JPH08193040A - マレイン酸の1,4−ブタンジオールへの水素化のための改善されたプロセス - Google Patents
マレイン酸の1,4−ブタンジオールへの水素化のための改善されたプロセスInfo
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Abstract
つγ−ブチロラクトンの生成を最小にするプロセスおよ
び触媒を提供すること。 【解決手段】 テトラヒドロフランおよび1,4−ブタ
ンジオールを生成するプロセスであって、水素化可能な
前駆体を、水素含有ガスと、炭素担体に担持された、パ
ラジウム、銀、およびレニウムを有する水素化触媒とに
接触させて触媒的に水素化し、大部分の1,4−ブタン
ジオールを含む生成物を生成する工程を包含する、プロ
セス:ここで、該水素化触媒は、(i)パラジウム、
銀、およびレニウムのソースに該炭素担体を接触させる
工程を包含する、1つまたはそれ以上の含浸工程におい
て、該パラジウム、銀、およびレニウムのソースで該炭
素担体を含浸する工程、ここで該パラジウム、銀、およ
びレニウムは、少なくとも1つの溶液中にある;(ii)
各含浸工程の後に、溶媒を除去するために、該含浸され
た炭素担体を乾燥する工程;(iii)還元条件下で、約
100℃〜約350℃の温度にて、該含浸された炭素担
体を加熱する工程;によって調製される。
Description
マレイン酸、または他の水素化可能な前駆体を、1,4
−ブタンジオールおよびテトラヒドロフランに水素化す
るための改善されたプロセスに関する。このプロセス
は、炭素担体に担持された、パラジウム、銀、およびレ
ニウムを含有する触媒を使用することによって特徴付け
られる。このプロセスはまた、副生成物γ−ブチロラク
トンの形成が最少である、高収率の1,4−ブタンジオ
ールによって特徴付けられる。
ン、および1,4−ブタンジオールが、無水マレイン酸
および関連した化合物による接触水素化により得られる
ことは周知である。テトラヒドロフランは、天然樹脂お
よび合成樹脂にとって有用な溶媒であり、そして多くの
化学製品およびプラスチックの製造において重要な中間
体である。γ−ブチロラクトンは、酪酸化合物、ポリビ
ニルピロリドン、およびメチオニンの合成のための中間
体である。γ−ブチロラクトンは、アクリレートポリマ
ーおよびスチレンポリマーにとって有用な溶媒であり、
そして塗料除去剤および繊維助剤の有用な成分でもあ
る。1,4−ブタンジオール(1,4−ブチレングリコ
ールとしても知られている)は、溶媒、湿潤剤、可塑剤
および薬剤のための中間体、ポリウレタンエラストマー
のための架橋剤、テトラヒドロフランの製造における前
駆体として有用であり、そしてテレフタレートプラスチ
ックの作製に用いられる。
に担持されたパラジウム、銀、およびレニウムを含有す
る水素化触媒であり、これは、無水マレイン酸、マレイ
ン酸、および関連化合物を、テトラヒドロフラン、γ−
ブチロラクトン、および1,4−ブタンジオールに水素
化することにとって有用である。
持されたパラジウムおよびレニウムからなる水素化触媒
を用いる、カルボン酸、ラクトン、または無水物の水素
化を教示している。米国特許第4,550,185号および同第
4,609,636号は、炭素担体に担持されたパラジウムおよ
びレニウムを含有する触媒の存在下で、マレイン酸、無
水マレイン酸、または他の水素化可能な前駆体を水素化
することによって、テトラヒドロフランおよび1,4−
ブタンジオールを作製するプロセスを教示している。こ
こでは、パラジウムおよびレニウムは、平均パラジウム
微結晶サイズが約10nm〜25nmであり、そして平
均レニウム微結晶サイズが2.5nm未満である微結晶
の形態で存在していた。この触媒の調製は、炭素担体上
にパラジウム種を析出させ、そして還元させ、その後、
パラジウム含浸された炭素担体上に、レニウム種を析出
させ、そして還元することによって特徴付けられる。
持された、レニウム、パラジウム、および銀を含有する
触媒を用いて、カルボン酸またはそれらの無水物を、対
応するアルコールおよび/またはカルボン酸エステルに
接触水素化するためのプロセスを教示している。この触
媒の調製は、炭素担体上にパラジウムと銀とを同時に析
出させ、その後、高温(600℃)加熱処理することに
よって特徴付けられる。次いで、レニウムは、パラジウ
ム/銀含浸された炭素担体上に析出させられた。次い
で、得られた触媒は還元された。
たは他の水素化可能な前駆体において、上述の触媒は、
1,4−ブタンジオールよりもテトラヒドロフランおよ
びγ−ブチロラクトンを多く生成する傾向がある。
4−ブタンジオールの生成を最大にし、かつγ−ブチロ
ラクトン生成を最小にするプロセスおよび触媒を提供す
ることにある。
フランおよび1,4−ブタンジオールを生成するプロセ
スは、水素化可能な前駆体を、水素含有ガスと、炭素担
体に担持されたパラジウム、銀、およびレニウムを含有
する水素化触媒とに接触させて触媒的に水素化し、大部
分の1,4−ブタンジオールを含む生成物を生成させる
工程を包含する:ここで、該水素化触媒は、 (i)パラジウム、銀、およびレニウムのソースに該炭
素担体を接触させる工程を包含する、1つまたはそれ以
上の含浸工程において、該パラジウム、銀、およびレニ
ウムのソースで該炭素担体を含浸する工程、ここで該パ
ラジウム、銀、およびレニウムは、少なくとも1つの溶
液中にある; (ii)各含浸工程の後に、溶媒を除去するために、該含
浸された炭素担体を乾燥する工程; (iii)還元条件下で、約100℃〜約350℃の温度
にて、該含浸された炭素担体を加熱する工程;によって
調製される。そのことにより上記目的が達成される。
可能な前駆体は、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル
酸、無水コハク酸、コハク酸、コハク酸ジメチル、γ−
ブチロラクトン、およびそれらの混合物からなる群より
選択される。
可能な前駆体は、マレイン酸、無水マレイン酸、コハク
酸、無水コハク酸、またはそれらの混合物である。
ウムのソースは硝酸パラジウムである。
ースは硝酸銀である。
ムのソースは過レニウム酸である。好ましい実施態様に
おいては、上記パラジウム、銀、およびレニウムのソー
スを合わせて単一の溶液とし、そしてパラジウム、銀、
およびレニウムを、単一の含浸工程で炭素担体上に析出
させる。
触媒は、約0.1重量%〜約20重量%のパラジウム、
約0.1重量%〜約20重量%の銀、および約0.1重
量%〜約20重量%のレニウムを含有する。
触媒は、約2重量%〜約8重量%のパラジウム、約1重
量%〜約8重量%の銀、および約1重量%〜約10重量
%のレニウムを含有する。
ウムは、10nm未満の平均サイズを有する微結晶を含
有するパラジウムの形態で存在する。
ウムは、約5nm未満の平均サイズを有する微結晶を含
有するパラジウムの形態で存在する。
水素化可能な前駆体との比は、約5:1と約1000:
1との間である。
有ガスの圧力は、約20気圧と400気圧との間であ
る。
工程は、約50℃と約350℃との間の温度にある。
工程は、約100℃と約300℃との間の温度にある。
れた炭素担体の上記乾燥温度は、約80℃と約150℃
との間である。
たは他の水素化可能な前駆体は、1,4−ブタンジオー
ルおよびテトラヒドロフランに触媒的に水素化される。
水素化触媒が炭素担体に担持されたパラジウム、銀、お
よびレニウムを含有し、そして以下の工程: (i)パラジウム、銀、およびレニウムのソースで炭素
担体を含浸させる工程、ここで、該パラジウム、銀、お
よびレニウムのソースは、少なくとも1つの溶液(すな
わち、1つまたはそれ以上の溶液)中にある; (ii)各含浸工程の後、溶媒を除去するために、約15
0℃未満の温度で、該含浸された炭素担体を乾燥する工
程; (iii)還元条件下で約100℃〜約350℃の温度に
て、含浸された炭素担体を加熱する工程;によって調製
される場合、高い1,4−ブタンジオール収率が達成さ
れることが見出された。
0nm未満の平均粒子サイズを有する微結晶の形態で存
在している。
れて、高い1,4−ブタンジオール収率および低いテト
ラヒドロフラン収率を与え、γ−ブチロラクトンの形成
が最少である。
前駆体が、触媒の存在下で水素含有ガスと反応される。
駆体」は、水素化される場合に1,4−ブタンジオール
を生成する、あらゆるカルボン酸、またはそれらの無水
物、カルボン酸エステル、ラクトン、またはそれらの混
合物である。代表的な水素化可能な前駆体には、マレイ
ン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水コハク酸、コハ
ク酸、コハク酸ジメチル、γ−ブチロラクトン、または
それらの混合物が包含される。好ましい水素化可能な前
駆体は、マレイン酸、無水マレイン酸、コハク酸、無水
コハク酸、およびそれらの混合物である。
イン酸である。これは、典型的には、触媒の存在下、酸
素含有ガス中でn−ブタンまたはベンゼンを反応させ、
n−ブタンまたはベンゼンを蒸気相中で無水マレイン酸
に酸化し、次いで水でクエンチすることによりマレイン
酸無水物を回収して、マレイン酸水溶液を生成させるこ
とによって得られる。n−ブタンまたはベンゼンの酸化
は、典型的には、約300℃〜600℃の温度および約
0.5気圧〜20気圧(50〜2000kPa)の圧力
で行われる。
釈ガスを含まない市販の純粋水素である。しかし、水素
含有ガスは、水素(H2)に加えて、窒素(N2)、あら
ゆる気体状の炭化水素(例えば、メタン)、および気体
状の酸化炭素(例えば、一酸化炭素、二酸化炭素)も含
有し得る。
に担持されたパラジウム、銀、およびレニウムを含有す
る。本発明に用いられる炭素は、少なくとも200m2
/gのBET表面積、好ましくは500m2/g〜15
00m2/gの範囲のBET表面積を有する。
0重量%のパラジウム、好ましくは約2〜約8重量%の
パラジウム;約0.1〜約20重量%の銀、好ましくは
約1重量%〜約8重量%の銀;および約0.1重量%〜
約20重量%のレニウム、好ましくは約1重量%〜約1
0重量%のレニウムを含有する。パラジウムと銀との比
は、10:1と1:10との間である。この触媒組成物
はまた、金属ならびにIA族またはIIA族から選択され
る1種またはそれ以上の金属を取り込むことによってさ
らに改変され得る。
1つのパラジウム化合物、銀化合物、またはレニウム化
合物を含有する1種またはそれ以上の溶液を用いて、単
一または複数の含浸工程のいずれかで炭素担体を含浸す
ることによって調製され得る。本明細書中で用いられる
場合、炭素担体の含浸は、炭素担体が充填され、染み込
まされ(imbued)、浸透され、飽和され、または被覆され
ることを意味する。含浸溶液は、必要に応じて、1つま
たはそれ以上の金属化合物を可溶化するのを助ける錯化
剤を含有し得る。触媒は、あらゆるキャリア溶媒を除去
するために、各含浸工程の後で乾燥される。乾燥温度
は、約80℃と約150℃との間である。パラジウム化
合物、銀化合物、およびレニウム化合物の溶液は、溶液
中に担体材料を浸漬または懸濁することによって、また
は炭素上に溶液を噴霧することによって炭素に付与され
得る。パラジウム化合物を含有する溶液は、典型的に、
必要量のパラジウムを含む、触媒生成物を与える量のパ
ラジウム化合物を含有する水溶液である。このパラジウ
ム化合物は、硝酸パラジウム、あるいは、例えば、クロ
ライド、カーボネート、カルボキシレート、アセテー
ト、アセチルアセトネート、またはアミンのようなパラ
ジウム化合物であり得る。銀化合物を含有する溶液は、
典型的には、必要量の銀を含む触媒生成物を与える量の
銀化合物を含有する水溶液である。パラジウム化合物お
よび銀化合物は、熱的に分解し得、そして金属まで還元
可能でなくてはならない。レニウム化合物を含有する溶
液は、典型的には、必要量のレニウムを含む触媒生成物
を与える量のレニウム化合物を含有する水溶液である。
このレニウム化合物は、典型的には、過レニウム酸、過
レニウム酸アンモニウム、または過レニウム酸アルカリ
金属である。
し、そして乾燥した後、触媒は、還元条件下、120℃
〜350℃、好ましくは150℃〜300℃の温度で、
含浸された炭素担体を加熱することによって活性化され
る。触媒と接触させる水素、または水素と窒素との混合
物は、好都合には、接触還元に用いられ得る。含浸され
た炭素担体の還元は、炭素担体が、パラジウム、銀、お
よびレニウムで含浸された後でのみ行われる。複数の含
浸工程および複数回の乾燥の場合では、触媒の還元は、
最終乾燥後に行われる。
ングストローム(10nm)未満の平均微結晶サイズを
有する微結晶の形態で存在している。より詳細には、本
発明で用いるような炭素担体に担持されたパラジウム/
銀/レニウムの新たな還元サンプルを、X線回折(XR
D)および走査型透過電子顕微鏡(STEM)によって
分析すると、触媒中のパラジウム含有粒子(すなわち、
パラジウムの粒子、またはパラジウムおよび銀の粒子)
は微細に分散しており、約50オングストローム(5n
m)未満の非常に小さい微結晶サイズを有している。レ
ニウムは、レニウムの粒子がXRDによってもSTEM
によっても検出できないほど、非常に微細に分散してい
る。STEM分析を用いると、平均パラジウム含有粒子
の微結晶サイズは、34オングストローム(3.4n
m)未満であると計算される。本明細書中で用いられる
「粒子サイズ分布」および「平均粒子サイズ」の定義
は、本明細書中で参考として援用する、J. R. Anderso
n、「Structure of Metal Catalysts」、358頁〜359
頁、Academic Press (1975)の定義と同様である。
は、乾燥工程の間に除去されなければならない多量の過
剰の水を用いず、米国特許第4,985,572号に教示された
ような高温(すなわち、約600℃)処理工程も用いな
い。
方法は、水素化触媒の存在下、水素化可能な前駆体と、
水素含有ガスとを反応させること、および蒸留によって
反応生成物を回収し、そして精製することを包含する。
または固定床反応器において、従来の装置および技術を
用いて行われ得る。単一段階反応器または多段階反応器
が用いられ得る。必要とされる触媒の量は広範に変化
し、そして、反応器の大きさおよび設計、接触時間など
の多くのファクターに依存する。
に対してかなり化学量論的に過剰な水素を用いて、連続
的に供給される。未反応の水素は、再循環流として反応
器に戻され得る。前駆体溶液(例えば、マレイン酸溶
液)は、希釈溶液から最大溶解度レベル付近までの範囲
の濃度、典型的には約30重量%〜約50重量%の濃度
で連続的に供給される。
50℃の温度で行われ、そして約20気圧〜400気圧
の水素圧、5:1と1000:1との間の水素と水素化
可能な前駆体との比(H2/P)、および0.1分〜2
0時間の接触時間で行われる。 反応生成物、1,4−
ブタンジオール、テトラヒドロフラン、γ−ブチロラク
トン、またはそれらの混合物は、好都合には分別蒸留に
よって分離される。少量形成される副生成物または未反
応フィード(例えば、無水コハク酸またはコハク酸)
は、必要に応じて、水素化段階に戻される。γ−ブチロ
ラクトンもまた、水素化反応器に再循環され得る。
本明細書に記載の水素化触媒を用いて、マレイン酸は、
単純な反応で実際に定量的に変換される。得られる1,
4−ブタンジオールおよびテトラヒドロフランの収率
は、収量の大部分が1,4−ブタンジオールであり、約
80モル%またはそれを超え、典型的に約90モル%ま
たはそれを超える。反応副生成物には、n−ブタノー
ル、n−酪酸、n−プロパノール、プロピオン酸、メタ
ン、プロパン、n−ブタン、一酸化炭素、および二酸化
炭素が含有され得る。しかし、利用できない副生成物の
生成は、わずかである。
す。
Pd/3.5重量% Ag/5.3重量% Re/C触媒 活性炭担体(ACL 40、フランスのCECA S.A. により製造
され、そして米国でAtochem North America Inc. によ
り販売されている)に担持された約3.5重量%のP
d、3.5重量%のAg、および5.3重量%のReを
含有する触媒を調製した。この担体を1.5mmの押出
し形状で得、そして摩砕し、ふるい分けして、30メッ
シュ〜70メッシュの画分を得た。パラジウム、銀、お
よびレニウムを含有する溶液でこの炭素担体を含浸する
ことによって触媒を調製した。
ように調製した:109.8gの硝酸パラジウム溶液
(7.26%Pd)、14.6gの硝酸銀、および27
gの過レニウム酸(52%Re)を、250ccのメス
フラスコに入れ、そしてアセトニトリルを加えて、溶液
体積を目盛りまで増やした。溶液の重量は、273.9
6gであった。
を、253.7gのPd/Ag/Re溶液で含浸し、そ
して4時間放置した。次いで、触媒をオーブン中で12
0℃にて一晩乾燥した。
(実施例2に示す還元の後)は、3.4nmのパラジウ
ム含有粒子微結晶サイズを有していた。
重量% Re/C触媒 30/70メッシュのACL40に担持された約3.6重量
%のPdおよび5.5重量%のReを含有する触媒を、
実施例1と同様に調製した。
調製した:11.86gの硝酸パラジウム溶液(7.2
6%Pd)および2.7gの過レニウム酸溶液(52%
Re)を、25ccのメスシリンダーに入れ、そしてア
セトニトリルを加えて、溶液体積を目盛りまで増やし
た。溶液の重量は、26.63gであった。
を、24.7gのPd/Re溶液で含浸し、そして4時
間放置した。次いで、この触媒をオーブン中で120℃
にて一晩乾燥した。
元の後)は、回折ピークを示さなかった。これは、有意
な数の5nmより大きいパラジウム含有粒子がなかった
ことを示す。
媒を、外径0.5インチのHastelloy C276反応器に充填
した。次いで、以下の時間/温度プロフィルで触媒上を
流れる0.5SLMのH2を用いて、大気圧でこの触媒
を還元した:11時間かけて室温から280℃まで昇温
し、次いで、280℃で5時間保持した。
量%のH2Oフィードを用いて、1300psigおよ
び180℃(平均設定温度)で触媒試験を実施した。約
30時間にわたって、H2 GHSVおよびMAC LHSVを、それ
ぞれ2097h-1から3021h-1に、および0.38
h-1から0.55h-1に徐々に増加した。
スパラメーターおよび生成物選択率を要約する。
れた、38ccの触媒Pd/Re/Cを上記のように試
験した。結果を表1に示す。
媒が、当該分野で公知の銀を含有しない触媒よりも活性
な触媒であることを示す。詳細には、Pd/Ag/Re
/C触媒は、Pd/Re/C触媒よりも、1,4−ブタ
ンジオールを多く生成し、そしてγ−ブチロラクトン、
または他の反応生成物の生成が少なかった。
重量% Ag/6.6重量% Re/C触媒の調製 ACL40炭素担体に担持された、約3.3重量%のPd、
3.2重量%のAg、および6.6重量%のレニウムを
有する触媒を以下のように調製した:130.25gの
硝酸パラジウム溶液(7.7%Pd)、16.5gの硝
酸銀、および41.5gの過レニウム酸(52.6%R
e)を、250ccのメスフラスコに入れた。アセトニ
トリルを加え、混合物を振とうして固形物を溶解した。
溶液をアセトニトリルを用いて目盛りまで増やした。溶
液の重量は、296.2gであった。
を、286.4gのPd/Ag/Re溶液で含浸した。
この混合物を5.75時間放置し、次いで、オーブン中
で、約120℃にて一晩乾燥した。
元の後)は、銀金属と同定される回折ピーク以外には、
観測可能な回折ピークを示さなかった。これは、存在し
ているパラジウム含有微結晶が、平均して5nm未満で
あることを示す。
/C触媒の調製 米国特許第4,985,572号に記載のタイプのPd/Ag/
Re/C触媒を調製した。この触媒は、炭素担体に担持
された約3.3重量%のPd、3.2重量%のAg、
6.6重量%のReを含有していた。調製は、米国特許
第4,985,572号に記載された手順(これは、炭素担体上
にパラジウムおよび銀を同時析出させ、その後、高温
(600℃)加熱処理することによって特徴付けられ
る)に従った。過レニウム酸アンモニウムを七酸化レニ
ウムの代わりに用いた。
7%Pd)および2.9gの硝酸銀を、100ccの蒸
留水に溶解した。50gの1.5mmのACL40押出物を
溶液に加え、そしてロータリーエバポレーターを用いて
約70℃で水を除去した。次いで、Pd/Ag/ACL40
をオーブン中で120℃にて一晩乾燥した。
フロー中で加熱することによって高温加熱処理工程を行
った:8時間で室温から600℃まで昇温;8時間、6
00℃に保持;室温まで冷却。
00ccの蒸留水に溶解した。次いで、Pd/Ag/AC
L40をこの溶液に加えた。ロータリーエバポレーターを
用いて、70℃で水を除去した。Pd/Ag/Re/AC
L40をさらにオーブン中で120℃にて一晩乾燥した。
d/Ag/Re/ACL40触媒と、比較例B(40cc)
とを、別々に外径0.5インチのHasteloy C276反応器に充
填し、そして以下の温度勾配を用いて、0.5 SLMの水素
を流して大気圧で還元した:11時間かけて室温から2
80℃まで昇温;次いで、280℃で5時間保持;室温
まで冷却。
量%のH2Oフィードを用いて、2500psigで、
触媒試験を実施した。160℃、H2 GHSV=2760h
-1、LHSV=0.55h-1、およびH2/MAC=65で約1
09時間運転した時点において、以下の表2に示すデー
タを得た。生成物の選択率を、モルC4基準で計算し
た。
に調製された触媒が、米国特許第4,985,572号に教示さ
れたように調製された比較例Bの触媒よりも、選択的に
1,4−ブタンジオールをより多く生成し、かつ実質的
にγ−ブチロラクトンの生成が少ないことを示す。さら
に、実施例3の触媒の1,4−ブタンジオールおよびテ
トラヒドロフランに対する総選択率(90.5%)は、
比較例Bの触媒のこれらの生成物に対する総選択率(7
4.4%)を大きく超えている。
3.6重量%のPd/3.6重量%のAg/3.6重量
%のRe/C触媒(実施例4)を、実施例1に記載され
たように調製した。この触媒を、米国特許第4,550,185
号の実施例1に従って調製された、2つの3重量%のP
d/3重量%のRe/C触媒(比較例CおよびD)と比
較した。(米国特許第4,550,185号は、か焼媒体を記載
していなかった。比較例Cの触媒を空気中でか焼し、そ
して比較例Dの触媒を窒素中でか焼した。)実施例2に
記載の手順に従って各触媒を試験した。運転パラメータ
の変更または変動を表3に示す。比較結果もまた表3に
示す。
て調製される触媒が、先行技術の触媒(銀(Ag)を含
有せず、そして異なった方法で調製され、テトラヒドロ
フランの生成に対して選択性が高い)に比べ、1,4−
ブタンジオールの生成に対してより選択性があり、同時
に、γ−ブチロラクトンの生成を最小にすることを示
す。
て限定されるべきないことが理解されるべきである。こ
れらは、単に実施可能性を説明するために提供されたも
のであり、そして必要ならば、触媒、金属のソース、炭
素担体、濃度、接触時間、固形物充填、原料、反応条
件、および生成物の選択は、本明細書中で開示され、そ
して記載された本発明の意図から逸脱することなく、提
供された明細書の開示全体から決定され得、本発明の範
囲は、特許請求の範囲内の改変および変法を包含する。
ル生成を最大にし、かつγ−ブチロラクトン生成を最小
にするプロセスおよび触媒が提供される。
Claims (16)
- 【請求項1】 テトラヒドロフランおよび1,4−ブタ
ンジオールを生成するプロセスであって、 水素化可能な前駆体を、水素含有ガスと、炭素担体に担
持されたパラジウム、銀、およびレニウムを含有する水
素化触媒とに接触させて触媒的に水素化し、大部分の
1,4−ブタンジオールを含む生成物を生成させる工程
を包含する、プロセス:ここで、該水素化触媒は、 (i)パラジウム、銀、およびレニウムのソースに該炭
素担体を接触させる工程を包含する、1つまたはそれ以
上の含浸工程において、該パラジウム、銀、およびレニ
ウムのソースで該炭素担体を含浸する工程、ここで該パ
ラジウム、銀、およびレニウムは、少なくとも1つの溶
液中にある; (ii)各含浸工程の後に、溶媒を除去するために、該含
浸された炭素担体を乾燥する工程; (iii)還元条件下で、約100℃〜約350℃の温度
にて、該含浸された炭素担体を加熱する工程;によって
調製される。 - 【請求項2】 前記水素化可能な前駆体が、マレイン
酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水コハク酸、コハク
酸、コハク酸ジメチル、γ−ブチロラクトン、およびそ
れらの混合物からなる群より選択される、請求項1に記
載のプロセス。 - 【請求項3】 前記水素化可能な前駆体が、マレイン
酸、無水マレイン酸、コハク酸、無水コハク酸、または
それらの混合物である、請求項2に記載のプロセス。 - 【請求項4】 前記パラジウムのソースが硝酸パラジウ
ムである、請求項1に記載のプロセス。 - 【請求項5】 前記銀のソースが硝酸銀である、請求項
2に記載のプロセス。 - 【請求項6】 前記レニウムのソースが過レニウム酸で
ある、請求項2に記載のプロセス。 - 【請求項7】 前記パラジウム、銀、およびレニウムの
ソースを合わせて単一の溶液とし、そしてパラジウム、
銀、およびレニウムを、単一の含浸工程で炭素担体上に
析出させる、請求項1に記載のプロセス。 - 【請求項8】 前記水素化触媒が、約0.1重量%〜約
20重量%のパラジウム、約0.1重量%〜約20重量
%の銀、および約0.1重量%〜約20重量%のレニウ
ムを含有する、請求項1に記載のプロセス。 - 【請求項9】 前記水素化触媒が、約2重量%〜約8重
量%のパラジウム、約1重量%〜約8重量%の銀、およ
び約1重量%〜約10重量%のレニウムを含有する、請
求項8に記載のプロセス。 - 【請求項10】 前記パラジウムが、10nm未満の平
均サイズを有する微結晶を含有するパラジウムの形態で
存在する、請求項1に記載のプロセス。 - 【請求項11】 前記パラジウムが、約5nm未満の平
均サイズを有する微結晶を含有するパラジウムの形態で
存在する、請求項10に記載のプロセス。 - 【請求項12】 前記水素と水素化可能な前駆体との比
が、約5:1と約1000:1との間である、請求項1
に記載のプロセス。 - 【請求項13】 前記水素含有ガスの圧力が、約20気
圧と400気圧との間である、請求項1に記載のプロセ
ス。 - 【請求項14】 前記水素化工程が、約50℃と約35
0℃との間の温度にある、請求項1に記載のプロセス。 - 【請求項15】 前記水素化工程が、約100℃と約3
00℃との間の温度にある、請求項14に記載のプロセ
ス。 - 【請求項16】 前記含浸された炭素担体の前記乾燥温
度が、約80℃と約150℃との間である、請求項1に
記載のプロセス。
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