JPH08197044A - 廃水の処理方法及び装置 - Google Patents
廃水の処理方法及び装置Info
- Publication number
- JPH08197044A JPH08197044A JP7007193A JP719395A JPH08197044A JP H08197044 A JPH08197044 A JP H08197044A JP 7007193 A JP7007193 A JP 7007193A JP 719395 A JP719395 A JP 719395A JP H08197044 A JPH08197044 A JP H08197044A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- waste water
- water
- rays
- fine powder
- Prior art date
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- Withdrawn
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 廃水の深層部まで万遍なくγ線又はx線を行
きわたらせて効果的な廃水の処理を行うことができるよ
うにする。 【構成】 未処理の廃水1に金属混入器2で金属微粉8
を混入した上電子ビーム照射殺菌装置3で電子ビーム4
を照射し、電子ビーム4を金属微粉8に作用させて透過
性の強いγ線またはx線を発生させて廃水の殺菌を行な
い、セパレータ6で処理された廃水から金属微粉8を除
去して処理水7として排出する。また、前記除去された
金属微粉8は金属混入器2に送られて再利用される。
きわたらせて効果的な廃水の処理を行うことができるよ
うにする。 【構成】 未処理の廃水1に金属混入器2で金属微粉8
を混入した上電子ビーム照射殺菌装置3で電子ビーム4
を照射し、電子ビーム4を金属微粉8に作用させて透過
性の強いγ線またはx線を発生させて廃水の殺菌を行な
い、セパレータ6で処理された廃水から金属微粉8を除
去して処理水7として排出する。また、前記除去された
金属微粉8は金属混入器2に送られて再利用される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、下水、汚泥水、産業廃
水等の種々の廃水の処理方法及び装置に関する。
水等の種々の廃水の処理方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】放射線ビームで廃水殺菌を行う従来の技
術としては、図2に示すように、水流を薄膜流011と
し、ここに電子加速装置05からの電子ビーム04を直
接照射して、殺菌や有機物の分解を行う方法が研究され
ている。
術としては、図2に示すように、水流を薄膜流011と
し、ここに電子加速装置05からの電子ビーム04を直
接照射して、殺菌や有機物の分解を行う方法が研究され
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】電子ビームを直接水に
照射する場合の問題点は、電子ビームの水中での減衰が
極めて大きいことである。
照射する場合の問題点は、電子ビームの水中での減衰が
極めて大きいことである。
【0004】即ち、Eを電圧(MeV)とすると、電子
ビームの最大飛程R(cm)は、R=0.542E−0.
133で表わされ、E=1.0MeVのときには、R=
0.405cmで約4mmである。Eを変えた場合の電子ビ
ームの水中における線量と水中の深さの関係を図3に示
す。
ビームの最大飛程R(cm)は、R=0.542E−0.
133で表わされ、E=1.0MeVのときには、R=
0.405cmで約4mmである。Eを変えた場合の電子ビ
ームの水中における線量と水中の深さの関係を図3に示
す。
【0005】従って、例えば1MeVの電子ビームを水
に照射した場合、水の表面からわずか約4mmまでしか電
子ビームが透過せず、その結果、深層部の水は殺菌等の
処理が行われないこととなる。そこで、前記の図2に示
される方法のように、薄膜水流をつくり、その厚さを電
子ビームが到達しうる厚さにする方法が採られることに
なる。しかしながら、前記の図2に示される従来の技術
では、水の薄膜流を形成しているために、大量処理は向
かないという問題点がある。
に照射した場合、水の表面からわずか約4mmまでしか電
子ビームが透過せず、その結果、深層部の水は殺菌等の
処理が行われないこととなる。そこで、前記の図2に示
される方法のように、薄膜水流をつくり、その厚さを電
子ビームが到達しうる厚さにする方法が採られることに
なる。しかしながら、前記の図2に示される従来の技術
では、水の薄膜流を形成しているために、大量処理は向
かないという問題点がある。
【0006】本発明は、以上の問題点を解決することが
できる廃水の処理方法及び装置を提供しようとするもの
である。
できる廃水の処理方法及び装置を提供しようとするもの
である。
【0007】
(1)本発明の廃水の処理方法は、金属微粉を混入した
廃水に電子ビームを照射し、該廃水の殺菌を行うことを
特徴とする。 (2)本発明の廃水の処理装置は、金属微粉を混入した
廃水に電子ビームを照射する電子ビーム照射殺菌装置
と、電子ビーム照射後の廃水から前記金属微粉を除去す
るセパレータを有することを特徴とする。 (3)また、本発明の廃水の処理装置は、前記(2)の
廃水の処理装置において、前記セパレータにより除去し
た金属微粉を未処理の廃水に再度混入する金属微粉混合
手段を設けたことを特徴とする。
廃水に電子ビームを照射し、該廃水の殺菌を行うことを
特徴とする。 (2)本発明の廃水の処理装置は、金属微粉を混入した
廃水に電子ビームを照射する電子ビーム照射殺菌装置
と、電子ビーム照射後の廃水から前記金属微粉を除去す
るセパレータを有することを特徴とする。 (3)また、本発明の廃水の処理装置は、前記(2)の
廃水の処理装置において、前記セパレータにより除去し
た金属微粉を未処理の廃水に再度混入する金属微粉混合
手段を設けたことを特徴とする。
【0008】
【作用】処理すべき廃水に金属微粉を混入させた状態で
電子ビームを当てると、従来の電子ビームだけによる殺
菌のみならず、金属微粉に当たる電子ビームが金属原子
の外殻電子に作用することによってγ線またはx線が発
生し、このγ線またはx線による殺菌作用が加わること
になる。
電子ビームを当てると、従来の電子ビームだけによる殺
菌のみならず、金属微粉に当たる電子ビームが金属原子
の外殻電子に作用することによってγ線またはx線が発
生し、このγ線またはx線による殺菌作用が加わること
になる。
【0009】また、γ線またはx線は水中透過性が強
い。例えば、γ線の水中における線量Iは、
い。例えば、γ線の水中における線量Iは、
【0010】
【数1】
【0011】で表わされる。ここで、I0 は照射される
γ線の線量、μは質量減衰係数(単位断面積で単位質量
の水によって光るが減弱される割合、〔cm〕)、xは水
中の深さ〔cm〕である。Eをγ線の電圧とすると前記μ
は、 μ=7.062E−2 で表わされ、E=1MeVのγ線においては、水中4mm
の深さで3%しか減衰せず、1/10まで減衰するのには水
中326mmの深さを必要とし、電子ビームに比して10
0倍程度の透過力がある。
γ線の線量、μは質量減衰係数(単位断面積で単位質量
の水によって光るが減弱される割合、〔cm〕)、xは水
中の深さ〔cm〕である。Eをγ線の電圧とすると前記μ
は、 μ=7.062E−2 で表わされ、E=1MeVのγ線においては、水中4mm
の深さで3%しか減衰せず、1/10まで減衰するのには水
中326mmの深さを必要とし、電子ビームに比して10
0倍程度の透過力がある。
【0012】前記本発明(1)においては、金属微粉を
混入した廃水に電子ビームを照射しているので、電子ビ
ームが金属原子の外殻電子に作用して水中透過性が強い
γ線またはx線が発生し、水の深層部までこのγ線また
はx線により廃水の殺菌作用が行われる。また、電子ビ
ームが金属微粉に当ったときに発生するγ線またはx線
は、四方、八方に放射される上に、このγ線またはx線
が別の金属微粉に当たると散乱される。従って、γ線ま
たはx線が水中に万遍なく行きわたり、透過性が強いこ
とと相まって効果的な殺菌を行うことができる。
混入した廃水に電子ビームを照射しているので、電子ビ
ームが金属原子の外殻電子に作用して水中透過性が強い
γ線またはx線が発生し、水の深層部までこのγ線また
はx線により廃水の殺菌作用が行われる。また、電子ビ
ームが金属微粉に当ったときに発生するγ線またはx線
は、四方、八方に放射される上に、このγ線またはx線
が別の金属微粉に当たると散乱される。従って、γ線ま
たはx線が水中に万遍なく行きわたり、透過性が強いこ
とと相まって効果的な殺菌を行うことができる。
【0013】前記(2)の本発明は、電子ビーム照射殺
菌装置によって金属微粉を混入した廃水に電子ビームを
照射しているために、前記のように水中に万遍なくγ線
またはx線を行きわたらせて効果的な殺菌が行われ、こ
の殺菌処理された廃水からセパレータで金属微粉を除去
して金属微粉を含まない処理水を得ることができる。
菌装置によって金属微粉を混入した廃水に電子ビームを
照射しているために、前記のように水中に万遍なくγ線
またはx線を行きわたらせて効果的な殺菌が行われ、こ
の殺菌処理された廃水からセパレータで金属微粉を除去
して金属微粉を含まない処理水を得ることができる。
【0014】前記(3)の本発明では、前記セパレータ
で除去された金属微粉が未処理の廃水に混入されて有効
に利用される。
で除去された金属微粉が未処理の廃水に混入されて有効
に利用される。
【0015】なお、本発明で使用される金属微粉として
は、用途、仕様等により適宜のものを使用することがで
きるが、外殻電子が多いタングステン等の重金属を用い
るのが望ましい。
は、用途、仕様等により適宜のものを使用することがで
きるが、外殻電子が多いタングステン等の重金属を用い
るのが望ましい。
【0016】
【実施例】本発明の一実施例を、図1によって説明す
る。図1(a)において、2は供給される未処理の廃水
1にタングステン等の金属微粉8を混入する金属粉混入
器であり、金属微粉8を混入された廃水は、電子加速装
置5で発生する電子ビーム4が照射される電子ビーム照
射殺菌装置3へ導入される。電子ビーム照射殺菌装置3
で電子ビーム4が照射されて処理された廃水は、セパレ
ータ6へ導入され、ここで金属微粉8が除去され処理水
7として排出される。また、水より分離された金属微粉
8は、金属粉混入器2に供給され再度未処理の廃水1に
混入されるようになっている。なお、前記セパレータ6
としては、サイクロン式、重力分離式、フィルタ式等の
ものを用いることができる。
る。図1(a)において、2は供給される未処理の廃水
1にタングステン等の金属微粉8を混入する金属粉混入
器であり、金属微粉8を混入された廃水は、電子加速装
置5で発生する電子ビーム4が照射される電子ビーム照
射殺菌装置3へ導入される。電子ビーム照射殺菌装置3
で電子ビーム4が照射されて処理された廃水は、セパレ
ータ6へ導入され、ここで金属微粉8が除去され処理水
7として排出される。また、水より分離された金属微粉
8は、金属粉混入器2に供給され再度未処理の廃水1に
混入されるようになっている。なお、前記セパレータ6
としては、サイクロン式、重力分離式、フィルタ式等の
ものを用いることができる。
【0017】本実施例では、金属粉混入器2で金属微粉
8が混入された未処理の廃水に電子ビーム照射殺菌装置
3において電子ビーム4が照射される。金属微粉8に電
子ビーム4が当たると、図1(b)に示すように、電子
ビーム4が金属微粉8の外殻電子に作用して四方、八方
にγ線またはx線9が放射され、またこのγ線またはx
線は別の金属微粉に当たると矢印10に示すように散乱
される。
8が混入された未処理の廃水に電子ビーム照射殺菌装置
3において電子ビーム4が照射される。金属微粉8に電
子ビーム4が当たると、図1(b)に示すように、電子
ビーム4が金属微粉8の外殻電子に作用して四方、八方
にγ線またはx線9が放射され、またこのγ線またはx
線は別の金属微粉に当たると矢印10に示すように散乱
される。
【0018】前記の作用欄で詳述したように、金属微粉
8から放射されるγ線またはx線9は水中での透過性が
強く、かつ、これが四方、八方に放射されると共に他の
金属微粉によって散乱されるために、γ線またはx線9
は水中の深層の部分まで万遍なく行きわたり、効果的な
殺菌と微生物の殺滅を行うことができる。
8から放射されるγ線またはx線9は水中での透過性が
強く、かつ、これが四方、八方に放射されると共に他の
金属微粉によって散乱されるために、γ線またはx線9
は水中の深層の部分まで万遍なく行きわたり、効果的な
殺菌と微生物の殺滅を行うことができる。
【0019】以上のように電子ビーム4の照射による処
理を受けた水は、セパレータ6に送られてここで金属微
粉8が除去されて処理水7として排出される。また、セ
パレータ6で水より除去された金属微粉8は、金属粉混
入器2へ送られて再度未処理の廃水1に混入され有効に
利用される。
理を受けた水は、セパレータ6に送られてここで金属微
粉8が除去されて処理水7として排出される。また、セ
パレータ6で水より除去された金属微粉8は、金属粉混
入器2へ送られて再度未処理の廃水1に混入され有効に
利用される。
【0020】
【発明の効果】本発明では、金属微粉を混入した廃水に
電子ビームを照射して透過性の強いγ線またはx線を発
生させ、かつ、このγ線またはx線を金属微粉に当てて
散乱させるようにしているので、以上説明したように、
廃水の深層部までむらなくγ線またはx線を行きわたら
せることができ、廃水を効果的に殺菌処理することがで
きる。また、前記のように処理された廃水中の金属微粉
はセパレータで取除かれ、金属微粉を含まない処理水が
得られると共に、金属微粉を再度未処理の廃水に混入す
ることによってその有効利用を図ることができる。
電子ビームを照射して透過性の強いγ線またはx線を発
生させ、かつ、このγ線またはx線を金属微粉に当てて
散乱させるようにしているので、以上説明したように、
廃水の深層部までむらなくγ線またはx線を行きわたら
せることができ、廃水を効果的に殺菌処理することがで
きる。また、前記のように処理された廃水中の金属微粉
はセパレータで取除かれ、金属微粉を含まない処理水が
得られると共に、金属微粉を再度未処理の廃水に混入す
ることによってその有効利用を図ることができる。
【図1】本発明の一実施例を示し、図1(a)はその全
体構成図、図1(b)は電子ビーム照射時のγ線または
x線の発生状態の説明図である。
体構成図、図1(b)は電子ビーム照射時のγ線または
x線の発生状態の説明図である。
【図2】従来の電子ビームによる廃水の処理方法の説明
図である。
図である。
【図3】図3(a)及び図3(b)は電子ビームの線量
と水中の深さの関係を示すグラフである。
と水中の深さの関係を示すグラフである。
1 未処理の廃水 2 金属粉混入器 3 電子ビーム照射殺菌装置 4 電子ビーム 5 電子加速装置 6 セパレータ 7 処理水 8 金属微粉 9 γ線またはx線
Claims (3)
- 【請求項1】 金属微粉を混入した廃水に電子ビームを
照射し、該廃水の殺菌を行うことを特徴とする廃水の処
理方法。 - 【請求項2】 金属微粉を混入した廃水に電子ビームを
照射する電子ビーム照射殺菌装置と、電子ビーム照射後
の廃水から前記金属微粉を除去するセパレータとを有す
ることを特徴とする廃水の処理装置。 - 【請求項3】 前記セパレータにより除去した前記金属
微粉を未処理の廃水に再度混入する金属微粉混入手段を
設けたことを特徴とする請求項2に記載の廃水の処理装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7007193A JPH08197044A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 廃水の処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7007193A JPH08197044A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 廃水の処理方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08197044A true JPH08197044A (ja) | 1996-08-06 |
Family
ID=11659207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7007193A Withdrawn JPH08197044A (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 廃水の処理方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08197044A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100368837B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2003-01-24 | 한국전력공사 | 감마선 및 티타늄을 이용한 하수 처리용 방사선 조사장치 |
KR100399153B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2003-09-26 | 한국전력공사 | 감마선을 이용한 하수 또는 폐수 처리수의 공업용수로의 전환공정 |
KR100779757B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-11-28 | 조재영 | 방사선조사기술을 이용한 축산분뇨에 함유된 항생물질,악취유발성물질과 병원성 미생물의 저감 및 이를 이용한부산물비료 제조방법 |
KR100781388B1 (ko) * | 2005-12-22 | 2007-11-30 | 조재영 | 방사선조사기술을 이용한 육묘상토의 제조방법 |
CN103145213A (zh) * | 2013-03-20 | 2013-06-12 | 中国科学院高能物理研究所 | 含呋喃它酮废水的处理方法 |
-
1995
- 1995-01-20 JP JP7007193A patent/JPH08197044A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100368837B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2003-01-24 | 한국전력공사 | 감마선 및 티타늄을 이용한 하수 처리용 방사선 조사장치 |
KR100399153B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2003-09-26 | 한국전력공사 | 감마선을 이용한 하수 또는 폐수 처리수의 공업용수로의 전환공정 |
KR100779757B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-11-28 | 조재영 | 방사선조사기술을 이용한 축산분뇨에 함유된 항생물질,악취유발성물질과 병원성 미생물의 저감 및 이를 이용한부산물비료 제조방법 |
KR100781388B1 (ko) * | 2005-12-22 | 2007-11-30 | 조재영 | 방사선조사기술을 이용한 육묘상토의 제조방법 |
CN103145213A (zh) * | 2013-03-20 | 2013-06-12 | 中国科学院高能物理研究所 | 含呋喃它酮废水的处理方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020402 |