JPH08147044A - 連続鋳造機の湯面レベル制御方法 - Google Patents
連続鋳造機の湯面レベル制御方法Info
- Publication number
- JPH08147044A JPH08147044A JP29157794A JP29157794A JPH08147044A JP H08147044 A JPH08147044 A JP H08147044A JP 29157794 A JP29157794 A JP 29157794A JP 29157794 A JP29157794 A JP 29157794A JP H08147044 A JPH08147044 A JP H08147044A
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- JP
- Japan
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- molten metal
- disturbance
- metal level
- value
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- Continuous Casting (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 非定常バルジング等に起因する流量外乱を複
数の周波数の和として表して作成したモデルを用いて推
定し、補正することで湯面レベルの安定化を図る。 【構成】 予め溶湯の流量外乱ｄ（ｔ）を複数の周波数
の正弦波の和と仮定してこれを制御モデルと仮定し、制
御指令ｕ（ｔ）と湯面レベルセンサによる湯面レベル測
定値とをフィルタ２１に取り込み関数Ｚ1 （ｔ），Ｚ2
（ｔ）を得、これをフィルタ２２及び外乱推定演算部２
３へ与え、フィルタ２２にて関数Φ（ｔ）を求めて、こ
れを外乱推定演算部２３へ与え、該外乱推定演算部２３
にて外乱推定値ｄ（ｔ）ハットを求め、これに補正ゲイ
ンＫG を乗じて加算器１３へ与える。
数の周波数の和として表して作成したモデルを用いて推
定し、補正することで湯面レベルの安定化を図る。 【構成】 予め溶湯の流量外乱ｄ（ｔ）を複数の周波数
の正弦波の和と仮定してこれを制御モデルと仮定し、制
御指令ｕ（ｔ）と湯面レベルセンサによる湯面レベル測
定値とをフィルタ２１に取り込み関数Ｚ1 （ｔ），Ｚ2
（ｔ）を得、これをフィルタ２２及び外乱推定演算部２
３へ与え、フィルタ２２にて関数Φ（ｔ）を求めて、こ
れを外乱推定演算部２３へ与え、該外乱推定演算部２３
にて外乱推定値ｄ（ｔ）ハットを求め、これに補正ゲイ
ンＫG を乗じて加算器１３へ与える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、鋳型への溶融金属の流
入量の制御をアクチュエータにてストッパ、又はスライ
ディングゲート等を操作して行う連続鋳造機における湯
面レベル制御方法に関する。
入量の制御をアクチュエータにてストッパ、又はスライ
ディングゲート等を操作して行う連続鋳造機における湯
面レベル制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造機では、鋳型内の鋳片は外周に
シェルが形成された段階で、内部は未凝固状態のまま、
ピンチロールにて順次下方へ引き下げられてゆく。この
ためピンチロールによる引張り作用が鋳片に働くと、内
部が液状の鋳片はシェルが周期的に膨張，収縮を繰り返
す、所謂バルジングと称する非定常現象が発生し、鋳片
内の溶湯が上，下方向に振動し、これが鋳型内における
湯面レベルの変動となって現れる。この対策として従来
にあっては、ピンチロールの設置間隔を不均等にしてバ
ルジングの周期的変動を抑制する方法、又はバルジング
を周期的外乱と仮定してこれを推定し、補正すること
で、これに伴う湯面レベル変動を制御する方法（特開平
５−２３５１１号公報）等が提案されている。
シェルが形成された段階で、内部は未凝固状態のまま、
ピンチロールにて順次下方へ引き下げられてゆく。この
ためピンチロールによる引張り作用が鋳片に働くと、内
部が液状の鋳片はシェルが周期的に膨張，収縮を繰り返
す、所謂バルジングと称する非定常現象が発生し、鋳片
内の溶湯が上，下方向に振動し、これが鋳型内における
湯面レベルの変動となって現れる。この対策として従来
にあっては、ピンチロールの設置間隔を不均等にしてバ
ルジングの周期的変動を抑制する方法、又はバルジング
を周期的外乱と仮定してこれを推定し、補正すること
で、これに伴う湯面レベル変動を制御する方法（特開平
５−２３５１１号公報）等が提案されている。
【０００３】図４は、前記公報に開示された従来の制御
系の制御内容を示すブロック線図であり、湯面レベル目
標値Ｌｒｅｆと湯面レベルセンサで検出した湯面レベル
測定値Ｌとを比較器３１で比較し、その偏差ｅをＰＩ調
節計３２へ与える。ＰＩ調節計３２は、予め定めた制御
パラメータ（Ｋp ：比例ゲイン，Ｔ1 ：積分時間）に基
づき偏差ｅを零とするに必要な溶湯制御用のストッパの
位置指令値Ｕ0 を演算し、加算器３３へ与える。
系の制御内容を示すブロック線図であり、湯面レベル目
標値Ｌｒｅｆと湯面レベルセンサで検出した湯面レベル
測定値Ｌとを比較器３１で比較し、その偏差ｅをＰＩ調
節計３２へ与える。ＰＩ調節計３２は、予め定めた制御
パラメータ（Ｋp ：比例ゲイン，Ｔ1 ：積分時間）に基
づき偏差ｅを零とするに必要な溶湯制御用のストッパの
位置指令値Ｕ0 を演算し、加算器３３へ与える。
【０００４】加算器３３は位置指令値Ｕ0 と後述するス
トッパ補正信号Ｕc とを加算し、ストッパに対する補正
した位置指令値ｕとしてストッパ位置を制御する。これ
によって、ストッパ動特性３４、及び浸漬ノズルの流量
特性３５等からこのストッパ位置に比例した溶湯流量が
定まり、これに流量外乱Ｑw 、更に鋳型内現象３６が加
わって湯面レベルＬが決まる。
トッパ補正信号Ｕc とを加算し、ストッパに対する補正
した位置指令値ｕとしてストッパ位置を制御する。これ
によって、ストッパ動特性３４、及び浸漬ノズルの流量
特性３５等からこのストッパ位置に比例した溶湯流量が
定まり、これに流量外乱Ｑw 、更に鋳型内現象３６が加
わって湯面レベルＬが決まる。
【０００５】この湯面レベルＬは湯面レベルセンサにて
測定され、湯面レベル測定値Ｌとして比較器３１へフィ
ードバックされる外、補正信号演算器３７へ与えられ
る。補正信号演算器３７はストッパ位置実績値と湯面レ
ベル測定値とから制御モデルに基づき流量外乱を推定値
し、これを打ち消すためのストッパ補正信号Ｕc を算出
し、ゲインＫG を乗じて加算器３３へフィードバックす
る。なお、補正信号演算器３７において用いる制御モデ
ルは、流量外乱がピンチロールと鋳造速度とから定まる
一種類の正弦波状又はランプ状に変化するものとして作
成される。
測定され、湯面レベル測定値Ｌとして比較器３１へフィ
ードバックされる外、補正信号演算器３７へ与えられ
る。補正信号演算器３７はストッパ位置実績値と湯面レ
ベル測定値とから制御モデルに基づき流量外乱を推定値
し、これを打ち消すためのストッパ補正信号Ｕc を算出
し、ゲインＫG を乗じて加算器３３へフィードバックす
る。なお、補正信号演算器３７において用いる制御モデ
ルは、流量外乱がピンチロールと鋳造速度とから定まる
一種類の正弦波状又はランプ状に変化するものとして作
成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前者の如く
ピンチロールの設置間隔を不均等にする方法では、ピン
チロール間隔をＲ0 を基本とし、これにΔＲの範囲内で
変更することで対応するため、湯面レベル振動の抑制効
果はあるものの、間隔Ｒ0 に対応して生じるバルジング
を避けることが出来ない。これを抑制するにはピンチロ
ール間隔の基本距離Ｒ0 を小さくせざるを得ないが、設
備コストが上昇し、現実的ではなく、しかも変更幅ΔＲ
による変動も無視出来ないため振動は多周波の外乱とな
り、その抑制が難しい。また、後者の方法は周期外乱を
ピンチロールと鋳造速度とから定まる一種類の正弦波
状、又はランプ状変動と仮定しているが、実際には高周
波，分数周波等の多周波成分を含んでおり、正確な補正
が出来ない。
ピンチロールの設置間隔を不均等にする方法では、ピン
チロール間隔をＲ0 を基本とし、これにΔＲの範囲内で
変更することで対応するため、湯面レベル振動の抑制効
果はあるものの、間隔Ｒ0 に対応して生じるバルジング
を避けることが出来ない。これを抑制するにはピンチロ
ール間隔の基本距離Ｒ0 を小さくせざるを得ないが、設
備コストが上昇し、現実的ではなく、しかも変更幅ΔＲ
による変動も無視出来ないため振動は多周波の外乱とな
り、その抑制が難しい。また、後者の方法は周期外乱を
ピンチロールと鋳造速度とから定まる一種類の正弦波
状、又はランプ状変動と仮定しているが、実際には高周
波，分数周波等の多周波成分を含んでおり、正確な補正
が出来ない。
【０００７】図５は、一般的な外乱波形を示した説明図
であり、外乱は実線で示す如くＷ，３Ｗ，５Ｗ，１／３
Ｗ，１／５Ｗの如く高周波，分数周波成分を含み、実線
で示す如き波形を呈するのに対し、破線で示す如く周期
Ｗ，振幅２Ａの正弦波と仮定して制御を行うため、ハッ
チングを付して示す部分がレベル変動として残ることと
なる。
であり、外乱は実線で示す如くＷ，３Ｗ，５Ｗ，１／３
Ｗ，１／５Ｗの如く高周波，分数周波成分を含み、実線
で示す如き波形を呈するのに対し、破線で示す如く周期
Ｗ，振幅２Ａの正弦波と仮定して制御を行うため、ハッ
チングを付して示す部分がレベル変動として残ることと
なる。
【０００８】本発明はかかる事情に鑑みなされたもので
あって、その目的とするところは、バルジングによる外
乱を多周波の外乱と仮定し、これを推定し、補正するた
めのモデルを作成し、これに基づく制御を行うようにし
た連続鋳造機の湯面レベル制御方法を提供するにある。
あって、その目的とするところは、バルジングによる外
乱を多周波の外乱と仮定し、これを推定し、補正するた
めのモデルを作成し、これに基づく制御を行うようにし
た連続鋳造機の湯面レベル制御方法を提供するにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る連続鋳造機
の湯面レベル制御方法は、湯面レベル目標値と、湯面レ
ベル測定値との偏差を解消すべく制御指令を求め、この
制御指令を鋳型への溶融金属の流入量を調節するアクチ
ュエータに付与するようにした連続鋳造機の湯面レベル
制御方法において、鋳型内湯面レベルを変動させる外乱
を多周波の正弦波の和とし、これを前記アクチュエータ
に対する制御指令又はアクチュエータの動作実績値と、
湯面レベル測定値とを用いて推定し、この外乱推定値を
用いて、前記外乱を打消す補正信号を求め、この補正信
号を前記制御指令に対する補正量として前記アクチュエ
ータに与えることを特徴とする。
の湯面レベル制御方法は、湯面レベル目標値と、湯面レ
ベル測定値との偏差を解消すべく制御指令を求め、この
制御指令を鋳型への溶融金属の流入量を調節するアクチ
ュエータに付与するようにした連続鋳造機の湯面レベル
制御方法において、鋳型内湯面レベルを変動させる外乱
を多周波の正弦波の和とし、これを前記アクチュエータ
に対する制御指令又はアクチュエータの動作実績値と、
湯面レベル測定値とを用いて推定し、この外乱推定値を
用いて、前記外乱を打消す補正信号を求め、この補正信
号を前記制御指令に対する補正量として前記アクチュエ
ータに与えることを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明にあっては、これによって多周波の正弦
波の和からなる外乱に対し、各周波の外乱夫々に対し個
別に対処してこれを打ち消し得る補正信号を得ることが
可能となる。
波の和からなる外乱に対し、各周波の外乱夫々に対し個
別に対処してこれを打ち消し得る補正信号を得ることが
可能となる。
【００１１】
【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づき
具体的に説明する。図１は連続鋳造機の湯面レベル制御
方法を適用する連続鋳造設備の模式的断面図であり、図
中１は溶湯を貯蔵するタンディッシュ，２は鋳型，３は
溶湯をタンディッシュ１から鋳型２へ導く浸漬ノズル４
に装着された溶湯を給断するためのスライディングゲー
トを示している。
具体的に説明する。図１は連続鋳造機の湯面レベル制御
方法を適用する連続鋳造設備の模式的断面図であり、図
中１は溶湯を貯蔵するタンディッシュ，２は鋳型，３は
溶湯をタンディッシュ１から鋳型２へ導く浸漬ノズル４
に装着された溶湯を給断するためのスライディングゲー
トを示している。
【００１２】スライディングゲート３には、ステッピン
グシリンダ５のロッドが連結されており、ステッピング
シリンダ５の駆動により、スライディングゲート３の開
度調節が行われる。ステッピングシリンダ５は、その駆
動源としてパルスモータ６及び該パルスモータ６にて移
動位置決めされるスプールを備えており、コントローラ
７の制御によるパルスモータ６の回転に伴って駆動され
る。ＳＥは鋳型２の上方に臨ませて設置した湯面レベル
センサである。
グシリンダ５のロッドが連結されており、ステッピング
シリンダ５の駆動により、スライディングゲート３の開
度調節が行われる。ステッピングシリンダ５は、その駆
動源としてパルスモータ６及び該パルスモータ６にて移
動位置決めされるスプールを備えており、コントローラ
７の制御によるパルスモータ６の回転に伴って駆動され
る。ＳＥは鋳型２の上方に臨ませて設置した湯面レベル
センサである。
【００１３】図２は本発明に係る連続鋳造機の湯面レベ
ル制御内容を示すブロック線図である。湯面レベル目標
値Ｌｒｅｆと、湯面レベルセンサで測定され、フィード
バックされた湯面レベル測定値は減算器１１にて減算さ
れてその偏差ΔがＰＩＤ調節計１２へ入力される。ＰＩ
Ｄ調節計１２には予め定められた制御パラメータに基づ
き偏差Δを零とするに必要なスライディングゲート３に
対する位置指令Ｕ0 を演算し、これを加算器１３へ出力
する。
ル制御内容を示すブロック線図である。湯面レベル目標
値Ｌｒｅｆと、湯面レベルセンサで測定され、フィード
バックされた湯面レベル測定値は減算器１１にて減算さ
れてその偏差ΔがＰＩＤ調節計１２へ入力される。ＰＩ
Ｄ調節計１２には予め定められた制御パラメータに基づ
き偏差Δを零とするに必要なスライディングゲート３に
対する位置指令Ｕ0 を演算し、これを加算器１３へ出力
する。
【００１４】加算器１３は位置指令Ｕ0 と後述する推定
外乱に対する補正信号ＵC とを加算し、スライディング
ゲート３に対する制御指令ｕ（ｔ）として、パルスモー
タ６を駆動し、ステッピングシリンダ５を含むレベル制
御系１４を動作させる。制御指令ｕ（ｔ）に基づきステ
ッピングシリンダ５が動作し、浸漬ノズル４が開度に設
定される。浸漬ノズル（流量特性ＫQ ，断面積Ａ，溶湯
流速度ＶC ）へ溶湯流入量ＱINで溶湯が供給され、浸漬
ノズル４を通じ、外乱ｄ（ｔ）を伴った状態で溶湯排出
量ＱOUT の溶湯が鋳型Ｍへ供給される。なお、断面積Ａ
は既知であり、溶湯流速度ＶC は実測される。
外乱に対する補正信号ＵC とを加算し、スライディング
ゲート３に対する制御指令ｕ（ｔ）として、パルスモー
タ６を駆動し、ステッピングシリンダ５を含むレベル制
御系１４を動作させる。制御指令ｕ（ｔ）に基づきステ
ッピングシリンダ５が動作し、浸漬ノズル４が開度に設
定される。浸漬ノズル（流量特性ＫQ ，断面積Ａ，溶湯
流速度ＶC ）へ溶湯流入量ＱINで溶湯が供給され、浸漬
ノズル４を通じ、外乱ｄ（ｔ）を伴った状態で溶湯排出
量ＱOUT の溶湯が鋳型Ｍへ供給される。なお、断面積Ａ
は既知であり、溶湯流速度ＶC は実測される。
【００１５】鋳型Ｍ内では溶湯の総流入量に対し鋳型内
現象（Ａ：鋳型断面積、Ｓ：ラプラス演算子）が加わっ
て湯面レベルＬが定まる。この湯面レベルＬは湯面レベ
ルセンサＳＥ｛センサ特性：１／（１＋ＳＴ）｝にて検
出され、湯面レベル測定値Ｌとして前述した如く減算器
１１へフィードバックされる外、外乱推定演算装置１５
へ与えられる。外乱推定演算装置１５は湯面レベルセン
サＳＥで測定した湯面レベル測定値Ｌと、前述した制御
指令ｕ（ｔ）とに基づいて、予め定めた制御モデルに従
って外乱を推定演算する。
現象（Ａ：鋳型断面積、Ｓ：ラプラス演算子）が加わっ
て湯面レベルＬが定まる。この湯面レベルＬは湯面レベ
ルセンサＳＥ｛センサ特性：１／（１＋ＳＴ）｝にて検
出され、湯面レベル測定値Ｌとして前述した如く減算器
１１へフィードバックされる外、外乱推定演算装置１５
へ与えられる。外乱推定演算装置１５は湯面レベルセン
サＳＥで測定した湯面レベル測定値Ｌと、前述した制御
指令ｕ（ｔ）とに基づいて、予め定めた制御モデルに従
って外乱を推定演算する。
【００１６】外乱推定演算装置１５は、フィルタ２１，
フィルタ２２及び外乱推定演算部２３を備えており、前
記した湯面レベル測定値Ｌ及び制御指令ｕ（ｔ）を、先
ずフィルタ２１へ取り込み、フィルタ処理を施してその
出力Ｚ1 （ｔ），Ｚ2 （ｔ）をフィルタ２２及び外乱推
定演算部２３へ出力する。ここに、Ｚ1 （ｔ），Ｚ
2 （ｔ）は下記（１），（２）式で与えられる。
フィルタ２２及び外乱推定演算部２３を備えており、前
記した湯面レベル測定値Ｌ及び制御指令ｕ（ｔ）を、先
ずフィルタ２１へ取り込み、フィルタ処理を施してその
出力Ｚ1 （ｔ），Ｚ2 （ｔ）をフィルタ２２及び外乱推
定演算部２３へ出力する。ここに、Ｚ1 （ｔ），Ｚ
2 （ｔ）は下記（１），（２）式で与えられる。
【００１７】
【数１】
【００１８】フィルタ２２はこれにフィルタ処理を施し
てその出力Φ（ｔ）を外乱推定演算部２３へ出力する。
ここにΦ（ｔ）はΦｉ（ｔ）で構成されたベクトルであ
り、下記（３）式で与えられる。
てその出力Φ（ｔ）を外乱推定演算部２３へ出力する。
ここにΦ（ｔ）はΦｉ（ｔ）で構成されたベクトルであ
り、下記（３）式で与えられる。
【００１９】
【数２】
【００２０】（３）式中のａｐ，ｂｐは下記状態方程式
である（４）式の係数である。
である（４）式の係数である。
【００２１】
【数３】
【００２２】外乱推定演算部２３には、外乱ｄ（ｔ）が
下記（５）式に示す如く多周波（ｍ個）の正弦波の和か
らなると仮定した制御モデルが設定されている。 ｄ（ｔ）＝ｈ1 ｓｉｎ（ｗi ｔ＋α1 ）＋ｈ2 ｓｉｎ（ｗ2 ｔ＋α2 ）＋… ＋ｈm ｓｉｎ（ｗi ｔ＋αm ） ＝Σｈi ｓｉｎ（ｗi ｔ＋αi ） …（５） 但し ｈi ：振幅 αi ：位相 （ｉ＝１……ｍ） ｗi ：周波数 初期値η2i-1（０）＝ｈi ｓｉｎαi η2i（０）＝ｈi ｃｏｓαi 前記外乱ｄ（ｔ）は下記（６）式で定義された状態方程
式である。
下記（５）式に示す如く多周波（ｍ個）の正弦波の和か
らなると仮定した制御モデルが設定されている。 ｄ（ｔ）＝ｈ1 ｓｉｎ（ｗi ｔ＋α1 ）＋ｈ2 ｓｉｎ（ｗ2 ｔ＋α2 ）＋… ＋ｈm ｓｉｎ（ｗi ｔ＋αm ） ＝Σｈi ｓｉｎ（ｗi ｔ＋αi ） …（５） 但し ｈi ：振幅 αi ：位相 （ｉ＝１……ｍ） ｗi ：周波数 初期値η2i-1（０）＝ｈi ｓｉｎαi η2i（０）＝ｈi ｃｏｓαi 前記外乱ｄ（ｔ）は下記（６）式で定義された状態方程
式である。
【００２３】
【数４】
【００２４】（６）式中のｗi は未知パラメータ、η
（ｔ）は（６）式の状態ベクトルである。一方外乱推定
値ｄ（ｔ）ハットは下記（７）式で表される。
（ｔ）は（６）式の状態ベクトルである。一方外乱推定
値ｄ（ｔ）ハットは下記（７）式で表される。
【００２５】
【数５】
【００２６】（７）式中のｘ（ｔ）ハットは下記（８）
式で定義された状態空間Ｘ（ｔ）の推定値である。
式で定義された状態空間Ｘ（ｔ）の推定値である。
【００２７】
【数６】
【００２８】従って（８）式中のＸ（ｔ）の推定値ｘ
（ｔ）ハットを求めれば、前記（７）式に従ってｄ
（ｔ）ハットが演算可能となる。なお、ｘ（ｔ）ハット
は下記（９）式で演算可能である。
（ｔ）ハットを求めれば、前記（７）式に従ってｄ
（ｔ）ハットが演算可能となる。なお、ｘ（ｔ）ハット
は下記（９）式で演算可能である。
【００２９】
【数７】
【００３０】（９）式中のｑ2 ，ｑ4 …ｑ2mと（６）式
中の未知数たる周波数ｗ1 ，ｗ2 …ｗm との間には次の
如き関係があり、これを図３に示す如きフローチャート
に従って説明する。即ち、フィルタ２２から与えられた
Φ（ｔ）に基づき（１０）式に従って外乱周波数の推定
を行う（ステップＳ１）、次にｑ＝［ｑ2 …ｑ2m］を求
め（ステップＳ２）、外乱周波数ｗi を（１１）式に従
って算出する（ステップＳ３）。
中の未知数たる周波数ｗ1 ，ｗ2 …ｗm との間には次の
如き関係があり、これを図３に示す如きフローチャート
に従って説明する。即ち、フィルタ２２から与えられた
Φ（ｔ）に基づき（１０）式に従って外乱周波数の推定
を行う（ステップＳ１）、次にｑ＝［ｑ2 …ｑ2m］を求
め（ステップＳ２）、外乱周波数ｗi を（１１）式に従
って算出する（ステップＳ３）。
【００３１】
【数８】
【００３２】
【数９】
【００３３】このようにして求めた外乱推定値ｄ（ｔ）
ハットは、図２に示す如くゲイン設定器にて補正ゲイン
ＫG を乗じ、補正出力ＫG ・ｄ（ｔ）ハットを加算器１
３へ与える。これによって後に加わる外乱ｄ（ｔ）に相
当する補正ゲインが位置指令Ｕ0 に加算され、外乱を補
償した制御指令ｕ（ｔ）により外乱の影響を確実に除去
し得ることとなる。なお、上述の実施例では外乱の推定
をパルスモータ６に対する制御指令と、湯面レベル測定
値とに基づいて行ったが、スライディングゲート４の開
度実績値、又はステッピングシリンダ５のスプール位置
と湯面レベル測定値とに基づいて推定してもよい。
ハットは、図２に示す如くゲイン設定器にて補正ゲイン
ＫG を乗じ、補正出力ＫG ・ｄ（ｔ）ハットを加算器１
３へ与える。これによって後に加わる外乱ｄ（ｔ）に相
当する補正ゲインが位置指令Ｕ0 に加算され、外乱を補
償した制御指令ｕ（ｔ）により外乱の影響を確実に除去
し得ることとなる。なお、上述の実施例では外乱の推定
をパルスモータ６に対する制御指令と、湯面レベル測定
値とに基づいて行ったが、スライディングゲート４の開
度実績値、又はステッピングシリンダ５のスプール位置
と湯面レベル測定値とに基づいて推定してもよい。
【００３４】
【発明の効果】以上の如く本発明にあっては、非定常バ
ルジングによって引き起こされる溶湯流量外乱を推定し
て補正することで湯面レベルの安定維持が可能となり、
鋳片品質を向上させ、欠陥の発生を制御出来て歩留まり
が大幅に向上し、鋳造速度の向上が図れ、生産性を向上
し得る優れた効果を奏する。
ルジングによって引き起こされる溶湯流量外乱を推定し
て補正することで湯面レベルの安定維持が可能となり、
鋳片品質を向上させ、欠陥の発生を制御出来て歩留まり
が大幅に向上し、鋳造速度の向上が図れ、生産性を向上
し得る優れた効果を奏する。
【図１】本発明に係る連続鋳造機の湯面レベル制御方法
を適用する連続鋳造設備の模式的断面図である。
を適用する連続鋳造設備の模式的断面図である。
【図２】本発明の制御内容を示すブロック線図である。
【図３】従来の外乱周波数の推定過程を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図４】従来の制御態様を示すブロック線図である。
【図５】従来の制御結果を示す説明図である。
１ タンディシュ ２ 鋳型 ３ スライディングゲート ４ 浸漬ノズル ５ ステッピングシリンダ ６ パルスモータ ７ コントローラ １１ 減算器 １２ ＰＩＤ調節計 １３ 加算器 １４ レベル制御系 １５ 外乱推定演算装置
Claims (1)
- 【請求項１】 湯面レベル目標値と、湯面レベル測定値
との偏差を解消すべく制御指令を求め、この制御指令を
鋳型への溶融金属の流入量を調節するアクチュエータに
付与するようにした連続鋳造機の湯面レベル制御方法に
おいて、 鋳型内湯面レベルを変動させる外乱を多周波の正弦波の
和とし、これを前記アクチュエータに対する制御指令又
はアクチュエータの動作実績値と、湯面レベル測定値と
を用いて推定し、この外乱推定値を用いて、前記外乱を
打消す補正信号を求め、この補正信号を前記制御指令に
対する補正量として前記アクチュエータに与えることを
特徴とする連続鋳造機の湯面レベル制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29157794A JPH08147044A (ja) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | 連続鋳造機の湯面レベル制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29157794A JPH08147044A (ja) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | 連続鋳造機の湯面レベル制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08147044A true JPH08147044A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=17770731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29157794A Pending JPH08147044A (ja) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | 連続鋳造機の湯面レベル制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08147044A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798061A1 (en) * | 1995-10-18 | 1997-10-01 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method for controlling the level of molten metal for a continuous casting machine |
| JPH10314911A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-12-02 | Nkk Corp | 連続鋳造機モールド内湯面レベル制御装置 |
| WO2000066293A1 (fr) * | 1999-04-28 | 2000-11-09 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Regulation du niveau de la surface du metal dans un moule en moulage continu |
| AT413023B (de) * | 1999-01-14 | 2005-10-15 | Sumitomo Heavy Industries | Vorrichtung zum regeln des metallspiegels in einer stranggusskokille |
-
1994
- 1994-11-25 JP JP29157794A patent/JPH08147044A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798061A1 (en) * | 1995-10-18 | 1997-10-01 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method for controlling the level of molten metal for a continuous casting machine |
| EP0798061A4 (en) * | 1995-10-18 | 1999-06-30 | Sumitomo Metal Ind | METHOD FOR MONITORING THE MELT LEVEL IN A CONTINUOUS CASTING PLANT |
| JPH10314911A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-12-02 | Nkk Corp | 連続鋳造機モールド内湯面レベル制御装置 |
| AT413023B (de) * | 1999-01-14 | 2005-10-15 | Sumitomo Heavy Industries | Vorrichtung zum regeln des metallspiegels in einer stranggusskokille |
| WO2000066293A1 (fr) * | 1999-04-28 | 2000-11-09 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Regulation du niveau de la surface du metal dans un moule en moulage continu |
| US6466001B2 (en) | 1999-04-28 | 2002-10-15 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method and apparatus for controlling the molten metal level in a mold in continuous casting |
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