JPH08231505A - インドール含有スルホンアミド誘導体 - Google Patents
インドール含有スルホンアミド誘導体Info
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- JPH08231505A JPH08231505A JP3745695A JP3745695A JPH08231505A JP H08231505 A JPH08231505 A JP H08231505A JP 3745695 A JP3745695 A JP 3745695A JP 3745695 A JP3745695 A JP 3745695A JP H08231505 A JPH08231505 A JP H08231505A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 優れた抗腫瘍作用を有するインドール含有新
規スルホンアミド誘導体を提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） （式中、Ａ環は単環式芳香環を、Ｑは置換基を有してい
てもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環、アミジノ基また
はグアニジノ基を、Ｔ，Ｖは単結合または低級アルキレ
ン基を、Ｕは単結合、酸素原子、硫黄原子、式−Ｎ（Ｒ
1 ）−、−ＣＯＮ（Ｒ2 ）−、−Ｎ（Ｒ3 ）ＣＯ−、−
ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4 ）−、−Ｎ（Ｒ5 ）ＳＯ2 −、−Ｓ
（Ｏ）−、−ＳＯ2 −または−ＣＯ−（Ｒ1 〜Ｒ5 は水
素原子または低級アルキル基）を、Ｗは水素原子または
ハロゲン原子を、Ｘはハロゲン原子またはシアノ基を意
味する。但し、Ｑがアミジノ基またはグアニジノ基であ
り、かつＴが単結合である場合、Ｕも単結合である）で
表されるスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許
容される塩。および当該化合物を有効成分とする抗腫瘍
剤。
規スルホンアミド誘導体を提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） （式中、Ａ環は単環式芳香環を、Ｑは置換基を有してい
てもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環、アミジノ基また
はグアニジノ基を、Ｔ，Ｖは単結合または低級アルキレ
ン基を、Ｕは単結合、酸素原子、硫黄原子、式−Ｎ（Ｒ
1 ）−、−ＣＯＮ（Ｒ2 ）−、−Ｎ（Ｒ3 ）ＣＯ−、−
ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4 ）−、−Ｎ（Ｒ5 ）ＳＯ2 −、−Ｓ
（Ｏ）−、−ＳＯ2 −または−ＣＯ−（Ｒ1 〜Ｒ5 は水
素原子または低級アルキル基）を、Ｗは水素原子または
ハロゲン原子を、Ｘはハロゲン原子またはシアノ基を意
味する。但し、Ｑがアミジノ基またはグアニジノ基であ
り、かつＴが単結合である場合、Ｕも単結合である）で
表されるスルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許
容される塩。および当該化合物を有効成分とする抗腫瘍
剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なスルホンアミドお
よび該化合物を有効成分とする医薬組成物に関する。
よび該化合物を有効成分とする医薬組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】芳香族スルホンアミド系抗腫瘍性化合物
としては、４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体
（特公昭４３−３０９３）、２−スルファニルアミド−
キノキサリン誘導体（特開昭６２−４２６）およびＮ−
（２−アニリノ−３−ピリジニル）ベンゼンスルホンア
ミド誘導体（特開平５−３９２５６）、三環式ヘテロ環
含有スルホンアミド誘導体（特願平６−１７４６４
３）、二環式ヘテロ環含有スルホンアミド誘導体（特願
平６−２０７５６８）が報告されている。
としては、４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導体
（特公昭４３−３０９３）、２−スルファニルアミド−
キノキサリン誘導体（特開昭６２−４２６）およびＮ−
（２−アニリノ−３−ピリジニル）ベンゼンスルホンア
ミド誘導体（特開平５−３９２５６）、三環式ヘテロ環
含有スルホンアミド誘導体（特願平６−１７４６４
３）、二環式ヘテロ環含有スルホンアミド誘導体（特願
平６−２０７５６８）が報告されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた抗腫
瘍活性を有する新規スルホンアミド誘導体の提供を目的
とする。さらに該化合物を有効成分とする医薬組成物を
も提供することを目的とする。
瘍活性を有する新規スルホンアミド誘導体の提供を目的
とする。さらに該化合物を有効成分とする医薬組成物を
も提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記趣旨
に鑑み、優れた抗腫瘍性化合物を求めて鋭意研究を行っ
てきた結果、インドール環を有する新規スルホンアミド
誘導体が優れた抗腫瘍活性を有することを見い出し、本
発明を完成した。
に鑑み、優れた抗腫瘍性化合物を求めて鋭意研究を行っ
てきた結果、インドール環を有する新規スルホンアミド
誘導体が優れた抗腫瘍活性を有することを見い出し、本
発明を完成した。
【０００５】すなわち、本発明は一般式（Ｉ）
【化２】 （式中、Ａ環は単環式芳香環を、Ｑは置換基を有してい
てもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環、またはシアノ基
あるいは低級アルキル基で置換されていてもよい、アミ
ジノ基またはグアニジノ基を、Ｔは単結合または低級ア
ルキレン基を、Ｕは単結合、酸素原子、硫黄原子、式−
Ｎ（Ｒ1 ）−、−ＣＯＮ（Ｒ2 ）−、−Ｎ（Ｒ3 ）ＣＯ
−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4 ）−、−Ｎ（Ｒ5 ）ＳＯ2 −、−
Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ2 −または−ＣＯ−（式中Ｒ1 〜Ｒ
5 は水素原子または低級アルキル基を意味する）を、Ｖ
は単結合または低級アルキレン基を、Ｗは水素原子また
はハロゲン原子を、Ｘはハロゲン原子またはシアノ基を
意味する。但し、Ｑがシアノ基または低級アルキル基で
置換されていてもよい、アミジノ基またはグアニジノ基
であり、かつＴが単結合である場合、Ｕも単結合であ
る）で表わされるスルホンアミド誘導体またはその薬理
学的に許容される塩に関する。
てもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環、またはシアノ基
あるいは低級アルキル基で置換されていてもよい、アミ
ジノ基またはグアニジノ基を、Ｔは単結合または低級ア
ルキレン基を、Ｕは単結合、酸素原子、硫黄原子、式−
Ｎ（Ｒ1 ）−、−ＣＯＮ（Ｒ2 ）−、−Ｎ（Ｒ3 ）ＣＯ
−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4 ）−、−Ｎ（Ｒ5 ）ＳＯ2 −、−
Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ2 −または−ＣＯ−（式中Ｒ1 〜Ｒ
5 は水素原子または低級アルキル基を意味する）を、Ｖ
は単結合または低級アルキレン基を、Ｗは水素原子また
はハロゲン原子を、Ｘはハロゲン原子またはシアノ基を
意味する。但し、Ｑがシアノ基または低級アルキル基で
置換されていてもよい、アミジノ基またはグアニジノ基
であり、かつＴが単結合である場合、Ｕも単結合であ
る）で表わされるスルホンアミド誘導体またはその薬理
学的に許容される塩に関する。
【０００６】上記一般式（Ｉ）において、Ａ環の意味す
る「単環式芳香環」としては、例えばベンゼン、ピリジ
ン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、ピロール、ピ
ラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラン、チアゾ
ール、オキサゾールなどを挙げることができる。
る「単環式芳香環」としては、例えばベンゼン、ピリジ
ン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、ピロール、ピ
ラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラン、チアゾ
ール、オキサゾールなどを挙げることができる。
【０００７】Ｑの定義中の「置換基を有していてもよい
単環式含窒素芳香族ヘテロ環」としては、例えばピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、イソキサゾール、イソチアゾール、１，２，３−
トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、
ピリダジン、ピリミジン、ピラジンなどを挙げることが
できる。上記芳香環は置換基１または２個を有していて
もよく、置換基が２個ある場合には同一または異なって
いてもよい。置換基としては例えば低級アルキル基、低
級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、低級アルキル
基で置換されていてもよいアミノ基などが挙げられる。
Ｒ1 〜Ｒ5 およびＱの定義における置換基中の低級アル
キル基とは、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアル
キル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec −
ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペン
チル基、ｎ−ヘキシル基などを意味するが、これらのう
ち好ましい基としてメチル基、エチル基を挙げることが
できる。ＴおよびＶの定義中の低級アルキレン基とは、
上記低級アルキル基から水素１原子を除いた残基を意味
する。Ｑの定義における置換基中の低級アルコキシ基と
は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert
−ブトキシ基など上記の低級アルキル基から誘導される
低級アルコキシ基を意味するが、これらのうち最も好ま
しい基としてはメトキシ基、エトキシ基を挙げることが
できる。またハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子などが挙げられる。
単環式含窒素芳香族ヘテロ環」としては、例えばピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、イソキサゾール、イソチアゾール、１，２，３−
トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、
ピリダジン、ピリミジン、ピラジンなどを挙げることが
できる。上記芳香環は置換基１または２個を有していて
もよく、置換基が２個ある場合には同一または異なって
いてもよい。置換基としては例えば低級アルキル基、低
級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、低級アルキル
基で置換されていてもよいアミノ基などが挙げられる。
Ｒ1 〜Ｒ5 およびＱの定義における置換基中の低級アル
キル基とは、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアル
キル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec −
ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペン
チル基、ｎ−ヘキシル基などを意味するが、これらのう
ち好ましい基としてメチル基、エチル基を挙げることが
できる。ＴおよびＶの定義中の低級アルキレン基とは、
上記低級アルキル基から水素１原子を除いた残基を意味
する。Ｑの定義における置換基中の低級アルコキシ基と
は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert
−ブトキシ基など上記の低級アルキル基から誘導される
低級アルコキシ基を意味するが、これらのうち最も好ま
しい基としてはメトキシ基、エトキシ基を挙げることが
できる。またハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子などが挙げられる。
【０００８】上記一般式（Ｉ）で示されるスルホンアミ
ド誘導体は酸または塩基と塩を形成する場合もある。本
発明は化合物（Ｉ）の塩をも包含する。酸との塩として
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩
や酢酸、乳酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、クエ
ン酸、安息香酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸などの有機酸との塩を挙げることができる。ま
た、塩基との塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、
カルシウム塩などの無機塩、トリエチルアミン、アルギ
ニン、リジン等の有機塩基との塩を挙げることができ
る。
ド誘導体は酸または塩基と塩を形成する場合もある。本
発明は化合物（Ｉ）の塩をも包含する。酸との塩として
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩
や酢酸、乳酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、クエ
ン酸、安息香酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸などの有機酸との塩を挙げることができる。ま
た、塩基との塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、
カルシウム塩などの無機塩、トリエチルアミン、アルギ
ニン、リジン等の有機塩基との塩を挙げることができ
る。
【０００９】また、これら化合物の水和物はもちろんの
こと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれ
ることはいうまでもない。また、本発明化合物は強い抗
腫瘍活性を示すが、生体内で酸化、還元、加水分解、抱
合などの代謝を受けて抗腫瘍活性を示す化合物をも包含
する。
こと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれ
ることはいうまでもない。また、本発明化合物は強い抗
腫瘍活性を示すが、生体内で酸化、還元、加水分解、抱
合などの代謝を受けて抗腫瘍活性を示す化合物をも包含
する。
【００１０】本発明化合物（Ｉ）は種々の方法によって
製造することができるが、それらのうち代表的な方法を
示せば以下のとおりである。 １）一般式（ＩＩ）
製造することができるが、それらのうち代表的な方法を
示せば以下のとおりである。 １）一般式（ＩＩ）
【化３】 （式中、Ｑａは保護されたまたは保護されていない置換
基を有していてもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環を意
味し、Ｔ、Ｕ、Ｖ、ＷおよびＡ環は前記と同じ意味を示
す）で表わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と
一般式（ＩＩＩ）
基を有していてもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環を意
味し、Ｔ、Ｕ、Ｖ、ＷおよびＡ環は前記と同じ意味を示
す）で表わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と
一般式（ＩＩＩ）
【化４】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す）で表わされる化合
物を反応させることにより製造することができる。スル
ホン酸の反応性誘導体としては、例えばスルホニルハラ
イド、スルホン酸無水物、Ｎ−スルホニルイミダゾリド
などのような一般的によく利用される反応性誘導体を挙
げることができるが、特に好適な例はスルホニルハライ
ドである。反応に使用する溶媒としては、例えばピリジ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルム
アミドなどを挙げることができる。本反応はピリジン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなど適当な脱酸剤
の存在下で行われるのが好ましいので、ピリジンのよう
な塩基性溶媒の使用は好適である。一般に反応は室温で
進行するが、必要に応じて冷却または加熱してもよい。
得られた生成物において、アミノ基、水酸基などが保護
されている場合には、保護基を除去することにより目的
とするスルホンアミド（Ｉ）を得ることが可能である。
物を反応させることにより製造することができる。スル
ホン酸の反応性誘導体としては、例えばスルホニルハラ
イド、スルホン酸無水物、Ｎ−スルホニルイミダゾリド
などのような一般的によく利用される反応性誘導体を挙
げることができるが、特に好適な例はスルホニルハライ
ドである。反応に使用する溶媒としては、例えばピリジ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルム
アミドなどを挙げることができる。本反応はピリジン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなど適当な脱酸剤
の存在下で行われるのが好ましいので、ピリジンのよう
な塩基性溶媒の使用は好適である。一般に反応は室温で
進行するが、必要に応じて冷却または加熱してもよい。
得られた生成物において、アミノ基、水酸基などが保護
されている場合には、保護基を除去することにより目的
とするスルホンアミド（Ｉ）を得ることが可能である。
【００１１】２）一般式（ＩＶ） Ｑａ−Ｔ−Ｄ （ＩＶ） （式中、Ｄはスルホン酸、カルボン酸またはそれらの反
応性誘導体、あるいはハロゲン原子を意味し、Ｑａおよ
びＴは前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物と一
般式（Ｖ）
応性誘導体、あるいはハロゲン原子を意味し、Ｑａおよ
びＴは前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物と一
般式（Ｖ）
【化５】 （式中、Ｒ6 は水素原子または低級アルキル基を意味
し、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意味を示す）で
表わされる化合物を反応させることにより製造すること
ができる。スルホン酸の反応性誘導体としては、例えば
スルホニルハライド、スルホン酸無水物、Ｎ−スルホニ
ルイミダゾリドなどのような一般的によく利用される反
応性誘導体を挙げることができるが、特に好適な例はス
ルホニルハライドである。カルボン酸の反応性誘導体と
しては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性エステル、
活性アミド化合物などのような一般的によく利用される
反応性誘導体を挙げることができる。また、ジフェニル
ホスホリルアジド、１，３−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドなどの縮合剤の存在下カルボン酸を直接反応させ
ることも可能である。反応に使用する溶媒としては、例
えばピリジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミドなどを挙げることができる。本反応は
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、重
曹、炭酸カリウムなど適当な脱酸剤の存在下で行われる
場合が多い。反応は通常−50〜 150℃の温度範囲で行わ
れる。得られた生成物において、アミノ基、水酸基など
が保護されている場合には、保護基を除去することによ
り目的とするスルホンアミド（Ｉ）を得ることが可能で
ある。
し、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意味を示す）で
表わされる化合物を反応させることにより製造すること
ができる。スルホン酸の反応性誘導体としては、例えば
スルホニルハライド、スルホン酸無水物、Ｎ−スルホニ
ルイミダゾリドなどのような一般的によく利用される反
応性誘導体を挙げることができるが、特に好適な例はス
ルホニルハライドである。カルボン酸の反応性誘導体と
しては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性エステル、
活性アミド化合物などのような一般的によく利用される
反応性誘導体を挙げることができる。また、ジフェニル
ホスホリルアジド、１，３−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドなどの縮合剤の存在下カルボン酸を直接反応させ
ることも可能である。反応に使用する溶媒としては、例
えばピリジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミドなどを挙げることができる。本反応は
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、重
曹、炭酸カリウムなど適当な脱酸剤の存在下で行われる
場合が多い。反応は通常−50〜 150℃の温度範囲で行わ
れる。得られた生成物において、アミノ基、水酸基など
が保護されている場合には、保護基を除去することによ
り目的とするスルホンアミド（Ｉ）を得ることが可能で
ある。
【００１２】３）一般式（ＶＩ）
【化６】 （式中、Ｒ7 は水素原子または低級アルキル基を意味
し、ＱａおよびＴは前記と同じ意味を示す）で表わされ
る化合物と一般式（ＶＩＩ）
し、ＱａおよびＴは前記と同じ意味を示す）で表わされ
る化合物と一般式（ＶＩＩ）
【化７】 （式中、Ｄ、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意味を
示す）で表わされる化合物を反応させることにより製造
することができる。反応に使用する溶媒としては、例え
ばピリジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミドなどを挙げることができる。本反応はピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエ
チルアミン、重曹、炭酸カリウムなど適当な脱酸剤の存
在下で行われる場合が多い。反応は通常−50〜 150℃の
温度範囲で行われる。得られた生成物において、アミノ
基、水酸基などが保護されている場合には、保護基を除
去することにより目的とするスルホンアミド（Ｉ）を得
ることが可能である。
示す）で表わされる化合物を反応させることにより製造
することができる。反応に使用する溶媒としては、例え
ばピリジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミドなどを挙げることができる。本反応はピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエ
チルアミン、重曹、炭酸カリウムなど適当な脱酸剤の存
在下で行われる場合が多い。反応は通常−50〜 150℃の
温度範囲で行われる。得られた生成物において、アミノ
基、水酸基などが保護されている場合には、保護基を除
去することにより目的とするスルホンアミド（Ｉ）を得
ることが可能である。
【００１３】４）一般式（ＶＩＩＩ） Ｑｂ （ＶＩＩＩ） （式中、Ｑｂは保護されたまたは保護されていない置換
基を有していてもよい単環式ＮＨ含有芳香族ヘテロ環を
意味する）で表わされる化合物と一般式（ＩＸ）
基を有していてもよい単環式ＮＨ含有芳香族ヘテロ環を
意味する）で表わされる化合物と一般式（ＩＸ）
【化８】 （式中、Ｚは脱離基を、Ｔａは低級アルキレン基を意味
する。Ｕ、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意味を示
す）で表わされる化合物を塩基の存在下または非存在下
反応させることにより製造することができる。Ｑｂ（Ｖ
ＩＩＩ）としては、例えば保護されたまたは保護されて
いない置換基を有していてもよい、ピロール、ピラゾー
ル、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，
２，４−トリアゾールなどを挙げることができる。脱離
基Ｚとしてはハロゲン原子、メチルスルホニルオキシ
基、ｐ−メチルフェニルスルホニルオキシ基などが挙げ
られる。塩基としては、例えば水素化ナトリウム、重
曹、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ジ
メチルピリジンなどを挙げることができるが、過剰のＱ
ｂ（ＶＩＩＩ）を用いてもよい。反応に使用する溶媒と
しては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミドなどを挙げることができる。反応は通
常−50〜 150℃の温度範囲で行われる。得られた生成物
において、アミノ基、水酸基などが保護されている場合
には、保護基を除去することにより目的とするスルホン
アミド（Ｉ）を得ることが可能である。
する。Ｕ、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意味を示
す）で表わされる化合物を塩基の存在下または非存在下
反応させることにより製造することができる。Ｑｂ（Ｖ
ＩＩＩ）としては、例えば保護されたまたは保護されて
いない置換基を有していてもよい、ピロール、ピラゾー
ル、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，
２，４−トリアゾールなどを挙げることができる。脱離
基Ｚとしてはハロゲン原子、メチルスルホニルオキシ
基、ｐ−メチルフェニルスルホニルオキシ基などが挙げ
られる。塩基としては、例えば水素化ナトリウム、重
曹、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ジ
メチルピリジンなどを挙げることができるが、過剰のＱ
ｂ（ＶＩＩＩ）を用いてもよい。反応に使用する溶媒と
しては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミドなどを挙げることができる。反応は通
常−50〜 150℃の温度範囲で行われる。得られた生成物
において、アミノ基、水酸基などが保護されている場合
には、保護基を除去することにより目的とするスルホン
アミド（Ｉ）を得ることが可能である。
【００１４】５）一般式（Ｘ）
【化９】 （式中、Ｔ、Ｕ、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意
味を示す）で表わされる化合物をアンモニア、低級アル
キルアミン、メチルクロロアルミニウムアミドなどと酸
または塩基触媒の存在下または非存在下反応させること
により製造することができる。化合物（Ｘ）を塩化水素
またはアルコラート存在下アルコールと反応させ、まず
イミダートとし、これを更にアンモニア、シアナミドな
どと反応させることによっても製造することができる。
味を示す）で表わされる化合物をアンモニア、低級アル
キルアミン、メチルクロロアルミニウムアミドなどと酸
または塩基触媒の存在下または非存在下反応させること
により製造することができる。化合物（Ｘ）を塩化水素
またはアルコラート存在下アルコールと反応させ、まず
イミダートとし、これを更にアンモニア、シアナミドな
どと反応させることによっても製造することができる。
【００１５】６）一般式（ＸＩ）
【化１０】 （式中、Ｔ、Ｕ、Ｖ、Ｗ、ＸおよびＡ環は前記と同じ意
味を示す）で表わされる化合物とＳ−メチルイソチオ尿
素、１−グアニル−３，５−ジメチルピラゾールを常法
に従い反応させることにより製造することができる。反
応条件はグアニジノ化剤および基質により異なるが、例
えばジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ (J. Am. Chem. Soc.), 73, 3992 (1951) 、86,
4452 (1964) に記載の方法などを参考にしながら行うこ
とができる。
味を示す）で表わされる化合物とＳ−メチルイソチオ尿
素、１−グアニル−３，５−ジメチルピラゾールを常法
に従い反応させることにより製造することができる。反
応条件はグアニジノ化剤および基質により異なるが、例
えばジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ (J. Am. Chem. Soc.), 73, 3992 (1951) 、86,
4452 (1964) に記載の方法などを参考にしながら行うこ
とができる。
【００１６】次に、本発明化合物の製造に用いられるス
ルホン酸（ＩＩ）の反応性誘導体ならびに原料化合物
（Ｖ）、（ＶＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）および（ＸＩ）
の合成に必要なスルホニルハライドを製造する方法につ
いて説明する。本発明で使用するスルホニルハライドが
新規化合物の場合、既に報告されている公知化合物の合
成法を応用することにより、または、それらを組み合わ
せることにより製造することが可能である。例えば、新
規スルホニルクロリドはケミシェ・ベリヒテ (Chem. Be
r.), 90, 841 (1957) 、ジャーナル・オブ・メディシナ
ル・ケミストリー(J. Med. Chem.), 6, 307 (1963) 、2
3, 1376 (1980) 、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサ
イエティ (J. Chem. Soc.) (C), 1968, 1265、ジャーナ
ル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ (J. A
m. Chem. Soc.), 59, 1837 (1937)、70, 375 (1948), 7
8, 2171 (1956) 、ケミストリー・レターズ (Chem. Let
t.), 1992, 1483などに記載されている合成法を応用し
た方法により製造することができる。
ルホン酸（ＩＩ）の反応性誘導体ならびに原料化合物
（Ｖ）、（ＶＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）および（ＸＩ）
の合成に必要なスルホニルハライドを製造する方法につ
いて説明する。本発明で使用するスルホニルハライドが
新規化合物の場合、既に報告されている公知化合物の合
成法を応用することにより、または、それらを組み合わ
せることにより製造することが可能である。例えば、新
規スルホニルクロリドはケミシェ・ベリヒテ (Chem. Be
r.), 90, 841 (1957) 、ジャーナル・オブ・メディシナ
ル・ケミストリー(J. Med. Chem.), 6, 307 (1963) 、2
3, 1376 (1980) 、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサ
イエティ (J. Chem. Soc.) (C), 1968, 1265、ジャーナ
ル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ (J. A
m. Chem. Soc.), 59, 1837 (1937)、70, 375 (1948), 7
8, 2171 (1956) 、ケミストリー・レターズ (Chem. Let
t.), 1992, 1483などに記載されている合成法を応用し
た方法により製造することができる。
【００１７】本発明化合物を医薬として使用する場合
は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症
状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方
法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種
類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されない
が、通常成人１日当り10〜6000mg、好ましくは約50〜40
00mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通常
１日１〜３回に分けて投与する。
は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症
状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方
法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種
類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されない
が、通常成人１日当り10〜6000mg、好ましくは約50〜40
00mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通常
１日１〜３回に分けて投与する。
【００１８】経口用固形製剤を調製する場合は、主薬に
賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着
色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被
覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴ
ム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、例えばステ
アリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等が、着色剤と
しては医薬品に添加することが許可されているものが、
矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハ
ッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。これらの錠剤、
顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コ
ーティングすることは勿論差し支えない。
賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着
色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被
覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴ
ム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、例えばステ
アリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等が、着色剤と
しては医薬品に添加することが許可されているものが、
矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハ
ッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。これらの錠剤、
顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コ
ーティングすることは勿論差し支えない。
【００１９】注射剤を調製する場合には、必要により主
薬にｐＨ調製剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定
化剤、等張化剤、保存剤などを添加し、常法により静
脈、皮下、筋肉内注射剤とする。その際必要により、常
法により凍結乾燥物とすることもある。懸濁化剤として
は、例えばメチルセルロース、ポリソルベート80、ヒド
ロキシエチルセルロース、アラビアゴム、トラガント
末、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレートなどを挙げること
ができる。溶解補助剤としては、例えばポリオキシエチ
レン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミ
ド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、マ
クロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙げ
ることができる。また安定化剤としては、例えば亜硫酸
ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム等を、保存剤として
は、例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息
香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、ク
ロロクレゾールなどを挙げることができる。
薬にｐＨ調製剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定
化剤、等張化剤、保存剤などを添加し、常法により静
脈、皮下、筋肉内注射剤とする。その際必要により、常
法により凍結乾燥物とすることもある。懸濁化剤として
は、例えばメチルセルロース、ポリソルベート80、ヒド
ロキシエチルセルロース、アラビアゴム、トラガント
末、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレートなどを挙げること
ができる。溶解補助剤としては、例えばポリオキシエチ
レン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミ
ド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、マ
クロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙げ
ることができる。また安定化剤としては、例えば亜硫酸
ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム等を、保存剤として
は、例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息
香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、ク
ロロクレゾールなどを挙げることができる。
【００２０】
【発明の効果】次に本発明化合物の効果を記述するため
薬理実験例を示す。薬効評価の対照化合物として、公知
の二環式ヘテロ環含有スルホンアミドである２−スルフ
ァニルアミド−５−クロロキノキサリン（ＣＱＳ；特開
昭６２−４２６）を使用した。
薬理実験例を示す。薬効評価の対照化合物として、公知
の二環式ヘテロ環含有スルホンアミドである２−スルフ
ァニルアミド−５−クロロキノキサリン（ＣＱＳ；特開
昭６２−４２６）を使用した。
【００２１】実験例１ colon38 細胞（マウス結腸癌細
胞）に対するin vitro抗腫瘍試験 10％牛胎児血清、ペニシリン（ 100単位／ml）、ストレ
プトマイシン（ 100μg ／ml）、メルカプトエタノール
（５×10-5Ｍ）およびピルビン酸ナトリウム（１mM）を
含むRPMI1640培地（三光純薬）に浮遊させたcolon38 細
胞を96穴平底マイクロプレートの各穴に 2.5×103 個
（0.1ml ）ずつ播種し、５％炭酸ガス含有の培養器中37
℃で１日培養した。
胞）に対するin vitro抗腫瘍試験 10％牛胎児血清、ペニシリン（ 100単位／ml）、ストレ
プトマイシン（ 100μg ／ml）、メルカプトエタノール
（５×10-5Ｍ）およびピルビン酸ナトリウム（１mM）を
含むRPMI1640培地（三光純薬）に浮遊させたcolon38 細
胞を96穴平底マイクロプレートの各穴に 2.5×103 個
（0.1ml ）ずつ播種し、５％炭酸ガス含有の培養器中37
℃で１日培養した。
【００２２】本発明化合物をジメチルスルホキシドにて
20mg／mlの濃度に溶解し、10％牛胎児血清−RPMI1640培
養液で 200μg ／mlの濃度まで希釈した。これを最高濃
度として10％牛胎児血清−RPMI1640培養液にて３倍系列
希釈を行った。これを先に述べたcolon38 細胞の培養プ
レートの各穴に 0.1mlずつ加え、５％炭酸ガス含有培養
器中37℃で３日間培養した。
20mg／mlの濃度に溶解し、10％牛胎児血清−RPMI1640培
養液で 200μg ／mlの濃度まで希釈した。これを最高濃
度として10％牛胎児血清−RPMI1640培養液にて３倍系列
希釈を行った。これを先に述べたcolon38 細胞の培養プ
レートの各穴に 0.1mlずつ加え、５％炭酸ガス含有培養
器中37℃で３日間培養した。
【００２３】培養後、ＭＴＴ［３−（４，５−ジメチル
チアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾ
リウムブロミド］溶液（ 3.3mg／ml）を0.05mlずつ各穴
に加え、さらに２時間培養した。各穴から上清を吸引除
去後、生成したホルマザンをジメチルスルホキシド 0.1
mlで溶解し、マイクロプレートリーダーで 540nmにおけ
る吸光度を測定し、生細胞数の指標とした。以下の式よ
り抑制率を算出し、50％抑制する被検化合物の濃度（Ｉ
Ｃ50）を求めた。
チアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾ
リウムブロミド］溶液（ 3.3mg／ml）を0.05mlずつ各穴
に加え、さらに２時間培養した。各穴から上清を吸引除
去後、生成したホルマザンをジメチルスルホキシド 0.1
mlで溶解し、マイクロプレートリーダーで 540nmにおけ
る吸光度を測定し、生細胞数の指標とした。以下の式よ
り抑制率を算出し、50％抑制する被検化合物の濃度（Ｉ
Ｃ50）を求めた。
【００２４】
【数１】
【００２５】Ｔ：被検化合物を添加した穴の吸光度 Ｃ：被検化合物を添加しなかった穴の吸光度 得られたＩＣ50値を表１に示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】上記実験例から明らかなように本発明化合
物は優れた抗腫瘍作用を有し、抗腫瘍剤として有用であ
る。
物は優れた抗腫瘍作用を有し、抗腫瘍剤として有用であ
る。
【００２８】
【実施例】次に、本発明化合物の原料化合物の製造を示
す製造例および発明化合物の代表的化合物について実施
例を挙げるが、本発明がこれらのみに限定されるもので
はない。
す製造例および発明化合物の代表的化合物について実施
例を挙げるが、本発明がこれらのみに限定されるもので
はない。
【００２９】製造例１７−アミノ−３−クロロ−１Ｈ−インドール
【化１１】
【００３０】７−ニトロ−１Ｈ−インドール 1.076g
（6.64ミリモル）をアセトニトリル 30ml に溶解し、Ｎ
−クロロコハク酸イミド 920mg（6.89ミリモル）を加え
た。室温で36時間攪拌後、飽和重曹水を加え、沈澱を濾
取、水洗し、３−クロロ−７−ニトロ−１Ｈ−インドー
ル 1.2g を得た。この粉末1.01g （5.15ミリモル）をテ
トラヒドロフラン27mlに溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液82mlとハイドロサルファイトナトリウム7.2g（4
1.1ミリモル）を加えた。６時間還流後、エチルエーテ
ルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物 661mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.14(2H,s),6.36(1H,dd,J=
7.5,1.0Hz),6.68(1H,dd,J=7.9,0.73Hz),6.81(1H,dd,J=
7.9,7.5Hz),7.39(1H,d,J=2.7Hz),10.85(1H,br s)
（6.64ミリモル）をアセトニトリル 30ml に溶解し、Ｎ
−クロロコハク酸イミド 920mg（6.89ミリモル）を加え
た。室温で36時間攪拌後、飽和重曹水を加え、沈澱を濾
取、水洗し、３−クロロ−７−ニトロ−１Ｈ−インドー
ル 1.2g を得た。この粉末1.01g （5.15ミリモル）をテ
トラヒドロフラン27mlに溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液82mlとハイドロサルファイトナトリウム7.2g（4
1.1ミリモル）を加えた。６時間還流後、エチルエーテ
ルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物 661mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.14(2H,s),6.36(1H,dd,J=
7.5,1.0Hz),6.68(1H,dd,J=7.9,0.73Hz),6.81(1H,dd,J=
7.9,7.5Hz),7.39(1H,d,J=2.7Hz),10.85(1H,br s)
【００３１】製造例２３−シアノ−７−ニトロ−１Ｈ−インドール
【化１２】
【００３２】３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インド
ール 10.15g （53.4ミリモル）をジメチルホルムアミド
150mlに溶解し、ヒロドキシルアミン塩酸塩 3.93g（5
6.0ミリモル）とピリジン 4.5ml（55.6ミリモル）を加
えた。70〜80℃で２時間加熱攪拌後、二酸化セレン6.3g
（56.8ミリモル）と硫酸マグネシウム約５g を加えた。
70〜80℃でさらに 2.5時間加熱後、不溶物を濾去し、濃
縮した。水を加えて析出した結晶を濾取し、水、エチル
エーテルで順次洗浄した。結晶をテトラヒドロフランと
アセトンの混液に溶解し、不溶物を濾去した。濃縮後、
酢酸エチルを加え結晶を濾取し、表題化合物 8.61gを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.48(1H,t,J=8.1Hz),8.17
(1H,d,J=8.1Hz),8.27(1H,d,J=8.1Hz),8.47(1H,s),12.70
-13.00(1H,br)
ール 10.15g （53.4ミリモル）をジメチルホルムアミド
150mlに溶解し、ヒロドキシルアミン塩酸塩 3.93g（5
6.0ミリモル）とピリジン 4.5ml（55.6ミリモル）を加
えた。70〜80℃で２時間加熱攪拌後、二酸化セレン6.3g
（56.8ミリモル）と硫酸マグネシウム約５g を加えた。
70〜80℃でさらに 2.5時間加熱後、不溶物を濾去し、濃
縮した。水を加えて析出した結晶を濾取し、水、エチル
エーテルで順次洗浄した。結晶をテトラヒドロフランと
アセトンの混液に溶解し、不溶物を濾去した。濃縮後、
酢酸エチルを加え結晶を濾取し、表題化合物 8.61gを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.48(1H,t,J=8.1Hz),8.17
(1H,d,J=8.1Hz),8.27(1H,d,J=8.1Hz),8.47(1H,s),12.70
-13.00(1H,br)
【００３３】製造例３７−アミノ−３−シアノ−１Ｈ−インドール
【化１３】
【００３４】製造例２の化合物2.80g （15.0ミリモル）
をメタノール 100mlに懸濁し、パラジウム−炭素存在下
常温常圧で水素添加した。触媒を濾別後、濃縮乾固し、
表題化合物 2.31gを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.32,5.34(2H,s+s),6.47(1
H,d,J=7.5Hz),6.81(1H,d,J=7.9Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,
7.5Hz),8.13(1H,s),11.55-11.90(1H,br)
をメタノール 100mlに懸濁し、パラジウム−炭素存在下
常温常圧で水素添加した。触媒を濾別後、濃縮乾固し、
表題化合物 2.31gを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.32,5.34(2H,s+s),6.47(1
H,d,J=7.5Hz),6.81(1H,d,J=7.9Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,
7.5Hz),8.13(1H,s),11.55-11.90(1H,br)
【００３５】製造例４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−シアノベンゼンスルホンアミド
−シアノベンゼンスルホンアミド
【化１４】 製造例１の化合物 167mg（1.0 ミリモル）をピリジン５
mlに溶解し、室温攪拌下４−シアノベンゼンスルホニル
クロリド 212mg（1.05ミリモル）を加えた。室温で一晩
攪拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチルと 0.2Ｎ
塩酸を加えた。有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、表題化合物 230mgを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H,dd,J=7.6,0.8Hz),
6.96(1H,dd,J=8.0,7.6Hz),7.30(1H,d,J=8.0Hz),7.48(1
H,dd,J=2.4,0.8Hz),7.82-7.90(2H,m),7.97-8.05(2H,m),
10.25(1H,s),11.04-11.15(1H,m)
mlに溶解し、室温攪拌下４−シアノベンゼンスルホニル
クロリド 212mg（1.05ミリモル）を加えた。室温で一晩
攪拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチルと 0.2Ｎ
塩酸を加えた。有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、表題化合物 230mgを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H,dd,J=7.6,0.8Hz),
6.96(1H,dd,J=8.0,7.6Hz),7.30(1H,d,J=8.0Hz),7.48(1
H,dd,J=2.4,0.8Hz),7.82-7.90(2H,m),7.97-8.05(2H,m),
10.25(1H,s),11.04-11.15(1H,m)
【００３６】製造例５４−（３−ブロモプロピル）−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【化１５】
【００３７】１−ブロモ−３−フェニルプロパン 1.98g
（9.95ミリモル）にジメチルホルムアミド38μl （0.5
ミリモル）を加えた。水冷下クロロスルホン酸 2.0ml
（30.0ミリモル）を15分かけて滴下し、室温でさらに
2.5時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、エチルエ
ーテルで抽出し、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、
４−（３−ブロモプロピル）ベンゼンスルホニルクロリ
ド 2.17gを得た。このもの 422mg（1.42ミリモル）と製
造例１の化合物 215mg（1.29ミリモル）を製造例４と同
様に反応させ、処理し、表題化合物 255mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.02-2.10(2H,m),2.71-2.7
5(2H,m),3.46(2H,t,J=6.6Hz),6.81(1H,d,J=7.5Hz),6.95
(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.24(1H,d,J=7.9Hz),7.35(2H,d,J
=8.2Hz),7.48(1H,d,J=2.7Hz),7.66(2H,d,J=8.2Hz),9.95
(1H,s),10.98-11.02(1H,m)
（9.95ミリモル）にジメチルホルムアミド38μl （0.5
ミリモル）を加えた。水冷下クロロスルホン酸 2.0ml
（30.0ミリモル）を15分かけて滴下し、室温でさらに
2.5時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、エチルエ
ーテルで抽出し、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、
４−（３−ブロモプロピル）ベンゼンスルホニルクロリ
ド 2.17gを得た。このもの 422mg（1.42ミリモル）と製
造例１の化合物 215mg（1.29ミリモル）を製造例４と同
様に反応させ、処理し、表題化合物 255mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.02-2.10(2H,m),2.71-2.7
5(2H,m),3.46(2H,t,J=6.6Hz),6.81(1H,d,J=7.5Hz),6.95
(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.24(1H,d,J=7.9Hz),7.35(2H,d,J
=8.2Hz),7.48(1H,d,J=2.7Hz),7.66(2H,d,J=8.2Hz),9.95
(1H,s),10.98-11.02(1H,m)
【００３８】製造例６４−［Ｎ−（２−ブロモエチル）スルファモイル］−Ｎ
−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼ
ンスルホンアミド
−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼ
ンスルホンアミド
【化１６】
【００３９】４−アミノ−Ｎ−（２−ブロモエチル）ベ
ンゼンスルホンアミド2.0g（7.65ミリモル）を水２mlと
濃塩酸４mlの混液に加え攪拌した。これに亜硝酸ナトリ
ウム650mg（9.42ミリモル）の飽和水溶液を０℃以下で
滴下した。反応液を二酸化イオウ飽和酢酸液（二酸化イ
オウを酢酸15mlに飽和させ、塩化第二銅・２水和物 800
mgを加えた液）に氷冷攪拌下加えた。10分後反応液を氷
水に注ぎ、沈澱を濾取、水洗、乾燥し、Ｎ−（２−ブロ
モエチル）−４−クロロスルホニルベンゼンスルホンア
ミド2.1gを得た。このもの1.1g（3.0 ミリモル）を製造
例１の化合物 348mg（2.09ミリモル）とＮ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン 0.4ml（2.3 ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン10ml溶液に加え、室温で２時間攪拌した。
水を加えて酢酸エチルで抽出し、水洗、硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物 557mgを得た。
ンゼンスルホンアミド2.0g（7.65ミリモル）を水２mlと
濃塩酸４mlの混液に加え攪拌した。これに亜硝酸ナトリ
ウム650mg（9.42ミリモル）の飽和水溶液を０℃以下で
滴下した。反応液を二酸化イオウ飽和酢酸液（二酸化イ
オウを酢酸15mlに飽和させ、塩化第二銅・２水和物 800
mgを加えた液）に氷冷攪拌下加えた。10分後反応液を氷
水に注ぎ、沈澱を濾取、水洗、乾燥し、Ｎ−（２−ブロ
モエチル）−４−クロロスルホニルベンゼンスルホンア
ミド2.1gを得た。このもの1.1g（3.0 ミリモル）を製造
例１の化合物 348mg（2.09ミリモル）とＮ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン 0.4ml（2.3 ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン10ml溶液に加え、室温で２時間攪拌した。
水を加えて酢酸エチルで抽出し、水洗、硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物 557mgを得た。
【００４０】実施例１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［３−（１−イミダゾリル）プロピル］ベンゼンスル
ホンアミド
−［３−（１−イミダゾリル）プロピル］ベンゼンスル
ホンアミド
【化１７】
【００４１】製造例５の化合物 213mg（0.5 ミリモル）
にイミダゾール 170mg（2.5 ミリモル）とジメチルホル
ムアミド６mlを加えた。窒素雰囲気下80℃で３時間加熱
後、反応混合物を水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 160mgを得
た。 融点：86〜90℃1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.95-2.04(2H,m),2.55(2H,
t,J=7.9Hz),3.92(2H,t,J=7.1Hz),6.81(1H,dd,J=7.7,0.9
Hz),6.88(1H,t,J=1.1Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.1
6(1H,t,J=1.2Hz),7.23(1H,d,J=7.7Hz),7.32(2H,d,J=8.4
Hz),7.47(1H,d,J=2.7Hz),7.60(1H,br s),7.65(2H,d,J=
8.4Hz),9.91-10.01(1H,m),10.98-11.02(1H,m)
にイミダゾール 170mg（2.5 ミリモル）とジメチルホル
ムアミド６mlを加えた。窒素雰囲気下80℃で３時間加熱
後、反応混合物を水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 160mgを得
た。 融点：86〜90℃1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.95-2.04(2H,m),2.55(2H,
t,J=7.9Hz),3.92(2H,t,J=7.1Hz),6.81(1H,dd,J=7.7,0.9
Hz),6.88(1H,t,J=1.1Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.1
6(1H,t,J=1.2Hz),7.23(1H,d,J=7.7Hz),7.32(2H,d,J=8.4
Hz),7.47(1H,d,J=2.7Hz),7.60(1H,br s),7.65(2H,d,J=
8.4Hz),9.91-10.01(1H,m),10.98-11.02(1H,m)
【００４２】実施例２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［Ｎ−［２−（２−ピリジニル）エチル］カルバモイ
ル］ベンゼンスルホンアミド
−［Ｎ−［２−（２−ピリジニル）エチル］カルバモイ
ル］ベンゼンスルホンアミド
【化１８】
【００４３】４−（クロロスルホニル）安息香酸 2.82g
（12.8ミリモル）と製造例１の化合物 1.42g（8.54ミリ
モル）を製造例４と同様に反応させ、処理し、４−［Ｎ
−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）スルフ
ァモイル］安息香酸 2.33gを得た。このもの 303mg（0.
86ミリモル）にジメチルホルムアミド 260μl ，ジフェ
ニルホスホリルアジド 204μl （0.95ミリモル）、トリ
エチルアミン 132μl（0.95ミリモル）、２−（２−ア
ミノエチル）ピリジン 113μl （0.94ミリモル）を順次
加え、室温で一晩攪拌した。濃縮後酢酸エチルと飽和重
曹水を加え、有機層を分取、飽和食塩水で洗浄した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、表題化合物 175mgを得た。 融点：220.5 〜222 ℃1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.95-2.99(2H,m),3.56-3.6
2(2H,m),6.75(1H,d,J=7.5Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,7.7H
z),7.19-7.28(3H,m),7.48(1H,d,J=2.8Hz),7.69(1H,dt,J
d=1.8Hz,Jt=7.7Hz),7.79(2H,d,J=8.6Hz),7.88(2H,d,J=
8.6Hz),8.48-8.51(1H,m),8.75(1H,t,J=5.2Hz),10.09-1
0.12(1H,m),11.06-11.09(1H,m)
（12.8ミリモル）と製造例１の化合物 1.42g（8.54ミリ
モル）を製造例４と同様に反応させ、処理し、４−［Ｎ
−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）スルフ
ァモイル］安息香酸 2.33gを得た。このもの 303mg（0.
86ミリモル）にジメチルホルムアミド 260μl ，ジフェ
ニルホスホリルアジド 204μl （0.95ミリモル）、トリ
エチルアミン 132μl（0.95ミリモル）、２−（２−ア
ミノエチル）ピリジン 113μl （0.94ミリモル）を順次
加え、室温で一晩攪拌した。濃縮後酢酸エチルと飽和重
曹水を加え、有機層を分取、飽和食塩水で洗浄した。溶
媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、表題化合物 175mgを得た。 融点：220.5 〜222 ℃1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.95-2.99(2H,m),3.56-3.6
2(2H,m),6.75(1H,d,J=7.5Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,7.7H
z),7.19-7.28(3H,m),7.48(1H,d,J=2.8Hz),7.69(1H,dt,J
d=1.8Hz,Jt=7.7Hz),7.79(2H,d,J=8.6Hz),7.88(2H,d,J=
8.6Hz),8.48-8.51(1H,m),8.75(1H,t,J=5.2Hz),10.09-1
0.12(1H,m),11.06-11.09(1H,m)
【００４４】実施例３４−アミジノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−
７−イル）ベンゼンスルホンアミド
７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【化１９】
【００４５】塩化アンモニウム 162mg（3.0 ミリモル）
にトリメチルアルミニウム 1.0Ｍヘキサン溶液 3.3ml
（3.3 ミリモル）とトルエン10mlを加えた。ガスの発生
が止まってから液量が約３mlになるまで減圧濃縮した。
攪拌しながら製造例４の化合物97mg（0.30ミリモル）を
加え、80℃で４時間加熱した。冷却後、濃アンモニア水
を加え、不溶物を濾去、濃縮した。酢酸エチルを加え不
溶物を濾去、濃縮し、残渣をシリカゲルカムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物35mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.93(1H,dd,J=7.7,1.5Hz),
6.96(1H,dd,J=7.7,7.5Hz),7.24(1H,dd,J=7.5,1.3Hz),7.
50(1H,d,J=2.7Hz),7.90(2H,d,J=8.6Hz),8.01(2H,d,J=8.
6Hz),9.16-9.62(2H,br),10.40-10.75(1H,br),11.50(1H,
s)
にトリメチルアルミニウム 1.0Ｍヘキサン溶液 3.3ml
（3.3 ミリモル）とトルエン10mlを加えた。ガスの発生
が止まってから液量が約３mlになるまで減圧濃縮した。
攪拌しながら製造例４の化合物97mg（0.30ミリモル）を
加え、80℃で４時間加熱した。冷却後、濃アンモニア水
を加え、不溶物を濾去、濃縮した。酢酸エチルを加え不
溶物を濾去、濃縮し、残渣をシリカゲルカムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物35mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.93(1H,dd,J=7.7,1.5Hz),
6.96(1H,dd,J=7.7,7.5Hz),7.24(1H,dd,J=7.5,1.3Hz),7.
50(1H,d,J=2.7Hz),7.90(2H,d,J=8.6Hz),8.01(2H,d,J=8.
6Hz),9.16-9.62(2H,br),10.40-10.75(1H,br),11.50(1H,
s)
【００４６】実施例４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［Ｎ−［２−（１−イミダゾリル）エチル］スルファ
モイル］ベンゼンスルホンアミド
−［Ｎ−［２−（１−イミダゾリル）エチル］スルファ
モイル］ベンゼンスルホンアミド
【化２０】
【００４７】製造例６の化合物 557mg（1.13ミリモル）
とイミダゾール 820mg（12.0ミリモル）をジメチルホル
ムアミド10mlに加え、80℃で２日間攪拌した。濃縮後残
渣を酢酸エチルに溶解し、水洗、硫酸ナトリウムで乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、表題化合物 324mgを得た。 融点：200 ℃付近から徐々に着色し始め、 218〜221 ℃
で分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.05(2H,ddd,J=6.2,6.0,5.
9Hz),3.96(2H,dd,J=6.0,5.9Hz),6.69-6.72(1H,m),6.84
(1H,br s),6.92(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.08(1H,brs),7.2
6(1H,d,J=7.5Hz),7.44(1H,d,J=2.7Hz),7.55(1H,br s),
7.82-7.88(4H,m),8.06(1H,t,J=5.9Hz),10.18-10.36(1H,
br),11.09(1H,d,J=2.4Hz)
とイミダゾール 820mg（12.0ミリモル）をジメチルホル
ムアミド10mlに加え、80℃で２日間攪拌した。濃縮後残
渣を酢酸エチルに溶解し、水洗、硫酸ナトリウムで乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、表題化合物 324mgを得た。 融点：200 ℃付近から徐々に着色し始め、 218〜221 ℃
で分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.05(2H,ddd,J=6.2,6.0,5.
9Hz),3.96(2H,dd,J=6.0,5.9Hz),6.69-6.72(1H,m),6.84
(1H,br s),6.92(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.08(1H,brs),7.2
6(1H,d,J=7.5Hz),7.44(1H,d,J=2.7Hz),7.55(1H,br s),
7.82-7.88(4H,m),8.06(1H,t,J=5.9Hz),10.18-10.36(1H,
br),11.09(1H,d,J=2.4Hz)
【００４８】実施例５３−（５−ブロモニコチンアミド）−Ｎ−（３−シアノ
−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミ
ド
−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミ
ド
【化２１】
【００４９】３−ニトロベンゼンスルホニルクロリド 7
85mg（3.54ミリモル）と製造例３の化合物 506mg（3.22
ミリモル）を製造例４と同様に反応させ、処理してＮ−
（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−３−ニ
トロベンゼンスルホンアミド950mgを得た。これを常法
に従い、メタノール30ml中亜鉛末−濃塩酸で還元を行い
３−アミノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド 459mgを得た。このも
の 109mg（0.35ミリモル）をピリジン２mlに溶解し、５
−ブロモニコチノイルクロリド塩酸塩 179mg（0.70ミリ
モル）を加えた。室温で一晩攪拌後濃縮し、希クエン酸
水溶液を加えた。生じた沈澱を濾取し、水、希重曹水、
水、エーテルで順次洗浄した。沈澱をテトラヒドロフラ
ンに溶解、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、エーテル
とｎ−ヘキサンを加えて析出した結晶を濾取し、表題化
合物 108mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.81(1H,dd,J=7.7,0.7Hz),
7.07(1H,t,J=7.9Hz),7.42(1H,dd,J=7.9,0.7Hz),7.47-7.
51(1H,m),7.55(1H,t,J=7.9Hz),7.93-7.97(1H,m),8.21-
8.23(1H,m),8.31(1H,t,J=1.8Hz),8.55(1H,dd,J=2.4,2.0
Hz),8.93(1H,d,J=2.4Hz),9.06(1H,d,J=2.0Hz),10.23-1
0.25(1H,m),10.75(1H,br s),11.94-11.96(1H,m)
85mg（3.54ミリモル）と製造例３の化合物 506mg（3.22
ミリモル）を製造例４と同様に反応させ、処理してＮ−
（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−３−ニ
トロベンゼンスルホンアミド950mgを得た。これを常法
に従い、メタノール30ml中亜鉛末−濃塩酸で還元を行い
３−アミノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド 459mgを得た。このも
の 109mg（0.35ミリモル）をピリジン２mlに溶解し、５
−ブロモニコチノイルクロリド塩酸塩 179mg（0.70ミリ
モル）を加えた。室温で一晩攪拌後濃縮し、希クエン酸
水溶液を加えた。生じた沈澱を濾取し、水、希重曹水、
水、エーテルで順次洗浄した。沈澱をテトラヒドロフラ
ンに溶解、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、エーテル
とｎ−ヘキサンを加えて析出した結晶を濾取し、表題化
合物 108mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.81(1H,dd,J=7.7,0.7Hz),
7.07(1H,t,J=7.9Hz),7.42(1H,dd,J=7.9,0.7Hz),7.47-7.
51(1H,m),7.55(1H,t,J=7.9Hz),7.93-7.97(1H,m),8.21-
8.23(1H,m),8.31(1H,t,J=1.8Hz),8.55(1H,dd,J=2.4,2.0
Hz),8.93(1H,d,J=2.4Hz),9.06(1H,d,J=2.0Hz),10.23-1
0.25(1H,m),10.75(1H,br s),11.94-11.96(1H,m)
【００５０】実施例６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［Ｎ−（２−チアゾリル）スルファモイル］ベンゼン
スルホンアミド
−［Ｎ−（２−チアゾリル）スルファモイル］ベンゼン
スルホンアミド
【化２２】
【００５１】スルファチアゾール5.2g（20.4ミリモル）
を水14mlと濃塩酸 3.4mlの混液に加え攪拌した。これに
亜硝酸ナトリウム2.1g（30.4ミリモル）の飽和水溶液を
０℃以下で滴下後、酢酸５mlを加えて５℃で約10分間攪
拌した。この反応液に二酸化イオウ飽和酢酸液（二酸化
イオウを酢酸18mlに飽和させ、塩化第二銅・２水和物83
0mgを加えた液）を０℃で攪拌下滴下した。５分後反応
液を氷水に注ぎ、沈澱を濾取、水洗、乾燥し、４−クロ
ロスルホニル−Ｎ−（２−チアゾリル）ベンゼンスルホ
ンアミド2.9gを得た。このもの 570mg（1.68ミリモル）
と製造例１の化合物 200mg（1.2 ミリモル）を製造例４
と同様に反応させ、処理し、表題化合物456mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.68(1H,dd,J=7.5,0.73H
z),6.87(1H,d,J=4.6Hz),6.93(1H,dd,J=8.1,7.5Hz),7.26
-7.30(1H,m),7.28(1H,d,J=4.6Hz),7.46(1H,d,J=2.7Hz),
7.82-7.88(2H,m),7.88-7.94(2H,m),10.10-10.26(1H,b
r),11.04-11.10(1H,m),12.83-13.01(1H,br)
を水14mlと濃塩酸 3.4mlの混液に加え攪拌した。これに
亜硝酸ナトリウム2.1g（30.4ミリモル）の飽和水溶液を
０℃以下で滴下後、酢酸５mlを加えて５℃で約10分間攪
拌した。この反応液に二酸化イオウ飽和酢酸液（二酸化
イオウを酢酸18mlに飽和させ、塩化第二銅・２水和物83
0mgを加えた液）を０℃で攪拌下滴下した。５分後反応
液を氷水に注ぎ、沈澱を濾取、水洗、乾燥し、４−クロ
ロスルホニル−Ｎ−（２−チアゾリル）ベンゼンスルホ
ンアミド2.9gを得た。このもの 570mg（1.68ミリモル）
と製造例１の化合物 200mg（1.2 ミリモル）を製造例４
と同様に反応させ、処理し、表題化合物456mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.68(1H,dd,J=7.5,0.73H
z),6.87(1H,d,J=4.6Hz),6.93(1H,dd,J=8.1,7.5Hz),7.26
-7.30(1H,m),7.28(1H,d,J=4.6Hz),7.46(1H,d,J=2.7Hz),
7.82-7.88(2H,m),7.88-7.94(2H,m),10.10-10.26(1H,b
r),11.04-11.10(1H,m),12.83-13.01(1H,br)
【００５２】実施例７５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−４−（５−メチル−３−ピリジンスルホンア
ミド）−２−チオフェンスルホンアミド
−イル）−４−（５−メチル−３−ピリジンスルホンア
ミド）−２−チオフェンスルホンアミド
【化２３】
【００５３】５−クロロ−４−ニトロ−２−チオフェン
スルホニルクロリド 645mg（2.46ミリモル）と製造例１
の化合物 410mg（2.46ミリモル）を製造例４と同様に反
応させ、処理して５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ
−インドール−７−イル）−４−ニトロ−２−チオフェ
ンスルホンアミド 194mgを得た。これを常法に従い、メ
タノール10ml中亜鉛末−濃塩酸で還元を行い４−アミノ
−５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−
７−イル）−２−チオフェンスルホンアミド75mgを得
た。このもの72mg（0.20ミリモル）をテトラヒドロフラ
ン２mlに溶解し、ピリジン18μl と５−メチル−３−ピ
リジンスルホニルクロリド38mg（0.2 ミリモル）を加え
た。室温で一晩攪拌後、酢酸エチルと１Ｎ塩酸を加え有
機層を分取、水、重曹水、水で順次洗浄した。硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、表題化合物82mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.33(3H,s),6.76(1H,d,J=
7.7Hz),7.03(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.35(1H,s),7.38(1H,
d,J=7.9Hz),7.51(1H,d,J=2.7Hz),7.80(1H,dd,J=2.0,1.5
Hz),8.60(1H,dd,J=2.0,0.4Hz),8.71(1H,dd,J=1.5,0.4H
z),10.35-10.40(1H,m),10.73-10.80(1H,br),11.16-11.1
9(1H,m)
スルホニルクロリド 645mg（2.46ミリモル）と製造例１
の化合物 410mg（2.46ミリモル）を製造例４と同様に反
応させ、処理して５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ
−インドール−７−イル）−４−ニトロ−２−チオフェ
ンスルホンアミド 194mgを得た。これを常法に従い、メ
タノール10ml中亜鉛末−濃塩酸で還元を行い４−アミノ
−５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−
７−イル）−２−チオフェンスルホンアミド75mgを得
た。このもの72mg（0.20ミリモル）をテトラヒドロフラ
ン２mlに溶解し、ピリジン18μl と５−メチル−３−ピ
リジンスルホニルクロリド38mg（0.2 ミリモル）を加え
た。室温で一晩攪拌後、酢酸エチルと１Ｎ塩酸を加え有
機層を分取、水、重曹水、水で順次洗浄した。硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、表題化合物82mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.33(3H,s),6.76(1H,d,J=
7.7Hz),7.03(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.35(1H,s),7.38(1H,
d,J=7.9Hz),7.51(1H,d,J=2.7Hz),7.80(1H,dd,J=2.0,1.5
Hz),8.60(1H,dd,J=2.0,0.4Hz),8.71(1H,dd,J=1.5,0.4H
z),10.35-10.40(1H,m),10.73-10.80(1H,br),11.16-11.1
9(1H,m)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 209/42 Ｃ０７Ｄ 209/42 401/12 ２０９ 401/12 ２０９ 403/12 ２０９ 403/12 ２０９ 409/14 ２０９ 409/14 ２０９ 417/12 ２０９ 417/12 ２０９ //(Ｃ０７Ｄ 401/12 209:30 213:16） (Ｃ０７Ｄ 403/12 209:30 233:56） (Ｃ０７Ｄ 409/14 209:30 213:16 333:28） (Ｃ０７Ｄ 417/12 209:30 277:22） (72)発明者 岡部 忠志 茨城県つくば市春日４−19−13、エ−ザイ 紫山寮208 (72)発明者 吉松 賢太郎 茨城県土浦市乙戸南２−９−44 (72)発明者 杉 直子 茨城県つくば市稲荷前９−７、つくばね第 二寮110号 (72)発明者 長洲 毅志 茨城県土浦市永国852−13 (72)発明者 小澤 陽一 茨城県つくば市上広岡576−10、サンヴィ レッジ山田 Ａ−101 (72)発明者 小柳 望 茨城県つくば市東光台１−10−５ (72)発明者 紀藤 恭輔 茨城県つくば市東光台１−10−８
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａ環は単環式芳香環を、Ｑは置換基を有してい
てもよい単環式含窒素芳香族ヘテロ環、またはシアノ基
あるいは低級アルキル基で置換されていてもよい、アミ
ジノ基またはグアニジノ基を、Ｔは単結合または低級ア
ルキレン基を、Ｕは単結合、酸素原子、硫黄原子、式−
Ｎ（Ｒ1 ）−、−ＣＯＮ（Ｒ2 ）−、−Ｎ（Ｒ3 ）ＣＯ
−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4 ）−、−Ｎ（Ｒ5 ）ＳＯ2 −、−
Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ2 −または−ＣＯ−（式中Ｒ1 〜Ｒ
5 は水素原子または低級アルキル基を意味する）を、Ｖ
は単結合または低級アルキレン基を、Ｗは水素原子また
はハロゲン原子を、Ｘはハロゲン原子またはシアノ基を
意味する。但し、Ｑがシアノ基または低級アルキル基で
置換されていてもよい、アミジノ基またはグアニジノ基
であり、かつＴが単結合である場合、Ｕも単結合であ
る）で表わされるスルホンアミド誘導体またはその薬理
学的に許容される塩。 - 【請求項２】 Ｕが単結合、式−ＣＯＮ（Ｒ2 ）−、−
Ｎ（Ｒ3 ）ＣＯ−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4 ）−、または−Ｎ
（Ｒ5 ）ＳＯ2 −である請求項１記載のスルホンアミド
誘導体、またはその薬理学的に許容される塩。 - 【請求項３】 Ｑが置換基を有していてもよい、イミダ
ゾール、ピリジン、チアゾール、またはシアノ基あるい
は低級アルキル基で置換されていてもよいアミジノ基で
ある請求項１または２記載のスルホンアミド誘導体、ま
たはその薬理学的に許容される塩。 - 【請求項４】 請求項１記載のスルホンアミド誘導体ま
たはその薬理学的に許容される塩を有効成分とする抗腫
瘍剤。
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