JPH08148370A - Manufacture of capacitor - Google Patents
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- JPH08148370A JPH08148370A JP28974794A JP28974794A JPH08148370A JP H08148370 A JPH08148370 A JP H08148370A JP 28974794 A JP28974794 A JP 28974794A JP 28974794 A JP28974794 A JP 28974794A JP H08148370 A JPH08148370 A JP H08148370A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、コンデンサの製造方
法に関し、詳しくは、小型で大きな静電容量を得ること
が可能なコンデンサの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a capacitor, and more particularly, to a method for manufacturing a capacitor which is small in size and has a large capacitance.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の小型大容量コンデンサとしては、
例えば、タンタル電解コンデンサ、アルミニウム電解コ
ンデンサなどの電解コンデンサが知られている。2. Description of the Related Art As a conventional small-sized large-capacity capacitor,
For example, electrolytic capacitors such as tantalum electrolytic capacitors and aluminum electrolytic capacitors are known.
【０００３】タンタル電解コンデンサは、金属タンタル
の陽極酸化被膜を誘電体層として利用したコンデンサで
あり、長寿命であること、温度特性が良好であること、
小型化できること、周波数特性が良好であることなどの
特徴を有している。A tantalum electrolytic capacitor is a capacitor which uses a metal tantalum anodized film as a dielectric layer, has a long life, and has good temperature characteristics.
It has features such as miniaturization and good frequency characteristics.
【０００４】また、アルミニウム電解コンデンサは、上
記のタンタル電解コンデンサよりも大きな静電容量を得
ることができるという特徴を有しており、電源回路など
に広く用いられている。Further, the aluminum electrolytic capacitor is characterized in that it can obtain a larger electrostatic capacity than the above-mentioned tantalum electrolytic capacitor, and is widely used in power supply circuits and the like.
【０００５】さらに、上記電解コンデンサのほかにも、
小型大容量コンデンサとして、積層セラミックコンデン
サが広く用いられている。そして、この積層セラミック
コンデンサは、周波数特性が良好であること、絶縁抵抗
が高いこと、単位体積当たりの静電容量が大きいことな
どの特徴を有している。Further, in addition to the above electrolytic capacitor,
A monolithic ceramic capacitor is widely used as a small-sized large-capacity capacitor. The monolithic ceramic capacitor has features such as good frequency characteristics, high insulation resistance, and large capacitance per unit volume.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、タンタル電解
コンデンサにおいては、タンタルの地金が高価であるた
め、製品であるコンデンサのコストが上昇するという問
題点があり、また、構造的に単一酸化物層を誘電体層に
使用しているため、誘電体層を高誘電率化することが困
難であり、大容量化には限界があるという問題点があ
る。However, in the tantalum electrolytic capacitor, there is a problem that the cost of the product capacitor increases because the tantalum metal is expensive, and the tantalum electrolytic capacitor is structurally single oxide. Since the physical layer is used as the dielectric layer, it is difficult to increase the dielectric constant of the dielectric layer, and there is a problem that there is a limit to increase the capacity.
【０００７】また、アルミニウム電解コンデンサにおい
ては、アルミニウムの陽極酸化膜を誘電体層として利用
しているが、漏れ電流が大きく、寿命が短いという問題
点がある。Further, in the aluminum electrolytic capacitor, the anodic oxide film of aluminum is used as the dielectric layer, but there is a problem that the leakage current is large and the life is short.
【０００８】さらに、上記のいずれの電解コンデンサに
も極性があり、電気、電子回路に組み込む工程で、その
方向（極性）を識別して組み込まなければならないた
め、実装工程での作業性が悪いという問題点がある。Further, all of the above electrolytic capacitors have polarities, and the direction (polarity) of the electrolytic capacitors must be identified in the process of assembling into an electric or electronic circuit, so that the workability in the mounting process is poor. There is a problem.
【０００９】また、積層セラミックコンデンサにおいて
は、小型、大容量化を図るために、誘電体層の厚みを小
さくする試みがなされているが、１μｍを下回る厚さで
良好な積層構造を実現することはできないのが実状であ
る。Further, in the monolithic ceramic capacitor, attempts have been made to reduce the thickness of the dielectric layer in order to reduce the size and increase the capacity, but it is necessary to realize a good laminated structure with a thickness of less than 1 μm. The reality is that you cannot do it.
【００１０】そこで、この発明の目的は、上記問題点を
解決して、複雑な製造工程を必要とせず、生産性に優れ
た、小型大容量のコンデンサの製造方法を提供すること
にある。Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a method for manufacturing a small-sized and large-capacity capacitor which does not require a complicated manufacturing process and is excellent in productivity.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のコンデンサの製造方法は、チタン金属を基
体とし、該基体表面に化成処理により複合チタン酸化物
を形成した後、該複合チタン酸化物を水熱処理し、その
後該複合チタン酸化物を介して前記基体と対向する対向
電極を形成することを特徴とする。In order to achieve the above object, a method of manufacturing a capacitor according to the present invention uses a titanium metal as a base, forms a composite titanium oxide on the surface of the base by chemical conversion treatment, and then forms the composite titanium. It is characterized in that the oxide is subjected to hydrothermal treatment, and then a counter electrode facing the substrate is formed through the composite titanium oxide.
【００１２】また、化成処理は、水酸化バリウムおよび
水酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種類を溶解さ
せた水溶液中で行ない、水熱処理は、水酸化バリウムお
よび水酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種類を溶
解させた水溶液中で行なうことを特徴とする。The chemical conversion treatment is carried out in an aqueous solution in which at least one of barium hydroxide and strontium hydroxide is dissolved, and the hydrothermal treatment is carried out in at least one of barium hydroxide and strontium hydroxide. It is characterized in that it is carried out in an aqueous solution.
【００１３】[0013]
【実施例】以下、本発明のコンデンサの製造方法につい
て、その実施例を説明する。EXAMPLES Examples of the method for producing a capacitor of the present invention will be described below.
【００１４】（実施例１）図１は、この実施例により得
られるコンデンサの断面図である。同図において、１は
板状のチタン金属基体、２はチタン金属基体１の上に形
成した複合チタン酸化物、３は複合チタン酸化物２の上
に形成した対向電極、４ａおよび４ｂはそれぞれチタン
金属基体１および対向電極３に取り付けた取り出しリー
ド線、５は外装樹脂である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a capacitor obtained in this embodiment. In the figure, 1 is a plate-shaped titanium metal substrate, 2 is a composite titanium oxide formed on the titanium metal substrate 1, 3 is a counter electrode formed on the composite titanium oxide 2, 4a and 4b are titanium, respectively. The lead wires 5 attached to the metal base 1 and the counter electrode 3 are exterior resins.
【００１５】次に、このコンデンサの製造方法について
説明する。まず、直径３ｍｍ、厚み０．５ｍｍの円板状
のチタン金属基体１を準備し、その両面をＨＦ水溶液を
用いて表面付着物を除去するとともに、その表面積を増
大させた。Next, a method of manufacturing this capacitor will be described. First, a disk-shaped titanium metal substrate 1 having a diameter of 3 mm and a thickness of 0.5 mm was prepared, and both surfaces of the titanium metal substrate 1 were removed with an HF aqueous solution to increase the surface area thereof.
【００１６】次に、このチタン金属基体１を超音波洗浄
後、０．１５モル／Ｌの水酸化バリウム水溶液中に浸漬
して９５℃の温度で１時間化成処理を行ない、チタン金
属基体１の表面にチタン酸バリウム薄膜を直接形成し
た。その後、このチタン酸バリウム薄膜を水酸化バリウ
ム水溶液中に浸漬し、温度を２００℃に保った加圧下で
４８時間水熱処理を行ない、緻密なチタン酸バリウム薄
膜からなる複合チタン酸化物２を得た。Next, the titanium metal substrate 1 is ultrasonically cleaned, immersed in a 0.15 mol / L barium hydroxide aqueous solution, and subjected to chemical conversion treatment at a temperature of 95 ° C. for 1 hour. A barium titanate thin film was directly formed on the surface. Then, this barium titanate thin film was immersed in a barium hydroxide aqueous solution, and hydrothermal treatment was performed for 48 hours under a pressure kept at 200 ° C. to obtain a composite titanium oxide 2 composed of a dense barium titanate thin film. .
【００１７】次に、表面に複合チタン酸化物２が形成さ
れたチタン金属基体１を大気中で熱処理して、膜中の水
分を除去した。なお、処理条件は３８０℃、１２時間、
昇降温速度は３００℃／時間である。Next, the titanium metal substrate 1 having the composite titanium oxide 2 formed on its surface was heat-treated in the atmosphere to remove the water content in the film. The treatment conditions are 380 ° C., 12 hours,
The temperature raising / lowering rate is 300 ° C./hour.
【００１８】その後、チタン金属基体１の複合チタン酸
化物２が形成された方の面に銀を蒸着して対向電極３を
形成した。それから、チタン金属基体１の複合チタン酸
化物２が形成されていない方の面を、取り出しリード線
４ａを取り付けるために研磨した。そして、チタン金属
基体１の研磨した面および対向電極３にそれぞれ取り出
しリード線４ａ，４ｂを取り付けてコンデンサ素子を得
た。その後、このコンデンサ素子を液体エポキシ樹脂に
浸漬後、熱硬化させて外装を行ない、図１に示すコンデ
ンサを完成させた。Thereafter, silver was vapor-deposited on the surface of the titanium metal substrate 1 on which the composite titanium oxide 2 was formed to form the counter electrode 3. Then, the surface of the titanium metal substrate 1 on which the composite titanium oxide 2 was not formed was polished to attach the lead wire 4a. Then, lead wires 4a and 4b were attached to the polished surface of the titanium metal substrate 1 and the counter electrode 3, respectively, to obtain a capacitor element. After that, the capacitor element was dipped in a liquid epoxy resin and then heat-cured to carry out exterior packaging to complete the capacitor shown in FIG.
【００１９】以上のようにして得られたコンデンサの特
性は、１ｋＨｚ、１Ｖｒｍｓで測定した静電容量が３３
ｎＦ、５Ｖの直流電圧で測定した絶縁抵抗が３．１×１
０9 Ω、直流の絶縁破壊電圧が１６Ｖであった。The characteristic of the capacitor obtained as described above is that the capacitance measured at 1 kHz and 1 Vrms is 33.
Insulation resistance measured with DC voltage of nF, 5V is 3.1 × 1
The resistance was 0 9 Ω , and the DC breakdown voltage was 16V.
【００２０】（実施例２）以下の方法により、上記実施
例１の図１と同様の構造を有するコンデンサを作製し
た。まず、直径３ｍｍ、厚み０．５ｍｍの円板状のチタ
ン金属基体を準備し、その両面をＨＦ水溶液を用いて表
面付着物を除去するとともに、その表面積を増大させ
た。Example 2 A capacitor having the same structure as that of FIG. 1 of Example 1 was manufactured by the following method. First, a disk-shaped titanium metal substrate having a diameter of 3 mm and a thickness of 0.5 mm was prepared, and surface deposits were removed from both surfaces of the titanium metal substrate using an HF aqueous solution, and the surface area was increased.
【００２１】次に、このチタン金属基体を超音波洗浄
後、０．１５モル／Ｌの水酸化バリウム水溶液中に浸漬
し、このチタン金属基体を陽極に、白金板を陰極に用い
て化成処理を行なって、チタン金属基体の表面にチタン
酸バリウム薄膜を直接形成した。なお、電解条件は、電
流密度１０ｍＡ／ｃｍ2 で化成電圧が２５Ｖに達するま
での定電流電解である。Next, this titanium metal substrate is ultrasonically cleaned and then immersed in a 0.15 mol / L barium hydroxide aqueous solution, and this titanium metal substrate is used as an anode and a platinum plate is used as a cathode for chemical conversion treatment. Then, a barium titanate thin film was directly formed on the surface of the titanium metal substrate. The electrolysis conditions are constant current electrolysis until the formation voltage reaches 25 V at a current density of 10 mA / cm 2 .
【００２２】その後、このチタン酸バリウム薄膜を実施
例１と同一条件で水熱処理して緻密化した。それから、
実施例１と同様にしてコンデンサを完成させた。Then, this barium titanate thin film was hydrothermally treated under the same conditions as in Example 1 to densify it. then,
A capacitor was completed in the same manner as in Example 1.
【００２３】以上のようにして得られたコンデンサの特
性は、１ｋＨｚ、１Ｖｒｍｓで測定した静電容量が２４
ｎＦ、１０Ｖの直流電圧で測定した絶縁抵抗が１．２×
１０9 Ω、直流の絶縁破壊電圧が３８Ｖであった。The characteristic of the capacitor obtained as described above is that the capacitance measured at 1 kHz and 1 Vrms is 24.
Insulation resistance measured with nF, 10V DC voltage is 1.2 ×
The DC breakdown voltage was 10 9 Ω and 38 V.
【００２４】（実施例３）以下の方法により、上記実施
例１の図１と同様の構造を有するコンデンサを作製し
た。まず、直径３ｍｍ、厚み０．５ｍｍの円板状のチタ
ン金属基体を準備し、その両面をＨＦ水溶液を用いて表
面付着物を除去するとともに、その表面積を増大させ
た。Example 3 A capacitor having the same structure as that of FIG. 1 of Example 1 was manufactured by the following method. First, a disk-shaped titanium metal substrate having a diameter of 3 mm and a thickness of 0.5 mm was prepared, and surface deposits were removed from both surfaces of the titanium metal substrate using an HF aqueous solution, and the surface area was increased.
【００２５】次に、このチタン金属基体を超音波洗浄
後、０．１５モル／Ｌのチタン酸ストロンチウム水溶液
中に浸漬し、このチタン金属基体を陽極に、白金板を陰
極に用いて化成処理を行なうことでチタン金属基体の表
面にチタン酸ストロンチウム薄膜を直接形成した。な
お、電解条件は、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ2 で化成電圧
が２５Ｖに達するまでの定電流電解で行なった。Next, this titanium metal substrate is ultrasonically cleaned and then immersed in a 0.15 mol / L strontium titanate aqueous solution, and this titanium metal substrate is used as an anode and a platinum plate is used as a cathode for chemical conversion treatment. By doing so, a strontium titanate thin film was directly formed on the surface of the titanium metal substrate. The electrolysis conditions were constant current electrolysis at a current density of 10 mA / cm 2 and a formation voltage of 25 V.
【００２６】その後、このチタン酸ストロンチウム薄膜
を実施例１と同一条件で水熱処理してチタン酸ストロン
チウムとチタン酸バリウムの混合構造を示す緻密な複合
チタン酸化物を得た。それから、実施例１と同様にして
コンデンサを完成させた。Thereafter, this strontium titanate thin film was hydrothermally treated under the same conditions as in Example 1 to obtain a dense composite titanium oxide having a mixed structure of strontium titanate and barium titanate. Then, a capacitor was completed in the same manner as in Example 1.
【００２７】以上のようにして得られたコンデンサの特
性は、１ｋＨｚ、１Ｖｒｍｓで測定した静電容量が２４
ｎＦ、１０Ｖの直流電圧で測定した絶縁抵抗が１．２×
１０9 Ω、直流の絶縁破壊電圧が３８Ｖであった。The characteristic of the capacitor obtained as described above is that the capacitance measured at 1 kHz and 1 Vrms is 24.
Insulation resistance measured with nF, 10V DC voltage is 1.2 ×
The DC breakdown voltage was 10 9 Ω and 38 V.
【００２８】（実施例４）図２は、この実施例により得
られるコンデンサの断面図である。同図において、１１
は多孔質のチタン金属基体、３ｂはチタン金属基体１１
の周囲に形成したカーボン層、３ｃはカーボン層３ｂの
表面に形成した銀電極、４ａおよび４ｂはそれぞれチタ
ン金属基体１１および銀電極３ｃに取り付けた取り出し
リード線、５は外装樹脂である。また、図３は多孔質の
チタン金属基体１１の部分拡大断面図である。同図にお
いて、１１ａはチタン金属粒子、２はチタン金属粒子１
１ａの表面に形成された複合チタン酸化物、３ａは二酸
化マンガンからなる対向電極である。(Embodiment 4) FIG. 2 is a sectional view of a capacitor obtained in this embodiment. In the figure, 11
Is a porous titanium metal substrate, 3b is a titanium metal substrate 11
Is a silver layer formed on the surface of the carbon layer 3b, 4a and 4b are lead wires attached to the titanium metal substrate 11 and the silver electrode 3c, and 5 is an exterior resin. Further, FIG. 3 is a partially enlarged sectional view of the porous titanium metal substrate 11. In the figure, 11a is titanium metal particles, 2 is titanium metal particles 1
Composite titanium oxide formed on the surface of 1a, 3a is a counter electrode made of manganese dioxide.
【００２９】次に、このコンデンサの製造方法について
説明する。まず、チタン金属粉末を２ｍｍ×２ｍｍ×４
ｍｍの短冊状に成形し８００℃の温度で真空焼結を行な
い多孔質のチタン金属基体１１を作製した。なお、成形
時に陽極用の取り出しリード線４ａの一部をチタン金属
基体１１の中に埋設しておいた。Next, a method of manufacturing this capacitor will be described. First, titanium metal powder is 2 mm x 2 mm x 4
A rectangular titanium metal substrate 11 was prepared by forming the rectangular titanium metal substrate into a strip of mm and vacuum sintering at a temperature of 800 ° C. A part of the lead-out lead wire 4a for the anode was embedded in the titanium metal substrate 11 at the time of molding.
【００３０】次に、このチタン金属基体１１を超音波洗
浄後、０．１５モル／Ｌの水酸化ストロンチウム水溶液
中に浸漬し、このチタン金属基体１１を陽極に、白金板
を陰極に用いて化成処理を行なうことで、チタン金属粒
子１１ａの表面にチタン酸ストロンチウム薄膜を直接形
成した。なお、電解条件は、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ2
で化成電圧が２５Ｖに達するまでの定電流電解である。Next, this titanium metal substrate 11 is ultrasonically cleaned and then immersed in a 0.15 mol / L strontium hydroxide aqueous solution, and this titanium metal substrate 11 is used as an anode and a platinum plate is used as a cathode for chemical conversion. By performing the treatment, a strontium titanate thin film was directly formed on the surface of the titanium metal particles 11a. The electrolysis conditions are current density of 10 mA / cm 2
It is constant current electrolysis until the formation voltage reaches 25V.
【００３１】その後、このチタン酸ストロンチウム薄膜
を水酸化バリウム水溶液中に浸漬し、温度を２００℃に
保った加圧下で４８時間水熱処理を行ない、図３に示す
ように、チタン酸ストロンチウムとチタン酸バリウムの
混合構造を示す緻密な複合チタン酸化物２を得た。Thereafter, this strontium titanate thin film was immersed in an aqueous barium hydroxide solution and hydrothermally treated for 48 hours under pressure while maintaining the temperature at 200 ° C. As shown in FIG. 3, strontium titanate and titanate were used. Dense composite titanium oxide 2 having a mixed structure of barium was obtained.
【００３２】それから、硝酸マンガン水溶液の塗布と熱
処理を繰り返すことにより、多孔質のチタン金属基体の
細部にまで二酸化マンガンからなる対向電極３ａを形成
した。さらに、この複合構造体のコロイダルカーボン中
への浸漬と乾燥を繰り返すことにより、その表面にカー
ボン層３ｂを形成した。Then, by repeating the application of the manganese nitrate aqueous solution and the heat treatment, the counter electrode 3a made of manganese dioxide was formed even in the details of the porous titanium metal substrate. Further, the carbon layer 3b was formed on the surface of the composite structure by repeating the immersion in colloidal carbon and the drying.
【００３３】そして、このカーボン層３ｂの上に銀ペー
ストを塗布、乾燥して銀電極３ｃを形成した後、取り出
しリード線４ｂを取り付けてコンデンサ素子を得た。そ
の後、コンデンサ素子を液体エポキシ樹脂に浸漬後、熱
硬化させて外装を行ない、図２に示すコンデンサを完成
させた。Then, a silver paste was applied on the carbon layer 3b and dried to form a silver electrode 3c, and then a lead wire 4b was attached to obtain a capacitor element. After that, the capacitor element was dipped in a liquid epoxy resin and then heat-cured to make an exterior, thereby completing the capacitor shown in FIG.
【００３４】以上のようにして得られたコンデンサの特
性は、１ｋＨｚ、１Ｖｒｍｓで測定した静電容量が３１
μＦ、１０Ｖの直流電圧で測定した絶縁抵抗が２．１×
１０5 Ω、直流の絶縁破壊電圧が３０Ｖであった。The characteristic of the capacitor obtained as described above is that the capacitance measured at 1 kHz and 1 Vrms is 31.
Insulation resistance measured by DC voltage of μF, 10V is 2.1 ×
The dielectric breakdown voltage of 10 5 Ω and DC was 30V.
【００３５】（実施例５）以下の方法により、上記実施
例４の図２と同様の構造を有するコンデンサを作製し
た。まず、チタン金属粉末を２ｍｍ×２ｍｍ×４ｍｍの
短冊状に成形し８００℃の温度で真空焼結を行ない多孔
質のチタン金属基体を作製した。なお、成形時に陽極用
の取り出しリード線の一部をチタン金属基体の中に埋設
しておいた。Example 5 A capacitor having the same structure as that of FIG. 2 of Example 4 was produced by the following method. First, titanium metal powder was formed into a strip shape of 2 mm × 2 mm × 4 mm and vacuum sintered at a temperature of 800 ° C. to produce a porous titanium metal substrate. A part of the lead wire for the anode was embedded in the titanium metal base during molding.
【００３６】次に、このチタン金属基体を超音波洗浄
後、０．１５モル／Ｌの水酸化ストロンチウムと水酸化
バリウムの混合水溶液中に浸漬し、このチタン金属基体
を陽極に、白金板を陰極に用いて化成処理を行なうこと
で、チタン金属粒子の表面にチタン酸ストロンチウムと
チタン酸バリウムの混合薄膜を直接形成した。なお、電
解条件は、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ2 で化成電圧が２５
Ｖに達するまでの定電流電解である。Next, this titanium metal substrate is ultrasonically cleaned and then immersed in a mixed solution of 0.15 mol / L of strontium hydroxide and barium hydroxide. This titanium metal substrate serves as an anode and a platinum plate serves as a cathode. By applying the chemical conversion treatment to TiO2, a mixed thin film of strontium titanate and barium titanate was directly formed on the surface of titanium metal particles. The electrolysis conditions were a current density of 10 mA / cm 2 and a formation voltage of 25.
Constant current electrolysis until reaching V.
【００３７】その後、この混合薄膜を水酸化ストロンチ
ウムと水酸化バリウムの混合水溶液中に浸漬し、温度を
２００℃に保った加圧下で４８時間水熱処理を行ない、
チタン酸ストロンチウムとチタン酸バリウムの混合構造
を有する緻密な複合チタン酸化物を得た。それから、実
施例４と同様にしてコンデンサを完成させた。Thereafter, this mixed thin film is immersed in a mixed aqueous solution of strontium hydroxide and barium hydroxide, and hydrothermally treated for 48 hours under pressure while keeping the temperature at 200 ° C.,
A dense composite titanium oxide having a mixed structure of strontium titanate and barium titanate was obtained. Then, a capacitor was completed in the same manner as in Example 4.
【００３８】以上のようにして得られたコンデンサの特
性は、１ｋＨｚ、１Ｖｒｍｓで測定した静電容量が２８
μＦ、１０Ｖの直流電圧で測定した絶縁抵抗が２．７×
１０5 Ω、直流の絶縁破壊電圧が３１Ｖであった。The characteristic of the capacitor obtained as described above is that the capacitance measured at 1 kHz and 1 Vrms is 28.
Insulation resistance measured with DC voltage of μF, 10V is 2.7 ×
The dielectric breakdown voltage of 10 5 Ω and DC was 31V.
【００３９】（実施例６）以下の方法により、上記実施
例４の図２と同様の構造を有するコンデンサを作製し
た。まず、チタン金属粉末を２ｍｍ×２ｍｍ×４ｍｍの
短冊状に成形し８００℃の温度で真空焼結を行ない多孔
質のチタン金属基体を作製した。なお、成形時に陽極用
の取り出しリード線の一部をチタン金属基体の中に埋設
しておいた。Example 6 A capacitor having the same structure as that of FIG. 2 of Example 4 was manufactured by the following method. First, titanium metal powder was formed into a strip shape of 2 mm × 2 mm × 4 mm and vacuum sintered at a temperature of 800 ° C. to produce a porous titanium metal substrate. A part of the lead wire for the anode was embedded in the titanium metal base during molding.
【００４０】次に、このチタン金属基体を、実施例４と
同様に化成処理および水熱処理を行ない、緻密な複合チ
タン酸化物を得た。Next, this titanium metal substrate was subjected to chemical conversion treatment and hydrothermal treatment in the same manner as in Example 4 to obtain a dense composite titanium oxide.
【００４１】それから、有機半導体（ポリピロール）を
もちいて、多孔質のチタン金属基体の細部にまでポリピ
ロールからなる対向電極を形成した。その後、実施例４
と同様にしてコンデンサを完成させた。Then, an organic semiconductor (polypyrrole) was used to form a counter electrode made of polypyrrole even in the details of the porous titanium metal substrate. Then, Example 4
A capacitor was completed in the same manner as in.
【００４２】以上のようにして得られたコンデンサの特
性は、１ｋＨｚ、１Ｖｒｍｓで測定した静電容量が２９
μＦ、１０Ｖの直流電圧で測定した絶縁抵抗が３．３×
１０5 Ω、直流の絶縁破壊電圧が３２Ｖであった。The characteristics of the capacitor thus obtained are that the capacitance measured at 1 kHz and 1 Vrms is 29.
Insulation resistance measured with DC voltage of μF, 10V is 3.3 ×
The dielectric breakdown voltage of 10 5 Ω and DC was 32V.
【００４３】[0043]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
コンデンサの製造方法は、チタン金属基体を化成処理お
よび水熱処理して、このチタン金属基体表面に緻密な複
合チタン酸化物を形成する方法のため、複雑な製造工程
を必要とせず、生産性に優れた、小型大容量のコンデン
サを得ることができる。As is apparent from the above description, in the method for producing a capacitor of the present invention, a titanium metal substrate is subjected to chemical conversion treatment and hydrothermal treatment to form a dense composite titanium oxide on the surface of the titanium metal substrate. Because of the method, it is possible to obtain a small-sized large-capacity capacitor excellent in productivity without requiring a complicated manufacturing process.
【００４４】また、チタン金属基体として、チタン金属
の多孔体を用いることにより、電極および誘電体の面積
が大きくなり、さらに大きな静電容量を得ることができ
る。By using a titanium metal porous body as the titanium metal substrate, the area of the electrode and the dielectric is increased, and a larger capacitance can be obtained.
【図１】本発明の製造方法により得られるコンデンサの
一例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an example of a capacitor obtained by a manufacturing method of the present invention.
【図２】本発明の製造方法により得られるコンデンサの
他の例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of a capacitor obtained by the manufacturing method of the present invention.
【図３】図２に示すコンデンサの多孔質のチタン金属基
体の部分拡大断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of a porous titanium metal substrate of the capacitor shown in FIG.
１，１１ チタン金属基体 ２ 複合チタン酸化物 ３，３ａ 対向電極 ３ｂ カーボン層 ３ｃ 銀電極 ４ａ，４ｂ 取り出しリード線 ５ 外装電極 １１ａ チタン金属粒子 1,11 Titanium metal substrate 2 Composite titanium oxide 3,3a Counter electrode 3b Carbon layer 3c Silver electrode 4a, 4b Extraction lead wire 5 Exterior electrode 11a Titanium metal particles
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 28/04 Ｈ０１Ｇ 4/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location C23C 28/04 H01G 4/00
Claims (2)
成処理により複合チタン酸化物を形成した後、該複合チ
タン酸化物を水熱処理し、その後該複合チタン酸化物を
介して前記基体と対向する対向電極を形成することを特
徴とするコンデンサの製造方法。1. A titanium metal is used as a base material, and a composite titanium oxide is formed on the surface of the base material by a chemical conversion treatment. Then, the composite titanium oxide is hydrothermally treated, and thereafter, the composite titanium oxide is opposed to the base material through the composite titanium oxide. A method of manufacturing a capacitor, which comprises forming a counter electrode which is formed.
ウムのうち少なくとも１種類を溶解させた水溶液中で化
成処理を行ない、水酸化バリウムおよび水酸化ストロン
チウムのうち少なくとも１種類を溶解させた水溶液中で
水熱処理を行なうことを特徴とする請求項１記載のコン
デンサの製造方法。2. Hydrothermal treatment is carried out in an aqueous solution in which at least one of barium hydroxide and strontium hydroxide is dissolved, and chemical conversion treatment is carried out in an aqueous solution in which at least one of barium hydroxide and strontium hydroxide is dissolved. The method of manufacturing a capacitor according to claim 1, wherein
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28974794A JPH08148370A (en) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | Manufacture of capacitor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28974794A JPH08148370A (en) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | Manufacture of capacitor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08148370A true JPH08148370A (en) | 1996-06-07 |
Family
ID=17747242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28974794A Pending JPH08148370A (en) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | Manufacture of capacitor |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08148370A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003042425A1 (en) * | 2001-11-12 | 2003-05-22 | Toho Titanium Co., Ltd. | Composite titanium oxide film and method for formation thereof and titanium electrolytic capacitor |
| CN108977801A (en) * | 2018-08-17 | 2018-12-11 | 西北大学 | A kind of preparation method for the 3-D nano, structure plate membrane that high water resistant is anti-corrosion |
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1994
- 1994-11-24 JP JP28974794A patent/JPH08148370A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003042425A1 (en) * | 2001-11-12 | 2003-05-22 | Toho Titanium Co., Ltd. | Composite titanium oxide film and method for formation thereof and titanium electrolytic capacitor |
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| CN108977801B (en) * | 2018-08-17 | 2020-07-14 | 西北大学 | Preparation method of three-dimensional nano-structure steel plate film with high water resistance and corrosion resistance |
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