収量は、この実施例
の場合、格子領域１５３〜１５６のブレーズ角φ 1 を適
当に選ぶと、特に大きくなる。これに対する条件は当業
者に周知であり、当該専門文献に「エシェレット格子」
としてされている。特に図１８と図１９に示すエシェレ
ット格子を使用すると、所謂３格子変換器（欧州特許第
0 163 362B1 号明細書）の場合のように、＋ｎ次と−
ｎ次の横方向回折次数を同位相で変調し、付加的な情報
を出力しない場合に特に有利である。
角φ1 により対応する光ビームが再び縦方向に互いに間
隔を置いた光検出器７４，７５に偏向する。走査格子１
５１，１５２の格子領域１５３，１５４と１５５，１５
６を適当に形成することにより、光検出器６４，６５と
７４，７５から得られた走査信号は所望値ほど互いに位
相がずれている。例えば、光検出器６４と６５の走査信
号の間の 90 °の位相のずれは、横方向格子領域１５
５，１５６が同じ目盛周期 TTを有し、横方向に 2TT/3
ほど互いにずらして配置されている場合に達成される。
測定方向Ｘに見て、格子領域１５５と格子領域１５６は
それぞれ一つの目盛周期TA を形成する。この場合、格
子領域１５５の幅は約 2TA/3であり、格子領域１５６の
幅は約 TA/3 である。図１７に記入してあるように、走
査格子１５１の格子領域１５３と１５４に対して、光検
出器７４，７５の走査信号の間に 90 °の位相差にする
ため同じ状況が当てはまる。格子領域１５１に対して格
子領域１５２を幾何学的にずらことにより、光検出器７
４，７５に対する光検出器６４，６５の走査信号の位相
のずれを調整できる。幾何学的なずれが例えば TA/4 で
あれば、光検出器６４，６５の走査信号は光検出器７
４，７５に対して互いに 180°位相がずれている。従っ
て、簡単に通常必要とする互いに 90 °位相のずれた４
つの走査信号が得られ、単一場走査の利点が得られる。
利用する±1.の横方向回折次数の光収量は、この実施例
の場合、格子領域１５３〜１５６のブレーズ角φ 1 を適
当に選ぶと、特に大きくなる。これに対する条件は当業
者に周知であり、当該専門文献に「エシェレット格子」
としてされている。特に図１８と図１９に示すエシェレ
ット格子を使用すると、所謂３格子変換器（欧州特許第
0 163 362B1 号明細書）の場合のように、＋ｎ次と−
ｎ次の横方向回折次数を同位相で変調し、付加的な情報
を出力しない場合に特に有利である。
【００３３】ブレース角φ1 をより良く区別するため、
図１７の下向きのブレーズ角φ1 を有する格子領域１５
３，１５４は上向きのブレーズ角φ1 を有する格子領域
１５５，１５６とは異なるようにハッチングが付けてあ
る。この実施例では、基準マーク１９３も測定方向Ｘに
交互に配置された格子領域１９５と１９６から成る連続
可変走査格子で構成されている。この格子領域の幅は測
定方向Ｘに連続的に減少している。格子領域１９５と１
９６には、図１８と図１９の断面 I−I および II − I
I に見られるように、逆向きのブレーズ角φ 2 が付けて
ある。格子領域１９５は発生する光束を光検出器９５に
偏向させ、格子領域１９６は発生した光束を光検出器９
６に偏向させる。光検出器９５と９６は連続可変基準マ
ーク１９４の同相信号と逆相信号をそれぞれ出力する。
図１７の下向きのブレーズ角φ1 を有する格子領域１５
３，１５４は上向きのブレーズ角φ1 を有する格子領域
１５５，１５６とは異なるようにハッチングが付けてあ
る。この実施例では、基準マーク１９３も測定方向Ｘに
交互に配置された格子領域１９５と１９６から成る連続
可変走査格子で構成されている。この格子領域の幅は測
定方向Ｘに連続的に減少している。格子領域１９５と１
９６には、図１８と図１９の断面 I−I および II − I
I に見られるように、逆向きのブレーズ角φ 2 が付けて
ある。格子領域１９５は発生する光束を光検出器９５に
偏向させ、格子領域１９６は発生した光束を光検出器９
６に偏向させる。光検出器９５と９６は連続可変基準マ
ーク１９４の同相信号と逆相信号をそれぞれ出力する。
【００３４】増分マーク走査や基準マーク走査に横方向
格子領域１５３〜１５６と１９５，１９６を使用し、横
方向の目盛周期 TT, TTRおよび／またはブレーズ角φ1,
φ2を種々選択すれば、回折した個々の光束をレンズ９
の焦点面内で容易に分離できる。従って、プリズムまた
は鏡のような経費のかかる光偏向手段がもはや不要であ
る。図示するブレーズ格子はエンボス加工で特に有利に
作製できる。
格子領域１５３〜１５６と１９５，１９６を使用し、横
方向の目盛周期 TT, TTRおよび／またはブレーズ角φ1,
φ2を種々選択すれば、回折した個々の光束をレンズ９
の焦点面内で容易に分離できる。従って、プリズムまた
は鏡のような経費のかかる光偏向手段がもはや不要であ
る。図示するブレーズ格子はエンボス加工で特に有利に
作製できる。
【００３５】この発明による走査格子１，１０，２０，
３０，４０，５１，５２，８０，５０，９０の主要な利
点は、＋ｎ次と−ｎ次の横方向回折次数（ｎ＝ 1, 2, 3
・・・）の方向に回折したビーム束の局部位相のずれが
横方向格子の位相差やウェブの幅に依存するのでなく、
横方向格子領域２，３，１１〜１４，２１〜２４，３
１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８２，９
１，９２の幾何学的なずれによってのみ与えられる点に
ある。これにより、横方向格子領域２，３，１１〜１
４，２１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜５
６，８１，８２，９１，９２の位相差やウェブの幅の許
容公差が大きいため、通常の位相目盛に比べて製造が容
易で低経費で行える。
３０，４０，５１，５２，８０，５０，９０の主要な利
点は、＋ｎ次と−ｎ次の横方向回折次数（ｎ＝ 1, 2, 3
・・・）の方向に回折したビーム束の局部位相のずれが
横方向格子の位相差やウェブの幅に依存するのでなく、
横方向格子領域２，３，１１〜１４，２１〜２４，３
１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８２，９
１，９２の幾何学的なずれによってのみ与えられる点に
ある。これにより、横方向格子領域２，３，１１〜１
４，２１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜５
６，８１，８２，９１，９２の位相差やウェブの幅の許
容公差が大きいため、通常の位相目盛に比べて製造が容
易で低経費で行える。
【００３６】全ての実施例で、走査格子は図２に示す表
面の凹凸の形状の位相構造体として、あるいは位置に依
存して変化する屈折率による位相構造体として、あるい
は位置に依存して変化する反射、吸収、または透過を与
える振幅構造体として構成される。位相構造体の特別な
利点は、既に説明したように、特定の回折次数の光強度
を操ることができる点にある。つまり、±1.の回折次数
を利用すると特に有利であるが、この発明では他の回折
次数を使用することもできる。
面の凹凸の形状の位相構造体として、あるいは位置に依
存して変化する屈折率による位相構造体として、あるい
は位置に依存して変化する反射、吸収、または透過を与
える振幅構造体として構成される。位相構造体の特別な
利点は、既に説明したように、特定の回折次数の光強度
を操ることができる点にある。つまり、±1.の回折次数
を利用すると特に有利であるが、この発明では他の回折
次数を使用することもできる。
【００３７】この発明による格子では、マークのＹ方向
の位置やＹとＸ方向のマークの幅が局所的に任意に選択
できるので、位相目盛と振幅目盛の間の任意の組み合わ
せが簡単に行える。従って、この発明による格子を用い
ると、この格子から直接導ける走査信号の望ましい位相
差を選択でき、更に走査信号を最適にできる。測定方向
Ｘに向けて比較的小さい走査板をこの発明により形成す
れば特に有利である。しかし、この発明の枠内でも、目
盛板はそれに合わせて形成する必要がある。
の位置やＹとＸ方向のマークの幅が局所的に任意に選択
できるので、位相目盛と振幅目盛の間の任意の組み合わ
せが簡単に行える。従って、この発明による格子を用い
ると、この格子から直接導ける走査信号の望ましい位相
差を選択でき、更に走査信号を最適にできる。測定方向
Ｘに向けて比較的小さい走査板をこの発明により形成す
れば特に有利である。しかし、この発明の枠内でも、目
盛板はそれに合わせて形成する必要がある。
【００３８】全ての実施例で、光検出器は異なった間隔
に、つまり欧州特許第 576 720 A2号明細書に詳しく説
明したように、レンズ５や９に入射する部分ビーム束の
入射角に応じて配置されている。この発明は測長装置や
測角装置に導入できる。
に、つまり欧州特許第 576 720 A2号明細書に詳しく説
明したように、レンズ５や９に入射する部分ビーム束の
入射角に応じて配置されている。この発明は測長装置や
測角装置に導入できる。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の位置測
定装置の利点は（準）単一場走査により目盛板の汚れや
目盛の不整に対して鈍感な、レベルと限界周波数の高い
位置に依存する走査信号を発生させることができる点に
ある。更に、位相目盛のかなり大きな仕上げ公差が許容
されるので、仕上げを低価格にできる。他の利点は、互
いに位相のずれた走査信号を簡単に発生させることがで
きる点にある。
定装置の利点は（準）単一場走査により目盛板の汚れや
目盛の不整に対して鈍感な、レベルと限界周波数の高い
位置に依存する走査信号を発生させることができる点に
ある。更に、位相目盛のかなり大きな仕上げ公差が許容
されるので、仕上げを低価格にできる。他の利点は、互
いに位相のずれた走査信号を簡単に発生させることがで
きる点にある。
【図１】 この発明による走査格子の平面図、
【図２】 走査格子で発生したビームの光線図、
【図３】 図１と図２の走査格子を備えた位置測定装置
の断面図、
の断面図、
【図４】 他の走査格子の平面図、
【図５】 他の実施例の走査格子の平面図、
【図６】 連続波形を有する走査格子の平面図、
【図７】 高調波を濾波する走査格子の平面図、
【図８】 ４つの走査信号を発生する走査格子の平面
図、
図、
【図９】 図８の走査格子を備えた位置測定装置の断面
図、
図、
【図１０】 図８の走査格子を備えた位置測定装置の斜
視図、
視図、
【図１１】 他の走査格子の平面図、
【図１２】 他の実施例の走査格子の平面図、
【図１３】 互いに 120°位相のずれた３つの信号を発
生する走査格子の平面図、
生する走査格子の平面図、
【図１４】 図１３の走査格子を備えた位置測定装置で
の光検出器の可能な配置を示す平面図、
の光検出器の可能な配置を示す平面図、
【図１５】 図１３の走査格子を備えた位置測定装置の
斜視図、
斜視図、
【図１６】 この発明による他の位置測定装置の斜視
図、
図、
【図１７】 図１６の位置測定装置の走査格子の平面
図、
図、
【図１８】 図１７の走査格子の線分Ｉ−Ｉから見た断
面図、
面図、
【図１９】 図１７の走査格子の線分II−IIから見た断
面図、
面図、
【図２０】 従来の技術による位置測定装置の断面図。
１，１０，２０，３０，４０，５１，５２，８０，５
０，９０，１０２，１５１，１５２
走査格子 ２，３，１１〜１４，２１〜２４，３１，３２，４１，
４２，５３〜５６，８１，８２，９１，９２，１５３〜
１５６，１９５，１９６横方向格子領域 ５，９，１０１ レンズ ４，１０３ 目盛格子 ６，７，６１，６２〜６５，７１〜７５，９５，９６，
１０５ 光検出器 ８，１００ 光源 １９，５７，５９，９０，９９，１５９ 走査板 ９３，９４，１９４ 基準マー
ク １０４ 干渉縞 Ｘ 測定方向 TT, TT1, TT2 目盛周期
（Ｙ方向） TA 目盛周期
（Ｘ方向） Z1 間隔 λ 波長
０，９０，１０２，１５１，１５２
走査格子 ２，３，１１〜１４，２１〜２４，３１，３２，４１，
４２，５３〜５６，８１，８２，９１，９２，１５３〜
１５６，１９５，１９６横方向格子領域 ５，９，１０１ レンズ ４，１０３ 目盛格子 ６，７，６１，６２〜６５，７１〜７５，９５，９６，
１０５ 光検出器 ８，１００ 光源 １９，５７，５９，９０，９９，１５９ 走査板 ９３，９４，１９４ 基準マー
ク １０４ 干渉縞 Ｘ 測定方向 TT, TT1, TT2 目盛周期
（Ｙ方向） TA 目盛周期
（Ｘ方向） Z1 間隔 λ 波長
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴオルフガング・ホルツアプフエル ドイツ連邦共和国、83119 オビング、ブ ルメンストラーセ、24
Claims (21)
- 【請求項１】 光源（８）の光を測定方向（Ｘ）に相対
的にずれた多数の格子（４，１，１０，２０，３０，４
０，５１，５２，８０，５０，９０，１５１，１５２）
で位置に応じて変調し、回折した光ビーム束を互いに干
渉させ、互いに位相のずれた位置に依存する信号を形成
する多数の光検出器（６，７，６１，７１，６３，６
４，６５，７１，７２，７３，７４，７５）を備え、格
子（４，１，１０，２０，３０，４０，５１，５２，８
０，５０，９０，１５１，１５２）の少なくとも一つが
同じかあるいは僅かに異なる横方向目盛周期（TT, TT1,
TT2）の測定方向（Ｘ）に順次配置された多数の格子領
域（２，３，１１〜１４，２１〜２４，３１，３２，４
１，４２，５３〜５６，８１，８２，９１，９２，１５
３〜１５６）を有し、これ等の格子領域（２，３，１１
〜１４，２１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜
５６，８１，８２，９１，９２，１５３〜１５６）の各
々がほぼ横方向に間隔を置いた周期的なマークを有し、
前記格子領域（２，３，１１〜１４，２１〜２４，３
１，３２，４１，４２，５３〜５６，８１，８２，９
１，９２，１５３〜１５６）が測定方向に対して垂直に
互いに位相をずらして配置され、この位相のずれが 180
°とは異なり、前記マークで横方向に回折した部分ビー
ム束が光検出器（６，７，６１〜６５，７１〜７５）に
向かうことを特徴とする光電位置測定装置。 - 【請求項２】 一つの格子領域（２，３，１１〜１４，
２１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８
１，８２，９１，９２，１５３〜１５６）のマークは平
行な格子ストライプであり、これ等の格子ストライプは
測定方向（Ｘ）と角度 0°をなしていることを特徴とす
る請求項１に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項３】 前記格子領域（２，３，１１〜１４，２
１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８
１，８２，９１，９２，１５３〜１５６）は振幅格子か
あるいは位相格子の形に形成されていることを特徴とす
る請求項１または２に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項４】 前記格子領域（２，３，１１〜１４，２
１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８
１，８２，９１，９２，１５３〜１５６）は位相格子を
形成し、この位相格子のパラメータは零次の横方向回折
次数（0.）を抑制するように選択されていることを特徴
とする請求項３に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項５】 横方向にずらして配置された格子領域
（２，３，５３〜５６）でそれぞれ＋1.次と−1.次の回
折次数の部分ビーム束が発生し、＋1.次の回折次数を検
出する光検出器（６，６１）と−1.次の回折次数を検出
する光検出器（７，７１）が設けてあり、両方の光検出
器（６，７；６１，７１）の信号は互いに位相がずれて
いることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載
の光電位置測定装置。 - 【請求項６】 二つの格子領域（２，３，１１〜１４，
２１〜２４，３１，３２，４１，４２，５３〜５６，８
１，８２，９１，９２）に同じ目盛周期（TT, TT1, TT
2）の横方向のマークを設け、これ等のマークが測定方
向（Ｘ）に垂直に横方向目盛周期（TT, TT1, TT2）の 1
/4ほどずれていることを特徴とする請求項１〜５の何れ
か１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項７】 二つの格子領域（９１，９２，１５３〜
１５６）に同じ目盛周期（TT）の横方向のマークを設
け、これ等のマークが測定方向（Ｘ）に垂直に横方向目
盛周期（TT）の約 3/4ほどずれていることを特徴とする
請求項１〜５の何れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項８】 横方向に互いにずれた格子領域（２，
３，１１〜１４，２１〜２４，３１，３２，４１，４
２，５３〜５６，８１，８２）のマークの測定方向
（Ｘ）の幅は等しいことを特徴とする請求項１〜７の何
れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項９】 横方向に互いにずれた格子領域（９１，
９２，１５３〜１５６）のマークの測定方向（Ｘ）の幅
の比は 2対 1であることを特徴とする請求項１〜７の何
れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１０】 同じ横方向目盛周期（TT) を有する二
つの格子領域（９１，９２または１５３〜１５６）は測
定方向（Ｘ）に垂直に横方向目盛周期（TT）の約 2/3ほ
ど互いにずれていることを特徴とする請求項９に記載の
光電位置測定装置。 - 【請求項１１】 マークの位相のずれは測定方向（Ｘ）
に垂直に連続的、特に正弦波形状に変化していることを
特徴とする請求項１，３〜１０の何れか１項に記載の光
電位置測定装置。 - 【請求項１２】 横方向マークの測定方向（Ｘ）に垂直
な幅（ｂ）は距離（Ｘ）に応じて変化することを特徴と
する請求項１，３〜１１の何れか１項に記載の光電位置
測定装置。 - 【請求項１３】 横方向格子領域（８１，８２）の局部
的な横方向目盛周期（TT) は測定方向に垂直な距離
（Ｙ）に応じて常時変化し、こうして種々に強く偏向し
た所定の回折次数（±1.）の部分ビーム束は共通の光検
出器（６，７）で捕捉されることを特徴とする請求項１
〜１２の何れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１４】 異なった横方向目盛周期（TT1, TT2）
の多数の格子領域（５３〜５６）を設け、等しい目盛周
期（TT1 ）を有する格子領域（５３，５４）と等しい目
盛周期（TT2 ）を有する格子領域（５５，５６）とがそ
れぞれ一つの群を形成し、一方の群の格子領域（５３，
５４）は他方の群の格子領域（５５，５６）に対して、
縦方向の目盛周期（TA）の数分の１あるいは整数倍を含
めた数分の１ほど測定方向（Ｘ）に向けて位相をずらし
て配置されていることを特徴とする請求項１〜１３の何
れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１５】 異なったブレーズ角（φ1 ）を有する
エシェレット格子としての多数の格子領域（１５３〜１
５６）を設け、同じブレーズ角（φ1 ）を有する格子領
域（１５３，１５４あるいは１５５，１５６）はそれぞ
れ一つの群を形成し、一方の群の格子領域（１５３，１
５４）が他方の群の格子領域（１５５，１５６）に対し
て縦方向の目盛周期（TA）の数分の１あるいは整数倍を
含めた数分の１ほど測定方向（Ｘ）に向けて位相をずら
して配置されていることを特徴とする請求項１〜１４の
何れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１６】 測定方向（Ｘ）に (m+1/4) TA ほどに
して配置されている二つの群が設けてあり、ここで m＝
0, 1, 2・・・であることを特徴とする請求項１４また
は１５に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１７】 同じ第一目盛周期（TT1 ）または第一
ブレーズ角（φ1 ）の横方向に互いにずれた第一格子領
域（５３，５４または１５３，１５４）で回折した光ビ
ーム束が多数の光検出器（６１，７１あるいは７４，７
５）に指向して互いに位相のずれた第一走査信号を発生
し、横方向に互いにずれた他の格子領域（５５，５６ま
たは１５５，１５６）を設け、この格子領域の目盛周期
（TT2）および／またはブレーズ角（φ1 ）が第一格子
領域（５３，５４または１５３，１５４）のそれからず
れていて、第二格子領域（５５，５６または１５５，１
５６）で回折した第二光ビーム束が他の光検出器（６，
７または６４，６５）に向かい、第一走査信号の少なく
とも一つに対して位相のずれた少なくとも一つの他の走
査信号を発生することを特徴とする請求項１４〜１６の
何れか１項に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１８】 光源（８）の光をレンズ（９）でコリ
メートして走査格子（１，５１，５２）を有する走査板
（１９，５９）に入射させ、走査板（１９，５９）の次
に目盛格子（４）を設け、目盛格子（４）を透過した部
分ビーム束を他のレンズ（５）により多数の光検出器
（６，７，６１，７１）に集束させ、その場合、走査格
子（１，５１，５２）は請求項１〜１７の何れか１項に
従って形成されていることを特徴とする請求項１に記載
の光電位置測定装置。 - 【請求項１９】 光源（８）の光をレンズ（９）でコリ
メートして走査格子（５１，５２，９０）を有する走査
板（５９，９９）に入射させ、走査板（５９，９９）の
次に、反射目盛格子（４）を設け、反射した部分ビーム
束を再び走査格子（５１，５２，９０）で回折させ、レ
ンズ（９）で多数の光検出器（６，７，６１，７１，６
２，６３）に集束させ、この場合、走査格子（５１，５
２，９０）は請求項１〜１８の何れか１項に従って形成
されていることを特徴とする請求項１に記載の光電位置
測定装置。 - 【請求項２０】 目盛格子（４）と走査格子（１，５
１，５２）は測定方向（Ｘ）に同じ目盛周期（TM＝TA）
を有することを特徴とする請求項１８または１９に記載
の光電位置測定装置。 - 【請求項２１】 目盛格子（４）は振幅格子あるいは位
相格子であることを特徴とする請求項２０に記載の光電
位置測定装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19511068A DE19511068A1 (de) | 1995-03-25 | 1995-03-25 | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung |
| DE19511068:4 | 1995-03-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08271218A true JPH08271218A (ja) | 1996-10-18 |
| JP3121539B2 JP3121539B2 (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=7757784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08054812A Expired - Fee Related JP3121539B2 (ja) | 1995-03-25 | 1996-03-12 | 光電位置測定装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5994692A (ja) |
| EP (1) | EP0735346B1 (ja) |
| JP (1) | JP3121539B2 (ja) |
| AT (1) | ATE201763T1 (ja) |
| DE (2) | DE19511068A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001082984A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-30 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 光学的位置測定装置 |
| JP2009503511A (ja) * | 2005-07-26 | 2009-01-29 | ジーエスアイ・グループ・コーポレーション | 調波成分を抑制するための傾斜光学検出素子を有する光学エンコーダ |
| JP2011527435A (ja) * | 2008-07-07 | 2011-10-27 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | レーザ自己混合測定装置 |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0896206B1 (de) | 1997-08-07 | 2002-12-11 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Abtasteinheit für eine optische Positionsmesseinrichtung |
| DE19754595B4 (de) * | 1997-12-10 | 2011-06-01 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung |
| DE59912617D1 (de) | 1998-08-01 | 2006-02-16 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Rotatorische Positionsmesseinrichtung |
| EP1028309B1 (de) | 1999-02-04 | 2003-04-16 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Optische Positionsmesseinrichtung |
| US6525311B1 (en) * | 1999-05-07 | 2003-02-25 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Scanning unit for optical position measuring device |
| DE19962278A1 (de) | 1999-12-23 | 2001-08-02 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmeßeinrichtung |
| DE10058239B4 (de) | 2000-11-17 | 2012-01-26 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmeßeinrichtung |
| EP1345084A1 (en) * | 2002-03-15 | 2003-09-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| DE10333772A1 (de) * | 2002-08-07 | 2004-02-26 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Interferenzielle Positionsmesseinrichtung |
| JP3799318B2 (ja) | 2002-10-22 | 2006-07-19 | 株式会社日立製作所 | 光ピックアップおよびそれを用いた光学的情報記録装置または再生装置 |
| DE10338991A1 (de) * | 2003-08-18 | 2005-03-17 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
| DE10347604A1 (de) * | 2003-10-14 | 2005-05-12 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Optische Positionsmesseinrichtung |
| DE102004035172A1 (de) * | 2004-07-16 | 2006-02-09 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
| DE102005009043A1 (de) * | 2005-02-22 | 2006-08-31 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Abtasteinheit für eine Positionsmesseinrichtung |
| GB0508335D0 (en) * | 2005-04-26 | 2005-06-01 | Renishaw Plc | Encoder error determination |
| JP4724495B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2011-07-13 | キヤノン株式会社 | 光学式エンコーダ |
| WO2007048611A1 (de) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e.V. | Codierungselement für einen positionsgeber |
| US7485845B2 (en) * | 2005-12-06 | 2009-02-03 | Mitutoyo Corporation | Photoelectric encoder capable of effectively removing harmonic components |
| ES2311354B1 (es) * | 2006-06-08 | 2009-11-30 | Fagor, S. Coop. | Dispositivo optoelectronico de medida. |
| US20080203283A1 (en) * | 2007-02-23 | 2008-08-28 | Yee Loong Chin | Optical encoder with detector lens |
| DE102008007319A1 (de) * | 2008-02-02 | 2009-08-06 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optische Positionsmesseinrichtung |
| DE102008059667A1 (de) | 2008-11-26 | 2010-05-27 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
| GB201301186D0 (en) | 2012-12-20 | 2013-03-06 | Renishaw Plc | Optical element |
| JP6359340B2 (ja) * | 2014-05-27 | 2018-07-18 | 株式会社ミツトヨ | スケール及び光学式エンコーダ |
| ES2928745T3 (es) * | 2018-02-14 | 2022-11-22 | Hohner Automation S L | Métodos para calcular la forma de rendijas de una máscara de un codificador incremental óptico |
| DE102020120021B3 (de) | 2020-07-29 | 2021-12-09 | Hiwin Mikrosystem Corp. | Indexgitter für optische Encoder |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3148910C1 (de) * | 1981-12-10 | 1983-03-10 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Lichtelektrische inkrementale Laengen- oder Winkelmesseinrichtung |
| DE3412128C1 (de) * | 1984-03-31 | 1985-05-09 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Positionsmesseinrichtung |
| DE3416864C2 (de) | 1984-05-08 | 1986-04-10 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Photoelektrische Meßeinrichtung |
| DE3417176C2 (de) * | 1984-05-09 | 1986-07-31 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Photoelektrische Meßeinrichtung |
| GB8413955D0 (en) | 1984-05-31 | 1984-07-04 | Pa Consulting Services | Displacement measuring apparatus |
| NL8502679A (nl) | 1985-10-01 | 1987-05-04 | Philips Nv | Optisch omzetelement en verplaatsingsmeter voorzien van dit element. |
| GB8821837D0 (en) * | 1988-09-16 | 1988-10-19 | Renishaw Plc | Scale for use with opto-electronic scale reading apparatus |
| DE59004252D1 (de) * | 1990-10-20 | 1994-02-24 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferentielle Messeinrichtung für wenigstens eine Messrichtung. |
| ATE114807T1 (de) * | 1991-02-11 | 1994-12-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Photoelektrische positionsmesseinrichtung. |
| AT395914B (de) * | 1991-04-18 | 1993-04-26 | Rsf Elektronik Gmbh | Photoelektrische positionsmesseinrichtung |
| ATE108274T1 (de) * | 1991-05-18 | 1994-07-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferentielle positionsmessvorrichtung. |
| DE59105538D1 (de) * | 1991-12-20 | 1995-06-22 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Fotoelektrische Vorrichtung zur Erzeugung oberwellenfreier periodischer Signale. |
| US5519492A (en) * | 1992-06-27 | 1996-05-21 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optical arrangement for detecting the intensity modulation of partial ray beams |
| DE9218275U1 (de) | 1992-06-27 | 1993-11-04 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 83301 Traunreut | Lichtelektrische Längen- oder Winkelmeßeinrichtung |
| US5497226A (en) * | 1994-08-22 | 1996-03-05 | Polaroid Corporation | Quadrature diffractive encoder |
-
1995
- 1995-03-25 DE DE19511068A patent/DE19511068A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-01-29 AT AT96101181T patent/ATE201763T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-01-29 EP EP96101181A patent/EP0735346B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-01-29 DE DE59606976T patent/DE59606976D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-12 JP JP08054812A patent/JP3121539B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-06-30 US US09/107,641 patent/US5994692A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001082984A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-30 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 光学的位置測定装置 |
| JP4503799B2 (ja) * | 1999-08-31 | 2010-07-14 | ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 光学的位置測定装置 |
| JP2009503511A (ja) * | 2005-07-26 | 2009-01-29 | ジーエスアイ・グループ・コーポレーション | 調波成分を抑制するための傾斜光学検出素子を有する光学エンコーダ |
| JP2011527435A (ja) * | 2008-07-07 | 2011-10-27 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | レーザ自己混合測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0735346A3 (de) | 1998-08-05 |
| JP3121539B2 (ja) | 2001-01-09 |
| ATE201763T1 (de) | 2001-06-15 |
| DE59606976D1 (de) | 2001-07-05 |
| DE19511068A1 (de) | 1996-09-26 |
| EP0735346B1 (de) | 2001-05-30 |
| EP0735346A2 (de) | 1996-10-02 |
| US5994692A (en) | 1999-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08271218A (ja) | 光電位置測定装置 | |
| JP2501714B2 (ja) | 干渉位置測定装置 | |
| JP6161240B2 (ja) | 変位センサ | |
| US7348546B2 (en) | Position measuring system with a scanning unit having a reference pulse signal detection unit | |
| US6198534B1 (en) | Scanning unit for an optical position measuring system | |
| JP5100266B2 (ja) | エンコーダ | |
| EP0748436B1 (en) | Opto-electronic scale reading apparatus | |
| JPH0827171B2 (ja) | 光学装置 | |
| US20090195792A1 (en) | Optical position measuring arrangement | |
| EP1795873B1 (en) | Photoelectric Encoder | |
| JP2818800B2 (ja) | 位置に依存する信号を発生する装置 | |
| US9733069B2 (en) | Optical position-measuring device | |
| US7404259B2 (en) | Optical position measuring instrument | |
| JP3641316B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| US7973941B2 (en) | Reference signal generating configuration for an interferometric miniature grating encoder readhead using fiber optic receiver channels | |
| JP2017223674A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JP2000230803A (ja) | 光学的位置測定装置 | |
| JP5154072B2 (ja) | 光電式エンコーダ | |
| JPH06174424A (ja) | 測長または測角装置 | |
| JPH09126818A (ja) | 光電測長または測角装置 | |
| JP2503561B2 (ja) | レ―ザ―干渉式エンコ―ダ | |
| JP7522671B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JP4576013B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JP7523866B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| US20070177157A1 (en) | Optical readhead |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000905 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071020 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081020 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121020 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131020 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |