JPH08220356A - Optical waveguide chirped grating - Google Patents
Optical waveguide chirped gratingInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、反射光の反射波長域
が広い光導波路型チャープトグレーティングに関し、そ
の製造が容易に行えるようにしたものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide type chirped grating having a wide reflection wavelength range of reflected light, which can be easily manufactured.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光導波路型グレーティングとは、ガラ
ス、シリコンなどの基板上に形成されたクラッドとなる
石英ガラスなどのクラッド層と、このクラッド層に形成
された酸化ゲルマニウムドープ石英ガラスなどの帯状の
コアとからなる平面光導波路の長さ方向に、一定の周期
的な変化、例えばコアの屈折率の周期的変化やコア径の
周期的変化を形成したものである。そして、この周期的
変化の周期（以下、グレーティング周期と言うことがあ
る。）（Λ）とこの光導波路に入射した光の導波路内で
の伝搬光の波長（管内波長λｇ）との間にλｇ＝２Λの
関係が満たされたときにのみ、その入射光がほぼ１００
％反射される特性を有するものであり、図４に示すよう
に半値幅で示される反射波長域（以下、反射波長域は半
値幅での値で示すものとする。）が０．４ｎｍ程度非常
に狭く、極めて急峻な反射特性を示すものである。2. Description of the Related Art An optical waveguide type grating is a clad layer made of quartz glass or the like which serves as a clad formed on a substrate made of glass, silicon or the like, and a strip-shaped band of germanium oxide-doped quartz glass or the like formed on the clad layer. The planar optical waveguide including the core is formed with a constant periodic change, for example, a periodic change in the refractive index of the core or a periodic change in the core diameter. Then, between the cycle of this periodic change (hereinafter, also referred to as a grating cycle) (Λ) and the wavelength of the light incident on this optical waveguide in the waveguide (wavelength λg in the tube). Only when the relation of λg = 2Λ is satisfied, the incident light is almost 100
%, The reflection wavelength range shown by the half-value width (hereinafter, the reflection wavelength range is shown by the half-value width) is about 0.4 nm. It is extremely narrow and exhibits extremely sharp reflection characteristics.
【０００３】このような鋭い反射波長選択性を有する光
導波路型グレーティングは、光ファイバ通信網の監視シ
ステムやレーザなどに利用されうる有望な技術である。
この光導波路型グレーティングの製造には、干渉法、ホ
トマスク法などが知られている。干渉法は、図５に示す
ように、光導波路１１のコア１２に二方向から可干渉性
の強い高照度のレーザビーム１３，１３を互いに干渉す
るように照射し、コア１２の表面に干渉縞１４を形成す
る。The optical waveguide type grating having such a sharp reflection wavelength selectivity is a promising technique which can be used for a monitoring system of an optical fiber communication network, a laser and the like.
An interferometry method, a photomask method, and the like are known for manufacturing this optical waveguide type grating. In the interferometric method, as shown in FIG. 5, the core 12 of the optical waveguide 11 is irradiated with laser beams 13 and 13 of high illuminance having strong coherence so as to interfere with each other from two directions, and interference fringes are formed on the surface of the core 12. 14 is formed.
【０００４】この干渉縞１４に対応する導波路１１のコ
ア１２の部分には、強いレーザ光が照射される部分と弱
いレーザ光が照射される部分とが交互に周期的に形成さ
れることになる。強いレーザ光が照射された部分は、そ
のガラスにホトリフラクティブ効果による欠陥が生じ、
これにより、その屈折率が増加する。このため、コア１
２には屈折率の周期的変化が形成されることになる。こ
の際に形成される屈折率の周期的変化の周期、すなわち
グレーティング周期（Λ）は、図５のレーザビームの照
射角度（θ）とレーザ光の波長（λ）によって、次式で
定まる。 Λ＝λ／ｓｉｎθIn the portion of the core 12 of the waveguide 11 corresponding to the interference fringes 14, a portion irradiated with a strong laser beam and a portion irradiated with a weak laser beam are alternately and periodically formed. Become. In the part irradiated with strong laser light, defects due to the photorefractive effect occur in the glass,
This increases its refractive index. Therefore, core 1
At 2, a periodic change in refractive index will be formed. The period of the periodic change of the refractive index formed at this time, that is, the grating period (Λ) is determined by the following equation according to the irradiation angle (θ) of the laser beam and the wavelength (λ) of the laser beam in FIG. Λ = λ / sin θ
【０００５】また、ホトマスク法は、一定のグレーティ
ング周期に相当する間隔で多数の極細スリットを形成し
たホトマスクを光導波路のコアに当て、ホトマスクの上
から強いレーザビームを照射、露光して、一定の周期を
有する周期的な屈折率変化を形成するものである。干渉
法による具体例としては、酸化ゲルマニウムドープ・コ
アを有するシングルモード光導波路を用い、波長２４４
ｎｍのアルゴンレーザ（発振波長４８８ｎｍの第２高調
波）を照射して、周期的な大きな屈折率変化が形成され
たことが報告されている。Further, in the photomask method, a photomask in which a large number of fine slits are formed at intervals corresponding to a constant grating period is applied to the core of the optical waveguide, and a strong laser beam is irradiated and exposed from above the photomask to obtain a constant value. A periodic refractive index change having a period is formed. As a specific example by the interferometry, a single mode optical waveguide having a germanium oxide-doped core is used, and a wavelength of 244 is used.
It has been reported that a large periodic change in the refractive index was formed by irradiating an argon laser of nm (the second harmonic having an oscillation wavelength of 488 nm).
【０００６】ところで、このような光導波路型グレーテ
ィングの鋭い反射特性は有用ではあるが、用途等によっ
ては反射波長域が広いものが好ましい場合がある。例え
ば、発光ダイオードなどからの発光スペクトルが数１０
ｎｍの広い光を一様に反射したい時や、半導体レーザな
どからの光が温度変動等により数ｎｍ変化しても反射率
がほぼ一定であることが要求されることがある。By the way, although such a sharp reflection characteristic of the optical waveguide type grating is useful, it may be preferable that the reflection wavelength range is wide depending on the application. For example, the emission spectrum from a light emitting diode or the like is several tens.
When it is desired to uniformly reflect light having a wide wavelength of nm, or when the light from a semiconductor laser or the like changes by several nm due to temperature fluctuation or the like, the reflectance may be required to be substantially constant.
【０００７】このような要求を満たす光導波路型グレー
ティングとして光導波路型チャープトグレーティングが
ある。このものは、導波路の長さ方向の屈折率変化など
の変化の周期、すなわちグレーティング周期を長さ方向
に連続的に変化させたものである。換言すればグレーテ
ィング周期が一定ではなく、徐々に変化しているもので
ある。これにより、反射光の波長を、グレーティング周
期の短いものから長いものまでに対応して連続的に変化
させることができるようになる。There is an optical waveguide type chirped grating as an optical waveguide type grating that satisfies such requirements. This is one in which the period of change such as the change of the refractive index in the length direction of the waveguide, that is, the grating period is continuously changed in the length direction. In other words, the grating period is not constant but gradually changes. As a result, the wavelength of the reflected light can be continuously changed corresponding to a short grating period to a long grating period.
【０００８】したがって、このような光導波路型チャー
プトグレーティングの反射特性は、例えば図６に示すよ
うに反射波長域が３〜５ｎｍとブロードなものになる。
この光導波路型チャープトグレーティングを製造する方
法として、干渉光をグレーティング周期が連続的に変化
するように光導波路に照射する方法は極めて困難であ
り、このためホトマスクとして極細スリットの間隔を連
続的に変化させたものを用いて露光するなどの方法が考
えられる。しかしながら、この製造方法は、グレーティ
ング周期が一定の通常の光導波路型グレーティングを作
成するものに比較すれば、製造が非常に困難でありコス
トも嵩むことになる。Therefore, the reflection characteristic of such an optical waveguide type chirped grating has a broad reflection wavelength region of 3 to 5 nm as shown in FIG. 6, for example.
As a method of manufacturing this optical waveguide type chirped grating, it is extremely difficult to irradiate the optical waveguide with the interference light so that the grating period is continuously changed. It is conceivable to use a method that changes the exposure. However, this manufacturing method is very difficult and costly to manufacture, as compared with a method for manufacturing a normal optical waveguide type grating having a constant grating period.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】よって、この発明にお
ける課題は、製造が容易な光導波路型チャープトグレー
ティングを得ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to obtain an optical waveguide type chirped grating which is easy to manufacture.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】かかる課題は、予め光導
波路のコア径、屈折率、屈折率分布などの導波構造をそ
の長さ方向に連続的に変化させておき、この光導波路の
コアに従来方法による一定周期のグレーティングを形成
することで解決される。This problem is solved by previously changing the waveguide structure such as the core diameter, the refractive index, and the refractive index distribution of the optical waveguide continuously in the lengthwise direction. It is solved by forming a grating with a constant period by the conventional method.
【００１１】[0011]
【作用】光導波路の導波構造を変化させると、そこに伝
搬される光の波長（λｇ）がこの変化に対応して変化す
る。したがって、周期一定のグレーティングを形成して
おくことで、光導波路内の伝搬する光の波長が変化する
ので、結果的にグレーティング周期を連続的に変化させ
たチャープトグレーティングと同様の反射特性が得られ
る。When the waveguiding structure of the optical waveguide is changed, the wavelength (λg) of the light propagated therethrough changes corresponding to this change. Therefore, by forming a grating with a constant period, the wavelength of the light propagating in the optical waveguide changes, and as a result, the same reflection characteristics as a chirped grating with a continuously changed grating period can be obtained. To be
【００１２】以下、この発明を詳しく説明する。本発明
における光導波路の導波構造の具体的なものとしては、
コア径、コア屈折率、屈折率差などが挙げられる。好ま
しいものとしては、コア径、コア屈折率があり、容易に
変化させることができるとともに、反射波長域の拡大に
も大きな効果がある。Hereinafter, the present invention will be described in detail. Specific examples of the waveguide structure of the optical waveguide in the present invention include:
Examples include core diameter, core refractive index, and refractive index difference. Preferable ones are a core diameter and a core refractive index, which can be easily changed and have a great effect on expanding the reflection wavelength range.
【００１３】以下、具体例として光導波路として、断面
形状が矩形であるコアの幅を局所的に変化させた例につ
いて説明する。図１は、本具体例の光導波路を示すもの
で、図中符号１は石英ガラス、シリコンなどからなる平
板状の基板である。この基板１上には、クラッド層２が
形成されている。このクラッド層２は石英ガラスなどか
らなり、その厚みは通常５〜２０μｍ程度となってい
る。クラッド層２内にはほぼ帯状のコア３が形成されて
いる。As a concrete example, an example in which the width of a core having a rectangular cross section is locally changed will be described as a specific example. FIG. 1 shows an optical waveguide of this specific example, in which reference numeral 1 is a flat substrate made of quartz glass, silicon, or the like. A clad layer 2 is formed on the substrate 1. The clad layer 2 is made of quartz glass or the like, and its thickness is usually about 5 to 20 μm. A substantially band-shaped core 3 is formed in the clad layer 2.
【００１４】このコア３は、例えば酸化ゲルマニウムド
ープ石英ガラスなどからなり、その屈折率がクラッド層
２の屈折率よりも大きいものであって、コア３の１つの
表面が露出した埋め込み形のものである。そして、この
コア３の厚みはその長さ方向に一定となっているととも
にその幅は図中位置Ａ点からＢ点にかけて約５〜１０ｍ
ｍの長さで徐々に拡大し、Ｂ点からＣ点にかけて急激に
元の幅に縮小している。位置Ａ点での幅に対し、Ｂ点で
の幅はその１．５〜５倍程度となっている。また、位置
Ａ点でのコア３の厚みは７〜８μｍ程度であり、幅も７
〜８μｍ程度となっている。The core 3 is made of, for example, germanium oxide-doped quartz glass, and has a refractive index higher than that of the cladding layer 2, and is a buried type in which one surface of the core 3 is exposed. is there. The thickness of the core 3 is constant in the length direction, and the width thereof is about 5 to 10 m from the point A to the point B in the figure.
It gradually expands at a length of m, and sharply reduces to the original width from point B to point C. The width at the point B is about 1.5 to 5 times the width at the point A. Further, the thickness of the core 3 at the position A is about 7 to 8 μm and the width is 7 as well.
It is about 8 μm.
【００１５】このような光導波路は、基板１上に熱ＣＶ
Ｄ法、スパッタリング法などによって石英ガラスなどか
らなるクラッド層２を形成し、ついでこのクラッド層２
に対してホトリソグラフィにより図示の平面形状の深さ
が一定の溝を形成し、この溝の内部に酸化ゲルマニウム
ドープ石英ガラスを熱ＣＶＤ法などにより堆積する方法
等によって作成することができる。Such an optical waveguide has a thermal CV on the substrate 1.
The cladding layer 2 made of quartz glass or the like is formed by the D method, the sputtering method or the like, and then the cladding layer 2 is formed.
On the other hand, it can be formed by a method in which a groove having a constant planar shape shown in the drawing is formed by photolithography, and germanium oxide-doped quartz glass is deposited inside the groove by a thermal CVD method or the like.
【００１６】このような光導波路のコア３の幅が局所的
に変化した部分（位置ＡからＢまでの範囲）に対して、
グレーティング周期（Λ）が一定のグレーティングを形
成する。このグレーティングの形成は、従来の干渉法、
ホトマスク法などがそのまま適用できる。このグレーテ
ィングの周期（Λ）は、得られる光導波路型チャープト
グレーティングの反射中心波長に対応して、計算ならび
に予備実験により定められる。例えば、反射中心波長を
１３００ｎｍとすると、周期（Λ）はおよそ１３００ｎ
ｍを伝搬モードの実効屈折率（約１．４５）で割った値
のさらに１／２の値とされる。For a portion where the width of the core 3 of such an optical waveguide is locally changed (range from positions A to B),
A grating having a constant grating period (Λ) is formed. The formation of this grating is based on conventional interferometry,
The photomask method etc. can be applied as it is. The period (Λ) of this grating is determined by calculation and preliminary experiments corresponding to the reflection center wavelength of the obtained optical waveguide type chirped grating. For example, when the reflection center wavelength is 1300 nm, the period (Λ) is about 1300 n.
The value is further halved by dividing m by the effective refractive index of the propagation mode (about 1.45).
【００１７】また、得られる光導波路型チャープトグレ
ーティングの反射波長帯域は、コア３の幅の変化度合に
対応して変化し、その幅の変化の度合が大きくなれば反
射波長帯域が拡がるので、コア３の幅の変化量を調整す
ることで反射波長帯域を制御することができる。このよ
うにして本発明の光導波路型チャープトグレーティング
が得られることになる。The reflection wavelength band of the obtained optical waveguide type chirped grating changes in accordance with the degree of change in the width of the core 3, and the larger the degree of change in the width, the wider the reflection wavelength band. The reflection wavelength band can be controlled by adjusting the amount of change in the width of the core 3. In this way, the optical waveguide type chirped grating of the present invention is obtained.
【００１８】このような光導波路型チャープトグレーテ
ィングにあっては、コア３に形成されたグレーティング
の周期（Λ）は一定ではあるが、コア３に入射された光
のコア３内での伝搬時の波長（λｇ）がコア３の幅の変
化によってその長さ方向に徐々に変化する。このため、
グレーティング周期（Λ）とコア３内の伝搬光の波長と
の相対的関係は、従来のグレーティング周期が変化する
チャープトグレーティングの場合と同様になり、反射光
の波長域は広いものとなる。In such an optical waveguide type chirped grating, the period (Λ) of the grating formed in the core 3 is constant, but when the light incident on the core 3 propagates in the core 3. The wavelength (λg) of the core 3 gradually changes in the lengthwise direction due to the change of the width of the core 3. For this reason,
The relative relationship between the grating period (Λ) and the wavelength of the propagating light in the core 3 is the same as in the case of the conventional chirped grating in which the grating period changes, and the wavelength range of reflected light becomes wide.
【００１９】また、光導波路の導波構造として、コアの
屈折率を採用し、これをコアの長さ方向に局所的に変化
させ、この屈折率の局所的な変化部分に一定のグレーテ
ィング周期のグレーティングを形成することによっても
本発明の光導波路型チャープトグレーティングを得るこ
とができる。このものでは、基板上のクラッド層に幅お
よび厚さが一定であるコアを形成する。コアとクラッド
層との比屈折率差は大きいことが好ましく、少なくとも
１％以上、望ましくは２％以上とすることがよい。Further, as the waveguide structure of the optical waveguide, the refractive index of the core is adopted, this is locally changed in the length direction of the core, and a constant grating period is applied to the locally changed portion of the refractive index. The optical waveguide type chirped grating of the present invention can also be obtained by forming a grating. In this method, a core having a constant width and a constant thickness is formed in the clad layer on the substrate. The relative refractive index difference between the core and the clad layer is preferably large, and is preferably at least 1% or more, and more preferably 2% or more.
【００２０】この光導波路のコアを炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザなどのレーザで局所的に加熱するとともにコ
アの長さ方向に単位面積当りの加熱時間を増加または減
少させ、コア中にドープされている酸化ゲルマニウムな
どのドーパントをクラッド層に熱拡散させて、コアの屈
折率を長さ方向に沿って局所的に変化させる。ついで、
この屈折率が局所的に変化しているコアの部分にグレー
ティング周期が一定のグレーティングを干渉法、ホトマ
スク法によって形成する方法により、上述の光導波路型
チャープトグレーティングを得ることができる。The core of this optical waveguide is a carbon dioxide laser, Y
While heating locally with a laser such as AG laser, increase or decrease the heating time per unit area in the length direction of the core, and thermally diffuse the dopant such as germanium oxide doped in the core into the cladding layer. , Locally change the refractive index of the core along the length direction. Then,
The above-mentioned optical waveguide type chirped grating can be obtained by a method of forming a grating having a constant grating period in the portion of the core where the refractive index is locally changed by the interference method or the photomask method.
【００２１】そして、この場合にはコア中の酸化ゲルマ
ニウムなどのドーパントの熱拡散により、コアの屈折率
が減少した部分はその実質的な幅および厚みが増大する
ことにもなり、２種の導波構造、コアの屈折率およびコ
ア径に局所的変化が生じることになり、反射波長域拡大
の効果が大きいものとなる。In this case, due to the thermal diffusion of the dopant such as germanium oxide in the core, the substantial width and thickness of the portion where the refractive index of the core is reduced increases, and the two types of conductors are introduced. A local change occurs in the wave structure, the refractive index of the core, and the core diameter, so that the effect of expanding the reflection wavelength range becomes large.
【００２２】以下、実施例を示し、その作用効果を明確
にするが、本発明はこれに限定されるものではない。 （実施例１）図１に示すような光導波路を作成した。基
板１はシリコン、クラッド層２は純粋石英ガラス、コア
３は酸化ゲルマニウムドープ石英ガラスであり、比屈折
率差は０．７％である。コア３の幅は端部で６μｍであ
り、これが１０ｍｍの長さにわたって徐々にその２倍の
１６μｍに拡幅されている。コア３の厚みは６μｍで一
定である。Examples will be shown below to clarify the function and effect thereof, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) An optical waveguide as shown in FIG. 1 was prepared. The substrate 1 is silicon, the clad layer 2 is pure silica glass, the core 3 is germanium oxide-doped silica glass, and the relative refractive index difference is 0.7%. The width of the core 3 is 6 μm at the end, which is gradually doubled to 16 μm over the length of 10 mm. The core 3 has a constant thickness of 6 μm.
【００２３】この光導波路のコア３の拡幅部分に対し
て、干渉法によりグレーティング周期（Λ）が約４８８
ｎｍと一定のグレーティングを形成して、本発明の光導
波路型チャープトグレーティングを作成した。この光導
波路型チャープトグレーティングの特性は図２に示すよ
うに、その反射中心波長は１３００ｎｍで、半値幅での
反射波長帯域は３．５ｎｍであり、ピーク反射率は９７
％であった。この結果から、この例ではコア３の幅を２
倍に変化することにより得られる反射波長帯域は中心波
長に対して約２．７％の変化量に相当することがわか
る。これによりコア３の幅の変化量を調整することで、
反射波長帯域を制御しうることがわかる。The grating period (Λ) of the widened portion of the core 3 of the optical waveguide is about 488 by the interferometry method.
An optical waveguide type chirped grating of the present invention was prepared by forming a grating having a constant thickness of nm. As shown in FIG. 2, the characteristics of this optical waveguide type chirped grating have a reflection center wavelength of 1300 nm, a reflection wavelength band in a half width of 3.5 nm, and a peak reflectance of 97.
%Met. From this result, in this example, the width of the core 3 is 2
It can be seen that the reflection wavelength band obtained by doubling the change corresponds to a change amount of about 2.7% with respect to the center wavelength. By adjusting the amount of change in the width of the core 3 by this,
It can be seen that the reflection wavelength band can be controlled.
【００２４】（実施例２）シリコンからなる基板上に純
粋石英ガラスからなるクラッド層を形成し、このクラッ
ド層に酸化ゲルマニウムドープ石英ガラスからなるコア
を形成した。コアの幅は４．５μｍで一定とし、厚みも
４．５μｍと一定とし、コアとクラッド層との比屈折率
差を２．５％とした。このコアの長さ約９ｍｍにわたる
部分に、ビームスポット径が５００μｍの炭酸ガスレー
ザ（出力１０Ｗ）を照射して加熱した。この時、単位長
さ当りの照射時間を照射始端側から終端側にかけて徐々
に長くし、終端側にかけての加熱量が徐々に増大するよ
うにした。Example 2 A clad layer made of pure quartz glass was formed on a substrate made of silicon, and a core made of germanium oxide-doped quartz glass was formed on the clad layer. The width of the core was constant at 4.5 μm, the thickness was also constant at 4.5 μm, and the relative refractive index difference between the core and the clad layer was 2.5%. A carbon dioxide gas laser (output: 10 W) having a beam spot diameter of 500 μm was irradiated to a portion over a length of about 9 mm of this core to heat it. At this time, the irradiation time per unit length was gradually increased from the irradiation start end side to the irradiation end side, and the heating amount was gradually increased from the irradiation end side.
【００２５】この加熱により、コアにドープされていた
酸化ゲルマニウムが熱拡散し、終端側にかけてその屈折
率が徐々に低下し、終端側において比屈折率差は０．２
％となった。また、この熱拡散により、コアの幅および
厚さは、終端側で始端側のそれの約４倍になった。この
コアに対して干渉法によりグレーティング周期が約４８
８ｎｍと一定のグレーティングを形成して、本発明の光
導波路型チャープトグレーティングを得た。このものの
反射特性は、図３に示すように反射中心波長は１３００
ｎｍで、反射波長帯域は半値幅で約１８ｎｍであった。By this heating, the germanium oxide doped in the core is thermally diffused, its refractive index gradually decreases toward the terminal side, and the relative refractive index difference on the terminal side is 0.2.
It became%. Also, due to this heat diffusion, the width and thickness of the core became about 4 times as large as that on the starting end side at the terminal end side. The grating period is about 48 for this core by interferometry.
A constant grating of 8 nm was formed to obtain an optical waveguide type chirped grating of the present invention. The reflection characteristic of this product is that the reflection center wavelength is 1300 as shown in FIG.
In nm, the reflection wavelength band was about 18 nm in full width at half maximum.
【００２６】以上の実施例から明らかなように、光導波
路の導波構造を局所的に連続的に変化させることで、反
射波長域を広げることができ、かつ導波構造の変化量に
対応して反射波長域の帯域を定めることが可能となる。
このため、反射波長域の異なるものを従来の干渉法やホ
トマスク法で簡単に製造することができる。As is clear from the above embodiments, by locally and continuously changing the waveguide structure of the optical waveguide, the reflection wavelength region can be widened and the amount of change in the waveguide structure can be dealt with. It is possible to determine the reflection wavelength band.
Therefore, it is possible to easily manufacture different reflection wavelength regions by the conventional interference method or photomask method.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上説明したように、この発明の光導波
路型チャープトグレーティングは、光導波路の導波構造
をその長手方向に連続的にかつ局所的に変化せしめ、こ
の部分にグレーティング周期が一定のグレーティングを
形成したものであるので、従来の光導波路型チャープト
グレーティングの製造に用いられている干渉法やホトマ
スク法などによって簡単に製造することができる。ま
た、導波構造の変化量を調節することによって、反射波
長域を容易に変化、制御することもできる。As described above, in the optical waveguide type chirped grating of the present invention, the waveguide structure of the optical waveguide is continuously and locally changed in the longitudinal direction, and the grating period is constant in this portion. Since the grating is formed, it can be easily manufactured by an interferometry method, a photomask method, or the like used for manufacturing a conventional optical waveguide type chirped grating. In addition, the reflection wavelength range can be easily changed and controlled by adjusting the amount of change in the waveguide structure.
【図１】 本発明の光導波路型チャープトグレーティン
グを得るための光導波路の例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an optical waveguide for obtaining an optical waveguide type chirped grating of the present invention.
【図２】 本発明の実施例１で得られた光導波路型チャ
ープトグレーティングの反射特性を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing the reflection characteristics of the optical waveguide type chirped grating obtained in Example 1 of the present invention.
【図３】 本発明の実施例２で得られた光導波路型チャ
ープトグレーティングの反射特性を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the reflection characteristics of the optical waveguide type chirped grating obtained in Example 2 of the present invention.
【図４】 一般の光導波路型グレーティングの反射特性
を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a reflection characteristic of a general optical waveguide type grating.
【図５】 一般の光導波路型グレーティングを製造する
干渉法の例を模式的に示した図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of an interferometry method for manufacturing a general optical waveguide grating.
【図６】 従来の光導波路型チャープトグレーティング
の反射特性を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the reflection characteristics of a conventional optical waveguide type chirped grating.
１…基板、２…クラッド層、３…コア 1 ... Substrate, 2 ... Clad layer, 3 ... Core
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 家中 拓也 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉工場内 (72)発明者 島 研介 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takuya Ienaka 1440 Rokuzaki, Sakura City, Chiba Prefecture Fujikura Co., Ltd.Sakura Plant (72) Kensuke Shima Shima 1440, Rosakizaki Sakura City, Chiba Prefecture, Fujikura Sakura Co., Ltd.
Claims (3)
変化を形成し、この変化部分にグレーティングを形成し
たことを特徴とする光導波路型チャープトグレーティン
グ。1. An optical waveguide type chirped grating, wherein a waveguide structure is continuously changed in the lengthwise direction of the optical waveguide, and a grating is formed in the changed part.
の局所的なコア径の変化であることを特徴とする請求項
１記載の光導波路型チャープトグレーティング。2. The optical waveguide type chirped grating according to claim 1, wherein the continuous change of the waveguide structure is a local change of the core diameter of the optical waveguide.
の局所的な加熱によるドーパントの拡散によって形成さ
れるコアの屈折率変化であることを特徴とする請求項１
記載の光導波路型チャープトグレーティング。3. The continuous change of the waveguide structure is a change in the refractive index of the core formed by diffusion of the dopant by local heating of the optical waveguide.
The described optical waveguide type chirped grating.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2442695A JPH08220356A (en) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | Optical waveguide chirped grating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2442695A JPH08220356A (en) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | Optical waveguide chirped grating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08220356A true JPH08220356A (en) | 1996-08-30 |
Family
ID=12137832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2442695A Pending JPH08220356A (en) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | Optical waveguide chirped grating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08220356A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-02-13 JP JP2442695A patent/JPH08220356A/en active Pending
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