JPH08139012A - 回路の製造方法及び露光装置 - Google Patents
回路の製造方法及び露光装置Info
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- JPH08139012A JPH08139012A JP7104823A JP10482395A JPH08139012A JP H08139012 A JPH08139012 A JP H08139012A JP 7104823 A JP7104823 A JP 7104823A JP 10482395 A JP10482395 A JP 10482395A JP H08139012 A JPH08139012 A JP H08139012A
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- Japan
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- image forming
- optical system
- meniscus
- exposure apparatus
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 微細な回路パターンの焼付けが可能な、反射
鏡より成る結像光学系を用いた、回路の製造方法及び露
光装置を得ること。 【構成】 反射鏡より成る結像光学系により回路パター
ンを被露光体上に結像せしめる工程を含む回路の製造方
法において、前記反射鏡より成る結像光学系の結像倍率
を縮小にし、結像倍率を縮小にした際に生じるコマ収差
を補正し、前記反射鏡より成る結像光学系により、前記
回路パターンの像を中間像面に形成した後で前記被露光
体上に再結像すること。
鏡より成る結像光学系を用いた、回路の製造方法及び露
光装置を得ること。 【構成】 反射鏡より成る結像光学系により回路パター
ンを被露光体上に結像せしめる工程を含む回路の製造方
法において、前記反射鏡より成る結像光学系の結像倍率
を縮小にし、結像倍率を縮小にした際に生じるコマ収差
を補正し、前記反射鏡より成る結像光学系により、前記
回路パターンの像を中間像面に形成した後で前記被露光
体上に再結像すること。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＩＣ、ＬＳＩ等の回路
の製造方法、及びＩＣ、ＬＳＩ等の回路を製造する際に
用いる露光装置に関する。
の製造方法、及びＩＣ、ＬＳＩ等の回路を製造する際に
用いる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より投影露光装置を用い、ＩＣ、Ｌ
ＳＩ等の集積回路のパターンをシリコンウエハーに焼付
ける為の反射型の軸外結像光学系が、例えば特開昭48-1
2039号公報「単位倍率の反射光学系」、特開昭52- 5544
号公報「反射光学系」、特開昭53- 100230号公報「環帯
視野光学系」、特開昭58- 219517号公報「挟角オフアク
シス光学装置」等で提案されている。
ＳＩ等の集積回路のパターンをシリコンウエハーに焼付
ける為の反射型の軸外結像光学系が、例えば特開昭48-1
2039号公報「単位倍率の反射光学系」、特開昭52- 5544
号公報「反射光学系」、特開昭53- 100230号公報「環帯
視野光学系」、特開昭58- 219517号公報「挟角オフアク
シス光学装置」等で提案されている。
【０００３】特開昭48-12039号公報や特開昭52- 5544号
公報では、凹面鏡と凸面鏡の２枚の反射鏡を曲率中心が
同心若しくは非同心となるようにし、かつ全系の結像倍
率が等倍になるようにして結像光学系を構成している。
公報では、凹面鏡と凸面鏡の２枚の反射鏡を曲率中心が
同心若しくは非同心となるようにし、かつ全系の結像倍
率が等倍になるようにして結像光学系を構成している。
【０００４】特開昭53- 100230号公報では凹面鏡と凸面
鏡の他に負の屈折力のメニスカス形状のレンズを用い光
学性能の向上を図っている。又特開昭58- 219517号公報
では反射系と屈折系を組み合わせて光学性能の向上を図
った結像倍率が等倍の反射屈折光学系を提案している。
鏡の他に負の屈折力のメニスカス形状のレンズを用い光
学性能の向上を図っている。又特開昭58- 219517号公報
では反射系と屈折系を組み合わせて光学性能の向上を図
った結像倍率が等倍の反射屈折光学系を提案している。
【０００５】この種の結像倍率が等倍の反射鏡より成る
結像光学系は、色収差や非対称性収差であるコマ収差や
歪曲収差が殆ど生じない構成となっている点で、回路パ
ターンの焼付け用の結像光学系として優れているが、結
像倍率が等倍である為、より微細な回路パターンを焼付
けるのは困難である。
結像光学系は、色収差や非対称性収差であるコマ収差や
歪曲収差が殆ど生じない構成となっている点で、回路パ
ターンの焼付け用の結像光学系として優れているが、結
像倍率が等倍である為、より微細な回路パターンを焼付
けるのは困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、より
微細な回路パターンの焼付けが可能な、反射鏡より成る
結像光学系を用いた、回路の製造方法及び露光装置を提
供することにある。
微細な回路パターンの焼付けが可能な、反射鏡より成る
結像光学系を用いた、回路の製造方法及び露光装置を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の回路の製造方法
は、反射鏡より成る結像光学系により回路パターンを被
露光体上に結像せしめる工程を含む回路の製造方法にお
いて、前記反射鏡より成る結像光学系の結像倍率を縮小
にし、結像倍率を縮小にした際に生じるコマ収差を補正
し、前記反射鏡より成る結像光学系により、前記回路パ
ターンの像を中間像面に形成した後で前記被露光体上に
再結像することを特徴としている。
は、反射鏡より成る結像光学系により回路パターンを被
露光体上に結像せしめる工程を含む回路の製造方法にお
いて、前記反射鏡より成る結像光学系の結像倍率を縮小
にし、結像倍率を縮小にした際に生じるコマ収差を補正
し、前記反射鏡より成る結像光学系により、前記回路パ
ターンの像を中間像面に形成した後で前記被露光体上に
再結像することを特徴としている。
【０００８】本発明の露光装置は、投影光学系によりマ
スクのパターンを被露光体上に投影する露光装置におい
て、前記投影光学系が縮小倍率を有し且つ反射鏡より成
る結像光学系と、前記反射鏡より成る結像光学系で生じ
るコマ収差を補正する補正手段とを備え、前記反射鏡よ
り成る結像光学系は、中間像面を有し、前記回路パター
ンの像を前記中間像面に形成した後で前記被露光体上に
再結像することを特徴としている。
スクのパターンを被露光体上に投影する露光装置におい
て、前記投影光学系が縮小倍率を有し且つ反射鏡より成
る結像光学系と、前記反射鏡より成る結像光学系で生じ
るコマ収差を補正する補正手段とを備え、前記反射鏡よ
り成る結像光学系は、中間像面を有し、前記回路パター
ンの像を前記中間像面に形成した後で前記被露光体上に
再結像することを特徴としている。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の反射鏡より成る結像光学系に
より回路パターンを被露光体上に結像せしめる工程の為
の露光装置の一実施例の光学系の概略図である。図２は
本発明の数値実施例の収差図である。収差図において
（Ａ）はサジタル像面、（Ｂ）はメリディオナル像面で
ある。図１の反射屈折光学系は物体側より順に同一方向
に曲率中心を有し、かつ同一光軸上に位置するように凹
面鏡Ｍ11、凸面鏡Ｍ12そして凹面鏡Ｍ13の３つの反射鏡
とメニスカス形状のレンズＬ11で第１結像系を構成し、
２つのメニスカス形状のレンズＬ21，Ｌ22、凹面鏡Ｍ21
そして２つのメニスカス形状のレンズＬ22′，Ｌ21′で
第２結像系を構成している。
より回路パターンを被露光体上に結像せしめる工程の為
の露光装置の一実施例の光学系の概略図である。図２は
本発明の数値実施例の収差図である。収差図において
（Ａ）はサジタル像面、（Ｂ）はメリディオナル像面で
ある。図１の反射屈折光学系は物体側より順に同一方向
に曲率中心を有し、かつ同一光軸上に位置するように凹
面鏡Ｍ11、凸面鏡Ｍ12そして凹面鏡Ｍ13の３つの反射鏡
とメニスカス形状のレンズＬ11で第１結像系を構成し、
２つのメニスカス形状のレンズＬ21，Ｌ22、凹面鏡Ｍ21
そして２つのメニスカス形状のレンズＬ22′，Ｌ21′で
第２結像系を構成している。
【００１０】そして、図中、光軸上方の所定領域内の軸
外物点Ｐからの光束を反射鏡Ｍ11，Ｍ12，Ｍ13の順で反
射させ、レンズＬ11を経た後、第１像点Ｐ1 ′に結像さ
せている。又第１像点Ｐ1 ′は第２結像系の物点Ｐ2 と
なり、物点Ｐ2 からの光束が２つのレンズＬ21，Ｌ22、
凹面鏡Ｍ21そして２つのレンズＬ22′，Ｌ21′を経て第
２像点Ｐ2 ′に結像するように構成している。
外物点Ｐからの光束を反射鏡Ｍ11，Ｍ12，Ｍ13の順で反
射させ、レンズＬ11を経た後、第１像点Ｐ1 ′に結像さ
せている。又第１像点Ｐ1 ′は第２結像系の物点Ｐ2 と
なり、物点Ｐ2 からの光束が２つのレンズＬ21，Ｌ22、
凹面鏡Ｍ21そして２つのレンズＬ22′，Ｌ21′を経て第
２像点Ｐ2 ′に結像するように構成している。
【００１１】本実施例では第１結像系を物点Ｐ1 からの
光束が凹面鏡Ｍ11、凸面鏡Ｍ12そして凹面鏡Ｍ13の、所
謂正、負、正の屈折力の３つの反射鏡とメニスカス形状
のレンズＬ11を通過した後に第１像点Ｐ1 ′に結像する
ように構成し、各反射鏡より発生する収差をバランス良
く補正している。
光束が凹面鏡Ｍ11、凸面鏡Ｍ12そして凹面鏡Ｍ13の、所
謂正、負、正の屈折力の３つの反射鏡とメニスカス形状
のレンズＬ11を通過した後に第１像点Ｐ1 ′に結像する
ように構成し、各反射鏡より発生する収差をバランス良
く補正している。
【００１２】特にメニスカス形状のレンズＬ11を凹面鏡
Ｍ13で反射した光束のみが透過するように配置すること
により、縮小系を構成する場合に多く発生する軸外収差
とコマ収差（非対称性収差）を良好に補正している。
Ｍ13で反射した光束のみが透過するように配置すること
により、縮小系を構成する場合に多く発生する軸外収差
とコマ収差（非対称性収差）を良好に補正している。
【００１３】又レンズＬ11で第２結像系に配置した屈折
系より生じる色収差を互いに打消し、第２結像系の収差
補正を容易にしている。
系より生じる色収差を互いに打消し、第２結像系の収差
補正を容易にしている。
【００１４】第２結像系を物点Ｐ2 からの光束がまず２
つのメニスカス形状のレンズＬ21，Ｌ22を通過し、凹面
鏡Ｍ21そして２つのメニスカス形状のレンズＬ22′，Ｌ
21′を通過した後、第２像点Ｐ2 ′に結像するよう構成
し、第１結像系での残存収差の補正及び色収差の補正を
良好に行っている。
つのメニスカス形状のレンズＬ21，Ｌ22を通過し、凹面
鏡Ｍ21そして２つのメニスカス形状のレンズＬ22′，Ｌ
21′を通過した後、第２像点Ｐ2 ′に結像するよう構成
し、第１結像系での残存収差の補正及び色収差の補正を
良好に行っている。
【００１５】特に各々のレンズの硝材を短波長（波長２
３０〜４００ｎｍ）側の透過率が良い石英ガラスのみで
構成したにもかかわらず、前述の如くレンズ形状を特定
することにより、後述する収差図に示す如く良好なる色
収差の補正を達成している。特に物点Ｐ2 からの光束を
２つのレンズＬ21，Ｌ22そして同じく２つのレンズ
Ｌ22′，Ｌ21′を介することにより口径比の拡大を図り
つつ全体的にコマ収差や軸外ハロー等の収差の発生量を
少なくすると共に第１結像系のレンズＬ11と共に色収差
の補正を良好に行っている。そして反射系を採用したに
もかかわらず、光束のケラレを極力少なくしている。
３０〜４００ｎｍ）側の透過率が良い石英ガラスのみで
構成したにもかかわらず、前述の如くレンズ形状を特定
することにより、後述する収差図に示す如く良好なる色
収差の補正を達成している。特に物点Ｐ2 からの光束を
２つのレンズＬ21，Ｌ22そして同じく２つのレンズ
Ｌ22′，Ｌ21′を介することにより口径比の拡大を図り
つつ全体的にコマ収差や軸外ハロー等の収差の発生量を
少なくすると共に第１結像系のレンズＬ11と共に色収差
の補正を良好に行っている。そして反射系を採用したに
もかかわらず、光束のケラレを極力少なくしている。
【００１６】本実施例では第１結像系の結像倍率を０．
１１倍、第２結像系の結像倍率を２．２６倍とし、全体
として０．２５倍の縮小系の反射屈折光学系を構成して
いる。
１１倍、第２結像系の結像倍率を２．２６倍とし、全体
として０．２５倍の縮小系の反射屈折光学系を構成して
いる。
【００１７】このように一方の結像系を拡大系、他方の
結像系を縮小系とし、全体的に縮小系となるように構成
することにより、各々の結像系で発生する軸外球面収
差、コマ収差、歪曲収差等の諸収差の補正を良好に行い
簡易な構成にもかかわらず大口径比の反射屈折光学系を
容易に達成している。
結像系を縮小系とし、全体的に縮小系となるように構成
することにより、各々の結像系で発生する軸外球面収
差、コマ収差、歪曲収差等の諸収差の補正を良好に行い
簡易な構成にもかかわらず大口径比の反射屈折光学系を
容易に達成している。
【００１８】尚、本実施例において軸外球面収差、コマ
収差そして色収差の補正を更に良好に行いより高解像力
の縮小系を達成するにはレンズＬ11を凹面鏡Ｍ13側に凹
面を向けたメニスカス形状のレンズで又レンズＬ21，Ｌ
22，Ｌ21′，Ｌ22′をいずれも凹面鏡Ｍ21側に凸面を向
けたメニスカス形状のレンズで構成するのが好ましい。
又レンズＬ11とレンズＬ21、レンズＬ21′を正の屈折
力、レンズＬ22、レンズＬ22′を負の屈折力のレンズで
構成するのが良好なる収差補正を達成するのに好まし
い。
収差そして色収差の補正を更に良好に行いより高解像力
の縮小系を達成するにはレンズＬ11を凹面鏡Ｍ13側に凹
面を向けたメニスカス形状のレンズで又レンズＬ21，Ｌ
22，Ｌ21′，Ｌ22′をいずれも凹面鏡Ｍ21側に凸面を向
けたメニスカス形状のレンズで構成するのが好ましい。
又レンズＬ11とレンズＬ21、レンズＬ21′を正の屈折
力、レンズＬ22、レンズＬ22′を負の屈折力のレンズで
構成するのが良好なる収差補正を達成するのに好まし
い。
【００１９】本実施例ではレンズＬ21とレンズＬ21′を
同一のレンズで、又レンズＬ22とレンズＬ22′を同一の
レンズで各々構成した場合を示したが、各レンズを別々
のレンズで構成しても良く、これによれば自由度が増
し、より良好に収差補正を達成することができる。又レ
ンズＬ11を２枚以上のメニスカス形状のレンズで構成し
ても本発明の目的を達成することができる。
同一のレンズで、又レンズＬ22とレンズＬ22′を同一の
レンズで各々構成した場合を示したが、各レンズを別々
のレンズで構成しても良く、これによれば自由度が増
し、より良好に収差補正を達成することができる。又レ
ンズＬ11を２枚以上のメニスカス形状のレンズで構成し
ても本発明の目的を達成することができる。
【００２０】又本実施例においては物点Ｐ1 からの主光
線が凸面鏡Ｍ12と凹面鏡Ｍ13との間及び凹面鏡Ｍ21とレ
ンズＬ22′との間で各々光軸と交わるように構成し、光
学系全体を小型にし、しかも光束のケラレを少なくしつ
つ高性能な反射屈折光学系を達成している。
線が凸面鏡Ｍ12と凹面鏡Ｍ13との間及び凹面鏡Ｍ21とレ
ンズＬ22′との間で各々光軸と交わるように構成し、光
学系全体を小型にし、しかも光束のケラレを少なくしつ
つ高性能な反射屈折光学系を達成している。
【００２１】本実施例では後述するように各レンズを同
一の硝材より構成した場合を示したが、短波長側での透
過率の良いＣａＦ2 等を用いても良い。
一の硝材より構成した場合を示したが、短波長側での透
過率の良いＣａＦ2 等を用いても良い。
【００２２】次に第１図に示す実施例の数値実施例を示
す。Ｒｉは物点Ｐ1 から光の進行順に数えて第ｉ番目の
反射鏡及びレンズ面の曲率半径、Ｄｉは物点Ｐ1 からの
光の進行順に数えて第ｉ番目と第ｉ＋１番目のレンズ厚
及び空気間隔、ＳｉＯ2 は石英ガラスである。空気間隔
及び屈折率は光の進行方向左方から右方に測ったときを
正、その逆を負として示している。
す。Ｒｉは物点Ｐ1 から光の進行順に数えて第ｉ番目の
反射鏡及びレンズ面の曲率半径、Ｄｉは物点Ｐ1 からの
光の進行順に数えて第ｉ番目と第ｉ＋１番目のレンズ厚
及び空気間隔、ＳｉＯ2 は石英ガラスである。空気間隔
及び屈折率は光の進行方向左方から右方に測ったときを
正、その逆を負として示している。
【００２３】 NA = 0.25 ，スリット幅 1.5mm ,倍率 1/4
【００２４】
【表１】
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、回路パターン等のパタ
ーンを反射鏡より成る結像光学系で縮小結像でき、しか
も当該結像光学系で生じるコマ収差を補正して鮮明な像
を生成するので、より微細なパターンを被露光体上に正
確に焼付けることが可能になり、よって、高い集積度を
持つＩＣ，ＬＳＩ等の供給にも役立つ。
ーンを反射鏡より成る結像光学系で縮小結像でき、しか
も当該結像光学系で生じるコマ収差を補正して鮮明な像
を生成するので、より微細なパターンを被露光体上に正
確に焼付けることが可能になり、よって、高い集積度を
持つＩＣ，ＬＳＩ等の供給にも役立つ。
【図１】 本発明の数値実施例の光学断面図
【図２】 本発明の数値実施例の収差図
Ｙ0 物高 Ｐ1 第１物点 Ｐ2 第２物点 Ｐ1 ′ 第１像点 Ｐ2 ′ 第２像点 Ｌ11， Ｌ21，Ｌ22， Ｌ21′， Ｌ22′ 補正手段
Claims (6)
- 【請求項１】 反射鏡より成る結像光学系により回路パ
ターンを被露光体上に結像せしめる工程を含む回路の製
造方法において、前記反射鏡より成る結像光学系の結像
倍率を縮小にし、結像倍率を縮小にした際に生じるコマ
収差を補正し、前記反射鏡より成る結像光学系により、
前記回路パターンの像を中間像面に形成した後で前記被
露光体上に再結像することを特徴とする回路の製造方
法。 - 【請求項２】 投影光学系によりマスクのパターンを被
露光体上に投影する露光装置において、前記投影光学系
が縮小倍率を有し且つ反射鏡より成る結像光学系と、前
記反射鏡より成る結像光学系で生じるコマ収差を補正す
る補正手段とを備え、前記反射鏡より成る結像光学系
は、中間像面を有し、前記回路パターンの像を前記中間
像面に形成した後で前記被露光体上に再結像することを
特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記補正手段が屈折光学系を含むことを
特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記反射鏡より成る結像光学系が第１，
第２の２つの結像系を順に配置して成り、前記第１結像
系により形成した物体の像を前記第２結像系により再結
像するよう前記第１，第２結像系が構成されていること
を特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記物体側から光の進行順に、前記第１
結像系が凹面鏡Ｍ11、凸面鏡Ｍ12、凹面鏡Ｍ13を有し、
前記第２結像系が凹面鏡Ｍ21を有することを特徴とする
請求項４記載の露光装置。 - 【請求項６】 前記物体側から光の進行順に、前記補正
手段が、メニスカス形状のレンズＬ11、メニスカス形状
の２つのレンズＬ21，Ｌ22、メニスカス形状の２つのレ
ンズＬ22′，Ｌ21′を有することを特徴とする請求項５
記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7104823A JP2565149B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 回路の製造方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7104823A JP2565149B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 回路の製造方法及び露光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59280573A Division JPS61156737A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 回路の製造方法及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08139012A true JPH08139012A (ja) | 1996-05-31 |
| JP2565149B2 JP2565149B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=14391126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7104823A Expired - Lifetime JP2565149B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 回路の製造方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2565149B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100674959B1 (ko) * | 2005-02-23 | 2007-01-26 | 삼성전자주식회사 | 비축상 프로젝션 광학계 및 이를 적용한 극자외선 리소그래피 장치 |
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| JPS5517197A (en) * | 1971-06-21 | 1980-02-06 | Perkin Elmer Corp | Optical system for transmitting image out of axis |
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-
1995
- 1995-04-05 JP JP7104823A patent/JP2565149B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2565149B2 (ja) | 1996-12-18 |
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