JPH08248367A - 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 輝点欠陥絵素を修正するために偏光板に凹陥
加工部を形成した場合であっても、機械的強度、透過率
および偏光度が低下せず、安定した表示特性を得る。 【構成】 基板部材６，７間に液晶層８が介在された液
晶パネル４の表面に、偏光板２，３がそれぞれ貼り合わ
せられる。また、偏光板２の液晶パネル４とは反対側に
光源５が配置される。輝点欠陥絵素に対し、前記光源５
からの光１６が輝点欠陥絵素を通る光路上であって、た
とえば偏光板２の液晶パネル４とは反対側の第１保護膜
表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加工部１７が形成され
る。さらに、凹陥加工部１７を覆って第２保護膜が形成
される。入射光および出射光は、凹陥加工部１７によっ
て散乱し、輝点欠陥絵素は目立たなくなる。第２保護膜
によって偏光子の機械的強度が向上し、また透過率や偏
光度の低下を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネルの輝点欠陥
絵素を修正するために偏光板を加工した場合であって
も、当該偏光板の機能が低下しない液晶表示装置の製造
方法および液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一対の偏光板間に透過型の液晶パネルを
配置し、前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板
側から、入射面に対して概ね垂直な光を入射させ、他方
偏光板側から出射する光のうちの、光軸に対して垂直な
光を観察する液晶表示装置として、たとえばプロジェク
ション装置に使用されるアクティブマトリクス駆動方式
の液晶表示装置がある。当該液晶表示装置の液晶パネル
は、一対の基板部材のうちの一方基板部材が、マトリク
ス状に配置される絵素電極と、各絵素電極に接続される
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子とを有する。液晶表示
素子は、前記ＴＦＴ素子のスイッチング動作によって、
各絵素電極を選択／非選択し、これによって光を透過／
遮断して表示を行う。このようなアクティブマトリクス
駆動方式の液晶表示装置は、単純マトリクス駆動方式の
欠点である非選択時のクロストークが発生せず、高画質
な表示を実現することができる。

【０００３】しかしながら、前記ＴＦＴ素子は、たとえ
ばガラスなどの透光性基板上に、ゲート電極、ソース電
極およびドレイン電極などを積層した多層構造で構成さ
れるので、これらの金属薄膜を透光性基板上に積層する
工程と、前記金属薄膜を所定の形状にパターン形成する
工程とを繰返すことによって形成される。このため、断
線や短絡のないＴＦＴ素子を形成するためには、各工程
において、所定の製造条件を確実に維持し、管理するた
めに非常な努力を要する。

【０００４】また、場合によっては正常なＴＦＴ特性が
得られない欠陥ＴＦＴ素子を生ずることもあり、欠陥が
修復可能なものは、その欠陥に対応した修正技術を用い
て修復が図られる。欠陥ＴＦＴ素子は、光源からの光が
出射しないように液晶の配向状態を制御したときに、欠
陥ＴＦＴ素子に接続された絵素電極に相当する絵素が、
輝点となって認識される輝点欠陥絵素によって識別する
ことができる。

【０００５】図１０は、輝点欠陥絵素の修正方法を説明
するための図である。また図１１は、液晶表示装置の輝
点修正領域４８を示す平面図である。さらに図１２は、
修正が施された偏光板４２を示す断面図である。

【０００６】液晶表示装置４１は、一対の偏光板４２，
４３と、当該偏光板間に配置され、一対の基板部材４
５，４６間に液晶が介在されて構成される液晶パネル４
４とを含んで構成される。前記一対の基板部材４５，４
６のうちのいずれか一方基板部材は、前述した複数の絵
素電極と各絵素電極に接続されるＴＦＴ素子とを少なく
とも有する。液晶表示装置４１で生じた輝点欠陥絵素４
７ａは、光入射側の偏光板４２の液晶パネル４４とは反
対側表面付近であって、前記輝点欠陥絵素４７ａに対応
する領域に凹陥加工部５５が形成されて修正される。図
１１中の符号４７は、輝点欠陥絵素でない正常な絵素を
表している。凹陥加工部５５の底面は、光散乱特性を示
すよう凹凸状に形成されており、これによって光源から
輝点欠陥絵素４７ａに入射した光を散乱して減光し、当
該輝点欠陥絵素４７ａを目立たないようにする。

【０００７】ここで、前記凹陥加工部５５が形成される
偏光板４２の領域は、輝点欠陥絵素４７ａに入射する光
源からの光の光路上に選ばれる。すなわち、コンデンサ
レンズ４９を通して液晶表示装置４１に入射し、投影レ
ンズ５０に収束される光のうちの、輝点欠陥絵素４７ａ
を通過する光路５１に相当する偏光板４２の表面の領域
が選ばれる。

【０００８】また、偏光板４２，４３は、図１２に示さ
れるように、ヨウ素および染料を分散させたポリビニル
アルコール（以下、「ＰＶＡ」という）などで実現され
る偏光子５２と、当該偏光子５２の表面を覆う２枚の保
護膜５３とを含んで構成される。保護膜５３は、たとえ
ばトリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」という）
で実現され、偏光子５２の機械的強度を補強するため
に、および分散させているヨウ素および染料の変質や劣
化を、光、温度（熱）および湿気などから保護するため
のものである。

【０００９】前記凹陥加工部５５は、偏光板４２の保護
膜５３表面付近に形成される。たとえば、エキシマレー
ザなどによるレーザエッチングや、ヤスリおよびタイヤ
モンド針などによる触刻によって形成される。また、凹
陥加工部５５の大きさは、液晶表示装置４１の大きさや
精細さによって異なるけれども、たとえば矩形の領域を
加工する場合、その長手方向が約２０μｍ〜２５０μｍ
に選ばれる。このように、偏光板４２を加工する輝点欠
陥修正が採用されるのは、プロジェクション装置など
の、輝点欠陥絵素と修正箇所との光軸が常に一定となる
ような表示装置に限られ、たとえば直視型のように視角
が一定でないものに採用しても、その効果は低い。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
輝点欠陥絵素の修正方法では、偏光板４２の保護膜５３
を触刻して凹陥加工部５５を形成するため、保護膜５３
の厚みが薄くなる。通常、保護膜５３の厚みは、偏光子
５２の充分な保護機能を得るために、少なくとも６０μ
ｍ〜７０μｍ程度が必要であり、通常、８０μｍに選ば
れる。しかしながら、このような充分な厚みを有してい
ても、場合によっては加工によって偏光子５２が傷つく
こともあり、偏光子５２の形状が変形したり、分散され
たヨウ素および染料などの配向の程度が低下して、偏光
度が低下する。また、水、温度（熱）および湿気などの
影響を受けて色あせしたり、透過率が低下する。

【００１１】本発明の目的は、偏光板に凹陥加工部を形
成して輝点欠陥絵素を修正しても、偏光子の機械的強度
が低下せず、偏光特性の信頼性が低下することのない液
晶表示装置の製造方法およびこのような液晶表示装置を
提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、偏光子と、当
該偏光子を介在する２枚の第１保護膜とを含んでそれぞ
れ構成される一対の偏光板と、前記一対の偏光板間に配
置され、液晶の配向状態が、マトリクス状に配列された
複数の絵素の各絵素毎に制御される液晶パネルと、前記
一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パネル
とは反対側に配置され、光入射面に対して概ね垂直に光
を照射する光源とを備える液晶表示装置の製造方法にお
いて、一対の偏光板間に液晶パネルを配置し、前記一対
の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パネルとは
反対側に光源を配置する工程と、前記光源からの光が他
方偏光板側から出射しないように液晶の配向状態を制御
したときに光が出射する輝点欠陥絵素に対し、前記光源
からの光が前記輝点欠陥絵素を通る光路上であって、前
記一対の偏光板のうちの少なくともいずれか一方偏光板
の液晶パネルとは反対側の第１保護膜表面付近に、底面
が凹凸状の凹陥加工部を形成する工程と、少なくとも前
記凹陥加工部を覆って第２保護膜を形成する工程とを含
むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。ま
た本発明は、偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の第
１保護膜とを含んでそれぞれ構成される一対の偏光板
と、前記一対の偏光板間に配置され、液晶の配向状態
が、マトリクス状に配列された複数の絵素の各絵素毎に
制御される液晶パネルと、前記一対の偏光板のうちのい
ずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側に配置され、
光入射面に対して概ね垂直に光を照射する光源とを備え
る液晶表示装置の製造方法において、一対の偏光板間に
液晶パネルを配置し、前記一対の偏光板のうちのいずれ
か一方偏光板の液晶パネルとは反対側に光源を配置する
工程と、前記光源からの光が他方偏光板側から出射しな
いように液晶の配向状態を制御したときに光が出射する
輝点欠陥絵素に対し、少なくとも前記光源からの光が前
記輝点欠陥絵素を通る光路上であって、前記一対の偏光
板のうちの少なくともいずれか一方偏光板の液晶パネル
とは反対側の第１保護膜上に、第２保護膜を形成する工
程と、前記光路上であって、第２保護膜と接する第１保
護膜の表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加工部を形成す
る工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法である。さらに本発明の前記第１保護膜は、特定波長
帯域の光を吸収する材料から成り、前記第２保護膜は、
前記特定波長帯域の光を透過する材料から成り、前記凹
陥加工部を、前記特定波長帯域の光を照射することによ
って形成することを特徴とする。また本発明は、偏光子
と、当該偏光子を介在する２枚の第１保護膜とを含んで
それぞれ構成される一対の偏光板と、前記一対の偏光板
間に配置され、液晶の配向状態が、マトリクス状に配列
された複数の絵素の各絵素毎に制御される液晶パネル
と、前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液
晶パネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね
垂直に光を照射する光源とを備える液晶表示装置の製造
方法において、一対の偏光板間に液晶パネルを配置し、
前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パ
ネルとは反対側に光源を配置する工程と、前記光源から
の光が他方偏光板側から出射しないように液晶の配向状
態を制御したときに光が出射する輝点欠陥絵素に対し、
少なくとも前記光源からの光が前記輝点欠陥絵素を通る
光路上であって、前記一対の偏光板のうちの少なくとも
いずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側の第１保護
膜上に、第２保護膜を形成する工程と、前記光路上であ
って、第２保護膜の表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加
工部を形成する工程とを含むことを特徴とする液晶表示
装置の製造方法である。さらにまた本発明は、偏光子
と、当該偏光子を介在する２枚の第１保護膜とを含んで
それぞれ構成される一対の偏光板と、前記一対の偏光板
間に配置され、液晶の配向状態が、マトリクス状に配列
された複数の絵素の各絵素毎に制御される液晶パネル
と、前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液
晶パネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね
垂直に光を照射する光源とを備える液晶表示装置におい
て、前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないよ
うに液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝点
欠陥絵素に対し、前記光源からの光が前記輝点欠陥絵素
を通る光路上であって、前記一対の偏光板のうちの少な
くともいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側の第
１保護膜表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加工部が形成
され、少なくとも前記凹陥加工部を覆う保護膜を含むこ
とを特徴とする液晶表示装置である。また本発明は、偏
光子と、当該偏光子を介在する２枚の第１保護膜とを含
んでそれぞれ構成される一対の偏光板と、前記一対の偏
光板間に配置され、液晶の配向状態が、マトリクス状に
配列された複数の絵素の各絵素毎に制御される液晶パネ
ルと、前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の
液晶パネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概
ね垂直に光を照射する光源とを備える液晶表示装置にお
いて、前記光源からの光が他方偏光板側から出射しない
ように液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝
点欠陥絵素に対し、少なくとも前記光源からの光が前記
輝点欠陥絵素を通る光路上であって、前記一対の偏光板
のうちの少なくともいずれか一方偏光板の液晶パネルと
は反対側の第１保護膜上に形成される第２保護膜を含
み、前記光路上であって、前記第２保護膜の表面付近
に、底面が凹凸状の凹陥加工部が形成されていることを
特徴とする液晶表示装置である。

【００１３】

【作用】本発明に従えば、一対の偏光板間に液晶パネル
が配置され、前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏
光板の液晶パネルとは反対側に光源が配置される。偏光
板は、偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の第１保護
膜とを含んで構成される。光源は、光の入射面に対して
概ね垂直に光を照射するようにして配置される。次に、
輝点欠陥絵素があるかないかが検査される。すなわち、
前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないように
液晶の配向状態を制御したときに、光が出射する絵素が
輝点欠陥絵素として判断される。輝点欠陥絵素がある場
合、当該絵素に対し、前記光源からの光が輝点欠陥絵素
を通る光路上であって、前記一対の偏光板のうちの少な
くともいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側にあ
る第１保護膜表面付近に、凹陥加工部が形成される。凹
陥加工部は、底面が凹凸状となるように形成される。次
に、少なくとも前記凹陥加工部を覆うように第２保護膜
が形成される。

【００１４】このように、底面が凹凸状の凹陥加工部を
形成することによって、入射光が散乱するので、輝点欠
陥絵素に入射する光および当該輝点欠陥絵素から出射す
る光が減少し、輝点欠陥絵素が目立たなくなる。また、
前記凹陥加工部を覆って第２保護膜が形成されるので、
凹陥加工部を形成することによる偏光子の機械的強度の
低下が防止できる。また、偏光子が物理的要因によって
傷つくことや、光、温度（熱）および湿気などによって
変色することなどを防止することができる。また、偏光
子中の分散されたヨウ素および染料の配向の程度が低下
することが防止でき、偏光度の低下を防ぐことができ
る。したがって、偏光板の信頼性が向上し、表示特性が
低下することのない液晶表示装置を実現することができ
る。

【００１５】また、上述したような液晶表示装置は、次
のようにしても作成することができる。すなわち、先
ず、一対の偏光板間に液晶パネルを配置し、いずれか一
方偏光板の液晶パネルとは反対側に光源を配置する。次
に、前述した凹陥加工部を形成すべき偏光板の第１保護
膜上に、第２保護膜を形成する。さらに、第２保護膜と
接する第１保護膜の表面付近に、前記凹陥加工部を形成
する。

【００１６】また好ましくは、前記第１保護膜は、特定
波長帯域の光を吸収する材料から成り、第２保護膜は前
記特定波長帯域の光を透過する材料から成り、前記凹陥
加工部は、前記特定波長帯域の光を照射することによっ
て形成される。たとえば、前記特定波長帯域として紫外
光帯域が選ばれ、凹陥加工部を形成するための光として
は、紫外光帯域である１００ｎｍ〜４００ｎｍの光、好
ましくは３８０ｎｍ以下の波長帯域の紫外線レーザを用
いることができる。第１保護膜上に形成される第２保護
膜は、特定波長帯域の光を透過するので、凹陥加工部を
形成する前に第２保護膜を形成しても、照射光が第２保
護膜を透過し、第１保護膜で吸収され、第１保護膜に凹
陥加工部を形成することができる。

【００１７】また本発明に従えば、先ず、一対の偏光板
間に液晶パネルが配置され、前記一対の偏光板のうちの
いずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側に、光源が
配置される。次に、輝点欠陥絵素の検査が行われ、輝点
欠陥絵素がある場合には、少なくとも前記光源からの光
が輝点欠陥絵素を通る光路上であって、前記一対の偏光
板のうちの少なくともいずれか一方偏光板の液晶パネル
とは反対側の第１保護膜上に、第２保護膜が形成され
る。続いて、前記光路上であって、第２保護膜の表面付
近に、底面が凹凸状の凹陥加工部が形成される。

【００１８】このようにして形成される液晶表示装置で
あっても、前述したのと同様に輝点欠陥絵素を目立たな
くすることができるとともに、偏光子の機械的強度が向
上し、かつ偏光特性が低下することが防止でき、表示特
性が低下することのない液晶表示装置を実現することが
できる。

【００１９】

【実施例】図１は、本発明の一実施例である液晶表示装
置１の構成を示す断面図である。液晶表示装置１は、一
対の偏光板２，３、液晶パネル４および光源５を含んで
構成される。偏光板２，３は、後述するように、共に偏
光子と当該偏光子の表面に貼り付けられる保護膜とを含
んで構成される。液晶パネル４は、一対の基板部材６，
７間に液晶層８を介在して構成され、前記一対の偏光板
２，３間に配置される。光源５は、前記一対の偏光板
２，３のうちのいずれか一方偏光板、たとえば偏光板２
の液晶パネル４とは反対側に配置され、光の入射面に対
して概ね垂直に光１６を照射するようにして配置され
る。このような液晶表示装置１は、たとえばプロジェク
ション装置などに使用され、偏光板３側から出射する光
のうちの、光軸に対して垂直な光が観察される。プロジ
ェクション装置では、光軸に対して約±１０°の範囲で
液晶パネルを傾けて使用することがあり、光源５は、前
述したように、光の入射面に対して概ね垂直に光１６を
照射するように配置される。

【００２０】前記液晶パネル４の一方基板部材７は、マ
トリクス状に配置される絵素電極１４と、当該絵素電極
１４への表示用の信号をスイッチングするＴＦＴ素子１
５とを有し、絵素電極１４およびＴＦＴ素子１５は、た
とえばガラスなどで実現される透光性基板１３上に形成
される。また、他方基板部材６は、少なくとも前記絵素
電極１４に対向する領域に設けられるカラーフィルタ１
０と、カラーフィルタ１０以外の領域に設けられる遮光
膜１１と、カラーフィルタ１０および遮光膜１１を覆っ
て形成される対向電極１２とを有し、カラーフィルタ１
０、遮光膜１１および対向電極１２は、たとえばガラス
などで実現される透光性基板９上に形成される。なお、
前記他方基板部材６において、前記絵素電極１４に対向
する領域にカラーフィルタ１０を設けない場合もある。

【００２１】このような基板部材６，７は、絵素電極１
４と対向電極１２とが対向するようにして配置され、当
該基板部材間には液晶層８が配置される。液晶層８は、
たとえば前記基板部材間で９０°あるいはそれ以上捩れ
配向するツイステッドネマティック液晶で実現される。
基板部材６の液晶層８とは反対側表面に偏光板２が貼り
合わせられ、基板部材７の液晶層８とは反対側表面に偏
光板３が貼り合わせられる。

【００２２】光源５から光１６を照射し、偏光板２側か
ら入射した光が偏光板３側から出射しないように液晶層
８の液晶分子の配向状態を制御し、このときに、出射す
る光があるかないかによって輝点欠陥絵素が検査され
る。たとえば、図示されるＴＦＴ素子１５ａに欠陥が生
じていた場合、当該ＴＦＴ素子１５ａに接続される絵素
電極１４ａの領域が輝点欠陥絵素となる。検出された輝
点欠陥絵素に対しては、後述するような修正法によっ
て、たとえば偏光板２の表面、すなわち偏光子を保護す
る保護膜に凹陥加工部１７が形成される。なお、凹陥加
工部１７は、光入射側の偏光板２に限らず、光出射側の
偏光板３に形成してもよく、また両方の偏光板２，３に
形成してもよい。なお、凹陥加工部１７は、プロジェク
ション装置などの使用条件、すなわち実際の使用時にお
ける液晶パネルの傾き角度を考慮して形成される。これ
によって、凹陥加工部１７と輝点欠陥絵素との位置ずれ
をなくすことができる。

【００２３】図２は、本発明の第１の実施例である液晶
表示装置の製造方法を示す工程図である。また、図３
は、各工程を説明するための断面図である。図３（Ａ）
を参照して、前記偏光板２，３を実現する偏光板２３
は、偏光子２１と、当該偏光子２１の表面に貼り付けら
れる２枚の保護膜（以後、当該保護膜を第１保護膜とい
う）２２とを含んで構成される。偏光子２１は、たとえ
ばＰＶＡにヨウ素および染料を分散させ、当該ＰＶＡを
延伸することによって作成される。また、第１保護膜２
２は、たとえばＴＡＣを含む材料で実現される。当該第
１保護膜２２は、偏光子２１の機械的強度を補強するた
めに、またヨウ素および染料の変質や劣化を、光、温度
（熱）および湿気などから保護するために形成される。
第１保護膜２２の膜厚は、偏光子２１の充分な保護機能
を得るために６０μｍ〜７０μｍ必要であり、通常、８
０μｍ程度に選ばれる。

【００２４】工程ａ１では、図３（Ａ）に示される偏光
板２３が図１に示される偏光板２，３として液晶パネル
４の表面にそれぞれ貼り付けられる。また、光源５が配
置される。

【００２５】工程ａ２では、前述したようにして輝点欠
陥絵素の検査が行われ、検出された輝点欠陥絵素に対し
て修正を施すために、凹陥加工部１７が形成される。た
とえば、後述するようにして照射され、図３（Ｂ）に示
されるレーザ光２５によって偏光子２１の液晶パネル４
とは反対側に貼り付けられた第１保護膜２２の表面付近
に、凹陥加工部１７が形成される。凹陥加工部１７の底
面は、粗面な凹凸状に形成され、その深さは、たとえば
偏光子２１に到達しない深さに、たとえば数μｍ〜７０
μｍで形成される。

【００２６】工程ａ３では、第２保護膜２４が形成され
る。当該第２保護膜２４は、少なくとも前記凹陥加工部
１７を覆う領域に、たとえば図３（Ｃ）に示されるよう
に、凹陥加工部１７が形成された第１保護膜２２の全面
に形成される。第２保護膜２４としては、複屈折性を有
さない材料が適しており、たとえば前記第１保護膜２２
と同様のＴＡＣを用いてもよい。またたとえば、アクリ
ル樹脂、ＳｉＯ₂などのＳｉＯ_x、またはガラスを用いて
もよい。形成方法としては、上述した樹脂を塗布する方
法や、蒸着する方法などが選ばれ、またあるいは上述し
た材料から成る板やフィルムを貼り合わせることによっ
て形成してもよい。また、第２保護膜２４の膜厚は、塗
布および蒸着などによって形成する場合、数μｍ〜１０
０μｍに、アクリル樹脂やガラス製の板を貼り合わせる
場合、数１００μｍ〜１ｍｍ程度に形成される。

【００２７】図４は、前記凹陥加工部１７の形成方法の
１例を説明するための図である。前記凹陥加工部１７の
形成に用いられるレーザ光２５としては、たとえばエキ
シマレーザやＹＡＧ（Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂）レーザ（第３高調
波：３５５ｎｍ）などで実現される３８０ｎｍ以下の波
長帯域の光が用いられる。紫外線レーザ発振器３１から
出射したレーザ光２５は、スリットパターン３２を通過
し、紫外線反射ミラー３３で反射され、レンズ３４を通
過して載置台３５上に配置された液晶表示装置１の輝点
修正領域３６に集光されて照射される。図５の斜線を付
して示す輝点修正領域３６は、光源５からの光１６が輝
点欠陥絵素３７ａを通る光路上に選ばれる。このような
方法によって、凹陥加工部１７を形成する例は、たとえ
ば特開平４−３５３８２１号公報に開示されている。レ
ーザ光２５が照射された偏光板２の第１保護膜２２の表
面はレーザエッチングされて、凹部が形成され、さらに
その底面に微細な凹凸が形成される。図５中の符号３７
は、輝点欠陥絵素でない正常な絵素を示している。

【００２８】前記偏光板２３の第１保護膜２２がＴＡＣ
を含む材料から成ることから、前述したような３８０ｎ
ｍ以下の波長のレーザ光２５を用いると、偏光子２１を
傷つけることなく、凹陥加工部１７を形成することがで
きる。すなわち、前記第１保護膜２２は、通常、ＴＡＣ
に紫外線吸収剤を添加したもので実現され、この場合、
３８０ｎｍ以下の波長の透過率がほぼ０％であることか
ら、レーザ光２５の吸収率が高くなり、偏光子２１を傷
付けることが少なくなる。ＴＡＣは、通常、単独では紫
外線を吸収しないので、上述したように紫外線吸収剤が
添加されて用いられる。前記紫外線吸収剤としては、一
般に、サリチル酸誘導体や２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン誘導体などを用いることができ、ＴＡＣとの相性を考
慮してベンゾフェノン系の紫外線吸収剤が用いられる。
また、その添加量は数％程度である。

【００２９】また、本実施例の場合、前記凹陥加工部１
７の形成には、レーザ光２５を用いる方法以外に、他の
方法、たとえばヤスリまたはダイヤモンド針による触刻
によって形成することもできる。前者は、たとえば円錐
形のヤスリを回転させながら偏光板２３に押し当て、か
つ左右に振動させなら所望の大きさに凹陥加工部１７を
形成する。凹陥加工部１７の深さは、ヤスリを押し付け
る度合によって選ぶことができる。また、後者は、ダイ
ヤモンド針によって偏光板２３の表面に引っ掻き傷を付
けることによって、凹陥加工部１７が形成される。この
場合も、凹陥加工部１７の深さは、針を押し付ける度合
によって選ぶことができる。このような形成方法のヤス
リやダイヤモンド針の微細な動きは、マイクロメータな
どによって制御される。また、当該形成方法は、先に説
明したレーザ光２５を用いた加工方法と比べて加工精度
は劣る。

【００３０】図６は、本発明の第２の実施例である製造
方法を示す工程図である。また図７は、前記工程を説明
するための断面図である。第２の実施例は、第２保護膜
２４を形成してから第１保護膜２２に凹陥加工部１７を
形成することを特徴とする。先ず、工程ｂ１では、前記
工程ａ１と同様にして図７（Ａ）に示される偏光板２３
が偏光板２，３として貼り付けられ、また光源５が配置
される。

【００３１】工程ｂ２では、第２保護膜２４が形成され
る。当該第２保護膜２４の形成領域は、第１の実施例と
同様に選ばれ、たとえば図７（Ｂ）に示されるように、
偏光板２３の第１保護膜２２の全面に形成される。

【００３２】工程ｂ３では、図７（Ｃ）に示されるよう
に第１の実施例と同様のレーザ光２５を用いて、第２保
護膜２４に接する第１保護膜２２の表面付近に凹陥加工
部１７が形成される。本実施例では、凹陥加工部１７を
第２保護膜２４ではなく第１保護膜２２に形成するの
で、前記第２保護膜２４としては、３８０ｎｍ以下の波
長の光を透過し、かつ複屈折性を有さない材料が選ばれ
る。たとえば、第１実施例の第２保護膜２４と同様の材
料や、石英などが選ばれる。また第２保護膜２４の形成
方法は、第１の実施例の第２保護膜２４の形成方法の中
から選ばれる。

【００３３】第２の実施例は、第２保護膜２４を形成し
てから第１保護膜２２に凹陥加工部１７を形成するの
で、凹陥加工部１７の形成方法としては、レーザ光２５
を用いる方法が選ばれる。レーザ光２５は、第２保護膜
２４を透過し、第１保護膜２２で吸収されて、第２保護
膜２４に接する第１保護膜２２の表面がレーザエッチン
グされ、凹陥加工部１９が形成される。

【００３４】図８は、本発明の第３の実施例である製造
方法を示す工程図である。また図９は、前記工程を説明
するための断面図である。第３の実施例は、第２保護膜
２４を形成した後、当該第２保護膜２４に凹陥加工部１
７を形成することを特徴とする。工程ｃ１では、前記工
程ａ１と同様にして図９（Ａ）に示される偏光板２３が
偏光板２，３として貼り付けられ、さらに光源５が配置
される。

【００３５】工程ｃ２では、前記工程ｂ２と同様にして
第２保護膜２４が形成される。第２保護膜２４の形成領
域は、第１の実施例の第２保護膜２４の形成領域と同様
に選ばれ、たとえば図９（Ｂ）に示されるように、偏光
板２３の第１保護膜２２の全面に形成される。

【００３６】工程ｃ３では、形成した第２保護膜２４の
表面付近に凹陥加工部１７が形成される。凹陥加工部１
７は、図９（Ｃ）に示されるように前述したのと同様の
レーザ光２５を用いることによって形成される。したが
って、この場合、第２保護膜２４としては、３８０ｎｍ
以下の波長の光を吸収し、かつ複屈折性を有さない材料
が選ばれ、たとえば紫外線吸収剤を含むＴＡＣを用いる
ことができる。また、ガラス、またはポリイミドなどの
材料を用いることができる。また、ガラス、またはポリ
イミドなどの材料に紫外線吸収剤を添加した材料を用い
ることもできる。紫外線吸収剤としては、たとえばサリ
チル酸誘導体や２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体な
どを用いることができる。

【００３７】なお、第３の実施例では、第１の実施例で
説明したようなヤスリやダイヤモンド針を用いて凹陥加
工部１７を形成することも可能である。

【００３８】以上のように、第１〜第３の実施例の製造
方法によって作成される液晶表示装置１では、輝点欠陥
絵素が凹陥加工部１７を形成することによって修正され
るので、輝点欠陥絵素に入射した光は、凹陥加工部１７
の凹凸状の底面によって散乱される。また、出射する光
も凹陥加工部１７によって散乱される。したがって、輝
点欠陥絵素を目立たなくすることができる。

【００３９】また、第１および第２の製造方法によれ
ば、凹陥加工部１７が形成された偏光板２３の第１保護
膜２２上に第２保護膜２４が形成されるので、偏光子２
１の機械的強度が低下することはなく、また偏光子２１
が物理的要因によって傷つくことがなくなる。また偏光
子２１中のヨウ素や染料が、光、温度（熱）および湿気
などによって変色したり、配向の程度が低下して、透過
率や偏光度が低下することを低減させることができる。
また、第３の実施例の製造方法では、第２保護膜２４に
凹陥加工部１７が形成されるので、前述したのと同様の
効果を得ることができる。すなわち、輝点欠陥絵素が目
立たず、偏光子２１の機械的強度が低下せず、偏光板２
３の偏光機能が低下することが低減する。したがって、
優れた表示特性が得られるとともに、液晶表示装置１の
信頼性が向上する。

【００４０】なお、上述したように凹陥加工部１７を形
成することによる輝点欠陥絵素の修正は、ＴＦＴ素子１
５の断線や短絡を原因とする欠陥以外に、偏光板２，３
自身に起因する欠陥に対しても適用することができ、こ
のような場合であっても輝点欠陥絵素を目立たなくする
ことができる。

【００４１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、偏光板が
有する第１保護膜に凹陥加工部が形成された後、当該凹
陥加工部を覆う第２保護膜が形成される。

【００４２】また、偏光板の第１保護膜上に第２保護膜
が形成された後、第１保護膜に凹陥加工部が形成され
る。

【００４３】また、第１保護膜上に第２保護膜が形成さ
れた後、第２保護膜に凹陥加工部が形成される。

【００４４】このようにして形成された液晶表示装置
は、偏光板の偏光子の機械的強度が高く、また偏光子が
有するヨウ素や染料が、光、温度（熱）および湿気など
によって変色および劣化することがなく、透過率や偏光
度の変化を小さくすることができるので、優れた表示品
位を安定して得ることができる。

【００４５】また、第２保護膜を形成した後に第１保護
膜に凹陥加工部を形成する場合、保護膜材料および照射
する光の波長帯域を選ぶことによって、第１保護膜を選
択的に加工することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である液晶表示装置１の構成
を示す断面図である。

【図２】本発明の第１の実施例である製造方法を示す工
程図である。

【図３】第１の実施例の工程を説明するための断面図で
ある。

【図４】凹陥加工部１７の形成方法を説明するための図
である。

【図５】輝点欠陥絵素３７ａと輝点修正領域３６とを示
す平面図である。

【図６】本発明の第２の実施例である製造方法を示す工
程図である。

【図７】第２の実施例の工程を説明するための断面図で
ある。

【図８】本発明の第３の実施例である製造方法を示す工
程図である。

【図９】第３の実施例の工程を説明するための断面図で
ある。

【図１０】輝点欠陥絵素の修正方法を説明するための図
である。

【図１１】輝点欠陥絵素４７ａと、輝点修正領域４８と
を示す平面図である。

【図１２】凹陥加工部５５を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 液晶表示装置 ２，３，２３ 偏光板 ４ 液晶パネル ５ 光源 ６，７ 基板部材 ８ 液晶層 １７ 凹陥加工部 ２１ 偏光子 ２２ 第１保護膜 ２４ 第２保護膜 ２５ レーザ光 ３６ 輝点修正領域 ３７ 絵素 ３７ａ 輝点欠陥絵素

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の
   第１保護膜とを含んでそれぞれ構成される一対の偏光板
   と、 前記一対の偏光板間に配置され、液晶の配向状態が、マ
   トリクス状に配列された複数の絵素の各絵素毎に制御さ
   れる液晶パネルと、 前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パ
   ネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね垂直
   に光を照射する光源とを備える液晶表示装置の製造方法
   において、 一対の偏光板間に液晶パネルを配置し、前記一対の偏光
   板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側
   に光源を配置する工程と、 前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないように
   液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝点欠陥
   絵素に対し、前記光源からの光が前記輝点欠陥絵素を通
   る光路上であって、前記一対の偏光板のうちの少なくと
   もいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側の第１保
   護膜表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加工部を形成する
   工程と、 少なくとも前記凹陥加工部を覆って第２保護膜を形成す
   る工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
   法。
2. 【請求項２】 偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の
   第１保護膜とを含んでそれぞれ構成される一対の偏光板
   と、 前記一対の偏光板間に配置され、液晶の配向状態が、マ
   トリクス状に配列された複数の絵素の各絵素毎に制御さ
   れる液晶パネルと、 前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パ
   ネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね垂直
   に光を照射する光源とを備える液晶表示装置の製造方法
   において、 一対の偏光板間に液晶パネルを配置し、前記一対の偏光
   板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側
   に光源を配置する工程と、 前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないように
   液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝点欠陥
   絵素に対し、少なくとも前記光源からの光が前記輝点欠
   陥絵素を通る光路上であって、前記一対の偏光板のうち
   の少なくともいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対
   側の第１保護膜上に、第２保護膜を形成する工程と、 前記光路上であって、第２保護膜と接する第１保護膜の
   表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加工部を形成する工程
   とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
3. 【請求項３】 前記第１保護膜は、特定波長帯域の光を
   吸収する材料から成り、 前記第２保護膜は、前記特定波長帯域の光を透過する材
   料から成り、 前記凹陥加工部を、前記特定波長帯域の光を照射するこ
   とによって形成することを特徴とする請求項２記載の液
   晶表示装置の製造方法。
4. 【請求項４】 偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の
   第１保護膜とを含んでそれぞれ構成される一対の偏光板
   と、 前記一対の偏光板間に配置され、液晶の配向状態が、マ
   トリクス状に配列された複数の絵素の各絵素毎に制御さ
   れる液晶パネルと、 前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パ
   ネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね垂直
   に光を照射する光源とを備える液晶表示装置の製造方法
   において、 一対の偏光板間に液晶パネルを配置し、前記一対の偏光
   板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側
   に光源を配置する工程と、 前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないように
   液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝点欠陥
   絵素に対し、少なくとも前記光源からの光が前記輝点欠
   陥絵素を通る光路上であって、前記一対の偏光板のうち
   の少なくともいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対
   側の第１保護膜上に、第２保護膜を形成する工程と、 前記光路上であって、第２保護膜の表面付近に、底面が
   凹凸状の凹陥加工部を形成する工程とを含むことを特徴
   とする液晶表示装置の製造方法。
5. 【請求項５】 偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の
   第１保護膜とを含んでそれぞれ構成される一対の偏光板
   と、 前記一対の偏光板間に配置され、液晶の配向状態が、マ
   トリクス状に配列された複数の絵素の各絵素毎に制御さ
   れる液晶パネルと、 前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パ
   ネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね垂直
   に光を照射する光源とを備える液晶表示装置において、 前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないように
   液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝点欠陥
   絵素に対し、前記光源からの光が前記輝点欠陥絵素を通
   る光路上であって、前記一対の偏光板のうちの少なくと
   もいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対側の第１保
   護膜表面付近に、底面が凹凸状の凹陥加工部が形成さ
   れ、 少なくとも前記凹陥加工部を覆う保護膜を含むことを特
   徴とする液晶表示装置。
6. 【請求項６】 偏光子と、当該偏光子を介在する２枚の
   第１保護膜とを含んでそれぞれ構成される一対の偏光板
   と、 前記一対の偏光板間に配置され、液晶の配向状態が、マ
   トリクス状に配列された複数の絵素の各絵素毎に制御さ
   れる液晶パネルと、 前記一対の偏光板のうちのいずれか一方偏光板の液晶パ
   ネルとは反対側に配置され、光入射面に対して概ね垂直
   に光を照射する光源とを備える液晶表示装置において、 前記光源からの光が他方偏光板側から出射しないように
   液晶の配向状態を制御したときに光が出射する輝点欠陥
   絵素に対し、少なくとも前記光源からの光が前記輝点欠
   陥絵素を通る光路上であって、前記一対の偏光板のうち
   の少なくともいずれか一方偏光板の液晶パネルとは反対
   側の第１保護膜上に形成される第２保護膜を含み、 前記光路上であって、前記第２保護膜の表面付近に、底
   面が凹凸状の凹陥加工部が形成されていることを特徴と
   する液晶表示装置。