JPH08179308A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
- Publication number
- JPH08179308A JPH08179308A JP6320990A JP32099094A JPH08179308A JP H08179308 A JPH08179308 A JP H08179308A JP 6320990 A JP6320990 A JP 6320990A JP 32099094 A JP32099094 A JP 32099094A JP H08179308 A JPH08179308 A JP H08179308A
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- JP
- Japan
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- transparent conductive
- electrodeposition
- substrate
- colored layer
- color filter
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明は、カラーフィルターの製造方法にお
いて、遮光層を形成し、電着法によりカラーフィルター
を形成し、カラーフィルターを研磨することに特徴があ
る。 【効果】 上記のような製造方法を採用することで、表
面平坦度の高い高品質なカラーフィルターを提供できる
というものである。
いて、遮光層を形成し、電着法によりカラーフィルター
を形成し、カラーフィルターを研磨することに特徴があ
る。 【効果】 上記のような製造方法を採用することで、表
面平坦度の高い高品質なカラーフィルターを提供できる
というものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶などの表示素子を
多色化するために用いられるカラーフィルターの製造方
法に関する。
多色化するために用いられるカラーフィルターの製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】表示素子の基板表面にカラーフィルター
を形成する主な方法としては、以下の３つが一般的によ
く知られている。 (１)基板面にゼラチンなどの高分子膜を設け、これを染
色する方法。 (２)オフセット印刷などにより、基板面に直接インクを
印刷する方法。 (３)基板上のパターニングされた導電膜上に色素を分散
させた高分子を電着する方法。
を形成する主な方法としては、以下の３つが一般的によ
く知られている。 (１)基板面にゼラチンなどの高分子膜を設け、これを染
色する方法。 (２)オフセット印刷などにより、基板面に直接インクを
印刷する方法。 (３)基板上のパターニングされた導電膜上に色素を分散
させた高分子を電着する方法。
【０００３】(１)の方法は最も一般的であり、微細パタ
ーンを精度良く作れる利点はあるが、工程が複雑でコス
ト高である。(２)はシンプルな工程でコスト的には非常
に有利であるが、現状ではガラス上に高精度でインクを
印刷することが難しいため、微細な形状のカラーフィル
ターを製造するには不向きである。(３)の電着による方
法は、例えば特開昭５９−１１４５７２号公報に詳しく
述べられているが、(１)の方法に比べて工程数が少なく
コスト的に有利であるだけでなく、微細加工も可能であ
る。
ーンを精度良く作れる利点はあるが、工程が複雑でコス
ト高である。(２)はシンプルな工程でコスト的には非常
に有利であるが、現状ではガラス上に高精度でインクを
印刷することが難しいため、微細な形状のカラーフィル
ターを製造するには不向きである。(３)の電着による方
法は、例えば特開昭５９−１１４５７２号公報に詳しく
述べられているが、(１)の方法に比べて工程数が少なく
コスト的に有利であるだけでなく、微細加工も可能であ
る。
【０００４】図５に従来の電着によるマトリックス液晶
表示素子用カラーフィルターの製造方法を示す。 (１)基板上に透明導電膜２を形成し、 (２)透明導電膜２をライン状にパターニングする（図
５、(ａ−１）は基板１の平面図、（ａ−２）は基板１
の断面図）。 (３)前記透明導電膜２の中で第１の着色層(例えば赤)を
形成したいラインだけを選んで電源に接続し、電着浴の
中で通電することにより、第１の着色層４ａを形成する
（図５(ｂ)）。以下、同様の方法を繰り返すことにより
第２の着色層４ｂ(例えば緑)（図５(ｃ)）、および第３
の着色層４ｃ(例えば青)を順次形成することができる
（図５(ｄ)）。 (５)遮光層３はカーボンブラック等の黒色顔料を分散し
た感光性樹脂を上記基板上に塗布し（図５(ｅ)）、(６)
基板背面から露光し現像することにより、カラーフィル
ターがフォトマスクの役割を果たすため、図５(ｆ)のカ
ラーフィルターが製造される。
表示素子用カラーフィルターの製造方法を示す。 (１)基板上に透明導電膜２を形成し、 (２)透明導電膜２をライン状にパターニングする（図
５、(ａ−１）は基板１の平面図、（ａ−２）は基板１
の断面図）。 (３)前記透明導電膜２の中で第１の着色層(例えば赤)を
形成したいラインだけを選んで電源に接続し、電着浴の
中で通電することにより、第１の着色層４ａを形成する
（図５(ｂ)）。以下、同様の方法を繰り返すことにより
第２の着色層４ｂ(例えば緑)（図５(ｃ)）、および第３
の着色層４ｃ(例えば青)を順次形成することができる
（図５(ｄ)）。 (５)遮光層３はカーボンブラック等の黒色顔料を分散し
た感光性樹脂を上記基板上に塗布し（図５(ｅ)）、(６)
基板背面から露光し現像することにより、カラーフィル
ターがフォトマスクの役割を果たすため、図５(ｆ)のカ
ラーフィルターが製造される。
【０００５】しかし、従来の電着によるカラーフィルタ
ーの製造方法は、第５図に示したライン状のカラーフィ
ルター製造は可能であるが、例えばＴＦＴ用に求められ
ている第１図のような格子状パターンの製造は容易では
ない。その解決策としては特開昭６１−２７２７２０号
公報にあるように、感光性樹脂（レジスト）を所定のパ
ターンに形成し、露出している電極層に電着させる方法
がある。
ーの製造方法は、第５図に示したライン状のカラーフィ
ルター製造は可能であるが、例えばＴＦＴ用に求められ
ている第１図のような格子状パターンの製造は容易では
ない。その解決策としては特開昭６１−２７２７２０号
公報にあるように、感光性樹脂（レジスト）を所定のパ
ターンに形成し、露出している電極層に電着させる方法
がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記方法は感
光性樹脂の形成のために色数分のフォトリソグラフィー
工程が必要になるため、電着法のメリットである製造方
法の簡便性を失うことになる。本発明の目的は、電着法
の特徴を失うことなく、ＴＦＴ用途も含めた様々な形状
が製造可能なカラーフィルターの製造方法を提供するこ
とにある。
光性樹脂の形成のために色数分のフォトリソグラフィー
工程が必要になるため、電着法のメリットである製造方
法の簡便性を失うことになる。本発明の目的は、電着法
の特徴を失うことなく、ＴＦＴ用途も含めた様々な形状
が製造可能なカラーフィルターの製造方法を提供するこ
とにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、まず透明導電膜を有する基板上に所定の
パターンの遮光層を形成し、次いで露出した透明導電膜
に電着で着色層を形成し、最後に平坦化のために研磨を
行った。
決するために、まず透明導電膜を有する基板上に所定の
パターンの遮光層を形成し、次いで露出した透明導電膜
に電着で着色層を形成し、最後に平坦化のために研磨を
行った。
【０００８】
【作用】本発明は、遮光層を利用して電着される形状を
決めるため、着色層の配列が導電膜の形状に左右される
ことなく、自由な配列のカラーフィルターを製造するこ
とができる。また、この遮光層がそのままカラーフィル
ターの遮光層として活用できるため、従来の電着法で電
着後に形成していた遮光層形成工程が不要となり、電着
法の特徴であるプロセスの簡便さが持続できる、ただ
し、遮光層としては遮光性を高めるためにカーボンブラ
ック等の導電性有する材料を使用する場合が多く、この
場合には、図２(ｃ)のように電着時に遮光層３上にも電
着層が形成される。この電着層の膜厚、形状は遮光層の
材料（顔料、ベース樹脂）、電着塗料、電着条件でも変
化するが、０.５μm以上になることが多く、表示素子に
使用するには平坦度の点で問題がある。そこで最後の工
程として研磨を加えた。この工程により十分な平坦度が
得られた。
決めるため、着色層の配列が導電膜の形状に左右される
ことなく、自由な配列のカラーフィルターを製造するこ
とができる。また、この遮光層がそのままカラーフィル
ターの遮光層として活用できるため、従来の電着法で電
着後に形成していた遮光層形成工程が不要となり、電着
法の特徴であるプロセスの簡便さが持続できる、ただ
し、遮光層としては遮光性を高めるためにカーボンブラ
ック等の導電性有する材料を使用する場合が多く、この
場合には、図２(ｃ)のように電着時に遮光層３上にも電
着層が形成される。この電着層の膜厚、形状は遮光層の
材料（顔料、ベース樹脂）、電着塗料、電着条件でも変
化するが、０.５μm以上になることが多く、表示素子に
使用するには平坦度の点で問題がある。そこで最後の工
程として研磨を加えた。この工程により十分な平坦度が
得られた。
【０００９】
（実施例１）以下本発明を、実施例に基づいて図面を用
いて説明する。図２をもとに説明する。 (１)透明導電膜２を有する基板上に、カーボンブラック
を分散させたネガ型感光性樹脂３を塗布する（図２
(ａ)）。 (２)フォトマスクを用い、露光、現像を行うことにより
所定のパターンの遮光層３を形成する（図２、(ｂ−１)
は基板１の平面図、（ｂ−２）は基板１の断面図）。 (３)所定の色の電着浴の中で透明導電膜に通電し、電着
層４を形成する（図２(ｃ)）。 (４)電着層面を研磨する（図２(ｄ)）。以上の工程によ
り、所定のパターンを有する、平坦度の高いカラーフィ
ルターが得られた。
いて説明する。図２をもとに説明する。 (１)透明導電膜２を有する基板上に、カーボンブラック
を分散させたネガ型感光性樹脂３を塗布する（図２
(ａ)）。 (２)フォトマスクを用い、露光、現像を行うことにより
所定のパターンの遮光層３を形成する（図２、(ｂ−１)
は基板１の平面図、（ｂ−２）は基板１の断面図）。 (３)所定の色の電着浴の中で透明導電膜に通電し、電着
層４を形成する（図２(ｃ)）。 (４)電着層面を研磨する（図２(ｄ)）。以上の工程によ
り、所定のパターンを有する、平坦度の高いカラーフィ
ルターが得られた。
【００１０】（実施例２）図３をもとに説明する。 (１)基板１上に透明導電膜２を形成し、 (２)透明導電膜２をライン状にパターニングする（図
３、(ａ−１）は基板１の平面図、（ａ−２）は基板１
の断面図)）。 (３)前記基板上に、カーボンブラックを分散させたネガ
型感光性樹脂３を塗布する（図３(ｂ)）。 (４)フォトマスクを用い、露光、現像を行うことにより
所定のパターンの遮光層３を形成する（図３(ｂ)）。 (５)所定の色の電着浴の中で透明導電膜に通電し、電着
層４を形成する（図３、(ｃ−１)は基板１の平面図、
（ｃ−２）は基板１の断面図）。 (６)前記透明導電膜２の中で第１の着色層(例えば赤)を
形成したいラインだけを選んで電源に接続し、電着浴の
中で通電することにより、第１の着色層４ａを形成する
（図３(ｄ)）。以下、同様の方法を繰り返すことにより
第２の着色層４ｂ(例えば緑)（図３(ｅ)）、および第３
の着色層４ｃ（例えば青）を順次形成することができる
（図３(ｆ)）。 (７)電着層面を研磨する（図３(ｇ)）。以上の工程によ
り、極めて簡便に、平坦度が高く、且つ所定のパターン
を有する３色のカラーフィルターが得られた。
３、(ａ−１）は基板１の平面図、（ａ−２）は基板１
の断面図)）。 (３)前記基板上に、カーボンブラックを分散させたネガ
型感光性樹脂３を塗布する（図３(ｂ)）。 (４)フォトマスクを用い、露光、現像を行うことにより
所定のパターンの遮光層３を形成する（図３(ｂ)）。 (５)所定の色の電着浴の中で透明導電膜に通電し、電着
層４を形成する（図３、(ｃ−１)は基板１の平面図、
（ｃ−２）は基板１の断面図）。 (６)前記透明導電膜２の中で第１の着色層(例えば赤)を
形成したいラインだけを選んで電源に接続し、電着浴の
中で通電することにより、第１の着色層４ａを形成する
（図３(ｄ)）。以下、同様の方法を繰り返すことにより
第２の着色層４ｂ(例えば緑)（図３(ｅ)）、および第３
の着色層４ｃ（例えば青）を順次形成することができる
（図３(ｆ)）。 (７)電着層面を研磨する（図３(ｇ)）。以上の工程によ
り、極めて簡便に、平坦度が高く、且つ所定のパターン
を有する３色のカラーフィルターが得られた。
【００１１】（実施例３）図３をもとに説明する。実施
例２で得られたカラーフィルター基板（図３(ｆ)）上
に、透明樹脂５を塗布する（図４(ｂ)）。次いで透明樹
脂面を研磨する（図４(ｃ)）。この工程により、実施例
２と同様のカラーフィルターが得られた。更に、実施例
２では遮光層と電着層といった異なる材料を同時に研磨
する必要があったが、本実施例では透明樹脂層のみを研
磨すればよいため、研磨条件の設定が容易であった。ま
た、本実施例では、透明樹脂層として様々な材料を選択
でき、研磨に応じた硬度の樹脂を選定できるため、更に
表面平坦度の高いカラーフィルターが得られた。
例２で得られたカラーフィルター基板（図３(ｆ)）上
に、透明樹脂５を塗布する（図４(ｂ)）。次いで透明樹
脂面を研磨する（図４(ｃ)）。この工程により、実施例
２と同様のカラーフィルターが得られた。更に、実施例
２では遮光層と電着層といった異なる材料を同時に研磨
する必要があったが、本実施例では透明樹脂層のみを研
磨すればよいため、研磨条件の設定が容易であった。ま
た、本実施例では、透明樹脂層として様々な材料を選択
でき、研磨に応じた硬度の樹脂を選定できるため、更に
表面平坦度の高いカラーフィルターが得られた。
【００１２】
【発明の効果】上記に説明したように、本発明は従来の
電着法によるカラーフィルターの製造方法の特徴である
簡便性を失うことなく、ＴＦＴ用途にも使用可能な、表
面平坦度が高く且つ様々なパターン形状のカラーフィル
ターの製造方法を提供するものである。
電着法によるカラーフィルターの製造方法の特徴である
簡便性を失うことなく、ＴＦＴ用途にも使用可能な、表
面平坦度が高く且つ様々なパターン形状のカラーフィル
ターの製造方法を提供するものである。
【図１】本発明によって製造したカラーフィルターの平
面図である。
面図である。
【図２】本発明の製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の他の実施例の製造方法を示す工程図で
ある。
ある。
【図４】本発明の他の実施例の製造方法を示す工程図。
【図５】従来の製造方法を示す工程図である。
１ 基板 ２ 透明導電膜 ３ 遮光層 ４ 電着層 ５ 透明樹脂層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 物袋 俊一 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内 (72)発明者 杉野谷 充 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内 (72)発明者 岡田 良克 東京都江東区新木場４丁目12番 神東塗料 株式会社内 (72)発明者 桜井 亜紀子 東京都江東区新木場４丁目12番 神東塗料 株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 カラーフィルターの製造方法において、 ａ）透明導電層を有する基板上に、所定のパターンの遮
光層を形成し、 ｂ）露出した透明導電層上に電着により着色層を形成
し、 ｃ）次いで、少なくとも着色層を有する面を研磨するこ
とを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２】 前記透明導電層が、互いに絶縁されて配
置された複数の導電層からなり、 前記電着による着色層形成時に、それらの導電層上に選
択的に電着を行うことにより、複数色の着色層を形成す
ることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルターの
製造方法。 - 【請求項３】 前記電着による着色層形成後、その上に
透明樹脂層を形成し次いで研磨を行うことを特徴とする
請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6320990A JPH08179308A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6320990A JPH08179308A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08179308A true JPH08179308A (ja) | 1996-07-12 |
Family
ID=18127557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6320990A Pending JPH08179308A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08179308A (ja) |
-
1994
- 1994-12-22 JP JP6320990A patent/JPH08179308A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |