JPH0815521A - カラーフィルタ用感光性着色組成物およびカラーフィルタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】高感度のカラーフィルタ用感光性着色組成物、
および諸耐性、特に耐熱性に優れたカラーフィルタの提
供。 【構成】溶剤またはアルカリに可溶性の透明高分子重合
体（Ａ）、エチレン性不飽和結合を有する化合物
（Ｂ）、顔料（Ｃ）、スルホニウム有機ホウ素錯体また
はオキソスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）および３０
０ｎｍ〜４００ｎｍの波長領域に吸収を有する化合物
（Ｅ）を含むカラーフィルタ用感光性着色組成物、およ
び透明基板上に該カラーフィルタ用感光性着色組成物を
用いて画素を形成してなるカラーフィルタ。 【効果】酸素遮断膜を形成しなくても高感度が得られる
ことから、カラーフィルタ製造において工程短縮がで
き、生産性向上によるコストダウンが可能となると同時
に、耐熱性に優れたカラーフィルタを供給できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線で画像露光後に
溶剤またはアルカリ水溶液にて現像可能な高品質のカラ
ーフィルタ用感光性着色組成物、および固体撮像素子、
液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタに関する。

【従来の技術】

【０００２】近年、液晶表示装置等は薄型化、大型化が
進んでおり、用いられるカラーフィルタにも無欠陥薄型
化が求められ、さらに耐熱性、耐光性等の諸耐性に加
え、高透過率、高コントラストが要求されている。ま
た、同時にカラーフィルタの低コスト化が強く求められ
ており、製造工程における歩留り向上や工程短縮が必要
となっている。カラーフィルタは、ガラス等の透明な基
板の表面に２種以上の異なる色相の微細な帯（ストライ
プ）を平行または交差して配置したもの、あるいは微細
な画素を縦横一定の配列に配置したものからなってい
る。画素サイズは数１０〜数１００ミクロンという微細
な形状であり、しかも色相毎に所定の順序で整然と配列
されている必要がある。このため、カラーフィルタの製
造法については、従来から種々の方法が提案されてい
る。

【０００３】カラーフィルタには平滑性と高い寸法精度
が要求されるため，画像はフォトリソグラフィーを利用
して形成する方法が従来より主流となっている。また、
カラーフィルタには高い透明性が要求されることから、
一般に染色法と呼ばれる、染料を用いて着色する方法が
行われている。例えば、被染色性の感光性物質をカラス
等の基板上に塗布し、続いて一つのフィルタ色のパター
ン露光を行い、未露光部を現像工程で除去し、残ったパ
ターン部を該フィルタ色の染料で染色する。この操作を
全フィルタ色について順次繰り返すことにより、カラー
フィルタを製造することができる。しかし、カラー液晶
表示装置を組み立てる際に、通常カラーフィルタ上にＩ
ＴＯ等の透明導電膜および液晶の配向膜を形成する必要
がある。この工程は非常に高温を要することから、カラ
ーフィルタには高い耐熱性が要求されている。要求され
る耐熱性は液晶の駆動方式により異なり，例えばアクテ
ィブマトリックス方式のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）型
では２３０℃で１時間、単純マトリックスのＳＴＮ（ス
ーパーツイストネマチック）型では２６０℃で１時間の
耐熱性が要求されている。

【０００４】上記した染色法によるカラーフィルタは耐
熱性に劣る（通常２００℃以下）ため、現在では、色素
として耐熱性の良い顔料を用いる方法が主流となってい
る。中でも、顔料分散法と呼ばれる、感光性組成物中に
顔料を分散した着色組成物を用いる方法が、カラーフィ
ルタの製造法として広く行われている。即ち、一つのフ
ィルタ色の上記感光性着色組成物をガラス等の透明基板
上に塗布し、パターン露光を行い、未露光部分を溶剤ま
たはアルカリ水溶液で現像除去して１色目のパターン形
成を行う。次いで同様の操作を全フィルタ色について順
次繰り返すことにより、耐熱性に優れたカラーフィルタ
を製造することができる。なお、該感光性組成物はカラ
ーフィルタとしての物性および材料の豊富さから、ネガ
型の感光性組成物が主流であり、また、現像は環境問題
から溶剤は殆ど用いられなくなり、アリカリ水溶液での
現像が主流となっている。露光に関しては通常紫外線に
よる露光が行われている。

【０００５】上記したように、顔料分散法は感光性組成
物に予め顔料を分散したものを用いるため、紫外線が顔
料により吸収され、一般に露光感度が著しく低下する。
従って、露光時間が長くなるため、生産性に問題があっ
た。また、ネガ型の感光性組成物においては、主にラジ
カル重合反応を利用するため、空気中の酸素により反応
が阻害されることも感度低下の原因となっている。これ
に関しては、感光性組成物を塗布後、その上にポリビニ
ルアルコール等の酸素遮断膜を設けた後に画像露光する
対策が採られているが、工程が増えるため、生産性の問
題は残されており、酸素遮断膜を必要としない高感度の
材料が強く望まれている。また、露光感度を確保するた
め、通常、多量に光開始剤を配合するため、その残差等
の熱よる変色等の影響により製造したカラーフィルタの
性能、特に耐熱性が得にくいという問題もあり、耐熱性
に影響しない光開始剤の開発が望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題を解決した高感度のカラーフィルタ用感光性着色組
成物および諸耐性、特に耐熱性に優れたカラーフィルタ
の提供にある。

【課題を解決する手段】

【０００７】本発明は、溶剤またはアルカリに可溶性の
透明高分子重合体（Ａ）、エチレン性不飽和結合を有す
る化合物（Ｂ）、顔料（Ｃ）、下記一般式（１）で表さ
れるスルホニウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニ
ウム有機ホウ素錯体（Ｄ）および３００ｎｍ〜４００ｎ
ｍの波長領域に吸収を有する化合物（Ｅ）を含むことを
特徴とするカラーフィルタ用感光性着色組成物。

【０００８】

【化２】 〔式中、Ｒ¹ は、ベンジル基、置換されたベンジル基、
フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキ
シ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置
換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、Ｒ² およ
びＲ³ は、それぞれ独立に、Ｒ¹ を構成できる基と同じ
基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリ
ール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換さ
れたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニ
ル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換
されたアルコキシ基、アルキルチオ基、置換されたアル
キルチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはＲ
² とＲ³ が相互に結合した環状構造を表し、Ｒ⁴ は酸素
原子または孤立電子対を表し、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ および
Ｒ⁸ は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアル
キル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキ
ル基、置換されたアラルキル基、アルケニル基、置換さ
れたアルケニル基を表す（但し、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ およ
びＲ⁸ の全てが、アリール基または置換されたアリール
基となることはない。）〕

【０００９】一般式（１）で表されるスルホニウム有機
ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体
（Ｄ）は、特開平５−２１３８６１号公報および特開平
５−２５５３４７号公報に記載の方法に従い合成するこ
とができる。

【００１０】一般式（１）におけるスルホニウムまたは
オキソスルホニウムカチオン上の置換基Ｒ¹ 、Ｒ² およ
びＲ³ において、ベンジル基または置換されたベンジル
基としては、ｐ−シアノベンジル基、ｐ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ヒドロキシベンジル
基、ｐ−メチルベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、
ｐ−ジメチルアミノベンジル基、１−（または２−）ナ
フチルメチレン基などが、フェナシル基または置換され
たフェナシル基としては、ｐ−シアノフェナシル基、ｐ
−ニトロフェナシル基、ｐ−クロロフェナシル基、ｐ−
ヒドロキシフェナシル基、フェナシル基、ｐ−メチルフ
ェナシル基、ｐ−ジメチルアミノフェナシル基などが、
アリールオキシ基または置換されたアリールオキシ基と
しては、ｐ−シアノフェノキシ基、ｐ−ニトロフェノキ
シ基、ｐ−クロロフェノキシ基、フェノキシ基、ｐ−ト
リルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、ｐ−ジメチ
ルアミノフェノキシ基などが、アルケニル基または置換
されたアルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニ
ル基、１−ブテニル基、３，３−ジシアノ−１−プロペ
ニル基などが、アルキル基または置換されたアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、サリチル基、アセトニル基、シアノメチル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、エトキシカルボニルメチル基、メンチル基、ピナ
ニル基などが、アリール基または置換されたアリール基
としては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ビフ
ェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリ
ル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、
２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、ｐ−
フルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ジメ
チルアミノフェニル基、ｐ−フェニルチオフェニル基な
どが、脂環基または置換された脂環基としては、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、ボル
ニル基、１−シクロヘキセニル基などが、アルコキシ基
または置換されたアルコキシ基としては、メトキシ基、
エトキシ基、ｎ−（またはｉｓｏ−）プロポキシ基、ｎ
−（または、ｓｅｃ−、ｔｅｒｔ−）ブトキシ基、ベン
ジルオキシ基、ｐ−シアノベンジルオキシ基、ｐ−クロ
ロベンジルオキシ基、ｐ−ニトロベンジルオキシ基、ｐ
−メチルベンジルオキシ基、ｐ−メトキシベンジルオキ
シ基などが、アルキルチオ基または置換されたアルキル
チオ基としてメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ
基などが、アミノ基または置換されたアミノ基として
は、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、アニリノ
基、ピペリジノ基、モルホリノ基などが挙げられ、アリ
ールチオ基または置換されたアルキルチオ基、フェニル
チオ基、ｐ−トリルチオ基、ｐ−シアノフェニルチオ基
などが挙げられ、さらにＲ² およびＲ³ は結合している
環状構造であってもよく、例えば、テトラメチレン基、
ペンタメチレン基、１，４−ジクロロテトラメチレン基
などの置換基を有してもよいアルキレン基、エチレンジ
オキシ基、ジエチレンジオキシ基、アジポイル基、エチ
レンジチオ基などの環状構造が挙げられる。

【００１１】また、一般式（１）における有機ホウ素ア
ニオン上の置換基Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷およびＲ⁸ におい
て、アルキル基または置換されたアルキル基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジ
ル基などが、アリール基または置換されたアリール基と
しては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ナフチ
ル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニル
基、ｐ−フルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、
ｐ−ブロモフェニル基などが、アルケニル基または置換
されたアルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニ
ル基、１−ブテニル基等などが、置換基を有してもよい
アルキニル基としては、エテニル基、２−ｔｅｒｔ−ブ
チルエテニル基、２−フェニルエテニル基などが挙げら
れる。

【００１２】この様なスルホニウム有機ホウ素錯体また
はオキソスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）の例として
は、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルスルホニウム−ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリエチルボレート、ジメチルベンジルスル
ホニウムフェニルトリエチルボレート、ジメチル（ｐ−
クロロベンジル）スルホニウムメチルトリフェニルボレ
ート、ジブチル（ｐ−ブロモベンジル）スルホニウムイ
ソプロピルトリフェニルボレート、ジメチル（ｐ−シア
ノベンジル）スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジメチルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジメチルフェナシルスルホニウム−ｓｅｃ
−ブチルトリフェニルボレート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェナシルスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリフェニル
ボレート、ジメチル（ｐ−クロロフェナシル）スルホニ
ウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルボレート、ジメチ
ル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウムベンジルトリ
フェニルボレート、ジメチル（２−フェニル−３，３−
ジシアノプロプ−２−エニル）スルホニウムブチルトリ
（ｐ−メトキシフェニル）ボレート、ジブチルエトキシ
スルホニウムブチルトリ（ｐ−フルオロフェニル）ボレ
ート、ジメチルフェノキシスルホニウムブチルトリ（ｐ
−クロロフェニル）ボレート、メチル（ジメチルアミ
ノ）（ｐ−トリル）スルホニウムブチルトリ（ｐ−ブロ
モフェニル）ボレート、ジメチル（メチルチオ）スルホ
ニウムブチルトリス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジメチルフェニルチオスルホ
ニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−メトキシフェニル）
ボレート、メチルフェニル（ｐ−シアノベンジル）スル
ホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレート、メチルフェニルフェナシルスルホニウ
ム、メチルフェニル（２−フェニル−３，３−ジシアノ
プロプ−２−エニル）スルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチル
トリ（ｐ−ブロモフェニル）ボレート、メチルフェニル
エトキシスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ブ
チルフェニルフェノキシスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジメチルアミノビス（ｐ−トリル）スルホ
ニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−ブロモフェニル）ボ
レート、テトラメチレンフェナシルスルホニウム−ｓｅ
ｃ−ブチルトリフェニルボレート、ジメチルアリルスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメチルシアノ
メチルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメ
チルアセトニルスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジメチルエトキシカルボニルメチルスルホニウム−
ｔｅｒｔ−ブチルトリ（ｐ−クロロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（メチルチオメチル）スルホニウムブチル
トリフェニルボレート、テトラメチレン−ｐ−シアノベ
ンジルスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ−ｐ−フルオ
ロフェニルボレート、ジメチルベンジルオキソスルホニ
ウムブチルトリフェニルボレート、ジメチルフェナシル
オキソスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−クロロ
フェニル）ボレート、メチルフェニルベンジルオキソス
ルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ（ｐ−メトキシフェ
ニル）ボレート、メチルフェニルフェナシルオキソスル
ホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレート、ジフェニルベンジルスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニル（ｐ−クロロベンジ
ル）スルホニウムブチルトリス（ｐ−メトキシフェニ
ル）ボレート、ジフェニル（ｐ−ブロモベンジル）スル
ホニウムブチルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレー
ト、ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムブ
チルトリフェニルボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）ベンジルスルホニウムブチルトリス（ｐ−
ブロモフェニル）ボレート、ビス（ｐ−クロロフェニ
ル）（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）ス
ルホニウムフェニルトリブチルボレート、ジフェニル
（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムジブチルジフェニ
ルボレート、ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）スルホ
ニウムビニルトリフェニルボレート、ジフェニル（ｐ−
シアノベンジル）スルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）ス
ルホニウムシクロヘキシルトリフェニルボレート、ジフ
ェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニル（ｐ−クロロフェナシル）スルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル（ｐ−ブロ
モフェナシル）スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル（ｐ−メトキシフェナシル）スルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル（ｐ−シア
ノフェナシル）スルホニウムシクロヘキシルトリス（ｐ
−メトキシフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）フェナシルスルホニウム−ｓｅｃ−ブ
チルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−メトキシフェニル）（ｐ−クロロフェナシル）ス
ルホニウムジブチルジフェニルボレート、ビス（ｐ−ク
ロロフェニル）（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウム
ベンジルトリフェニルボレート、ビス（ｐ−メチルフェ
ニル）（ｐ−メトキシフェナシル）スルホニウム−ｔｅ
ｒｔ−ブチルトリフェニルボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）（ｐ−シアノフェナシル）スルホ
ニウムベンジルトリブチルボレート、ジフェニルアリル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ス
ルホニウム−２−フェニルエチニルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２
−プロペニル）スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル［２−フェニル−３，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−２−プロペニル］スルホニウム−ｓｅ
ｃ−ブチルトリフェニルボレート、ビス（ｐ−クロロフ
ェニル）アリルスルホニウムフェニルトリエチルボレー
ト、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−メチ
ル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム
ジ（ｓｅｃ−ブチル）ジフェニルボレート、ビス（ｐ−
メチルフェニル）（２−フェニル−３，３−ジシアノ−
２−プロペニル）スルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニルアセトニルスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニルシアノメチルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、ジフェニルメトキシカル
ボニルメチルスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニルスルホメチルスルホニウムメチルトリス
（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ジフェニル−ｐ−
トルエンスルホニルメチルスルホニウムジシクロヘキシ
ルジフェニルボレート、ジフェニル（トリメチルアンモ
ニウミルメチル）スルホニウムビス（ブチルトリフェニ
ルボレート）、ジフェニル（トリフェニルフェナシルホ
スホニウミルメチル）スルホニウムビス（ブチルトリフ
ェニルボレート）、ジフェニル（フェニルヨードニウミ
ルエチニル）スルホニウムビス（ブチルトリフェニルボ
レート）、ジフェニルベンジルオキソスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート、ジフェニル（ｐ−シアノベン
ジル）オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル（ｐ−シアノベンジル）オキソスルホニ
ウム−ｓｅｃ−ブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ル（ｐ−シアノベンジル）オキソスルホニウムシクロヘ
キシルトリス（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ジフ
ェニルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジフェニル（ｐ−クロロフェナシル）オキ
ソスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリス（ｐ−フルオロ
フェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）フェナシルオキソスルホニウムオクチルトリス
（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、ジフェニルアリル
オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフ
ェニル（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペ
ニル）オキソスルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルメトキシカルボニルメチルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル（トリメチルアンモニウミルメチル）オキソスルホ
ニウムビス（ブチルトリフェニルボレート）、ジフェニ
ル（トリフェニルフェナシルオキソホスホニウミルメチ
ル）オキソスルホニウムビス（ブチルトリフェニルボレ
ート）等が挙げられる。代表的な化合物（ａ）ないし化
合物（ｌ）を以下に示す。

【００１３】

【化３】

【００１４】

【化４】

【００１５】

【化５】

【００１６】

【化６】

【００１７】

【化７】

【００１８】

【化８】

【００１９】

【化９】

【００２０】

【化１０】

【００２１】

【化１１】

【００２２】

【化１２】

【００２３】

【化１３】

【００２４】

【化１４】

【００２５】３００ｎｍ〜４００ｎｍに吸収を有する化
合物（Ｅ）としては、この波長領域に感度を有する光開
始剤や増感剤を用いることができる。これらの化合物と
しては、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェ
ノン系、チオキサントン系、カルバゾール系、イミダゾ
ール系、クマリン系、ケトクマリン系、トリフェニルピ
リリウム系、トリアジン系等の化合物がある。また、α
−アシロキシムエステル、アシルフォスフィンオキサイ
ド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，
１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチ
ルアンスラキノン、４，４´−ジエチルイソフタロフェ
ノン、３，３´，４，４´−テトラ（ｔ−ブチルパーオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４´−ジエチル
アミノベンゾフェノン等の化合物も用いることができ
る。これらの化合物は、それぞれ単体もしくは２種以上
を組み合わせて用いることができる。なお、一般式
（１）で表されるスルホニウム有機ホウ素錯体またはオ
キソスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）は通常３００ｎ
ｍ以上の吸収が殆ど無いため、単独で用いても通常の紫
外線ランプの光源には感度を有さないが、３００ｎｍ〜
４００ｎｍに吸収を有する化合物（Ｅ）と組み合わせる
ことにより非常に高い感度を得ることができる。

【００２６】特に、一般式（１）で表されるスルホニウ
ム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素
錯体（Ｄ）と、分子内にトリハロゲノメチル基を有する
トリアジン化合物、特に分子内にさらに発色団基を有す
るトリアジン化合物との併用が、高感度の感光性組成物
を与える。

【００２７】分子内にトリハロゲノメチル基を有するト
リアジン化合物としては、先ず２−フェニル−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ
−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ
−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンおよびこれらの
トリブロモメチル体が挙げられる。さらに、発色団基の
共役系を延ばすことによって紫外から可視領域の吸光特
性を向上させたトリアジン化合物が、本発明においては
より好適に用いられる。その例として、先ず特開昭４８
−３６２８１号公報に記載の、一般式（２）

【００２８】

【化１５】 〔式中、Ｘは臭素または塩素であり、Ｙは−ＣＸ₃ 、−
ＮＨ₂ 、−ＮＨＲ、−ＮＲ₂ または−ＯＲで（ここでＲ
はフェニルまたは炭素数１ないし６の低級アルキル）、
ｎは１ないし３の整数であり、Ｗは置換または非置換の
芳香環または複素環を示す。〕

【００２９】で表される少なくとも１個のトリハロメチ
ル基およびエチレン系不飽和基によってトリアジン環と
共役された少なくとも１個の発色団部分を有するｓ−ト
リアジン化合物、例えば、ビニル−ハロメチル−ｓ−ト
リアジンおよびメチル−ハロメチル−ｓ−トリアジン、
例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチ
リル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチ
ル）−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジ
メチルアミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−ｓ−
トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６
（Ｎ−エチル−２（３Ｈ）−ベンズオキサゾリリジン）
−エチリデンｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−
４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジ
ン、２，４−ビス（トリブロモメチル）−６−スチリル
−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリブロモメチル）
−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２，４
−ビス（トリブロモメチル）−６−（１−ｐ−ジメチル
アミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−ｓ−トリア
ジン、２，４−ビス（トリブロモメチル）−６（Ｎ−エ
チル−２（３Ｈ）−ベンズオキサゾリリジン）−エチリ
デン−ｓ−トリアジン、２−トリブロモメチル−４−ア
ミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−メチル−ｓ−
トリアジン、２，４−ビス（トリブロモメチル）−６−
メチル−ｓ−トリアジンなどを挙げることができる。代
表的な化合物として化合物（１）ないし化合物（６）を
以下に示す。

【００３０】

【化１６】

【００３１】

【化１７】

【００３２】

【化１８】

【００３３】

【化１９】

【００３４】

【化２０】

【００３５】

【化２１】

【００３６】次に、特開昭５３−１３３４２８号公報に
記載の、一般式（３）

【化２２】 〔式中、Ｘは臭素または塩素を表し、Ｚは置換または非
置換の二核または三核の芳香環または複素環を示す。〕
で表される置換または非置換の二核または三核の芳香族
基または複素環式芳香環基を１つと、２つのトリハロゲ
ノメチル基を有するｓ−トリアジン化合物、例えば、２
−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト
−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
〔４−（２−メトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イ
ル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−〔４−（２−ブトキシエチル）−ナフト−１
−イル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（２−メトキシ−ナフト−１−イル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（６−メトキシ−５−メチル−ナフト−２−イル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（６−メトキシナフト−２−イル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（５
−メトキシナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメト
キシナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（６−メトキシナフト−
２−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４，５−ジメトキシナフト−１−イ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ナフト
−２−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（フェナントリル−９−イル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（ジベンゾチエン−２−イル）−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ベンゾピラ
ン−３−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシアントラセン−１
−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジンおよびこれらのトリブロモメチル置換誘導体類
などを挙げることができる。代表的な化合物として、化
合物（７）ないし化合物（１０）を以下に示す。

【００３７】

【化２３】

【００３８】

【化２４】

【００３９】

【化２５】

【００４０】

【化２６】

【００４１】次に、特開昭６０−１０５６６７号公報に
記載の、下記一般式（４）

【化２７】 〔式中、Ａｒは置換または非置換の単核ないし３核の芳
香族基を表し、Ｒ⁹ およびＲ¹⁰は水素原子またはアルキ
ル基を表し、、Ｒ¹¹およびＲ¹³は相互に異なっており、
それぞれ水素原子または４，６−ビス−トリクロロメチ
ル−ｓ−トリアジン−２−イル基を表し、Ｒ¹²、Ｒ¹⁴お
よびＲ¹⁵は同一または異なっており、水素原子、ハロゲ
ン原子、置換または非置換のアルキル、アルケニルまた
はアルコキシ基を表す。〕で表されるアリールビニルフ
ェニル−ビス−トリハロゲノメチル−ｓ−トリアジン化
合物が挙げられる。具体例として、化合物（１１）ない
し化合物（１３）を例示する。

【００４２】

【化２８】

【００４３】

【化２９】

【００４４】

【化３０】

【００４５】さらに、本発明において好適に用いられる
トリハロゲノメチル基を有するトリアジン化合物として
は、特開昭６０−８９４７３号公報に記載のトリハロゲ
ノメチル基含有のカルボニルメチレン複素環式化合物、
具体的には、２−（ｐ−トリクロロメチルベンゾイルメ
チレン）−３−エチル−ベンゾチアゾール、２−（ｐ−
トリクロロメチルベンゾイルメチレン）−３−エチル−
５−メチルベンゾチアゾリン、２−（ｐ−トリクロロメ
チルベンゾイルメチレン）−３−ベンジルベンゾチアゾ
リン、２−（ｐ−トリクロロメチルベンゾイルメチレ
ン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（トリクロロ
アセチルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２
−（ｐ−トリクロロメチルベンゾイルメチレン）−３−
（２−メトキシエチル）−ベンゾチアゾリン、２−（ｐ
−トリクロロメチルベンゾイルメチレン）−３−ｎ−ヘ
キシルベンゾチアゾリン、２−（ｐ−トリクロロメチル
ベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト〔１，２−
ｄ〕チアゾリン、２−〔３，５−ビス（トリクロロメチ
ル）ベンゾイルメチレン〕−３−メチル−ナフト〔１，
２−ｄ〕チアゾリン、２−トリクロロアセチルメチレン
−３−メチル−ナフト〔１，２−ｄ〕チアゾリン、２−
（ｐ−トリクロロメチルベンゾイルメチレン）−３−エ
チル−５−メチルベンゾセレナゾリン、２−（ｐ−トリ
クロロメチルベンゾイルメチレン）−３−エチル−５−
メトキシベンゾセレナゾリン、２−トリクロロアセチル
メチレン−３−エチルベンゾセレナゾリン、２−（ｐ−
トリクロロメチルベンゾイルメチレン）−１，３，３−
トリエチル−５−クロロインドリン、２−（ｍ−トリク
ロロメチルベンゾイルメチレン）−１，３，３−トリメ
チルインドリン、２−トリクロロアセチルメチレン−
１，３，３−トリメチルインドリン、２−トリクロロア
セチルメチレン−１，３，３−トリメチル−５−クロロ
インドリン、２−〔３，５−ビス（トリクロロメチル）
−ベンゾメチレン〕−１，３，３，−トリメチルインド
リン、２−〔ビス（ｐ−トリクロロメチルベンゾイル）
−メチレン〕−３−エチルベンゾチアゾリン、２−トリ
クロロアセチルメチレン−３−エチルベンゾチアゾリ
ン、２−トリクロロアセチルメチレン−３−エチル−５
−メチルベンゾチアゾリン、２−トリクロロアセチルメ
チレン−３−ベンジルベンゾチアゾリン、２−（ｐ−ト
リクロロメチルベンゾイルメチレン）−３−エチル−４
−メチル−５−エトキシカルボニルチアゾリン、２−ト
リクロロアセチルメチレン−３−エチル−４−メチル−
５−エトキシカルボニルチアゾリン、２−（ｐ−トリク
ロロメチルベンゾイルメチレン）−３−エチル−４，５
−ジフェニルチアゾリン、２−トリクロロアセチルメチ
レン−３−エチル−４，５−ジフェニルチアゾリン、２
−トリクロロアセチルメチレン−３−エチル−５−フェ
ニルチアゾリン、２−トリクロロアセチルメチレン−１
−メチル−１，２−ジヒドロキノリン、２−ビス（トリ
クロロアセチルメチレン）−１−メチル−１，２−ジヒ
ドロキノリンなど、さらに特開平２−３６８６号公報、
特開平２−４７８２号公報、特開平２−４７８７号公報
および特開平２−２９２２７８号公報に記載のトリアジ
ン化合物を挙げることができる。

【００４６】なお、３００ｎｍ〜４００ｎｍに吸収を有
する化合物（Ｅ）に加えて、３００ｎｍ〜４００ｎｍに
吸収を有さない光開始助剤を併用してもよい。このよう
な化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエ
タノールアミン、トリイソプロパノールアミン、重合性
３級アミン等のアミン化合物や、２−ジメチルアミノ安
息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルア
ミノ安息香酸−２−エチルヘキシル等のエステル化合物
等が例示できる。

【００４７】本発明において、スルホニウム有機ホウ素
錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）お
よび３００ｎｍ〜４００ｎｍに吸収を有する化合物
（Ｅ）は、それぞれエチレン性不飽和結合を有する化合
物（Ｂ）に対して１〜６０重量％、好ましくは５〜３０
重量％となるように配合する。

【００４８】本発明に用いられる透明高分子重合体
（Ａ）は、膜厚１ミクロンで、可視光領域の４００ｎｍ
〜７００ｎｍの全波長領域において透過率が８０％以
上、好ましくは９５％以上の高分子重合体で、かつ現像
液（溶剤またはアルカリ水溶液）に可溶なものである。
このような高分子重合体としては、熱硬化性樹脂、熱可
塑性樹脂、感光性樹脂等があり、単独または２種以上混
合して用いられる。しかしながら、カラーフィルタの製
造における後工程において、高温での処理や、種々の溶
剤あるいは薬品による処理が行われるため、透明高分子
重合体（Ａ）としては、耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性に
優れたものを用いる必要がある。

【００４９】熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂としては、例
えば、ブチラール樹脂、スチエン−マレイン酸共重合
体、マレイン酸樹脂、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド、アクリル
系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン、ゴム系樹脂、
環化ゴム、エポキシ樹脂、セルロース類、ポリブタジエ
ン、ポリイミド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン
樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。

【００５０】感光性樹脂としては、水酸基、カルボキシ
ル基、アミノ基等を有する線状高分子にイソシアネート
基、アルデヒド基、エポキシ基等を介して、（メタ）ア
クリル化合物、ケイヒ酸化合物等の光架橋性基を導入し
た樹脂が用いられる。スチレン−マレイン酸共重合体や
α−オレフィン−無水マレイン酸共重合体のような酸無
水物を含む線状高分子の、ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリル化合
物によるハーフエステルも用いられる。

【００５１】本発明に用いられるエチレン性不飽和結合
を有する化合物（Ｂ）としては、一般にモノマーやオリ
ゴマーと呼ばれる、ラジカル重合（または架橋）反応が
可能な化合物が用いられ、アクリル酸、メタクリル酸、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）
アクリル酸エステル、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、スチレン、ジビニルベンゼン、（メタ）アクリ
ルアミド、酢酸ビニル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）
アクリルアミド、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、メラミンアクリレート、エポキシアクリレート
プレポリマー等が挙げられる。しかし、露光感度および
硬化後の諸耐性から多官能（メタ）アクリル系モノマー
を用いるのが好ましい。

【００５２】カラーフィルタの色相としては、加色混合
系のレッド、グリーン、ブルーと減色混合系のシアン、
マゼンタ、イエロー、およびブラックマトリックス部に
用いるブラックが主に用いられている。色剤としては染
料および顔料があるが、前述したように耐熱性、耐光性
等の諸耐性の面から、顔料を用いる。また、適性なスペ
クトルを得るために２種以上の顔料を組み合わせて用い
ることが行われており、例えばブルーはシアン顔料とバ
イオレット顔料、グリーンはグリーン顔料とイエロー顔
料、レッドはレッド顔料とイエローまたはオレンジ顔料
を組み合わせて適正なスペクトルを得ている。

【００５３】本発明に用いられる顔料（Ｃ）としては、
下記のものが挙げられる。いずれもカラーインデックス
ナンバーにて示す。Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌ
ｏｗ１２、１３、１４、１７、２０、２４、５５、８
３、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１
３７、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６
６、１６８、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ
３６、４３、５１、５５、５９、６１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
ｍｅｎｔ Ｒｅｄ ９、９７、１２２、１２３、１４
９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１
６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２
７、２２８、２４０、Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＶｉｌｅ
ｔ １９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５、１５：１、１
５：４、１５：６、２２、６０、６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
ｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７、３６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅ
ｎｔ Ｂｒｏｗｎ ２３、２５、２６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
ｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７およびチタンブラック等が例
示できる。

【００５４】本発明の感光性着色組成物には、顔料を充
分に分散させること、および透明基板上に１〜３ミクロ
ンの膜厚で塗布する必要があることから、塗布適性を付
与するために、通常は溶剤を用いて粘度調整を行う。溶
剤としては、たとえばシクロヘキサノン、イソホロン、
セロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、キシ
レン、エチルベンゼン、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチル−ｎ−アミルケトン、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、酢酸イソアミル、乳酸エチル
等が挙げられ、単独もしくは２種以上を混合して用いる
ことができる。

【００５５】感光性着色組成物の製造は、３本ロールミ
ル、２本ロールミル、サンドミル、アトライター、ボー
ルミル、ニーダー等の各種分散手段を用いて行うことが
できる。分散時に重合反応等によりゲル化が起こるのを
防ぐ目的で、重合禁止剤を添加してもよく、また、モノ
マーや光開始剤は顔料分散後に配合してもよい。また、
顔料の分散を良好にするために適宜分散助剤を添加でき
る。このような分散助剤としては各種界面活性剤、顔料
の誘導体等が使用できる。分散助剤は顔料の分散を助
け、かつ分散後の再凝集を防止する効果があるため、透
明性に優れたカラーフィルタが得られる。

【００５６】本発明の感光性着色組成物は、ガラス等の
透明基板上にスプレーコートやスピナーコート、ロール
コート、スクリーンコート等の塗布方法により塗布され
る。これらの塗布機に適正な流動性を得る目的で、本発
明の感光性着色組成物には、先に述べた溶剤の他に、硫
酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ等の体質顔料や、
レベリング剤あるいは消泡剤として少量のシリコン系あ
るいはフッ素系等の界面活性剤を添加しても良い。塗布
された感光性着色組成物は、熱風オーブンあるいはホッ
トプレート等で６０℃〜８０℃、１０分〜３０分で溶剤
を乾燥させる。このときの温度が高すぎたり、乾燥時間
が長すぎると、一部重合あるいは架橋が起こり、未露光
部の現像液に対する溶解性が低下し、いわゆる「焼きつ
き」と称される現像不良を引き起こす。

【００５７】乾燥した塗膜は、通常カラーフィルタパタ
ーンを有するフォトマスクを介して紫外線露光を行う。
光源としては一般に超高圧水銀灯が用いられるが、フォ
トマスクを透過する紫外線は通常３００ｎｍ以上の光で
あるため、超高圧水銀灯の輝線スペクトルのｉ線（３６
５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）およびｇ線（４３６ｎ
ｍ）と呼ばれる波長の光が重合反応あるいは架橋反応に
用いられる。従って、カラーフィルタ用の感光性着色組
成物は上記３つの輝線スペクトルに対する感度が重要で
ある。

【００５８】露光後、未露光部の塗膜は現像液で溶解除
去され、露光部のパターンを残す。この工程は一般に現
像とよばれるが、本発明の感光性着色組成物は、特に用
いる透明高分子重合体（Ａ）の溶解性により、溶剤でも
アルカリ水溶液でも現像可能となる。しかし、前述した
ように、環境問題からアルカリ現像が主流となってい
る。アルカリ現像液としては炭酸ナトリウム、水酸化ナ
トリウム等の無機アルカリ水溶液や、ジメチルベンジル
アミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド等の有機アルカリ水溶液を用い
ることができる。現像後、必要により更に紫外線照射あ
るいは加熱を行って、反応を更に進行させることによ
り、カラーフィルタとしての諸耐性を向上させることが
できる。

【００５９】

【実施例】以下，実施例に基づいて本発明を説明する。
例中、部とは重量部を、％は重量％をそれぞれ示す。ま
た、調製した感光性着色組成物を便宜上レジストと呼
ぶ。なお、本実施例では現在カラー液晶ディスプレー用
カラーフィルタの製造法として広く行われている、顔料
分散法のアルカリ現像型レッド、グリーン、ブルーの着
色レジストについて記す。実施例に先立ち，アルカリ可
溶性の樹脂の合成例を示す。 （樹脂溶液製造例ａ）１リットルの４つ口フラスコに、
シクロヘキサノン３５０．０部、スチレン２６．２部、
２−ヒドロキシアクリレート２３．３部、メタクリル酸
３５．０部、メタクリル酸メチル２０．５部、メタクリ
ル酸ブチル７０．０部を仕込み９０℃に加熱し、予めシ
クロヘキサノン２９０．０部、スチレン２６．２部、２
−ヒドロキシアクリレート２３．３部、アクリル酸３
５．０部、メタクリル酸メチル２０．５部、メタクリル
酸ブチル７０．０部とアゾビスイソブチロニトリル１．
７５部を混合溶解したものを３時間で滴下し、９０℃に
て３時間反応させた。さらに、アゾビスイソブチロニト
リル０．７０部をシクロヘキサノン１０部で溶解させた
ものを添加し、さらに１時間反応を続け樹脂溶液を合成
した。樹脂溶液の一部をサンプリングして１８０℃，２
０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂
溶液（不揮発分３０〜３５％）に不揮発分が２０％とな
るようにシクロヘキサノンを添加して樹脂溶液ａを調製
した。

【００６０】（樹脂溶液製造例ｂ）１リットルの４つ口
フラスコに、シクロヘキサノン３５０．０部、スチレン
２６．２部、２−ヒドロキシアクリレート４３．８部、
アクリル酸３５．０部、メタクリル酸ブチル７０．０部
を仕込み９０℃に加熱し、事前にシクロヘキサノン２９
０．０部、スチレン２６．３部、２−ヒドロキシアクリ
レート４３．８部、アクリル酸３５．０部、メタクリル
酸ブチル７０．０部とアゾビスイソブチロニトリル１．
７５部を混合溶解したものを３時間で滴下し、９０℃に
て３時間反応させた。さらに，アゾビスイソブチロニト
リル０．７０部をシクロヘキサノン１０部で溶解させた
ものを添加し、１時間反応を続けた。次いで、フラスコ
内温を８０℃とし、イソシアネートエチルメタクリレー
ト２３．５部、オクチル酸錫０．１１部をシクロヘキサ
ノン２０部で溶解したものを約１０分で滴下し、滴下後
２時間反応させて樹脂溶液を合成した。次に，樹脂溶液
ａと同様にして、シクロヘキサノンを添加して、不揮発
分２０％の樹脂溶液ｂを調製した。

【００６１】〔実施例１〜９〕 ・緑色レジストの作製 樹脂溶液ａ ４２．４８部 リオノールグリーン６ＹＫ（東洋インキ製造社製） ６．０７部 パリオトールエローＤ−１８１９（ＢＡＳＦ社製） １．８２部 分散剤 ０．４６部 シクロヘキサノン １９．６８部 を混合し、サンドミルにて６０分間分散して、緑色分散
体を作製した。次いで 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 化合物Ａ ０．８０部 ４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン ０．８０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 を容器中で充分に混合し、１．０μのフィルタにて濾過
し、不揮発分約２０％の緑色レジスト１を作製した。

【００６２】化合物Ａとしては、下記のスルホニウム有
機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体
を用いた。 （実施例１）ジメチルフェナシルスルホニウムブチルト
リフェニルボレート （実施例２）ジメチルフェナシルスルホニウム−ｓｅｃ
−ブチルトリフェニルボレート （実施例３）ジメチルフェナシルスルホニウム−ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリフェニルボレート （実施例４）ジメチル−ｐ−シアノベンジルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート （実施例５）ジメチルフェナシルスルホニウム−ｓｅｃ
−ブチルトリ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート （実施例６）ジメチルフェナシルスルホニウム−ｓｅｃ
−ブチルトリ（ｐ−メトキシフェニル）ボレート （実施例７）ジメチル−ｐ−クロロフェナシルスルホニ
ウムブチルトリフェニルボレート （実施例８）ジメチルベンジルオキソスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート （実施例９）ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブ
チルトリフェニルボレート

【００６３】得られたレジストの分光感度を測定するた
めに、１００ｍｍ×１００ｍｍのガラス基板上にスピン
コーターで乾燥膜厚が１．６μになるようにレジストを
塗布し、７０℃、２０分熱風オーブンで乾燥し、照射分
光器（日本分光社製 ＪＡＳＣＯ ＣＴ−２５ＣＰ型）
にセットして露光を行った。光源としては、超高圧水銀
ランプを用いた。露光後の基板を２％の炭酸ナトリウム
水溶液に約２０秒浸漬して現像した後、流水で洗浄し、
２２０℃で３０分加熱して分光写真を得た。表１にｉ線
（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）およびｇ線（４３
６ｎｍ）での現像残りの段数を示す。本実験での段数と
露光量の関係は下記の通りである。即ち、段数が大きい
ほど感度が高いことを示す。 １３段 １．００ ｍＪ／ｃｍ² １２段 １．７８ ｍＪ／ｃｍ² １１段 ３．１６ ｍＪ／ｃｍ² １０段 ５．６２ ｍＪ／ｃｍ² ９段 １０．０ ｍＪ／ｃｍ² ８段 １７．８ ｍＪ／ｃｍ² ７段 ３１．６ ｍＪ／ｃｍ² ６段 ５６．２ ｍＪ／ｃｍ² ５段 １００ ｍＪ／ｃｍ² ４段 １７７ ｍＪ／ｃｍ² ３段 ３１６ ｍＪ／ｃｍ² ２段 ５６２ ｍＪ／ｃｍ² １段 １０００ ｍＪ／ｃｍ²

【００６４】〔比較例１〕実施例１〜９で用いた緑色分
散体を用いて、同様に下記組成のレジストを作製した。 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブチル− トリフェニルボレート １．６０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 得られたレジストの分光感度を実施例１〜９と同様の方
法で測定した。

【００６５】〔比較例２〕実施例１〜９で用いた緑色分
散体を用いて、同様に下記組成のレジストを作製した。 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 ４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン １．６０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 得られたレジストの分光感度を実施例１〜９と同様の方
法で測定した。

【００６６】〔比較例３〕実施例１〜９で用いた緑色分
散体を用いて、同様に下記組成のレジストを作製した。 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 ２−ヘンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４− モルフォリノフェニル）−ブタノン−１ ０．８０部 ４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン ０．８０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 得られたレジストの分光感度を実施例１〜９と同様の方
法で測定した。

【００６７】〔比較例４〕更に、本発明の効果を確認す
る目的で、比較例１で得られたレジストを、同様の方法
でガラス基板上に塗布し、乾燥後、塗膜の上にさらにポ
リビニルアルコール（＃５００、国産化学社製）の６％
水溶液をスピンコーターで乾燥膜厚が１．２〜１．３に
なるように塗布し、７０℃、２０分熱風オーブンで乾燥
して酸素遮断膜を形成した後，実施例１〜９と同様の方
法で分光感度を測定した。

【００６８】

【表１】

【００６９】表１の結果から明らかなように、本発明の
有機ホウ素錯体あるいは４，４´−ジエチルアミノベン
ゾフェノンそれぞれ単独では殆ど感度が得られないが、
両者を組み合わせることにより飛躍的に感度が向上す
る。また、酸素遮断膜の感度に対する効果は非常に大き
いが、本発明の感光性着色組成物は酸素遮断膜が無くて
も、酸素遮断膜を設けたものに匹敵する感度が得られる
ことがわかる。

【００７０】〔実施例１０〜１５〕 （１）緑色レジストの作製 樹脂溶液ｂ ４２．４８部 リオノールグリーン６ＹＫ（東洋インキ製造社製） ６．０７部 パリオトールエローＤ−１８１９（ＢＡＳＦ社製） １．８２部 分散剤 ０．４６部 シクロヘキサノン １９．６８部 を混合し，サンドミルにて６０分間分散して，緑色分散
体を作製した。次いで 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブチル トリフェニルボレート ０．８０部 化合物Ｂ ０．８０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 を容器中で充分に混合し，１．０μのフィルタにて濾過
し，不揮発分約２０％の緑色レジストを作製した。なお
化合物Ｂは下記の化合物を用いた。 （実施例１０）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１ （実施例１１）イソプロピルチオキサントン （実施例１２）２，４−ジエチルチオキサントン （実施例１３）１−クロロ−４−プロポキシチオキサン
トン （実施例１４）２，４−トリクロロメチル（４´−メト
キシスチリル）−６−トリアジン （実施例１５）２，４−トリクロロメチル（４´−メト
キシナフチル）−６−トリアジン 得られた緑色レジストの分光感度を実施例１〜９と同様
の方法で測定し、表２の結果を得た。

【００７１】

【表２】

【００７２】〔実施例１６〜２１〕 ・緑色レジストの作製 樹脂溶液ｂ ４２．４８部 リオノールグリーン６ＹＫ（東洋インキ製造社製） ６．０７部 パリオトールエローＤ−１８１９（ＢＡＳＦ社製） １．８２部 分散剤 ０．４６部 シクロヘキサノン １９．６８部 を混合し、サンドミルにて６０分間分散して，緑色分散
体を作製した。次いで 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブチル トリフェニルボレート ０．８０部 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリル） −６−トリアジン ０．４０部 化合物Ｃ ０．４０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 を容器中で充分に混合し、１．０μのフィルタにて濾過
し、不揮発分約２０％の緑色レジストを作製した。な
お、化合物Ｂとしては下記の化合物を用いた。 （実施例１６）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル） −ブタ
ノン−１ （実施例１７）イソプロピルチオキサントン （実施例１８）２，４−ジエチルチオキサントン （実施例１９）１−クロロ−４−プロポキシチオキサン
トン （実施例２０）３，３´，４，４´−テトラ（ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキシカルフェノン （実施例２１）（η⁵ −２，４−シクロペンタジエン−
１−イル−）〔（１，２６−η）−（１−メチルエチ
ル）ベンゼン〕−アイアン（１＋）ロフォスフェイト
（１＋） 得られた緑色レジストの分光感度を実施例１〜９と同様
の方法で測定し、表３の結果を得た。

【００７３】

【表３】

【００７４】〔実施例２２〕 （１）緑色レジストの作製 樹脂溶液ｂ ４２．４８部 リオノールグリーン６ＹＫ（東洋インキ製造社製） ６．０７部 パリオトールエローＤ−１８１９（ＢＡＳＦ社製） １．８２部 分散剤 ０．４６部 シクロヘキサノン １９．６８部 を混合し、サンドミルにて６０分間分散して、緑色分散
体を作製した。 緑色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．１５部 ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブチル トリフェニルボレート ０．８０部 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリル） −６−トリアジン ０．４０部 ４，４´ジエチルアミノベンゾフェノン ０．４０部 シクロヘキサノン ３８．０９部 を容器中で充分に混合し、１．０μのフィルタにて濾過
し、不揮発分約２０％の緑色レジストを作製し、実施例
１〜９と同様の方法で分光感度を測定した。次に、同様
にして本レジストを１．６μに塗布して乾燥した塗膜の
全面に、超高圧水銀ランプを用いて積算光量が１５０ｍ
Ｊになるように紫外線を照射し、２％炭酸ナトリウムの
水溶液に２０秒間浸漬し、水洗して耐熱性評価用の試料
を作製した。

【００７５】〔比較例４〕実施例２２のジメチルフェナ
シルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボレートお
よび２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリ
ル）−６−トリアジンを下記化合物に置き換えて、同様
にして緑色レジストを作製し、実施例１〜９と同様の方
法で分光感度を測定した。 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシナフチル） −６−トリアジン ０．８０部 ２，２´−ビス（２−クロロフェニル）−４，４´，５， ５´−テトラフェニル−１，２´−イミダゾール ０．４０部

【００７６】〔実施例２３〕 ・赤色レジストの作製 樹脂溶液ｂ ４３．９２部 クロモフタルレッドＡ３Ｂ（チバガイギー社製） ７．６８部 分散剤 ０．３８部 シクロヘキサノン １５．４１部 を混合し、サンドミルにて６０分間分散して、赤色分散
体を作製した。次いで 赤色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．０５部 ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブチル トリフェニルボレート ０．８０部 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリル） −６−トリアジン ０．４０部 ４，４´ジエチルアミノベンゾフェノン ０．４０部 シクロヘキサノン ３７．９９部 を容器中で充分に混合し、１．０μのフィルタにて濾過
し、不揮発分約２０％の赤色レジストを作製し，実施例
１〜９と同様の方法で分光感度を測定した。次に、実施
例２３と同様にして耐熱性評価用の試料を作製した。

【００７７】〔比較例５〕実施例２３のジメチルフェナ
シルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボレートお
よび２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリ
ル）−６−トリアジンを下記化合物に置き換えて、同様
にして赤色レジストを作製し、実施例１〜９と同様の方
法で分光感度を測定した。 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシナフチル） −６−トリアジン ０．８０部 ２，２´−ビス（２−クロロフェニル）−４，４´，５， ５´−テトラフェニル−１，２´−イミダゾール ０．４０部

【００７８】〔実施例２４〕 ・青色レジスト 樹脂溶液ｂ ５４．４２部 リオノールブルーＥ（東洋インキ製造社製） ５．６８部 分散剤 ０．２９部 シクロヘキサノン ７．０１部 を混合し，サンドミルにて６０分間分散して，青色分散
体を作製した。次いで 青色分散体 ５６．１６部 ＮＫエステルＡＴＭＰＴ（新中村化学社製） ４．２３部 ジメチルフェナシルオキソスルホニウムブチル トリフェニルボレート ０．８０部 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリル） −６−トリアジン ０．４０部 ４，４´ジエチルアミノベンゾフェノン ０．４０部 シクロヘキサノン ３７．８１部 を容器中で充分に混合し，１．０μのフィルタにて濾過
し，不揮発分約２０％の青色レジストを作製し、実施例
１〜９と同様の方法で分光感度を測定した。

【００７９】〔比較例６〕実施例２４のジメチルフェナ
シルオキソスルホニウムブチルトリフェニルボレートお
よび２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシスチリ
ル）−６−トリアジンを下記化合物に置き換えて、同様
にして赤色レジストを作製し、実施例１〜９と同様の方
法で分光感度を測定した。 ２，４−トリクロロメチル（４´−メトキシナフチル） −６−トリアジン ０．８０部 ２，２´−ビス（２−クロロフェニル）−４，４´，５， ５´−テトラフェニル−１，２´−イミダゾール ０．４０部

【００８０】実施例２２〜２４および比較例４〜６の分
光感度の測定結果を表４に示す。

【表４】

【００８１】また、実施例２２および比較例４で作製し
た耐熱評価用の試料を、熱風オーブンで２６０℃、１時
間加熱したときの加熱前後での４４０ｎｍ付近のピーク
波長での透過率を分光光度計で測定した結果を表５に示
す。

【表５】

【００８２】

【発明の効果】本発明により，酸素遮断膜を形成しなく
ても高感度な感光性着色組成物が得られることから、カ
ラーフィルタ製造における工程短縮が可能で、生産性向
上によるコストダウンが可能となると同時に、非常に耐
熱性に優れたカラーフィルタを供給できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 薫 東京都中央区京橋二丁目３番13号東洋イン キ製造株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】溶剤またはアルカリに可溶性の透明高分子
   重合体（Ａ）、エチレン性不飽和結合を有する化合物
   （Ｂ）、顔料（Ｃ）、下記一般式（１）で表されるスル
   ホニウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機
   ホウ素錯体（Ｄ）および３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長
   領域に吸収を有する化合物（Ｅ）を含むことを特徴とす
   るカラーフィルタ用感光性着色組成物。 【化１】 〔式中、Ｒ¹ は、ベンジル基、置換されたベンジル基、
   フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキ
   シ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置
   換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、Ｒ² およ
   びＲ³ は、それぞれ独立に、Ｒ¹ を構成できる基と同じ
   基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリ
   ール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換さ
   れたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニ
   ル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換
   されたアルコキシ基、アルキルチオ基、置換されたアル
   キルチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはＲ
   ² とＲ³ が相互に結合した環状構造を表し、Ｒ⁴ は酸素
   原子または孤立電子対を表し、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ および
   Ｒ⁸ は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアル
   キル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキ
   ル基、置換されたアラルキル基、アルケニル基、置換さ
   れたアルケニル基を表す（但し、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ およ
   びＲ⁸ の全てが、アリール基または置換されたアリール
   基となることはない。）〕
2. 【請求項２】３００ｎｍ〜４００ｎｍに吸収を有する化
   合物（Ｅ）がトリハロゲノメチル基を有するトリアジン
   化合物であることを特徴とする請求項１記載のカラーフ
   ィルタ用感光性着色組成物。
3. 【請求項３】透明基板上に、請求項１または２記載のカ
   ラーフィルタ用感光性着色組成物を用いて画素を形成し
   てなることを特徴とするカラーフィルタ。