JPH08254706A

JPH08254706A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JPH08254706A
Application number: JP4963795A
Authority: JP
Inventors: Teruaki Suzuki; 照晃鈴木; Kenichi Takatori; 憲一高取; Ken Sumiyoshi; 研住吉; Shigeyoshi Suzuki; 成嘉鈴木; Shigeo Shibahara; 栄男芝原; Yoshihiko Hirai; 良彦平井
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1995-01-18
Filing date: 1995-03-09
Publication date: 1996-10-01
Anticipated expiration: 2013-02-16
Also published as: JP2713210B2

Abstract

(57)【要約】【目的】微小な領域ごとに液晶の配向状態の異なる液
晶表示装置において、分割された各領域において液晶配
向が安定し、これによって、ディスクリネーションが画
素開口中にはみ出すことがなく、全面にわたって均一で
良好な表示が得られるようにする。【構成】配向処理区分の境界２２の位置に整合して画
素電極７１に切り込み部７４を設けるか、画素電極の辺
とその辺に沿ったゲートバスライン５５あるいはドレイ
ンバスライン５６との間隔が配向処理区分の境界２２の
両側で異なるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶の配向状態を微小
な領域ごとに異ならせた液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）は、一般に、一
対の対向する基板の間に液晶が挿入された構造を有して
いる。ツイステッドネマチック型の液晶表示装置では、
基板に配向膜が設けられた２枚の基板を使用し、両基板
の外側にはそれぞれ偏光板が配置されている。液晶分子
は、その長手方向が両基板に概ね平行な方向にありなが
ら、一方の基板から他方の基板に向かうにつれてねじれ
るように螺旋状に配向しており、両基板の配向膜表面付
近での液晶分子の配向方向は相互にほぼ直角になってい
る。また、各基板両面付近での液晶分子をプレチルトさ
せることができる。すなわち液晶分子の長手方向が基板
に対して平行から僅かに傾くようにすることができる。
各基板表面付近での液晶分子の配向方向及びプレチルト
の方向は、配向膜の材質及び配向膜に対してのラビング
の方向に従って決定される。各基板表面付近での液晶分
子の配向方向及びプレチルトの方向は、斜方蒸着によっ
て配向膜を形成することによっても制御することができ
る。ここにプレチルトの方向とは、液晶分子の両端部の
方向の内、基板から離れるように立ち上がっている端部
の方向のことである。

【０００３】このようなツイステッドネマチック型の液
晶表示装置では、液晶層に電圧を印加したときには、ね
じれて配向していた液晶分子が基板に垂直な方向に立ち
上がる。そして、この配向状態の変化により入射光の透
過率を変化させることができる。液晶分子が立ち上がる
角度は印加された電圧の大きさによって変化し、この電
圧の大きさを制御することにより、明状態から暗状態ま
での階調表示を行うことができる。最近では、縦横のマ
トリックス状に画素を配置し、各々の画素を能動素子に
よって駆動するタイプの液晶表示装置（いわゆるアクテ
ィブマトリックス型の液晶表示装置：ＡＭ−ＬＣＤ）が
一般に広く普及している。アクティブマトリックス型の
液晶表示装置では、縦横に走る複数本のゲートバスライ
ンとドレインバスラインの交点付近に能動素子が設けら
れており、これらのバスラインで囲まれる領域内に設け
られた透明な画素電極に所望の電圧を印加し、電圧を保
持できるようになっている。また、アクティブマトリッ
クス型の液晶表示装置では、画素に印加した電圧をより
効率的に保持するために、蓄積容量を画素容量と並列に
つなぐということがよく行われる。この時に、画素電極
に接続された蓄積容量端子が、その画素を駆動する能動
素子に接続するゲートバスラインとは異なるゲートバス
ライン上に、絶縁層を介して張り出すように重なるよう
な構成にすれば、電極の層構造を単純化し、工程を簡略
化できる上に、画素開口率を下げることなく、蓄積容量
を設けることができるため、有効な手段である。

【０００４】既に述べたように、ツイステッドネマチッ
ク型の液晶表示装置では、液晶層に印加する電圧を制御
することにより、明状態から暗状態までの階調表示を行
うことができる。しかしながら、画面を見る方向によっ
て各階調の輝度が変化するために、表示を正確に認知で
きる視覚範囲が狭いという問題点がある。すなわち、あ
る方向から見た場合に表示が全体に白っぽくなったり、
その逆方向から見た場合に全体に表示が黒くつぶれた
り、階調の反転が生じたりする。

【０００５】このような視覚による階調特性の変化は、
液晶分子の配向状態の非対称性に起因する。液晶層に電
圧を印加した時の液晶分子の立ち上がる方向はプレチル
トの方向及び、印加された電界の方向によって決定され
る。電界の方向は概ね基板に垂直であるから、液晶分子
は、プレチルトの方向すなわち液晶配向処理の方向に従
って立ち上がることになる。また、液晶分子の立ち上が
る角度は印加された電圧によって変化するので、この電
圧の大きさを制御することにより、上述したような階調
表示を行うことができる。印加電圧による液晶分子の動
きは、両基板の表面付近では小さく、両基板間中央部付
近では大きい。したがって、両基板間中央部付近に存在
する液晶分子の、基板に対する立ち上がりの角度が、主
として表示の明暗に寄与する。この両基板間中央部付近
の液晶分子が基板表面に対してある程度の角度をもって
立ち上がっている状態、すなわち中間階調表示状態で
は、液晶分子の立ち上がっている方向から液晶表示装置
を観察した場合に画面が白っぽく見え、逆の方向から観
察した場合には黒く見えるのである。

【０００６】このような階調特性の視覚依存性の問題を
解決し、広い視野角を確保するために、特公昭５８−４
３７２３号公報は、液晶配向処理方向が相互に異なる領
域が微細なピッチで形成された構造を開示している。特
公昭５８−４８７２３号公報による構造では、微小な領
域ごとに電圧印加時の液晶分子の立ち上がり方向が異な
るので、観察者にはそれぞれの微小な領域の視角特性を
平均化したものが認識されるようになり、結果として、
視角特性の向上が図られる。

【０００７】ところで、液晶分子の立ち上がる方向が異
なる複数の微小な領域を設けた場合、液晶分子の立ち上
がる方向の異なる領域の境界部には、ディスクリネーシ
ョン（ｄｉｓｃｌｉｎａｔｉｏｎ）と呼ばれる配向欠陥
を生じ、コントラストの低下等の問題が生じる。ディス
クリネーションによる画質の劣化を防ぐためには、ディ
スクリネーションの発生位置に整合して遮光部を設ける
ことが必要である。このためには、ディスクリネーショ
ンの発生位置が正確に制御された、安定した液晶配向を
実現する必要がある。しかしながら、液晶分子の立ち上
がる方向は、液晶配向処理による規制力の影響を受ける
とともに、既に述べたようなアクティブマトリックス型
の液晶表示装置の場合であれば、ゲートバスライン及び
ドレインバスラインと画素電極との間の横方向電界の影
響も受けるため、液晶分子の立ち上がる方向ひいてはデ
ィスクリネーションの発生位置を正確に制御するのは容
易ではない。液晶表示装置が高精細化し、それに伴い画
素電極とゲートバスライン及びドレインバスラインとの
間隔が小さくなると、画素電極とゲートバスライン及び
ドレインバスラインの間に生じる横方向電界も大きくな
り、安定して分割された配向を実現するのは一層容易で
はなくなる。このような場合には、ディスクリネーショ
ンが本来の配向処理区分の境界位置からずれて発生した
り発生後に他の位置へ徐々に移動したりして、配向処理
区分の境界位置に整合して設けた遮光部からはみ出し、
画質の劣化が生じる。

【０００８】ディスクリネーションが配向処理区分の境
界位置からずれて発生している時には、リバースチルト
ドメイン、すなわち配向処理方向とは異なる方向に液晶
分子が立ち上がっているドメインが発生している。ある
いは逆に、リバースチルトドメインの発生により、ディ
スクリネーションが所定の位置からずれ、画質の劣化を
もたらすともいいかえることができる。画素電極上の部
位のうち、このようなリバースチルトドメインが発生し
やすい部位は、液晶分子の配向状態の異なる各微小な領
域ごとに、画素電極の各辺や各角部の近傍あるいは画素
電極上に位置するように設定された配向処理区分の境界
の近傍であり、且つ、画素電極やゲートバスラインある
いはドレインバスラインが設けられた基板の表面におけ
る「実質的なプレチルト方向」とは異なる方向に位置す
る部位である。というのも、この部位においては、「実
質的なプレチルト方向」が横方向電界の方向と一致しな
いからである。ここに、基板の表面における「実質的な
プレチルト方向」とは、その基板の表面近傍の液晶分子
の両端部のうち、両基板間中央部付近からその基板の表
面に向かって液晶分子の配向方向をたどったときに、両
基板間中央部付近の液晶分子の両端部のうち電圧印加時
にその基板から離れるように立ち上がる端部に対応する
端部の方向のことである。基板表面における「実質的な
プレチルト方向」は、一般に基板表面でのプレチルト方
向と一致するが、両基板間でプレチルト方向が整合しな
い、いわゆるスプレイ型の液晶配向の場合には一致しな
い場合がある。

【０００９】配向処理区分の境界部において良好な配向
を得るために、特開平５−１７３１４２では、配向処
理区分の境界部に相当する配向膜の部分が、液晶の厚さ
方向に突出または退出した変形形状に形成されている構
成、及び各配向処理区分の液晶がともにゲートバスラ
インのう設けられた基板の近傍においてゲートバスライ
ンに向かってプレチルトするように配置されている構
成、及び画素電極の各々が微小なギャップを介して分
割された分割画素電極からなり、配向処理区分の境界部
をこのギャップに一致するようにした構成を開示してい
る。の変形形状を特徴とする構成では、液晶分子が配
向膜表面の凹凸に沿って配向する傾向が所定の配向を助
けるように作用するものであり、のゲートバスライン
に向かってプレチルトさせることを特徴とする構成で
は、ゲートバスライン周辺の横電界が所定の配向を助け
るように作用するものであり、の分割画素電極を特徴
とする構成では、分割画素電極の間の横方向電界が所定
の配向を助けるように作用するものである。

【００１０】しかしながら、特開平５−１７３１４２に
開示されている構成のうち、の変形形状を特徴とする
構成においては、所定の液晶配向を助けることができる
ような十分な大きさの凹凸を両基板の表面に形成するた
めに、新たな工程を追加しなければならず、コストアッ
プにつながるため好ましくない。凹凸を形成するため
に、既存のゲートバスラインやドレインバスラインを利
用することも可能であるが、この方法は、例えば画素電
極上に設定された配向処理区分の境界には適用できな
い。それだけではなく、凹部あるいは凸部を設けた場合
には、ラビング処理を行うときに凹部あるいは凸部の影
になる部位においてラビング処理がうまく行われず、か
えって配向を不安定にすることがある。

【００１１】また、特開平５−１７３１４２に開示され
ている構成のうち、のゲートバスラインに向かってプ
レチルトさせることを特徴とする構成においても、例え
ば画素電極上に設定された配向処理区分の境界の近傍に
おける液晶配向の安定化は図られない。また、液晶表示
装置がさらに高精細化し、画素電極上の液晶分子がゲー
トバスライン周辺の横方向電界の影響を受けやすくなっ
た場合には、配向が乱れることがある。というのも、ゲ
ートバスラインの直上では、ゲートバスラインの外側に
向かって液晶分子を立ち上がらせる方向に、電界が横方
向にかかるため、このゲートバスライン直上の液晶配向
が乱され、この影響が画素電極上の液晶分子にも及ぶこ
とがあるからである。

【００１２】さらに、特開平５−１７３１４２に開示さ
れている構成のうち、の分割画素電極を特徴とする構
成では、分割画素電極のそれぞれに応じて薄膜トランジ
スタ等の能動素子からなる駆動手段を設ける必要があ
り、画素開口率の低下だけでなく、歩留まりの低下の原
因にもなりうる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、視角の
拡大を目的として微小な領域毎に区分して配向処理がな
されている液晶表示装置においては、分割された各領域
で液晶配向が安定せず、これによってディスクリネーシ
ョンが本来の配向処理区分の境界位置からずれて発生し
たり発生後に他の位置へ徐々に移動したりして、コント
ラスト比が低下したり、全面に不均一な表示となった
り、表示の焼き付きや残像等が引き起こされるという問
題点がある。

【００１４】本発明の目的は、微小な領域ごとに液晶の
配向状態の異なる液晶表示装置において、分割された各
領域において液晶配向が安定し、これによって、ディス
クリネーションが配向処理区分の境界からずれることな
く所定の位置に正確に固定され、全面にわたって均一で
良好な表示が得られる液晶表示装置を提供することにあ
る。なお、いうまでもないが、これを実現するために工
程の複雑化あるいは画素開口率の低下あるいは歩留まり
の低下等の他の問題が付随することは好ましくない。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、対向して設けられた第１の基板及び第２の基板と、
第１の基板上にマトリックス状に設けられた画素電極
と、画素電極ごとに第１の基板上に設けられ対応する画
素電極を駆動する能動素子と、第１の基板上に設けられ
各能動素子がそれぞれ接続されるゲートバスライン及び
ドレインバスラインと、第２の基板上に設けられた共通
電極と、第１の基板及び第２の基板の間に挿入された液
晶とを有し、液晶の配向状態が微小な領域ごとに異なる
ように、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方が
前記微小な領域に対応して区分して配向処理されている
液晶表示装置において、画素電極を横切る位置に、配向
処理区分の境界の少なくとも１つが設定されており、画
素電極の平面形状において、画素電極を横切る配向処
理区分の境界に整合して切り込み部を有していること、
あるいは画素電極とその辺に沿ったゲートバスライン
あるいはドレインバスラインとの間隔が画素電極を横切
る配向処理区分の境界の両側で異なること、あるいは
その双方を特徴とするものである。

【００１６】本発明においては、画素電極を横切る配向
処理区分の境界位置に整合して遮光部を設けることによ
りディスクリネーションを隠蔽することができる。ま
た、画素電極に切り込み部を設けた場合にはその部分で
の画素電極の分断を防止するために分断防止端子を設け
ることが可能である。これらの遮光部あるいは分断防止
端子は、ゲートバスラインあるいはドレインバスライン
を構成する薄膜層と同一の層によって構成すればよい。

【００１７】また、本発明において画素電極を横切る配
向処理区分の境界の両側で、電圧印加時にこの境界側の
端部が、第１の基板から離れる方向に液晶分子が立ち上
がるように、配向処理を行うことができる。この場合は
画素電極の切り込み部の形状を、画素電極上の部位のう
ち、該境界がこの画素電極の辺を横切っている位置の近
傍の部位で、且つ、第１の基板近傍の液晶分子の長手方
向に位置する部位を切り取る形状とすれば、ディスクリ
ネーションが極めて正確な位置に固定できる。あるい
は、本発明において画素電極を横切る配向処理区分の境
界の両側で、電圧印加時にこの境界とは逆側の端部が、
第１の基板から離れる方向に液晶分子が立ち上がるよう
に、配向処理を行うこともできる。この場合の画素電極
の切り込み部の形状は、この境界に沿って切り込み部の
長手方向が位置するような細長い形状とすればよい。細
長い切り込み部は、画素電極に細長い穴をあけるような
形状でも、画素電極を片側あるいは両側からこの境界に
沿って切り込む形状でもよい。画素電極を片側あるいは
両側から切り込む形状とした場合には、切り込み部に付
随する画素電極の角部に面取りを施すと、ディスクリネ
ーションが極めて正確な位置に固定できる。

【００１８】さらに、画素電極と画素電極との間に配向
処理区分の境界を設定し、この境界の両側で、電圧印加
時にこの境界側の端部が第１の基板から離れる方向に液
晶分子が立ち上がるように、配向処理を行うことができ
る。この場合には、画素電極とゲートバスラインとの間
に配向処理区分の境界を設定すればよい。あるいは、画
素電極と画素電極との間に配向処理区分の境界を設定
し、この境界の両側で、電圧印加時にこの境界とは逆側
の端部が第１の基板から離れる方向に液晶分子が立ち上
がるように、配向処理を行うことができる。この場合に
は、ゲートバスライン上に配向処理区分の境界を設定す
ればよい。

【００１９】画素電極の辺とその辺に沿ったゲートバス
ラインあるいはドレインバスラインとの間隔が画素電極
を横切る配向処理区分の境界の両側で異なるようにする
場合には、第１の基板の表面近傍の液晶分子の「実質的
なプレチルト方向」とは逆の方向に位置する部位におい
て、その画素電極の辺とその辺に沿ったゲートバスライ
ンあるいはドレインバスラインとの間隔がそれ以外の部
位におけるよりも大きくなるようにすればよい。

【００２０】

【作用】本発明の液晶表示装置では、画素電極を横切る
配向処理区分の境界位置に整合して画素電極に切り込み
部が設けられているので、あるいは画素電極の辺とその
辺に沿ったゲートバスラインあるいはドレインバスライ
ンとの間隔がその画素電極を横切る配向処理区分の境界
の両側で異なるようになっているので、電圧印加時に画
素電極上の液晶分子が立ち上がる方向に影響を及ぼしう
る横方向電界を弱め、あるいは横方向電界を積極的に活
用し、ディスクリネーションの位置を所定の位置に正確
に固定することができる。従って、ディスクリネーショ
ンが画素開口部中にはみ出して画質を劣化させることが
なく、全面に均一で良好な表示を得ることができる。ま
た、本発明によれば、全作製工程に新たな工程を追加す
ることなく、画素電極の形状を変更するだけで、上述し
たような大きな効果が得られる。

【００２１】

【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して説明する。

【００２２】《実施例１》図１は実施例１の液晶表示装
置の構成を示す平面図であり、図２は図１の液晶表示装
置においてゲートバスラインの近傍の構成を示す断面図
である。この液晶表示装置は、大まかに言えば、第１の
基板１１と第２の基板１２とを一定の間隔を保つように
重ね合わせ、両基板１１，１２間に液晶２０を注入した
構成となっている。両基板１１，１２の外側にはそれぞ
れ偏光板（図示せず）が配置されている。図１は、紙面
に対して、第１の基板１１が裏側に、第２の基板１２が
手前側に配置されているものとして描かれている。

【００２３】第１の基板１１上には、図示横方向に相互
に平行に延びる複数本のゲートバスライン５５と、図示
縦方向に相互に平行に延びる複数本のドレインバスライ
ン５６とが格子状に設けられており、単位格子ごとに画
素電極７１がゲートバスライン５５及びドレインバスラ
イン５６に囲まれるように設けられている。ゲートバス
ライン５５及びドレインバスライン５６は、それぞれク
ロム等の材料からなる導電性薄膜層で構成されており、
画素電極７１は酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の材料か
らなる透明導電性薄膜層で構成されている。ゲートバス
ライン５５を構成する導電性薄膜層と、ドレインバスラ
イン５６を構成する導電性薄膜層及び画素電極７１を構
成する透明導電性薄膜層とは、絶縁層５７により絶縁さ
れている。画素電極７１はそれぞれ１画素に対応してい
る。さらに、各画素電極７１ごとに能動素子５４が設け
られている。能動素子５４は、画素電極７１を選択して
これに電圧を印加するためのスイッチ素子であり、典型
的には非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）あるいは多結晶シリ
コン（ｐ−Ｓｉ）による薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）で
ある。能動素子５４のゲート端子はゲートバスライン５
５に接続され、ドレイン端子はドレインバスライン５６
に接続され、ソース端子は画素電極７１に接続されてい
る。さらに、画素電極７１ごとに蓄積容量端子５８が設
けられている。蓄積容量端子５８は、ドレインバスライ
ンを構成する導電性薄膜層と同一の薄膜層で構成されて
おり、画素電極７１に電気的に接続されている。蓄積容
量端子５８の一部分は、隣接する画素電極７１を駆動す
る能動素子５４が接続されているゲートバスライン５５
上に、絶縁層５７を介して張り出すように重なっており
（図２参照）、これによって蓄積容量部２５が形成され
ている。第１の基板１１において、液晶２０と接する側
の最表面には、配向膜３１が形成されている。

【００２４】一方、第２の基板１２には、共通電極７２
と配向膜３２とがこの順で積層されており、配向膜３２
は液晶２０に接している。共通電極７２は酸化錫インジ
ウム（ＩＴＯ）等の材料からなる透明導電性薄膜層で構
成されている。また、第２の基板１２上に、各画素電極
７１に応じてＲ，Ｇ，Ｂからなるカラーフィルター（図
示せず）が設けられている。よってこの実施例１の液晶
表示装置では全体としてカラー表示を行うことができ
る。さらに、第２の基板１２上には画素電極７１に対応
する領域以外の領域に遮光膜（図示せず）を設けてあ
る。

【００２５】この実施例１における液晶表示装置では、
画素電極７１がマトリックス状に配置されているピッチ
の大きさは、ゲートバスライン５５の延びる方向につい
て６７μm とし、ドレインバスライン５６の延びる方向
について２０１μm とした。第１の基板１１及び第２の
基板１２は相互に約６μm の間隔を保つように対向して
重ね合わせてある。

【００２６】この実施例では、第１及び第２の基板１
１，１２は、図１においてＡ，Ｂで示される帯状の領域
ごとに、異なる方向に配向処理されている。第１の基板
１１は矢印１１１ａ，１１１ｂに示す方向に、第２の基
板１２は１１２ａ，１１２ｂに示す方向に、それぞれ配
向処理されている。領域Ａと領域Ｂの境界２２（図示一
点鎖線）は、ゲートバスライン５５の延びる方向と平行
な直線であって、各画素電極７１のほぼ中央部を横切る
位置と、各画素電極７１とその画素電極を駆動する能動
素子５４が接続されたゲートバスライン５５との間の位
置とに設定されている。

【００２７】このように同一基板上の微小な領域ごとに
異なる方向に配向処理するためには、図３（ａ）〜
（ｅ）に示す各工程を順次実施すればよい。まず図３
（ａ）に示すように、電極やバスラインが形成されてい
る基板１１，１２の表面に、ポリイミド等の配向剤から
なる配向膜３１，３２を形成する。次に、図３（ｂ）に
示すように、一定の方向にラビング処理を実行する。ラ
ビング処理は、レーヨン等のパフ布を巻き付けたラビン
グローラ８０を配向膜３１，３２上で回転させながら進
めることにより行われる。続いて、図３（ｃ）に示され
るように、配向膜３１，３２上にレジスト４０を塗布
し、フォトリソグラフィ技術により図１の領域Ａまたは
領域Ｂのいずれかに対応するようにレジストパターンを
形成する。そして、図３（ｄ）に示すように、図３
（ｂ）に示した方向と逆の方向にラビング処理を実行す
る。最後に、図３（ｅ）に示すように、有機溶剤を用い
てレジスト４０を除去する。これにより、微小な領域
Ａ，Ｂごとに異なる方向に配向処理された基板１１，１
２を得ることができる。この実施例１においては、配向
剤として日産化学工業（株）製のＳＥ−７２１０（０６
２１）を通常の使用法において用い、レジストとして通
常のポジ型レジストを用い、レジストの除去にはアセト
ンを用いた。

【００２８】この実施例１においては、液晶２０には、
Ｅ．Ｍｅｒｃｋ，Ｄａｒｍｅｔａｄｔ社製のＺＬＩ−４
７９２を用いた。この液晶材には微量の左旋回性のカイ
ラル剤が添加されている。液晶分子はカイラル剤の効果
及び上記の配向処理方向にしたがって、図１において手
前側の第２の基板１２の表面から奥側の第１の基板１１
の表面に向かうにつれて、左回りにほぼ直角にねじれて
配向している。また、両基板１１，１２の表面付近の液
晶分子は、上述の配向処理方向に応じて、図１において
配向処理方向を示す矢印の先端方向にプレチルトしてい
る。すなわち、図１の領域Ａ，Ｂごとに、異なる方向に
プレチルトしている。よって、電圧印加時には、領域
Ａ，Ｂごとに、液晶分子の立ち上がる方向が異なる。

【００２９】この実施例１の液晶表示装置は、ディスク
リネーション部からの光漏れを防ぐために、画素電極７
１の設けられている方の第１の基板上に、遮光部２６を
有している。遮光部２６は、ゲートバスラインを構成す
る導電性薄膜層と同一の薄膜層で構成されており、配向
処理区分の境界２２の内、画素電極７１のほぼ中央部を
横切る配向処理区分の境界の位置に整合して設けられて
いる。遮光部２６は、画素電極７１と絶縁層５７により
電気的に絶縁されている。

【００３０】また、この実施例１の液晶表示装置は、各
画素電極７１の平面形状において、切り込み部７４を有
している。切り込み部７４は、配向処理区分の境界２２
の内、画素電極７１のほぼ中央部を横切る配向処理区分
の境界の位置に整合して設けられている。さらに、切り
込み部７４の形状は、領域Ａ，Ｂのそれぞれにおいて、
画素電極上の部位のうちリバースチルトドメインが発生
しやすい部位を、切り取る形状である。詳細には、画素
電極７１の第１の基板１１の表面付近の液晶分子のプレ
チルト方向とは逆の方向に位置する部位を、すなわちこ
の実施例１においては図１における第１の基板１１に対
する配向処理方向を示す矢印１１１ａ，１１１ｂの後方
に位置する部位を、図１に示すようにこれらの配向処理
方向を示す矢印に概ね直交する直線を斜辺とする直角２
等辺三角形の形に切り取る形状である。切り込み部７４
の大きさは、その直角２等辺三角形の切り込み部の斜辺
の長さについて、６μm 及び１２μm 及び１８μm の３
種について実施した。

【００３１】次に、この実施例１の液晶表示装置におけ
るディスクリネーションの発生位置について、図１及び
図２を用いて説明する。

【００３２】まず、画素電極７１のほぼ中央部を横切る
配向処理区分の境界に伴うディスクリネーションの発生
位置について、図１を用いて説明する。この液晶表示装
置では、画素電極７１の平面形状において、画素電極上
の部位のうちリバースチルトドメインが発生しやすい部
位、すなわち、画素電極７１の辺と配向処理区分の境界
２２との交点の近傍であり、且つ、第１の基板１１の表
面におけるプレチルト方向とは逆の方向に位置する部位
が切り取られているため、その部位の液晶層にかかる横
方向電界が弱められ、ディスクリネーション２３は、所
定の位置、すなわち、配向処理区分の境界２２の位置に
固定されている。

【００３３】次に、画素電極７１とゲートバスライン５
５との間に設定された配向処理区分の境界２２に伴う、
ディスクリネーションの発生位置について、図２を用い
て説明する。図２は、ゲートバスライン５５の延びる方
向と直交する断面による断面図であり、画素電極７１と
ゲートバスライン５５との間に設定される配向処理区分
の境界２２を含む部分を示している。図２には、電界方
向を点線で示している。この液晶表示装置では、画素電
極７１とゲートバスライン５５との間に配向処理区分の
境界２２が設定されており、この配向処理区分の両側
で、液晶分子２１がその境界側の端部がゲートバスライ
ン５５の設けられた第１の基板から離れる方向に立ち上
がるように、配向処理されているため、液晶層にかかる
電界の方向がプレチルト方向と一致し、ディスクリネー
ション２３は、所定の位置、すなわち、液晶配向処理区
分の境界２２の位置に固定されている。

【００３４】上記のように、配向処理区分の境界２２に
伴うディスクリネーションが、それぞれ所定の位置に固
定されており、よって図１に示すように全体としてディ
スクリネーション２３が所定の位置に固定され、画素開
口部中にはみ出すことがなく、液晶表示装置全面にわた
って均一で良好な画質が得られることが確認された。こ
のことは前述した３種の大きさの切り込み部それぞれの
場合において確認された。

【００３５】《比較例１》実施例１と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例１とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。すなわち、画素電極７１
はその平面形状において切り込み部を有しておらず、ド
レインバスライン５６に沿った部位は直線的な形状であ
る。それ以外は実施例１と同様の構成である。

【００３６】この比較例１の液晶表示装置では、図４に
示すように、ディスクリネーション２３が、配向処理区
分の境界位置２２からずれて、配向処理区分の境界２２
に整合して設けられた遮光部２６からはみ出して発生す
ることがあることが確認された。これは画質を大きく劣
化させる。また、図４には、この時に画素電極上に発生
したリバースチルトドメインも示してある。リバースチ
ルトドメインは、画素電極７１の第１の基板１１に表面
付近の液晶分子のプレチルト方向とは逆の方向に位置す
る部位に、すなわちこの比較例１においては図４におけ
る第１の基板１１に対する配向処理方向を示す矢印１１
１ａ，１１１ｂの後方に位置する部位に発生している。

【００３７】《実施例２》実施例２の液晶表示装置の構
成が図５に示されている。この液晶表示装置は、実施例
１に示すものと同様の構成であるが、画素電極７１が設
けられる方の第１の基板１１の配向膜３１に高プレチル
ト角を特徴とする材料を用い、共通電極７２が設けられ
る方の第２の基板１２の配向膜３２に低プレチルト角を
特徴とする材料を用い、第２の基板１２には一様な方向
への配向処理を行っている点で、実施例１に示すものと
相違している。結局、第１の基板１１に対してのみ、微
小な領域ごとに液晶配向処理方向が異なるような配向処
理がなされていることになる。第２の基板１２において
は、配向膜３２の形成後、一定の方向へのラビング処理
が行われる。このような構成においても、電圧印加時に
は、領域Ａ，Ｂごとに、液晶分子の立ち上がる方向が異
なり、実施例１と同様の効果を得ることができる。な
お、第１の基板１１に対する配向処理方向が異なる微小
な領域Ａ，Ｂに対応して、第１の基板１１の表面でのプ
レチルト角の大きさが異なる場合がある。このような場
合には、プレチルト角の大きい方の領域において、両基
板の表面付近におけるプレチルト方向が互いに一致しな
い、いわゆるスプレイ型の配向になるように第２の基板
１２に対するラビング方向を設定すれば、より安定して
分割された液晶配向が得られる。

【００３８】図５において、第１の基板１１に対するラ
ビング処理方向は矢印１１１ａ，及び矢印１１１ｂで示
し、第２の基板１２に対するラビング方向は矢印１１２
で示した。配向処理方向の異なる微小な領域Ａと領域Ｂ
の境界２２（図示一点鎖線）は、実施例１と同様に、ゲ
ートバスライン５５の延びる方向と平行な直線であっ
て、各画素電極７１のほぼ中央部を横切る位置と、各画
素電極７１とその画素電極を駆動する能動素子５４が接
続されたゲートバスライン５５との間の位置に設定され
ている。

【００３９】この実施例２の液晶表示装置も、実施例１
と同様に、ディスクリネーション部からの光漏れを防ぐ
ために、画素電極７１の設けられている方の第１の基板
上に、遮光部２６を有している。

【００４０】また、この実施例２の液晶表示装置も、実
施例１と同様に、各画素電極７１の平面形状において、
画素電極７１のほぼ中央部を横切る配向処理区分の境界
の位置に整合して、切り込み部７４を有している。切り
込み部７４の形状は、画素電極上にリバースチルトドメ
インが発生しやすい部位を、切り取る形状であり、実施
例１と同様の形状である。切り込み部７４の大きさにつ
いても、実施例１と同様に、６μm 及び１２μm 及び１
８μm の３種について実施した。

【００４１】この実施例２における構成においても、実
施例１の場合と同様に、液晶配向処理区分の境界部に発
生するディスクリネーションは所定の位置に固定されて
いた。よってディスクリネーションが画素開口部にはみ
出すことがなく、液晶表示装置全面にわたって均一で良
好な画質が得られることが確認された。このことは前述
した３種の大きさの切り込み部それぞれの場合において
確認された。

【００４２】《比較例２》実施例２と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例２とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。すなわち、画素電極７１
はその平面形状において切り込み部を有しておらず、ド
レインバスライン５６に沿った部位は直線的な形状であ
る。それ以外は実施例２と同様の構成である。

【００４３】この比較例２の液晶表示装置では、比較例
１の場合と同様に、ディスクリネーション２３が、配向
処理区分の境界位置２２からずれて、配向処理区分の境
界２２に整合して設けられた遮光部２６からはみ出して
発生することがあることが確認された。これは画質を大
きく劣化させる。

【００４４】《実施例３》実施例３の液晶表示装置の構
成が図６に示されている。この液晶表示装置は、実施例
１に示すものと同様の構成であるが、第１の基板１１及
び第２の基板１２には、それぞれの基板の表面付近にお
いて液晶分子が一様な方向へプレチルトするように、か
つ、基板の表面付近での液晶分子のプレチルト角の大き
さが、微小な領域Ａ，Ｂに応じて異なるように配向処理
を行っている点で、実施例１に示すものと相違してい
る。ここで、領域Ａにおいては第２の基板１２の表面付
近でのプレチルト角が第１の基板１１の表面付近でのプ
レチルト角より大きくなるように、領域Ｂにおいては第
１の基板１１の表面付近でのプレチルト角の方が第２の
基板１２の表面付近でのプレチルト角より大きくなるよ
うに、それぞれ配向処理されている。そして、それぞれ
の領域Ａ，Ｂにおいて液晶２０がスプレイ型の配向にな
るように配向処理方向が設定されている。このような構
成においても、電圧印加時には、領域Ａ，Ｂごとに、液
晶分子の立ち上がる方向が異なり、実施例１と同様の効
果を得ることができる。

【００４５】さらに、例えば、第１の基板１１には、こ
の実施例３と同様に、表面付近において液晶分子が一様
な方向へプレチルトするように、かつ、表面付近での液
晶分子のプレチルト角の大きさが、微小な領域Ａ，Ｂに
応じて異なるように配向処理を行い、第２の基板１２に
は、第１の基板１１の領域Ａにおけるプレチルト角の大
きさと第１の基板１１の領域Ｂにおけるプレチルト角の
大きさとの、中間程度の大きさのプレチルト角を特徴と
する配向膜材料を用い、一様な方向への配向処理を行っ
た場合にも、電圧印加時には、領域Ａ，Ｂごとに、液晶
分子の立ち上がる方向が異なり、実施例１と同様の効果
を得ることができる。この場合にもこの実施例３と同様
の画素電極の形状（後述）でよい。

【００４６】図６において、第１の基板１１に対するラ
ビング処理方向は矢印１１１で示し、第２の基板１２に
対するラビング方向は矢印１１２で示した。また、それ
ぞれの基板の表面付近での微小な領域Ａ，Ｂごとの液晶
分子のプレチルトの方向及びプレチルト角の相対的な大
きさを、第１の基板１１について矢印１１１Ｈ，１１１
Ｌで示し、第２の基板１２について矢印１１２Ｈ，１１
２Ｌで示した。ここに、矢印１１１Ｈ，１１２Ｈで示す
プレチルト角は、矢印１１１Ｌ，１１２Ｌで示すプレチ
ルト角より大きくなっている。各基板表面付近において
液晶分子のプレチルト角の大きさの異なる微小な領域Ａ
と領域Ｂの境界２２（図示一点鎖線）は、実施例１と同
様に、ゲートバスライン５５の延びる方向と平行な直線
であって、各画素電極７１のほぼ中央部を横切る位置
と、各画素電極７１とその画素電極を駆動する能動素子
５４が接続されたゲートバスライン５５との間の位置と
に設定されている。

【００４７】このように同一基板上の微小な領域ごとに
異なる方向に配向処理するためには、例えば図７（ａ）
〜（ｅ）に示す各工程を順次実施すればよい。まず、図
７（ａ）に示すように、電極やバスラインが形成されて
いる基板１１，１２の表面に、無機系の材料からなり低
プレチルト角を特徴とする第１の配向剤層３５と有機系
の材料からなり高プレチルト角を特徴とする第２の配向
剤層３６との２層からなる配向膜３１，３２を形成す
る。次に、図７（ｂ）に示すように、配向膜３１，３２
上のにレジスト４０を塗布し、フォトリソグラフィ技術
により図６の領域Ａまたは領域Ｂのいずれかに対応する
ようにレジストパターンを形成する。続いて、図７
（ｃ）に示すように、レジストパターンにしたがい、有
機系の材料からなる第２の配向剤層３６を部分的に除去
し、無機系の材料からなる第１の配向剤層３５を露出さ
せる。そして、図７（ｄ）に示すように、レジスト４０
を除去する。最後に、図７（ｅ）に示すように、一定の
方向にラビング処理を実行する。これにより、微小な領
域Ａ，Ｂごとに表面付近でのプレチルト角の大きさが異
なるように配向処理された基板１１，１２を得ることが
できる。

【００４８】この実施例３の液晶表示装置も、実施例１
と同様に、ディスクリネーション部からの光漏れを防ぐ
ために、画素電極７１の設けられている方の第１の基板
上に、遮光部２６を有している。

【００４９】この実施例３の液晶表示装置における配向
処理方向の場合の、画素電極上にリバースチルトドメイ
ンが発生しやすい部位について以下に説明する。この実
施例３の液晶表示装置において、電圧印加時の両基板中
央部付近の液晶分子の立ち上がる方向は、微小な領域Ａ
においては、矢印１２１Ｌに示す第１の基板１１の表面
におけるプレチルトの方向とは逆の方向に対応し、微小
な領域Ｂにおいては、矢印１２１Ｈに示す第１の基板１
１の表面におけるプレチルトの方向に対応する。よっ
て、この実施例３の液晶表示装置の各微小な領域での第
１の基板１１の表面における「実質的なプレチルト方
向」は、領域Ａにおいては矢印１２１Ｌで示される方向
とは逆の方向であり、領域Ｂにおいては矢印１２１Ｈで
示される方向であるということができる。したがって、
画素電極上の部位のうち、リバースチルトドメインが発
生しやすい部位は、各微小な領域において矢印１２１Ｌ
の前方及び矢印１２１Ｈの後方に位置する部位である。

【００５０】この実施例３の液晶表示装置も、実施例１
と同様に、各画素電極７１の平面形状において、画素電
極７１のほぼ中央部を横切る配向処理区分の境界の位置
に整合して、切り込み部７４を有している。切り込み部
７４の形状は、上述の、画素電極上にリバースチルトド
メインが発生しやすい部位を、切り取る形状であり、実
施例１と同様の形状である。切り込み部７４の大きさに
ついても実施例１と同様に、６μm 及び１２μm 及び１
８μm の３種について実施した。

【００５１】この実施例３における構成においても、実
施例１の場合と同様に、液晶配向処理区分の境界部に発
生するディスクリネーションは所定の位置に固定されて
いた。よってディスクリネーションが画素開口部中には
み出すことがなく、液晶表示装置全面にわたって均一で
良好な画質が得られることが確認された。このことは前
述した３種の大きさの切り込み部それぞれの場合におい
て確認された。

【００５２】《比較例３》実施例３と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例３とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。すなわち、画素電極７１
はその平面形状において切り込み部を有しておらず、ド
レインバスライン５６に沿った部位は直線的な形状であ
る。それ以外は実施例３と同様の構成である。

【００５３】この比較例３の液晶表示装置では、比較例
１の場合と同様に、ディスクリネーション２３が、配向
処理区分の境界位置２２からずれて、配向処理区分の境
界２２に整合して設けられた遮光部２６からはみ出して
発生することがあることが確認された。これは画質を大
きく劣化させる。

【００５４】《実施例４》実施例４の液晶表示装置の構
成が図８に示されている。図９及び図１０は、どちらも
図８の液晶表示装置の構成を示す、ゲートバスライン５
５の延びる方向と直交する断面による断面図であり、図
９はゲートバスライン近傍の構成を示しており、図１０
は図８にＥ−Ｅ′で示した断面での構成を示しており、
図１１は図８にＦ−Ｆ′で示した断面での構成を示して
いる。この液晶表示装置は、実施例１に示すものと同様
の構成であるが、両基板１１，１２の微小な領域Ａ，Ｂ
に対するラビング処理方向及び微小な領域ＡとＢの境界
位置及び画素電極７１の平面形状が実施例１に示すもの
とは異なっている。

【００５５】第１の基板１１は図８において矢印１１１
ａ，１１１ｂに示す方向に、第２の基板１２は図８にお
いて矢印１１２ａ，１１２ｂに示す方向にそれぞれ配向
処理されている。領域Ａと領域Ｂとの境界２２（図示一
点鎖線）は、ゲートバスライン５５の延びる方向と平行
な直線であって、各画素電極７１のほぼ中央部を横切る
位置と、ゲートバスライン５５上でドレインバスライン
５６あるいは蓄積容量端子５８が重なっていない部分の
形状を大まかに長方形と見なした場合のその長方形の幅
をほぼ２等分するような位置とした。なお、蓄積容量部
を有していない液晶表示装置や蓄積容量端子がゲートバ
スライン上に重なっていない液晶表示装置においては、
配向処理区分の境界２２は、ゲートバスライン５５の延
びる方向と平行な直線であって、各画素電極７１のほぼ
中央部を横切る位置と、ゲートバスライン５５の幅のほ
ぼ中央部を通るような位置とすればよい。また、この実
施例４においても、実施例２と同様にプレチルト角の大
きさの異なる配向膜材料を組み合わせることにより、あ
るいは実施例３と同様に２層からなる配向膜を用いるこ
とにより、工程の簡略化が可能である。

【００５６】この実施例４の液晶表示装置も、実施例１
と同様に、ディスクリネーションからの光漏れを防ぐた
めに、画素電極７１の設けられている方の第１の基板上
に、ゲートバスライン５５を構成する導電性薄膜層と同
一の薄膜層から構成され画素電極７１とは絶縁層５７に
より電気的に絶縁されている遮光部２６を有している
（図１０及び図１１参照）。

【００５７】画素電極７１の形状は、画素電極７１のほ
ぼ中央部を横切る配向処理区分の境界に整合する位置
に、切り込み部７４を有しているものである。切り込み
部７４の形状は画素電極７１を横切る位置に設定された
配向処理区分の境界に沿ってその長手方向が位置するよ
うな細長い形状であり、且つ、その配向処理区分の境界
２２に沿って画素電極７１の両側から画素電極７１を切
り込む形状である。切り込み部７４の長手方向の中心線
の位置は配向処理区分の境界２２の位置と一致してい
る。切り込み部の長手方向に直交する方向での幅につい
ては、３μm 、６μm 及び９μm の３種について実施し
た。また、切り込み部７４によるくびれの部分において
画素電極７１が断線し、欠陥を生じることを防ぐため
に、画素電極７１は切り込み部７４によるくびれの部分
においてドレインバスライン５６を構成する導電性薄膜
層と同一の薄膜層から構成され画素電極７１と電気的に
接続されている分断防止端子７５によって補強されてい
る（図１１参照）。

【００５８】次に、この実施例４の液晶表示装置におけ
るディスクリネーションの発生位置について、図８及び
図９及び図１０を用いて説明する。図９及び図１０の断
面図は、どちらも、ゲートバスライン５５の延びる方向
と直交する断面による断面図であり、図９はゲートバス
ライン５５上の位置に設定される配向処理区分の境界２
２を含む部分を示しており、図１０は画素電極７１のほ
ぼ中央を横切る位置に設定される配向処理区分の境界２
２を含む部分を示している。図９及び図１０には、電界
方向を点線で示している。

【００５９】まず、ゲートバスライン上を通る位置に設
定された配向処理区分の境界２２に伴う、ディスクリネ
ーションの発生位置について、図９を用いて説明する。
この液晶表示装置では、ゲートバスライン５５上でドレ
インバスライン５６あるいは蓄積容量端子５８が重なっ
ていない部分の形状を大まかに長方形と見なした場合の
その長方形の幅をほぼ２等分するような位置に配向処理
区分の境界２２が設定されており、この配向処理区分の
両側で、液晶分子２１がその境界側とは逆側の端部がゲ
ートバスライン５５の設けられた第１の基板から離れる
方向に立ち上がるように、配向処理されているため、液
晶層にかかる電界の方向がプレチルト方向と一致し、デ
ィスクリネーション２３は、所定の位置、すなわち、液
晶配向処理区分の境界２２の位置に固定されている。

【００６０】次に、画素電極７１のほぼ中央部を横切る
配向処理区分の境界に伴うディスクリネーションの発生
位置について、図１０を用いて説明する。この液晶表示
装置では、画素電極７１の形状において、画素電極７１
のほぼ中央部を横切る配向処理区分の境界に整合する位
置に、切り込み部７４を有しており、この配向処理区分
の境界の両側で、液晶分子２１がその境界側の端部が画
素電極７１の設けられた第１の基板から離れる方向に立
ち上がるように、配向処理されているため、液晶層にか
かる電界の方向がプレチルト方向と一致し、ディスクリ
ネーション２３は、所定の位置、すなわち、液晶配向処
理区分の境界２２の位置に固定されている。

【００６１】上記のように、配向処理区分の境界２２に
伴うディスクリネーションが、それぞれ所定の位置に固
定されており、よって図８に示すように全体としてディ
スクリネーション２３が所定の位置に固定され、画素開
口部中にはみ出すことがなく、液晶表示装置全面にわた
って均一で良好な画質が得られることが確認された。こ
のことは前述した３種の幅の切り込み部それぞれの場合
において確認された。

【００６２】《比較例４》実施例４と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例４とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。すなわち、画素電極７１
はその平面形状において切り込み部を有しておらず、ド
レインバスライン５６に沿った部位は直線的な形状であ
る。それ以外は実施例４と同様の構成である。

【００６３】この比較例４の液晶表示装置では、図１２
に示すように、ディスクリネーション２３が、配向処理
区分の境界位置２２からずれて、配向処理区分の境界２
２に整合して設けられた遮光部２６からはみ出して発生
することがあることが確認された。これは画質を大きく
劣化させる。また、図１２には、この時に画素電極上に
発生したリバースチルトドメインも示してある。リバー
スチルトドメインは、画素電極７１のドレインバスライ
ンに沿った辺と配向処理区分の境界２２の交わる位置の
近傍の部位のうち、その境界の両側のそれぞれの領域に
おいて、画素電極７１の第１の基板１１の表面付近の液
晶分子のプレチルト方向とは異なる方向に位置する部位
に、すなわちこの比較例４においては図１２における第
１の基板１１に対する配向処理方向を示す矢印１１１
ａ，１１１ｂの方向とは異なる方向に位置する部位に発
生している。

【００６４】《実施例５》実施例５の液晶表示装置の構
成が図１３に示されている。この液晶表示装置は、実施
例４に示すものと同様の構成であるが、実施例２に示し
たような異なる配向膜材料の組み合わせにより、簡略化
した工程により構成した液晶表示装置である。すなわ
ち、画素電極７１が設けられる方の第１の基板１１の配
向膜３１に高プレチルト角を特徴とする材料を用い、共
通電極７２が設けられる方の第２の基板１２の配向膜３
２に低プレチルト角を特徴とする材料を用い、第２の基
板１２には一様な方向への配向処理を行っている。

【００６５】図１３において、第１の基板１１に対する
ラビング処理方向は矢印１１１ａ，及び矢印１１１ｂで
示し、第２の基板１２に対するラビング方向は矢印１１
２で示した。配向処理方向の異なる微小な領域Ａと領域
Ｂの境界２２（図示一点鎖線）は、実施例４と同様に、
ゲートバスライン５５の延びる方向と平行な直線であっ
て、各画素電極７１のほぼ中央部を横切る位置と、ゲー
トバスライン５５上を通る位置とした。

【００６６】また、この実施例５に示す液晶表示装置で
は、画素電極７１の平面形状においても実施例４に示す
ものと異なっている。すなわち、図１３に示すように、
切り込み部７４の形状は画素電極７１を横切る位置に設
定された配向処理区分の境界に沿って画素電極７１の両
側から画素電極７１を切り込む形状であるが、この切り
込み部７４に付随する画素電極の角部のうち、リバース
チルトドメインが発生しやすい角部に面取りが施されて
いる。リバースチルトドメインが発生しやすい角部と
は、微小な領域Ａ，Ｂのそれぞれにおける第１の基板１
１に対する配向処理方向を示す矢印１１１ａ，１１１ｂ
の先端方向とは異なる方向に位置する角部である。面取
りの形状は図１３に示すような斜めの直線状とし、面取
りの大きさについては、その斜めの辺の長さが３μm 及
び６μm の２種について実施した。

【００６７】この実施例５に示す液晶表示装置において
は、図１３に示すように、画素電極７１の切り込み部７
４に付随する画素電極の角部のうち、実施例４に示す液
晶表示装置で画素電極を横切る配向処理区分の境界２２
に伴うディスクリネーション２３が配向処理区分の境界
から部分的に逸れていた場所に位置する角部に、面取り
を施してあるため、実施例４に示す液晶表示装置におけ
るよりも、さらに正確にディスクリネーション２３が配
向処理区分の境界に固定されていた。よってディスクリ
ネーションが画素開口部にはみ出すことがなく、液晶表
示装置全面にわたって均一で良好な画質が得られること
が確認された。このことは前述した３種の大きさの面取
りを施した場合のそれぞれにおいて確認された。なお、
面取りの形状は、例えば円弧状のような他の形状でも、
同様の効果が期待できる。

【００６８】《実施例６》実施例５と同様の構成である
が、各画素電極７１の切り込み部７４の形状が実施例５
とは異なっている液晶表示装置を製作した。この実施例
６における切り込み部７４の形状は、図１４に示すよう
に、画素電極７１を横切る位置に設定された配向処理区
分の境界２２に沿ってその長手方向が位置するような細
長い穴をあけるような形状である。また、切り込み部７
４の形状に対応して分断防止端子７５を各画素電極ごと
に２つずつ設けた。この分断防止端子７５はその一部分
がディスクリネーションの遮光部を兼ねている。それ以
外は実施例５と同様の構成である。

【００６９】この実施例６における構成においても、実
施例５の場合と同様に、図１４に示すように、液晶配向
処理区分の境界部に発生するディスクリネーションは所
定の位置に固定されていた。よってディスクリネーショ
ンが画素開口部中にはみ出すことがなく、液晶表示装置
全面にわたって均一で良好な画質が得られることが確認
された。

【００７０】《実施例７》実施例２と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例２とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。この実施例７における画
素電極の平面形状は、図１６に示すように、画素電極７
１のドレインバスライン５６に沿った辺において、その
辺とその辺に隣接するドレインバスラインとの間隔が画
素電極７１を横切る配向処理区分の境界２２の両側で異
なるような変形形状である。画素電極上の液晶分子のプ
レチルト方向とは逆の方向に位置する部位において、画
素電極の辺とドレインバスラインとの間隔が大きくなっ
ている。それ以外は実施例２と同様の構成である。画素
電極７１の辺とドレインバスライン５６との間隔は、上
述した間隔の大きな部位において８μm とし、それ以外
の部位においては５μm とした。

【００７１】この実施例７における構成においては、リ
バースチルト領域が発生しやすい画素電極上の液晶分子
のプレチルト方向と逆の方向に位置する部位において、
その辺とその辺に隣接するドレインバスラインとの間隔
が大きくなっているため、この部位に生じる横電界方向
が弱められる。その結果、図１６に示すように、液晶配
向処理区分の境界部に発生するディスクリネーションは
所定の位置に固定されていた。よってディスクリネーシ
ョンが画素開口部中にはみ出すことがなく、液晶表示装
置全面にわたって均一で良好な画質が得られることが確
認された。

【００７２】《実施例８》実施例２と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例２とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。この実施例８における画
素電極の平面形状は、図１６に示すように、実施例２と
同様な切り込み部７４を有しており、さらに、画素電極
７１のドレインバスライン５６に沿った辺において、そ
の辺とその辺に隣接するドレインバスラインとの間隔が
画素電極７１を横切る配向処理区分の境界２２の両側で
異なるような変形形状である。画素電極上の液晶分子の
プレチルト方向とは逆の方向に位置する部位において、
画素電極の辺とドレインバスラインとの間隔が大きくな
っている。それ以外は実施例２と同様の構成である。切
り込み部の大きさは図１６に示した斜めの辺の長さが８
μm であるような大きさとした。画素電極７１の辺とド
レインバスライン５６との間隔は、上述した間隔の大き
な部位において８μm とし、それ以外の部位においては
５μm とした。

【００７３】この実施例８における構成においては、リ
バースチルト領域が発生しやすい画素電極上の液晶分子
のプレチルト方向と逆の方向に位置する部位において、
その辺とその辺に隣接するドレインバスラインとの間隔
が大きくなっているため、この部位に生じる横電界方向
が弱められる。その結果、図１６に示すように、実施例
２の場合よりもさらに安定して、液晶配向処理区分の境
界部に発生するディスクリネーションは所定の位置に固
定されていた。よってディスクリネーションが画素開口
部中にはみ出すことがなく、液晶表示装置全面にわたっ
て均一で良好な画質が得られることが確認された。

【００７４】《実施例９》実施例５と同様の構成である
が、各画素電極７１の平面形状が実施例５とは異なって
いる液晶表示装置を製作した。この実施例９における画
素電極の平面形状は、図１７に示すように、画素電極７
１のドレインバスライン５６に沿った辺において、その
辺とその辺に隣接するドレインバスラインとの間隔が画
素電極７１を横切る配向処理区分の境界２２の両側で異
なるような変形形状である。画素電極上の液晶分子のプ
レチルト方向とは逆の方向に位置する部位において、画
素電極の辺とドレインバスラインとの間隔が大きくなっ
ている。それ以外は実施例５と同様の構成である。画素
電極７１の辺とドレインバスライン５６との間隔は、上
述した間隔の大きな部位において８μm とし、それ以外
の部位においては５μm とした。

【００７５】この実施例９における構成においては、リ
バースチルト領域が発生しやすい画素電極上の液晶分子
のプレチルト方向と逆の方向に位置する部位において、
その辺とその辺に隣接するドレインバスラインとの間隔
が大きくなっているため、この部位に生じる横電界方向
が弱められる。その結果、図１７に示すように、液晶配
向処理区分の境界部に発生するディスクリネーションは
所定の位置に固定されていた。よってディスクリネーシ
ョンが画素開口部中にはみ出すことがなく、液晶表示装
置全面にわたって均一で良好な画質が得られることが確
認された。

【００７６】《実施例１０》実施例１０の液晶表示装置
の構成が図１８に示されている。この液晶表示装置は、
実施例５に示すものと同様の構成であるが、各画素に対
応する能動素子４０の配置が実施例５と異なっている。
すなわち、液晶２０の配向状態が異なる微小な領域のう
ち、能動素子が配置されている微小な領域（領域Ｂ）に
おける、第１の基板１１の表面付近での液晶分子のプレ
チルト方向、すなわち配向処理方向を示す矢印１１１ｂ
の方向とは逆側の位置に、能動素子４０が配置されてい
る。

【００７７】以下に、本実施例の構成における効果を説
明する。

【００７８】実施例５の構成においても、図１９に示す
ように、第１の基板１１の表面付近でのプレチルト方向
とは逆側の位置には、リバースチルトドメインが発生す
る場合がある。この実施例１０の構成においては、図１
８に示すように、このようなリバースチルトドメインが
発生しやすい位置に能動素子４０が配置されている。よ
って、この実施例１０の構成においては、このようなリ
バースチルトドメインが発生した場合にも、能動素子４
０の位置に対応して第２の基板１２に設けてある遮光膜
（図示せず）に隠され、画質に影響が及ぶことはなく、
結果として液晶表示装置全面にわたって均一で良好な画
質が得られる。

【００７９】《実施例１１》実施例１１の液晶表示装置
の構成が図２０に示されている。この液晶表示装置は、
実施例５に示すものと同様の構成であるが、両基板１
１，１２に対する配向処理方向及び液晶２０のねじれ方
向が実施例５と異なっている。すなわち、第１の基板１
１は微小な領域Ａ，Ｂ毎に区分して矢印１１１ａ，１１
１ｂに示す方向に、第２の基板１２は一様に１１２に示
す方向に、それぞれ配向処理されており、液晶２０には
微量の右旋回性のカイラル剤が添加されている。液晶分
子はカイラル剤の効果及び上記の配向処理方向にしたが
って、図２０において手前側の第２の基板１２の表面か
ら奥側の第１の基板１１の表面に向かうにつれて、右回
りにほぼ直角にねじれて配向している。また、これに対
応して、画素電極７１の切り込み部７４及び遮光部２６
の形状も、実施例５に示した構成とは左右に逆になって
いる。

【００８０】すなわち、この実施例１１の構成において
も、図２０に示すように、リバースチルトドメインが発
生しやすい位置に能動素子が配置されている。よって、
リバースチルトドメインが発生した場合でも、能動素子
の位置に対応して第２の基板上に設けてある遮光膜に隠
されるため、画質に影響が及ぶことはなく、結果として
液晶表示装置全面にわたって均一で良好な画質が得られ
る。

【００８１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
微小な領域毎に液晶の配向状態の異なる液晶表示装置に
おいて、画素電極を横切る配向処理区分の境界位置に整
合して画素電極に切り込み部が設けられているので、あ
るいは画素電極の辺とその辺に沿ったゲートバスライン
あるいはドレインバスラインとの間隔がその画素電極を
横切る配向処理区分の境界の両側で異なるようになって
いるので、電圧印加時に画素電極上の液晶分子が立ち上
がる方向に影響を及ぼしうる横方向電界を弱め、あるい
は横方向電界を積極的に活用し、ディスクリネーション
の位置を所定の位置に正確に固定することができ、よっ
て安定して分割された液晶配向を得ることができる。従
って、ディスクリネーションが画素開口部中にはみ出し
て画質を劣化させることがなく、全面に均一で良好な表
示を得ることができる。また、ディスクリネーションを
正確に固定することができれば、それを隠蔽する遮光部
の面積を小さくすることができ、よって遮光部による画
素開口率の減少を最小限に抑えることができ、全体とし
て明るく、視角特性の優れた液晶表示装置を提供するこ
とができる。また、本発明によれば、全作製工程に新た
な工程を追加することなく、画素電極の形状を変更する
だけで、上述したような大きな効果が得られ、ディスク
リネーションあるいは画素電極の切り込み部あるいはそ
の両方を隠蔽する遮光部、及び画素電極の分断を防止す
る分断防止端子を形成する場合においても、既存の導電
性薄膜層により形成することが可能であるため、新たに
工程を追加する必要がなく、コスト及び歩留まり等の点
で好ましい。

【００８２】以上述べたように本発明の効果は非常に大
きいものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の液晶表示装置の構成を示す平面図で
ある。

【図２】実施例１の液晶表示装置のゲートバスライン近
傍での構成を示す断面図である。

【図３】（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ、基板に対する配
向処理を示す図である。

【図４】比較例１の液晶表示装置の構成を示す平面図で
ある。

【図５】実施例２の液晶表示装置の構成を示す平面図で
ある。

【図６】実施例３の液晶表示装置の構成を示す平面図で
ある。

【図７】（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ、基板に対する配
向処理を示す図である。

【図８】実施例４の液晶表示装置の構成を示す平面図で
ある。

【図９】実施例４の液晶表示装置のゲートバスライン近
傍での構成を示す断面図である。

【図１０】実施例４の液晶表示装置の画素電極の中央部
の構成を示す断面図である。

【図１１】実施例４の液晶表示装置の画素電極の中央部
の構成を示す断面図である。

【図１２】比較例４の液晶表示装置の構成を示す平面図
である。

【図１３】実施例５の液晶表示装置の構成を示す平面図
である。

【図１４】実施例６の液晶表示装置の構成を示す平面図
である。

【図１５】実施例７の液晶表示装置の構成を示す平面図
である。

【図１６】実施例８の液晶表示装置の構成を示す平面図
である。

【図１７】実施例９の液晶表示装置の構成を示す平面図
である。

【図１８】実施例１０の液晶表示装置の構成を示す平面
図である。

【図１９】実施例５の構成においてリバースチルトドメ
インが発生した例を示す平面図である。

【図２０】実施例１１の液晶表示装置の構成を示す平面
図である。

【符号の説明】

１１第１の基板１２第２の基板２０液晶２１液晶分子２２配向処理区分の境界２３ディスクリネーション２５蓄積容量部２６遮光部３１，３２配向膜３５第１の配向剤層３６第２の配向剤層４０レジスト５４能動素子５５ゲートバスライン５６ドレインバスライン５７絶縁層５８蓄積容量端子７１画素電極７２共通電極７４切り込み部７５分断防止端子８０ラビングローラＡ，Ｂ領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木成嘉東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式会社内 (72)発明者芝原栄男東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式会社内 (72)発明者平井良彦東京都港区芝五丁目７番１号日本電気株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対向して設けられた第１の基板及び第２の
基板と、前記第１の基板上にマトリックス状に設けられ
た画素電極と、前記画素電極ごとに少なくとも一つずつ
前記第１の基板上に設けられ対応する画素電極を駆動す
る能動素子と、前記第１の基板上に設けられ前記各能動
素子がそれぞれ接続されるゲートバスライン及びドレイ
ンバスラインと、前記第２の基板上に設けられた共通電
極と、前記第１の基板及び前記第２の基板の間に挟持さ
れた液晶とを有し、前記液晶の配向状態が微小な領域ごとに異なるように、
前記第１の基板及び前記第２の基板の少なくとも一方が
前記微小な領域に対応して区分して配向処理されている
液晶表示装置において、配向処理区分の境界の少なくとも１つが前記画素電極を
横切るように位置し、前記画素電極を横切るように位置する前記配向処理区分
の境界の少なくとも１つに整合して、前記画素電極がそ
の平面形状において少なくとも一つの切り込み部を有し
ていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】前記液晶の配向状態の異なる微小な領域の
うち少なくとも一つの領域において、前記両基板間に挟
持された液晶がツイステッドネマチック型の配向状態に
ある請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】前記画素電極を横切る位置に設定された前
記配向処理区分の境界の少なくとも１つに整合して、前
記第１の基板あるいは前記第２の基板あるいはその両方
の基板上に、ディスクリネーションあるいは前記切り込
み部あるいはその両方を隠蔽する遮光部が設けられてい
る請求項１あるいは請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】前記遮光部が、前記ゲートバスラインを構
成する導電性薄膜層と同一の層で構成されるか、あるい
は前記ドレインバスラインを構成する導電性薄膜層と同
一の層で構成されるか、あるいはその両方で構成される
請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】前記切り込み部のうち少なくとも一つの切
り込み部の近傍に、前記第１の基板上に設けられ前記画
素電極に電気的に接続される分断防止端子を有する請求
項１〜請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】前記分断防止端子が、前記ゲートバスライ
ンを構成する導電性薄膜層と同一の層で構成されるか、
あるいは前記ドレインバスラインを構成する導電性薄膜
層と同一の層で構成されるか、あるいはその両方で構成
される請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項７】前記分断防止端子の少なくとも一部が前記
遮光部の少なくとも一部を兼ねる請求項５あるいは請求
項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】前記画素電極を横切るように位置する前記
配向処理区分の境界のうち少なくとも一つの境界の両側
の各々の微小な領域において、両基板間中央部付近の液
晶分子が、電圧印加時に、該液晶分子の両端部のうち該
境界から遠い側の端部が前記第１の基板から離れる方向
に立ち上がるように、前記配向処理がなされている請求
項１〜請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項９】前記切り込み部の少なくとも一つの形状
が、前記微小な領域のうち少なくとも一つの領域におい
て、前記画素電極の部位のうち、前記配向処理区分の境
界が該画素電極の辺を横切っている位置の近傍の部位で
且つ前記第１の基板の表面近傍の液晶分子の長手方向に
位置する部位を切り取る形状である請求項８記載の液晶
表示装置。
【請求項１０】前記画素電極を横切るように位置する前
記配向処理区分の境界のうち少なくとも一つの境界の両
側の各々の微小な領域において、両基板間中央部付近の
液晶分子が、電圧印加時に、該液晶分子の両端部のうち
該境界に近い側の端部が前記第１の基板から離れる方向
に立ち上がるように、前記配向処理がなされている請求
項１〜請求項７記載の液晶表示装置。
【請求項１１】前記切り込み部の少なくとも一つの形状
が、前記配向処理区分の境界に沿って前記切り込み部の
長手方向が位置するような細長い形状である請求項１０
記載の液晶表示装置。
【請求項１２】前記細長い形状である切り込み部の少な
くとも一つにおいて、該切り込み部の長手方向の中心線
の位置が該配向処理区分の境界位置と概ね一致する請求
項１１記載の液晶表示装置。
【請求項１３】前記細長い形状である切り込み部の少な
くとも一つの形状が、前記画素電極に細長い穴をあける
形状である請求項１１あるいは請求項１２記載の液晶表
示装置。
【請求項１４】前記細長い形状である切り込み部の少な
くとも一つの形状が、前記画素電極の両側あるいは片側
から該配向処理区分の境界に沿って該画素電極を切り込
む形状である請求項１１あるいは請求項１２記載の液晶
表示装置。
【請求項１５】前記切り込み部のうち、前記画素電極の
両側あるいは片側から該配向処理区分の境界に沿って該
画素電極を切り込む形状である切り込み部に付随する画
素電極の角部の少なくとも一つに面取りが施されている
請求項１４記載の液晶表示装置。
【請求項１６】前記微小な領域のうち少なくとも一つの
領域において、前記切り込み部に付随する画素電極の角
部のうち、前記第１の基板表面の液晶分子の長手方向と
は異なる方向に位置する角部に面取りが施されている請
求項１５記載の液晶表示装置。
【請求項１７】前記配向処理区分の境界の少なくとも一
つが、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように
且つ少なくとも一部が前記ゲートバスラインと前記画素
電極との間に位置するように設定されており、該境界の
両側の各々の微小な領域において、両基板間中央部付近
の液晶分子が、電圧印加時に、該液晶分子の両端部のう
ち該境界に近い側の端部が前記第１の基板から離れる方
向に立ち上がるように、前記配向処理がなされている請
求項１〜請求項１６記載の液晶表示装置。
【請求項１８】前記画素電極が、あるいは前記画素電極
ごとに前記第１の基板上に設けられその画素電極に接続
された蓄積容量端子が、またあるいはその両方が、その
画素電極を駆動する能動素子に接続するゲートバスライ
ンとは異なるゲートバスラインに対して、絶縁層を介し
て重なり部を有して蓄積容量部を形成しており、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように且つ少
なくとも一部が前記ゲートバスラインと前記画素電極と
の間に位置するように設定されている前記配向処理区分
の境界のうち少なくとも一つが、前記画素電極とその画
素電極を駆動する能動素子に接続するゲートバスライン
との間に設けられている請求項１７記載の液晶表示装
置。
【請求項１９】前記配向処理区分の境界の少なくとも一
つが、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように
且つ少なくとも一部が前記ゲートバスライン上に位置す
るように設定されており、該境界の両側の各々の微小な
領域において、両基板間中央部付近の液晶分子が、電圧
印加時に、該液晶分子の両端部のうち該境界から遠い側
の端部が前記第１の基板から離れる方向に立ち上がるよ
うに、前記配向処理がなされている請求項１〜請求項１
６記載の液晶表示装置。
【請求項２０】前記ゲートバスラインの延びる方向に沿
うように且つ少なくとも一部が前記ゲートバスライン上
に位置するように設定されている前記配向処理区分の境
界が、そのゲートバスラインの、ゲートバスラインの延
びる方向に直交する方向での幅の、ほぼ中央部を通る請
求項１９記載の液晶表示装置。
【請求項２１】前記画素電極が、あるいは前記画素電極
ごとに前記第１の基板上に設けられその画素電極に接続
された蓄積容量端子が、またあるいはその両方が、その
画素電極を駆動する能動素子に接続するゲートバスライ
ンとは異なるゲートバスラインに対して、絶縁層を介し
て重なり部を有して蓄積容量部を形成しており、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように且つ少
なくとも一部が前記ゲートバスライン上に位置するよう
に設定されている前記配向処理区分の境界が、前記ゲー
トバスライン上でドレインバスラインあるいは蓄積容量
端子等の他の配線あるいは電極が重なっていない部分の
形状を大まかに長方形とみなした場合の該長方形の幅を
ほぼ二等分するような位置に設定されている請求項１９
記載の液晶表示装置。
【請求項２２】前記画素電極の各辺のうち、前記配向処
理区分の境界の少なくとも一つが横切っておりかつ前記
ゲートバスラインあるいは前記ドレインバスラインの延
びる方向に沿った辺のうち少なくとも一つの辺の形状
が、その辺とその辺に沿ったゲートバスラインあるいは
ドレインバスラインとの間隔が前記配向処理区分の境界
の両側で異なるような変形形状であることを特徴とする
請求項１〜請求項２１記載の液晶表示装置。
【請求項２３】前記各微小な領域において、前記第１の
基板の表面近傍の液晶分子の両端部のうち、両基板間中
央部付近から前記第１の基板の表面に向かって液晶分子
の配向方向をたどったときに、両基板間中央部付近の液
晶分子の両端部のうち電圧印加時に第１の基板から離れ
るように立ち上がる端部に対応する端部の方向を第１の
基板の表面近傍での実質的なプレチルト方向と定義した
場合、前記変形形状である辺の少なくとも一つの形状が、該変
形形状である辺の部位のうち、第１の基板の表面近傍で
の実質的なプレチルト方向とは逆の方向に位置する部位
において、その辺とその辺に沿ったゲートバスラインあ
るいはドレインバスラインとの間隔がそれ以外の部位に
おけるよりも大きいような形状である請求項２２記載の
液晶表示装置。
【請求項２４】対向して設けられた第１の基板及び第２
の基板と、前記第１の基板上にマトリックス状に設けら
れた画素電極と、前記画素電極ごとに少なくとも一つず
つ前記第１の基板上に設けられ対応する画素電極を駆動
する能動素子と、前記第１の基板上に設けられ前記各能
動素子がそれぞれ接続されるゲートバスライン及びドレ
インバスラインと、前記第２の基板上に設けられた共通
電極と、前記第１の基板及び前記第２の基板の間に挟持
された液晶とを有し、前記液晶の配向状態が微小な領域ごとに異なるように、
前記第１の基板及び前記第２の基板の少なくとも一方が
前記微小な領域に対応して区分して配向処理されている
液晶表示装置において、配向処理区分の境界の少なくとも１つが前記画素電極を
横切るように位置し、前記画素電極の各辺のうち、前記配向処理区分の境界の
少なくとも一つが横切っておりかつ前記ゲートバスライ
ンあるいは前記ドレインバスラインの延びる方向に沿っ
た辺のうち少なくとも一つの辺の形状が、その辺とその
辺に沿ったゲートバスラインあるいはドレインバスライ
ンとの間隔が前記配向処理区分の境界の両側で異なるよ
うな変形形状であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２５】前記液晶の配向状態の異なる微小な領域
のうち少なくとも一つの領域において、前記両基板間に
挟持された液晶がツイステッドネマチック型の配向状態
にある請求項２４記載の液晶表示装置。
【請求項２６】前記各微小な領域において、前記第１の
基板の表面近傍の液晶分子の両端部のうち、両基板間中
央部付近から前記第１の基板の表面に向かって液晶分子
の配向方向をたどったときに、両基板間中央部付近の液
晶分子の両端部のうち電圧印加時に第１の基板から離れ
るように立ち上がる端部に対応する端部の方向を第１の
基板の表面近傍での実質的なプレチルト方向と定義した
場合、前記変形形状である辺の少なくとも一つの形状が、該変
形形状である辺の部位のうち、第１の基板の表面近傍で
の実質的なプレチルト方向とは逆の方向に位置する部位
において、その辺とその辺に沿ったゲートバスラインあ
るいはドレインバスラインとの間隔がそれ以外の部位に
おけるよりも大きいような形状である請求項２４あるい
は請求項２５記載の液晶表示装置。
【請求項２７】前記画素電極を横切る位置に設定された
前記配向処理区分の境界の少なくとも１つに整合して、
前記第１の基板あるいは前記第２の基板あるいはその両
方の基板上に、ディスクリネーションを隠蔽する遮光部
が設けられている請求項２４あるいは請求項２６記載の
液晶表示装置。
【請求項２８】前記遮光部が、前記ゲートバスラインを
構成する導電性薄膜層と同一の層で構成されるか、ある
いは前記ドレインバスラインを構成する導電性薄膜層と
同一の層で構成されるか、あるいはその両方で構成され
る請求項２７記載の液晶表示装置。
【請求項２９】前記画素電極を横切るように位置する前
記配向処理区分の境界のうち少なくとも一つが境界の両
側の各々の微小な領域において、両基板間中央部付近の
液晶分子が、電圧印加時に、該液晶分子の両端部のうち
該境界から遠い側の端部が前記第１の基板から離れる方
向に立ち上がるように、前記配向処理がなされている請
求項２４〜請求項２８記載の液晶表示装置。
【請求項３０】前記画素電極を横切るように位置する前
記配向処理区分の境界のうち少なくとも一つの境界の両
側の各々の微小な領域において、両基板間中央部付近の
液晶分子が、電圧印加時に、該液晶分子の両端部のうち
該境界に近い側の端部が前記第１の基板から離れる方向
に立ち上がるように、前記配向処理がなされている請求
項２４〜請求項２８記載の液晶表示装置。
【請求項３１】前記配向処理区分の境界の少なくとも一
つが、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように
且つ少なくとも一部が前記ゲートバスラインと前記画素
電極との間に位置するように設定されており、該境界の
両側の各々の微小な領域において、両基板間中央部付近
の液晶分子が、電圧印加時に、該液晶分子の両端部のう
ち該境界に近い側の端部が前記第１の基板から離れる方
向に立ち上がるように、前記配向処理がなされている請
求項２４〜請求項３０記載の液晶表示装置。
【請求項３２】前記画素電極が、あるいは前記画素電極
ごとに前記第１の基板上に設けられその画素電極に接続
された蓄積容量端子が、またあるいはその両方が、その
画素電極を駆動する能動素子に接続するゲートバスライ
ンとは異なるゲートバスラインに対して、絶縁層を介し
て重なり部を有して蓄積容量部を形成しており、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように且つ少
なくとも一部が前記ゲートバスラインと前記画素電極と
の間に位置するように設定されている前記配向処理区分
の境界のうち少なくとも一つが、前記画素電極とその画
素電極を駆動する能動素子に接続するゲートバスライン
との間に設けられている請求項３１記載の液晶表示装
置。
【請求項３３】前記配向処理区分の境界の少なくとも一
つが、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように
且つ少なくとも一部が前記ゲートバスライン上に位置す
るように設定されており、該境界の両側の各々の微小な
領域において、両基板間中央部付近の液晶分子が、電圧
印加時に、該液晶分子の両端部のうち該境界から遠い側
の端部が前記第１の基板から離れる方向に立ち上がるよ
うに、前記配向処理がなされている請求項２４〜請求項
３０記載の液晶表示装置。
【請求項３４】前記ゲートバスラインの延びる方向に沿
うように且つ少なくとも一部が前記ゲートバスライン上
に位置するように設定されている前記配向処理区分の境
界が、そのゲートバスラインの、ゲートバスラインの延
びる方向に直交する方向での幅の、ほぼ中央部を通る請
求項３３記載の液晶表示装置。
【請求項３５】前記画素電極が、あるいは前記画素電極
ごとに前記第１の基板上に設けられその画素電極に接続
された蓄積容量端子が、またあるいはその両方が、その
画素電極を駆動する能動素子に接続するゲートバスライ
ンとは異なるゲートバスラインに対して、絶縁層を介し
て重なり部を有して蓄積容量部を形成しており、前記ゲートバスラインの延びる方向に沿うように且つ少
なくとも一部が前記ゲートバスライン上に位置するよう
に設定されている前記配向処理区分の境界が、前記ゲー
トバスライン上でドレインバスラインあるいは蓄積容量
端子等の他の配線あるいは電極が重なっていない部分の
形状を大まかに長方形とみなした場合の該長方形の幅を
ほぼ二等分するような位置に設定されている請求項３３
記載の液晶表示装置。
【請求項３６】前記各微小な領域において、前記第１の
基板の表面近傍の液晶分子の両端部のうち、両基板間中
央部付近から前記第１の基板の表面に向かって液晶分子
の配向方向をたどったときに、両基板間中央部付近の液
晶分子の両端部のうち電圧印加時に第１の基板から離れ
るように立ち上がる端部に対応する端部の方向を第１の
基板の表面近傍での実質的なプレチルト方向としたとき
に、前記微小な領域のうち、前記能動素子が配置されている
微小な領域の少なくとも一つにおいて、該微小な領域に
おける実質的プレチルトの方向とは逆側の位置に該能動
素子が配置されている請求項１〜請求項３５記載の液晶
表示装置。