JPH0825864B2 - 柴外線吸収剤 - Google Patents
柴外線吸収剤Info
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- JPH0825864B2 JPH0825864B2 JP31826488A JP31826488A JPH0825864B2 JP H0825864 B2 JPH0825864 B2 JP H0825864B2 JP 31826488 A JP31826488 A JP 31826488A JP 31826488 A JP31826488 A JP 31826488A JP H0825864 B2 JPH0825864 B2 JP H0825864B2
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/4973—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with oxygen as the only hetero atom
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、フラノン誘導体を含む紫外線吸収剤に関す
る。
る。
更に詳しくは、本発明は、下記式（１） 式中、Ｒは水素原子、OR1、NH2、N(R1)2からなる群よ
り選ばれた基を示し、R1は炭素数１〜４のアルキル基を
示す、 で表されるフラノン誘導体を、例えば、日焼け止め化粧
料あるいは各種プラスチック材料などに配合して、紫外
線を有効に遮断することのできる紫外線吸収剤、特にUV
−Ａ波長域の紫外線吸収剤に関する。
り選ばれた基を示し、R1は炭素数１〜４のアルキル基を
示す、 で表されるフラノン誘導体を、例えば、日焼け止め化粧
料あるいは各種プラスチック材料などに配合して、紫外
線を有効に遮断することのできる紫外線吸収剤、特にUV
−Ａ波長域の紫外線吸収剤に関する。
（従来の技術） 人間にとって、過度の紫外線は、皮膚の急性皮膚炎を
引き起こしたり、長期暴露により皮膚の早期老化や皮膚
癌の一因となりうることも報告されている。
引き起こしたり、長期暴露により皮膚の早期老化や皮膚
癌の一因となりうることも報告されている。
一般に、この紫外線は、３つの帯域に分けられてい
る。すなわち、サンタン波長と云われる皮膚のメラニン
生成を促し、褐色化を生じせしめる320〜400nmの長波長
の紫外線（UV−Ａ）、サンバーン波長と云われる皮膚の
紅斑、水泡などの炎症を引き起こす280〜320nmの紫外線
（UV−Ｂ）、及び大気中で吸収され、地表には、ほとん
ど到達せず、人体にとって問題とならない240〜280nmの
低波長の紫外線（UV−Ｃ）である。
る。すなわち、サンタン波長と云われる皮膚のメラニン
生成を促し、褐色化を生じせしめる320〜400nmの長波長
の紫外線（UV−Ａ）、サンバーン波長と云われる皮膚の
紅斑、水泡などの炎症を引き起こす280〜320nmの紫外線
（UV−Ｂ）、及び大気中で吸収され、地表には、ほとん
ど到達せず、人体にとって問題とならない240〜280nmの
低波長の紫外線（UV−Ｃ）である。
通常、この人体にとって有害となる紫外線から、皮膚
を保護する目的のために、日焼け化粧料や日焼け止め化
粧料が用いられる。日焼け化粧料は、サンバーン波長の
紫外線を阻止し、紅斑、水泡などの炎症を防止し、しか
も健康的な日焼けを要求する場合使用されるものであ
る。一方、日焼け止め化粧料は、サンバーンおよびサン
タン波長の紫外線をも阻止し、広域にわたって紫外線か
ら皮膚を保護するものである。
を保護する目的のために、日焼け化粧料や日焼け止め化
粧料が用いられる。日焼け化粧料は、サンバーン波長の
紫外線を阻止し、紅斑、水泡などの炎症を防止し、しか
も健康的な日焼けを要求する場合使用されるものであ
る。一方、日焼け止め化粧料は、サンバーンおよびサン
タン波長の紫外線をも阻止し、広域にわたって紫外線か
ら皮膚を保護するものである。
上述のように紫外線から皮膚を保護するためには、UV
−ＢだけでなくUV−Ａからも皮膚を保護することが重要
になる。しかしながら、UV−Ａ波長域の紫外線吸収剤
は、例えば、Ｎ−（ｐ−ジアルキルアミノ桂皮酸）−ｐ
−アミノ安息香酸エチル（特公昭52-35738号）、紫外Ａ
線フィルターとして４−（1,1−ジメチルエチル）−４
−メトキシジベンゾイルメタンを含有する皮膚許容性に
優れ安定性のある化粧用遮蔽剤（特開昭55-66535号）、
４−メトキシ−４−メチル分枝イソステアロイルオキシ
カルコンのごときカルコン誘導体を含有する紫外線吸収
剤（特開昭60-109544）、パラ・ジアルキルアミノ桂皮
酸桂皮エステルなど（特公昭52-31021号）があるが、そ
の数はUV−Ｂ吸収剤と比較して極めて少ない。
−ＢだけでなくUV−Ａからも皮膚を保護することが重要
になる。しかしながら、UV−Ａ波長域の紫外線吸収剤
は、例えば、Ｎ−（ｐ−ジアルキルアミノ桂皮酸）−ｐ
−アミノ安息香酸エチル（特公昭52-35738号）、紫外Ａ
線フィルターとして４−（1,1−ジメチルエチル）−４
−メトキシジベンゾイルメタンを含有する皮膚許容性に
優れ安定性のある化粧用遮蔽剤（特開昭55-66535号）、
４−メトキシ−４−メチル分枝イソステアロイルオキシ
カルコンのごときカルコン誘導体を含有する紫外線吸収
剤（特開昭60-109544）、パラ・ジアルキルアミノ桂皮
酸桂皮エステルなど（特公昭52-31021号）があるが、そ
の数はUV−Ｂ吸収剤と比較して極めて少ない。
（発明が解決しようとする課題） 上述のように、UV−Ａ領域の紫外線吸収剤は数少な
く、これらのほとんどがベンゾフエノン系、安息香酸
系、ケイ皮酸系である。
く、これらのほとんどがベンゾフエノン系、安息香酸
系、ケイ皮酸系である。
そこで本発明者らは、上記系統以外の化合物について
紫外線吸収能を有する化合物について鋭意研究を進めた
結果、従来全く紫外線吸収剤として使用されたことのな
い本発明の前記式（１）のフラノン誘導体が、優れた紫
外線吸収能を示し、特にUV−Ａ波長領域における吸光度
係数が大きく、化粧料用の各種基材及び有機溶剤などに
対する溶解性、混和性、相溶性にすぐれ、皮膚に対する
毒性および刺激性がなく、熱、光に対する安定性も高
く、また各種化粧品基材および添加物に対する安定性も
よく、さらに各種プラスチック基材に配合した場合も優
れた紫外線吸収能のあることを見出し、本発明を完了し
た。
紫外線吸収能を有する化合物について鋭意研究を進めた
結果、従来全く紫外線吸収剤として使用されたことのな
い本発明の前記式（１）のフラノン誘導体が、優れた紫
外線吸収能を示し、特にUV−Ａ波長領域における吸光度
係数が大きく、化粧料用の各種基材及び有機溶剤などに
対する溶解性、混和性、相溶性にすぐれ、皮膚に対する
毒性および刺激性がなく、熱、光に対する安定性も高
く、また各種化粧品基材および添加物に対する安定性も
よく、さらに各種プラスチック基材に配合した場合も優
れた紫外線吸収能のあることを見出し、本発明を完了し
た。
従って、本発明の目的は、特にUV−Ａ波長領域の紫外
線を有効に吸収することのできる紫外線吸収剤であり、
化粧料、プラスチック材料などに対して、有効なUV−Ａ
波長領域紫外線吸収剤を提供するにある。
線を有効に吸収することのできる紫外線吸収剤であり、
化粧料、プラスチック材料などに対して、有効なUV−Ａ
波長領域紫外線吸収剤を提供するにある。
（課題を解決するための手段） 本発明の紫外線吸収剤は、下記式（１） 式中、Ｒは水素原子、OR1、NH2、N(R1)2からなる群よ
り選ばれた 基を示し、R1は炭素数１〜４、好ましくは炭素数１〜４
のアルキル基を示す、 で表されるフノン誘導体を有効成分として含有せしめる
ことを特徴とするものである。
り選ばれた 基を示し、R1は炭素数１〜４、好ましくは炭素数１〜４
のアルキル基を示す、 で表されるフノン誘導体を有効成分として含有せしめる
ことを特徴とするものである。
前記一般式（１）の化合物に包含される2,2−ジメチ
ル−５−フェニル−２−（Ｈ−３−フラノン（Ｒが水素
原子の場合、以下、ブラテノンという）は、Lophomyrtu
s bullataの精油の一成分として含有され、例えば、本
願出願人による特願昭62-23995号に提案した方法により
容易に合成できる。
ル−５−フェニル−２−（Ｈ−３−フラノン（Ｒが水素
原子の場合、以下、ブラテノンという）は、Lophomyrtu
s bullataの精油の一成分として含有され、例えば、本
願出願人による特願昭62-23995号に提案した方法により
容易に合成できる。
また、前記式（１）において、ＲがOMeである2,2−ジ
メチル−５−（ｐ−メトキシフエニル）−２（Ｈ）−フ
ラノンは、例えば、ｐ−ハロゲン化アニソールと３−メ
チル−１−ブチン−３−オールとから、特願昭62-23395
号に記載される方法と同様に行うことにより容易に合成
される。また、ＲがNH2である2,2−ジメチル−５−（ｐ
−アミノフエニル）−２（Ｈ）−フラノンは、例えば、
ｐ−ハロゲン化アニリンと３−メチル−１−ブチン−３
−オールとから、特願昭62-23395号公報に記載される方
法と同様に行うことにより容易に製造される。また、Ｒ
がN(Me)2である2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルア
ミノフエニル）−２（Ｈ）−フラノンは、例えば、ｐ−
ハロゲン化−N,N−ジメチルアニリンと３−メチル−１
−ブチン−３−オールとから、特願昭62-23995号に記載
される方法により容易に合成される。
メチル−５−（ｐ−メトキシフエニル）−２（Ｈ）−フ
ラノンは、例えば、ｐ−ハロゲン化アニソールと３−メ
チル−１−ブチン−３−オールとから、特願昭62-23395
号に記載される方法と同様に行うことにより容易に合成
される。また、ＲがNH2である2,2−ジメチル−５−（ｐ
−アミノフエニル）−２（Ｈ）−フラノンは、例えば、
ｐ−ハロゲン化アニリンと３−メチル−１−ブチン−３
−オールとから、特願昭62-23395号公報に記載される方
法と同様に行うことにより容易に製造される。また、Ｒ
がN(Me)2である2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルア
ミノフエニル）−２（Ｈ）−フラノンは、例えば、ｐ−
ハロゲン化−N,N−ジメチルアニリンと３−メチル−１
−ブチン−３−オールとから、特願昭62-23995号に記載
される方法により容易に合成される。
その他本発明に属するフラノン誘導体としては、2,2
−ジメチル−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−２
（Ｈ）−フラノン、2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジプロ
ピルアミノフェニル）−２（Ｈ）−フラノン、2,2−ジ
メチル−５−（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−２
（Ｈ）−フラノン、2,2−ジメチル−５−（ｐ−エトキ
シフェニル）−２（Ｈ）−フラノン、2,2−ジメチル−
５−（ｐ−ジプロポキシフェニル）−２（Ｈ）−フラノ
ン、2,2−ジメチル−５−（ｐ−ブトキシフェニル）−
２（Ｈ）−フラノンなどを例示できる。
−ジメチル−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−２
（Ｈ）−フラノン、2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジプロ
ピルアミノフェニル）−２（Ｈ）−フラノン、2,2−ジ
メチル−５−（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−２
（Ｈ）−フラノン、2,2−ジメチル−５−（ｐ−エトキ
シフェニル）−２（Ｈ）−フラノン、2,2−ジメチル−
５−（ｐ−ジプロポキシフェニル）−２（Ｈ）−フラノ
ン、2,2−ジメチル−５−（ｐ−ブトキシフェニル）−
２（Ｈ）−フラノンなどを例示できる。
本発明の前記式（１）のフラノン誘導体は、第１図〜
第４図に例示するように、305〜390nm付近にその最大吸
収値を有し、そのモル吸光係数も大きく、しかも可視部
（400nm以上）の波長領域の吸収が小さいという顕著な
特性を有している。また、本発明の前記式（１）のフラ
ノン誘導体に包含される化合物を適宜に混合して使用す
ることもでき、これらは広範囲の紫外線を有効に吸収す
る。
第４図に例示するように、305〜390nm付近にその最大吸
収値を有し、そのモル吸光係数も大きく、しかも可視部
（400nm以上）の波長領域の吸収が小さいという顕著な
特性を有している。また、本発明の前記式（１）のフラ
ノン誘導体に包含される化合物を適宜に混合して使用す
ることもでき、これらは広範囲の紫外線を有効に吸収す
る。
また、前記式（１）の化合物は、特に化粧料に使用さ
れる各種基材および各種有機溶剤などに対する溶解性、
混和性、相溶性などに優れているという特長を有する。
とりわけ、化粧料によく使用される有機溶媒、たとえ
ば、エタノール、イソプロピルアルコール、ラウリルア
ルコール、セタノール、ステアリルアルコール、オレイ
ルアルコール、プロピレングリコール、ミリスチン酸イ
ソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、その他各種の
動物性油および各種の植物性油に対する溶解性が優れて
いる。
れる各種基材および各種有機溶剤などに対する溶解性、
混和性、相溶性などに優れているという特長を有する。
とりわけ、化粧料によく使用される有機溶媒、たとえ
ば、エタノール、イソプロピルアルコール、ラウリルア
ルコール、セタノール、ステアリルアルコール、オレイ
ルアルコール、プロピレングリコール、ミリスチン酸イ
ソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、その他各種の
動物性油および各種の植物性油に対する溶解性が優れて
いる。
本発明の前記式（１）の紫外線吸収剤は、たとえば、
クリーム、乳液、化粧水、パック、洗顔料などの各種化
粧基料、ファンデーション、ほほ紅、口紅、白粉などの
各種メーキヤップ料、整髪料、養毛剤などの各種頭髪化
粧料、石鹸、シャンプー、リンス、美爪料、香水、オー
デコロンその他化粧料などの公知の各種化粧基材などに
配合することができる。また、上記各種化粧料には、溶
液、エマルジョン、軟膏、オイル、ワックス、ゲル、ゾ
ル、パウダー、スプレーなどの各種形状で適用すること
ができる。これらの紫外線吸収剤は、日焼け防止用の各
種の化粧料および紫外線による前記化粧料自体の変質、
変化防止用として使用することができる。また、該紫外
線吸収剤は、皮膚に対する毒性および刺激性がなく、
熱、光に対する安定性が高く、さらには各種化粧基材お
よび化粧料添加剤などを変化せしめることがないという
卓越した特性をも有している。
クリーム、乳液、化粧水、パック、洗顔料などの各種化
粧基料、ファンデーション、ほほ紅、口紅、白粉などの
各種メーキヤップ料、整髪料、養毛剤などの各種頭髪化
粧料、石鹸、シャンプー、リンス、美爪料、香水、オー
デコロンその他化粧料などの公知の各種化粧基材などに
配合することができる。また、上記各種化粧料には、溶
液、エマルジョン、軟膏、オイル、ワックス、ゲル、ゾ
ル、パウダー、スプレーなどの各種形状で適用すること
ができる。これらの紫外線吸収剤は、日焼け防止用の各
種の化粧料および紫外線による前記化粧料自体の変質、
変化防止用として使用することができる。また、該紫外
線吸収剤は、皮膚に対する毒性および刺激性がなく、
熱、光に対する安定性が高く、さらには各種化粧基材お
よび化粧料添加剤などを変化せしめることがないという
卓越した特性をも有している。
本発明の前記式（１）の紫外線吸収剤の配合量は、配
合する組成物の使用形態ににより適宜選択すればよく、
特に限定されるものてはないが、通常、組成物中に0.01
〜30重量％程度、好ましくは0.1〜10重量％程度の範囲
で配合されるのが望ましい。
合する組成物の使用形態ににより適宜選択すればよく、
特に限定されるものてはないが、通常、組成物中に0.01
〜30重量％程度、好ましくは0.1〜10重量％程度の範囲
で配合されるのが望ましい。
また、本発明の紫外線吸収剤は、各種化粧基材などに
前記式（１）の化合物のみを単独で配合してもよく、ま
た複数配合することもでき、更には、公知の各種UV−Ａ
吸収剤およびUV−Ｂ吸収剤などと組み合わせて使用する
こともできる。このような他の紫外線吸収剤と組み合わ
せて使用した場合にも、優れた相乗効果を発揮すること
ができる。さらにまた、本発明にかかる紫外線吸収剤
は、各種界面活性剤、溶剤、色素、香料、防腐剤、抗酸
化剤、保湿剤、ビタミン、動植物抽出物などその他の各
種添加剤とも併用することができる。なお、本発明の紫
外線吸収剤は、前記化合物（１）の特性たとえば各種有
機溶媒などに対する優れた相溶性などに基ずき、前記の
化粧料に限らず他の用途たとえば、各種塗料、インクお
よびプラスチック材料、プラスチックフィルムその他の
有機高分子材料、有機高分子膜（特に包装材料、容器な
どの技術分野において顕著である）などその他の各種技
術分野に適用して、その優れた紫外線吸収効果および紫
外線による老化の防止効果など卓越した効果を発揮する
ことができる。
前記式（１）の化合物のみを単独で配合してもよく、ま
た複数配合することもでき、更には、公知の各種UV−Ａ
吸収剤およびUV−Ｂ吸収剤などと組み合わせて使用する
こともできる。このような他の紫外線吸収剤と組み合わ
せて使用した場合にも、優れた相乗効果を発揮すること
ができる。さらにまた、本発明にかかる紫外線吸収剤
は、各種界面活性剤、溶剤、色素、香料、防腐剤、抗酸
化剤、保湿剤、ビタミン、動植物抽出物などその他の各
種添加剤とも併用することができる。なお、本発明の紫
外線吸収剤は、前記化合物（１）の特性たとえば各種有
機溶媒などに対する優れた相溶性などに基ずき、前記の
化粧料に限らず他の用途たとえば、各種塗料、インクお
よびプラスチック材料、プラスチックフィルムその他の
有機高分子材料、有機高分子膜（特に包装材料、容器な
どの技術分野において顕著である）などその他の各種技
術分野に適用して、その優れた紫外線吸収効果および紫
外線による老化の防止効果など卓越した効果を発揮する
ことができる。
（実施例および参考例） 参考例１ ブラテノン合成（Ｒが水素原子の場合）。
ヨードベンゼン61.2g（0.3モル）、３−メチル−１−
ブチン−３−オール25.2g（0.3モル）、ビストリフェニ
ルホスフイノコバルトジクロリド3.9gおよびトリエチル
アミン262mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸化炭素
及び一酸化炭素の各々20kg/cm2の加圧下に加熱撹拌する
ことにより、ブラテノン10.2gを得た。
ブチン−３−オール25.2g（0.3モル）、ビストリフェニ
ルホスフイノコバルトジクロリド3.9gおよびトリエチル
アミン262mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸化炭素
及び一酸化炭素の各々20kg/cm2の加圧下に加熱撹拌する
ことにより、ブラテノン10.2gを得た。
NMR（60MHz,CDCl3） δ1.42（6H,S），δ5.90（1H,S），δ7.18〜7.84（5H,
m）。
m）。
なお、第１図はブラテノンの紫外線吸収スペクトルを示
す。
す。
参考例２ 2,2−ジメチル−５−（ｐ−メトシフエニル）−２
（Ｈ）−フラノンの合成（ＲがOCH3の場合）。
（Ｈ）−フラノンの合成（ＲがOCH3の場合）。
ｐ−ヨードアニソール46.8g（0.2モル）、３−メチル
−１−ブテン−３−オール16.8g（0.2モル）、ビストリ
フェニルホスフィノコバルトジクロリド2.6gおよびトリ
エチルアミン175mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸
化炭素と一酸化炭素の各々20kg/cm2の加圧下に加熱撹拌
することによ、標記化合物を8.9gを得た。
−１−ブテン−３−オール16.8g（0.2モル）、ビストリ
フェニルホスフィノコバルトジクロリド2.6gおよびトリ
エチルアミン175mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸
化炭素と一酸化炭素の各々20kg/cm2の加圧下に加熱撹拌
することによ、標記化合物を8.9gを得た。
NMR（90MHz,CDCl3） δ1.48（6H,S），δ3.87（3H,S），δ5.84（1H,S），δ
6.97（2H,d,J＝9Hz），δ7.78（2H,d,J＝9Hz）． なお、第２図は2,2−ジメチル−５−（ｐ−メトキシフ
エニル）−２（Ｈ）−フラノンの紫外線吸収スペクトル
を示す。
6.97（2H,d,J＝9Hz），δ7.78（2H,d,J＝9Hz）． なお、第２図は2,2−ジメチル−５−（ｐ−メトキシフ
エニル）−２（Ｈ）−フラノンの紫外線吸収スペクトル
を示す。
参考例３ 2,2−ジメチル−５−（ｐ−アミノフエニル）−２
（Ｈ）−フラノンの合成（ＲがNH2の場合）。
（Ｈ）−フラノンの合成（ＲがNH2の場合）。
Ｐ−ヨードアニリン43.8g（0.2モル）、３−メチル−
１−ブチン−３−オール16.8g（0.2モル）、ビストリフ
ェニルホスフィノコバルトジクロリド2.6gおよびトリエ
チルアミン175mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸化
炭素と一酸化炭素の各々20kg/cm2の加圧下に加熱撹拌し
て反応した。標記化合物11.3gを得た。
１−ブチン−３−オール16.8g（0.2モル）、ビストリフ
ェニルホスフィノコバルトジクロリド2.6gおよびトリエ
チルアミン175mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸化
炭素と一酸化炭素の各々20kg/cm2の加圧下に加熱撹拌し
て反応した。標記化合物11.3gを得た。
NMR（90MHz,CDCl3） δ1.46（6H,S）、δ4.31（2H,broad singlets）、5.76
（1H,S）、6.69（2H,d,J＝9Hz）、7.63（2H,d,J＝9H
z）。
（1H,S）、6.69（2H,d,J＝9Hz）、7.63（2H,d,J＝9H
z）。
なお、第３図は2,2−ジメチル−５−（ｐ−アミノフエ
ニル）−２（Ｈ）−フラノンの紫外線吸収スペクトルを
示す。
ニル）−２（Ｈ）−フラノンの紫外線吸収スペクトルを
示す。
参考例４ 2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルアミノフエニ
ル）−２（Ｈ）−フラノンの合成［ＲがN(Me)2の場
合］。
ル）−２（Ｈ）−フラノンの合成［ＲがN(Me)2の場
合］。
ｐ−ヨード−N,N−ジメチルアニリン0.2モル、３−メ
チル−１−ブチン−３−オール0.2モル、ビストリフェ
ニルホスフィノコバルトジクロリド2.6gおよびトリエチ
ルアミン175mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸化炭
素と一酸化炭素の各々20g/cm2の加圧下に加熱撹拌して
反応した。標記化合物13.5gを得たNMR（90MHz、CDCl3） δ1.46（6H,S）、3.00（2H,S）、5.80（1H,S）、6.88
（2H,d,J＝9Hz）、7.82（2H,d,J＝9Hz）。なお、第４図
は2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルアミノフエニ
ル）−２（Ｈ）−フラノンの紫外線スペクトルを示す。
チル−１−ブチン−３−オール0.2モル、ビストリフェ
ニルホスフィノコバルトジクロリド2.6gおよびトリエチ
ルアミン175mlをオートクレーブ中に仕込み、二酸化炭
素と一酸化炭素の各々20g/cm2の加圧下に加熱撹拌して
反応した。標記化合物13.5gを得たNMR（90MHz、CDCl3） δ1.46（6H,S）、3.00（2H,S）、5.80（1H,S）、6.88
（2H,d,J＝9Hz）、7.82（2H,d,J＝9Hz）。なお、第４図
は2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルアミノフエニ
ル）−２（Ｈ）−フラノンの紫外線スペクトルを示す。
実施例１ 日焼け止め化粧料 （処方）Ａ成分 重量％ ブレタノン 4.0 ステアリン酸 3.5 セタノール 2.0 ミツロウ 3.5 流動パラフインオイル 12.0 メチルフエニルシリコーン 4.0 オリーブ油 14.0 ポリオキシエチレンソルビタンモノ 0.5 スタアレート ブチルパラベン 0.05 香料 0.2 Ｂ成分 プロピレングリコール 10.0 トリエタノールアミン 1.0 ホウ砂 0.5 メチルパラベン 0.05 酸化チタン 2.0 非イオン水 残量 100.00 （製法） 1.香料以外のＡ成分を混合し、加熱溶解し均一分散し
た。
た。
2.B成分を混合し、加熱溶解した。
3.A成分にＢ成分を加え、撹拌しながら乳化し冷却し
た。
た。
4.冷却途中で香料を加え、よくかきまぜた。
5.容器に充填して製品とした。
実施例２ サンスクリーンケーキフアンデーション （処方）Ａ成分 重量％ 2,2−ジメチル−５−（ｐ−メトキシフエニル）−２
（Ｈ）−フラノン 3.0 UV−Ｂ吸収剤 2.0 タルク 50.0 セリサイト 17.0 酸化チタン 1.0 カオリン 11.0 着色顔料 適量Ｂ成分 イソステアリン酸 3.5 エステルガム 1.5 セスキオレイン酸ソルビタン 0.8 流動パラフイン 2.6 オクチルドデカノール 3.3 ミリスチン酸オクチルドデシル 1.5 メチルパラベン 0.1 ブチルパラベン 0.1Ｃ成分 香料 0.2 100.0 （製法） 1.A成分をヘンシェルミキサーで混合処理した後、Ｂ成
分を加え再びヘンシェルミキサーで混合処理を行った。
（Ｈ）−フラノン 3.0 UV−Ｂ吸収剤 2.0 タルク 50.0 セリサイト 17.0 酸化チタン 1.0 カオリン 11.0 着色顔料 適量Ｂ成分 イソステアリン酸 3.5 エステルガム 1.5 セスキオレイン酸ソルビタン 0.8 流動パラフイン 2.6 オクチルドデカノール 3.3 ミリスチン酸オクチルドデシル 1.5 メチルパラベン 0.1 ブチルパラベン 0.1Ｃ成分 香料 0.2 100.0 （製法） 1.A成分をヘンシェルミキサーで混合処理した後、Ｂ成
分を加え再びヘンシェルミキサーで混合処理を行った。
2.上記にＣ成分を加え、混合処理と調色を行った後、ア
トマイザーで粉砕処理を行った。
トマイザーで粉砕処理を行った。
3.この粉末を金属皿に盛り、プレス機で加圧成型した。
実施例３ 日焼け止めクリーム （処方）Ａ成分 重量％ 2,2−ジメチル−５−（ｐ−アミノフエニル）−２
（Ｈ）−フラノン 2.0 UV−Ｂ吸収剤 2.0 セレシン 7.0 流動パラフイン 33.0 ミリスチン酸オクチルドデカニル 20.0 オレイルアルコール 12.0 ゴマ油 10.0 酸化防止剤 適量Ｂ成分 酸化チタン 6.0 タルク 9.0 顔料 適量Ｃ成分 香料 適量 （製法） Ａ成分を加熱溶解し均一に混合する。冷却後、（Ｂ）
および（Ｃ）成分を加えてロールミルで処理後、容器に
充填し日焼け止めクリームを調製した。
（Ｈ）−フラノン 2.0 UV−Ｂ吸収剤 2.0 セレシン 7.0 流動パラフイン 33.0 ミリスチン酸オクチルドデカニル 20.0 オレイルアルコール 12.0 ゴマ油 10.0 酸化防止剤 適量Ｂ成分 酸化チタン 6.0 タルク 9.0 顔料 適量Ｃ成分 香料 適量 （製法） Ａ成分を加熱溶解し均一に混合する。冷却後、（Ｂ）
および（Ｃ）成分を加えてロールミルで処理後、容器に
充填し日焼け止めクリームを調製した。
実施例４ 日焼け止めクリーム （処方）Ａ成分 重量％ 2,2−ジメチル−５−（ジメチルアミノフエニル）−２
（Ｈ）−フラノン 2.0 UV−Ｂ吸収剤 4.0 流動パラフイン 38.0 セタノール 1.5 ミツロウ 6.0 ステアリン酸ポリオキシエチレンセチル 1.5 エーテル モノステアリン酸ソルビタン 2.5 防腐剤 適量 酸化防止剤 適量Ｂ成分 10％カセイソーダ 1.0 精製水 31.5Ｃ成分 グリセリン 6.0 酸化チタン 5.0Ｄ成分 香料 適量 （製法） Ａ成分を加熱溶解し、80度に加熱する。一方Ｂ成分を
加熱溶解し、75度に加熱し、このＢ成分をＡ成分に加え
て乳化し、60℃でＤ成分を加え、最後に50℃でＣ成分を
加え、30℃まで冷却した。
（Ｈ）−フラノン 2.0 UV−Ｂ吸収剤 4.0 流動パラフイン 38.0 セタノール 1.5 ミツロウ 6.0 ステアリン酸ポリオキシエチレンセチル 1.5 エーテル モノステアリン酸ソルビタン 2.5 防腐剤 適量 酸化防止剤 適量Ｂ成分 10％カセイソーダ 1.0 精製水 31.5Ｃ成分 グリセリン 6.0 酸化チタン 5.0Ｄ成分 香料 適量 （製法） Ａ成分を加熱溶解し、80度に加熱する。一方Ｂ成分を
加熱溶解し、75度に加熱し、このＢ成分をＡ成分に加え
て乳化し、60℃でＤ成分を加え、最後に50℃でＣ成分を
加え、30℃まで冷却した。
（発明の効果） 本発明の前記式（１）のフラノン誘導体は、従来、全
く使用されたことのない新規な紫外線吸収剤であり、優
れた紫外線吸収能を示し、特にUV−Ａ波長領域における
吸光度係数が大きく、化粧料用の各種基材及び有機溶剤
などに対する溶解性、混和性、相溶性にすぐれ、皮膚に
対する毒性および刺激性がなく、熱、光に対する安定性
も高く、また各種化粧品基材および添加物に対する安定
性も高いという卓越した特性を有し、日焼け止め化粧料
として、また、各種プラスチック材料などに適用して、
その優れた紫外線吸収効果および紫外線による老化の防
止効果など優れた効果を発揮できる。
く使用されたことのない新規な紫外線吸収剤であり、優
れた紫外線吸収能を示し、特にUV−Ａ波長領域における
吸光度係数が大きく、化粧料用の各種基材及び有機溶剤
などに対する溶解性、混和性、相溶性にすぐれ、皮膚に
対する毒性および刺激性がなく、熱、光に対する安定性
も高く、また各種化粧品基材および添加物に対する安定
性も高いという卓越した特性を有し、日焼け止め化粧料
として、また、各種プラスチック材料などに適用して、
その優れた紫外線吸収効果および紫外線による老化の防
止効果など優れた効果を発揮できる。
第１図は、ブラテノン（Ｒが水素原子の場合）の紫外線
吸収スペクトル、第２図は、2,2−ジメチル−５−（ｐ
−メトキシフエニル）−２（Ｈ）−フラノン（ＲがOMe
の場合）の紫外線吸収スペクトル、第３図は、2,2−ジ
メチル−５−（ｐ−アミノフエニル）−２（Ｈ）−フラ
ノン（ＲがNH2の場合）の紫外線吸収スペクトル、第４
図は、2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルアミノフエ
ニル）−２（Ｈ）−フラノン［ＲがN(Me)2の場合］の紫
外線スペクトルを示す。
吸収スペクトル、第２図は、2,2−ジメチル−５−（ｐ
−メトキシフエニル）−２（Ｈ）−フラノン（ＲがOMe
の場合）の紫外線吸収スペクトル、第３図は、2,2−ジ
メチル−５−（ｐ−アミノフエニル）−２（Ｈ）−フラ
ノン（ＲがNH2の場合）の紫外線吸収スペクトル、第４
図は、2,2−ジメチル−５−（ｐ−ジメチルアミノフエ
ニル）−２（Ｈ）−フラノン［ＲがN(Me)2の場合］の紫
外線スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【請求項１】下記式（１） 式中、Ｒは水素原子、OR1、NH2、N(R1)2からなる群より
選ばれた基を示し、R1は炭素数１〜４のアルキル基を示
す、 で表されるフラノン誘導体を含む紫外線吸収剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31826488A JPH0825864B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 柴外線吸収剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31826488A JPH0825864B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 柴外線吸収剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02164817A JPH02164817A (ja) | 1990-06-25 |
| JPH0825864B2 true JPH0825864B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=18097259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31826488A Expired - Fee Related JPH0825864B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 柴外線吸収剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0825864B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU767811B2 (en) * | 1999-04-14 | 2003-11-27 | Pacific Corporation | 4,5-diaryl-3(2H)-furanone derivatives as cyclooxygenase-2 inhibitors |
| JP4641772B2 (ja) * | 2003-10-23 | 2011-03-02 | 長谷川香料株式会社 | フラノンの製造方法 |
| JP2013177356A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-09 | Shiseido Co Ltd | 紫外線曝露によって促進される血管新生を抑制するための組成物 |
| CN112663337B (zh) * | 2020-12-09 | 2022-10-11 | 安徽省吉祥纺织工程先进技术研究院 | 生态有机彩棉机织物的后整理工艺 |
-
1988
- 1988-12-16 JP JP31826488A patent/JPH0825864B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02164817A (ja) | 1990-06-25 |
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