JPH0825736B2 - 籾殻を原料とする非晶質シリカの製造方法 - Google Patents
籾殻を原料とする非晶質シリカの製造方法Info
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- JPH0825736B2 JPH0825736B2 JP35229293A JP35229293A JPH0825736B2 JP H0825736 B2 JPH0825736 B2 JP H0825736B2 JP 35229293 A JP35229293 A JP 35229293A JP 35229293 A JP35229293 A JP 35229293A JP H0825736 B2 JPH0825736 B2 JP H0825736B2
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Description
を製造する方法、殊に籾殻を焼成することにより、高品
質の非晶質シリカを連続的に製造する方法に関する。
造する場合、低温,短時間で焼成しないと籾殻灰が結晶
化してしまい、ポゾラン活性が小さくなる。そこで特公
平1−21108号公報には、流動床燃焼により籾殻を
燃焼せしめるに際し、該流動床燃焼炉の温度を650℃
〜920℃となし、しかもこの籾殻の炉内滞留時間はで
きる限り短くすることを特徴とする籾殻の流動床燃焼方
法が開示されている。
1−21108号公報の発明により製造された非晶質シ
リカ(籾殻灰)は、その非晶質率が大きく、且つポゾラ
ン活性が高いが、未燃炭素が多く残留するといった問題
点がある。そして、この籾殻灰をコンクリートに混和し
た場合、この未燃炭素はAE剤・減水剤等の化学混和剤
を吸着し、コンクリートに悪影響を及ぼすことになる。
及び時間で籾殻を焼成することにより、非晶質率が大き
く、しかも未燃炭素が少ないものを製造する方法も考え
られるが、この方法は非連続的であり、生産性が劣ると
いった欠点がある。
な従来の問題点を解決するためになされたもので、非晶
質率が大きく、しかも未燃炭素が少ない非晶質シリカを
製造する方法を提供することを目的としたものであり、
その要旨は、籾殻を流動床燃焼炉で第1次焼成するとゝ
もに、この籾殻灰をさらに外熱式回転炉で第2次焼成す
ることを特徴とする籾殻を原料とする非晶質シリカの製
造方法にある。
より詳細に説明する。なお、図1は本発明に係る製造方
法を示すブロック図で、図2は640℃で第1次焼成を
施した籾殻灰のX線回折図、図3は本発明に係る640
℃での第1次焼成及び炉内温度850℃±50℃で第2
次焼成を施した籾殻灰のX線回折図、図4は700℃で
第1次焼成を施した籾殻灰のX線回折図、図5は本発明
に係る700℃での第1次焼成及び炉内温度850℃±
50℃での第2次焼成を施した籾殻灰のX線回折図であ
り、図6は従来法による流動床炉焼成(800℃)によ
る籾殻灰のX線回折図である。
れを流動床燃焼炉2内に投入し、640℃〜800℃の
温度で、4〜10秒間第1次焼成を行う。この場合、8
00℃以上の温度で焼成するとシリカが結晶化するの
で、出来るだけ低い温度で焼成することが必要である。
そして、この第1次焼成により得られた籾殻灰3を、再
びロータリーキルン等の外熱式回転炉4内に投入し、第
2次焼成を行う。
0℃〜950℃に保持されており、1次焼成された前記
籾殻灰3は、この外熱式回転炉4内で8分〜15分間焼
成するが、この第2次焼成により、未燃炭素が少なく、
且つポゾラン反応性の高い非晶質の籾殻灰(非晶質シリ
カ)5を得ることができる。
式回転炉4で焼成する必要があり、これにより未燃炭素
が少ない非晶質の籾殻灰を得ることができる。すなわ
ち、これを燃焼炉で焼成すると、燃焼によって炉内の酸
素量が減少してしまい、未燃炭素が多く残留してしまう
ことになるので、これを防止することができる。
て、籾殻1を640℃及び700℃でそれぞれ焼成し、
第2次焼成を行なう前の籾殻灰3と、炉内温度850℃
±50℃で第2次焼成を行った後の籾殻灰5の強熱減量
を示す。すなわち、強熱減量とは、試料を750℃で長
時間(本試験では10時間)加熱した時の減量(加熱前
の質量−加熱後の質量)を加熱前の質量で除した値であ
り、この数値が大きいほど籾殻灰中の未燃炭素が多いこ
とを示すものである。
して籾殻1を640℃で、また図6は、800℃で夫々
焼成し、炉内温度850℃±50℃で第2次焼成を行っ
た後の籾殻灰5のX線回折図である。このX線回折図に
おいて、解析角が21度〜22度に現れるピークが小さ
いものほど非晶質率が大きいことを示す。
かなように、籾殻灰Iを第1次焼成により焼成した籾殻
灰3を、更に外熱式回転炉2で第2次焼成を行うことに
よって、籾殻灰(非晶質シリカ)5中の未燃炭素は著し
く小さくなるももの、非晶質率はほとんど変化してない
ことが判る。なお、前記籾殻灰3及び籾殻灰(非晶質シ
リカ)5の特性は表2に示すとおりであった。
験例を、表3に基づき説明すると、流動床燃焼炉2によ
り700℃で第1次焼成した籾殻灰3と、更にその籾殻
灰3をロータリーキルン4で第2次焼成した籾殻灰5
を、夫々セメント質量の5%と置換し、水,骨材,混和
剤と共に練り混ぜ、得られた成形体を80℃で6時間養
生した後、20℃で7日湿空養生したところ、籾殻灰5
を混入した配合例M2の成形体は、曲げ強度が115kg
/cm2 ,圧縮強度が742kg/cm2 であった。一、籾殻
灰3を混入した配合例M1のものは、曲げ強度が112
kg/cm2 ,圧縮強度は697kg/cm2 に止まった。な
お、比較のため、籾殻灰を混入しない配合例M0の成形
体についても試験したが、籾殻灰5のものより、曲げ強
度,圧縮強度が約10%小さい値に止まった。
リカの製造方法は、上記の如く、籾殻を流動床燃焼炉で
第1次焼成するとゝもに、この籾殻灰をさらに外熱式回
転炉で第2次焼成する構成であるから、非晶質率が高
く、しかも未燃炭素が少ない焼成灰(非晶質シリカ)を
籾殻から連続的に製造することが出来るできるとゝも
に、この焼成灰はセメントの代替材料として使用でき
る、といった諸効果がある。
る。
折図である。
温度850℃±50℃で第2次焼成を施した籾殻灰のX
線回折図である。
折図である。
温度850℃±50℃での第2次焼成を施した籾殻灰の
X線回折図である。
籾殻灰のX線回折図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 籾殻を流動床燃焼炉で第1次焼成すると
ゝもに、この籾殻灰をさらに外熱式回転炉で第2次焼成
することを特徴とする籾殻を原料とする非晶質シリカの
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35229293A JPH0825736B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 籾殻を原料とする非晶質シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35229293A JPH0825736B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 籾殻を原料とする非晶質シリカの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07196312A JPH07196312A (ja) | 1995-08-01 |
JPH0825736B2 true JPH0825736B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=18423073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35229293A Expired - Lifetime JPH0825736B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 籾殻を原料とする非晶質シリカの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0825736B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
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KR20010105118A (ko) * | 2000-05-19 | 2001-11-28 | 최철선 | 왕겨를 사용하여 실리콘을 추출하는 방법 및 추출된실리콘의 정제 방법 |
KR100396457B1 (ko) * | 2001-03-31 | 2003-09-03 | 전학제 | 왕겨로부터 제조되는 다공성 실리카, 다공성 실리카성형체, 나노 크기 실리카 입자의 제조방법 |
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JP2013081912A (ja) * | 2011-10-12 | 2013-05-09 | Sony Corp | 吸着剤及びその製造方法、並びに、水浄化用吸着剤、マスク及び吸着シート |
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JP7058944B2 (ja) | 2017-03-31 | 2022-04-25 | 日揮触媒化成株式会社 | 有機無機複合粒子、及び化粧料 |
CA3063038A1 (en) | 2017-05-31 | 2019-12-03 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Hollow particles and cosmetic |
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-
1993
- 1993-12-28 JP JP35229293A patent/JPH0825736B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07196312A (ja) | 1995-08-01 |
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