JPH08134103A - シロキサン含有プルラン及びその製造方法 - Google Patents

シロキサン含有プルラン及びその製造方法

Info

Publication number
JPH08134103A
JPH08134103A JP27378594A JP27378594A JPH08134103A JP H08134103 A JPH08134103 A JP H08134103A JP 27378594 A JP27378594 A JP 27378594A JP 27378594 A JP27378594 A JP 27378594A JP H08134103 A JPH08134103 A JP H08134103A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pullulan
group
organic group
siloxane
monovalent organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP27378594A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3009090B2 (ja
Inventor
Satoru Uchida
哲 内田
Akira Yamamoto
昭 山本
Ikuo Fukui
育生 福井
Mikio Endo
幹夫 遠藤
Hiroshi Umezawa
宏 梅沢
Shigehiro Nagura
茂広 名倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP6273785A priority Critical patent/JP3009090B2/ja
Priority to FR9513091A priority patent/FR2726564B1/fr
Priority to US08/551,807 priority patent/US5583244A/en
Publication of JPH08134103A publication Critical patent/JPH08134103A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3009090B2 publication Critical patent/JP3009090B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 プルランとシリコーン化合物の両方の性質を
兼備した安定なシロキサン含有プルランを提供する。 【構成】 一般式 で示される分子量が50,000〜10,000,000の置換シリルア
ルキルカルバミド酸プルラン、及び (I)プルランの水酸基と (II)一般式 で示されるイソシアネート基含有オルガノポリシロキサ
ンとを反応させることを特徴とする置換シリルアルキル
カルバミド酸プルランの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はシロキサン含有プルラ
ン、特にはプルランとシリコーンの両方の性質を兼備し
た新規で安定なシロキサン含有プルラン及びその製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プルランに有機ケイ素化合物を反応させ
て、その両者の特徴を生かした組成物を得るという試み
についての報告はいくつかなされているが、これには有
機ケイ素化合物の反応効率が悪く、また特開平5−1455
12号公報に開示されているトリメチルシリルプルランな
どのようにプルランに有機ケイ素化合物が含有されてい
るものは、水に対して不安定であるという問題点があ
り、さらに両者の特徴を生かした性能が発揮できないた
めに実用化に問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の問題
点を解決するためになされたものであり、プルランとシ
リコーン化合物の両方の性質を兼備した安定なシロキサ
ン含有プルランを提供することを課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規なシロキ
サン含有プルラン及びその製造方法に関するものであ
り、このシロキサン含有プルランは、一般式
【化3】 [ここにPL−はプルランのグルコース残基、R1 は炭
素数1〜8の1価有機基、R2 、R3 、R4 は各々炭素
数1〜8の1価有機基または−OSiR567 で示
されるシロキシ基(R5 、R6 、R7 は各々炭素数1〜
8の1価有機基)、nは1〜10の整数、aは0、1また
は2]で示される分子量が50,000〜10,000,000の置換シ
リルアルキルカルバミド酸プルランである。またこの化
合物の製造方法は(I)プルランの水酸基と(II)一般
【化4】 [ここにR1 は炭素数1〜8の1価有機基、R2 、R
3 、R4 は各々炭素数1〜8の1価有機基または−OS
iR567 で示されるシロキシ基(R5 、R6、R7
は各々炭素数1〜8の1価有機基)、nは1〜10の整
数、aは0、1または2]で示されるイソシアネート基
含有オルガノポリシロキサンとを反応させることを特徴
とするものである。
【0005】すなわち本発明者らは、プルランとシリコ
ーン化合物の両方の性質を兼備したシロキサン含有プル
ランを開発すべく種々検討した結果、プルランの水酸基
と前記の一般式(化2)で示されるイソシアネート基含
有オルガノポリシロキサンとを反応させると、このイソ
シアネート基含有オルガノポリシロキサンのイソシアネ
ート基が反応性の高いものであるため、プルランの水酸
基と効果的に反応して前記一般式(化1)で示される置
換シリルアルキルカルバミド酸プルランが容易に得られ
ることを見いだした。また本発明者らはこのようにして
得られた置換シリルアルキルカルバミド酸プルランが、
新規なもので、プルランが有する造膜性、強靭性、有機
ケイ素化合物の有する弾性、ガス透過性などの特徴を合
わせ持ち、各種有機溶剤にも溶けるので、ガス分離膜、
化粧品材料、接着剤、繊維処理剤などの原料として有用
なことを確認して本発明を完成させた。
【0006】本発明のシロキサン含有プルランは、
(I)プルランの水酸基と(II)一般式(化2)で示さ
れるイソシアネート基含有オルガノポリシロキサンを反
応させて得た置換シリルアルキルカルバミド酸プルラン
であるが、ここに使用するプルランとしては、分子量5
0,000〜10,000,000の範囲であればよく、目的とする用
途により適宜選ぶことが可能であるが、フィルム強度の
点からは、より高分子量のプルランを用いることが好ま
しい。このような高分子量プルランは、例えば、特開平
5−328988号公報に開示されているように、プルラン生
産菌であるオーレオバシディウム・プルランス(Aureo
basidium pullulans )を培養後、培養液を50〜75℃
で、0.3 〜3時間保持することにより得られる。
【0007】また、ここに使用されるイソシアネート基
含有オルガノポリシロキサンは、前記一般式(化2)で
示されるものである。このR1 、R2 、R3 、R4 、R
5 、R6 、R7 で示される炭素数1〜8の1価の有機基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などのシクロアルキル基;フェニル基などのアリール
基;ベンジル基などのアラルキル基;ビニル基、アリル
基などのアルケニル基;クロロメチル基、3,3,3−
トリフルオロプロピル基などの置換炭化水素基などが例
示され、このR1、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7
はそれぞれ同じでも異なってもよいが、いずれもメチ
ル基であることが好ましい。また、このR2 、R3 、R
4 は各々−OSiR567 で示されるシロキシ基で
あってもよいが、このシロキシ基としてはトリメチルシ
ロキシ基、エチルジメチルシロキシ基、フェニルジメチ
ルシロキシ基、ビニルジメチルシロキシ基、クロロメチ
ルジメチルシロキシ基、3,3,3−トリフルオロプロ
ピルジメチルシロキシ基などが例示される。
【0008】本発明のシロキサン含有プルランの製造方
法はプルランの水酸基とイソシアネート基含有オルガノ
ポリシロキサンとのウレタン結合生成反応によるもので
あるために、特別な反応条件や反応装置を用いる必要は
ないが、プルランとイソシアネート基含有オルガノポリ
シロキサンとの混合、反応効率、反応制御のためには溶
媒を使用することが好ましい。この溶媒としては酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどの
エステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン等のアミド類などが例示されるが、これらは単独で
も2種以上を混合して用いてもよい。
【0009】また、この反応はここに使用する溶媒の種
類によって異なるが、通常は20〜 150℃で1〜10時間と
すれば良く、この場合には触媒としてトリエチルアミ
ン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホリン等の
アミン類、ジラウリン酸ジ−n−ブチル錫、オレイン酸
第一錫等の有機金属化合物のようなウレタン結合形成に
際して用いられる公知の触媒を添加してもよい。反応終
了後は洗浄、乾燥すれば目的とするシロキサン含有プル
ランを得ることが出来る。本発明によるシロキサン含有
プルランの製造は上記のようにプルランの水酸基とイソ
シアネート基含有オルガノポリシロキサンとの反応によ
り行われるが、このイソシアネート基含有オルガノポリ
シロキサンとしては特にトリストリメチルシロキシシリ
ルプロピルイソシアネート(以下TMSIと略記する)
を用いることが好ましく、プルランとTMSIを反応さ
せればトリストリメチルシロキシシリルプロピルカルバ
ミド酸プルランを得ることができるが、これは式
【化5】 で示される。
【0010】なお、この場合に使用するTMSIの量は
プルランに含まれるグルコース単位当たりの3個の水酸
基への導入量によって変わるが、TMSIがこの水酸基
の2等量より多いとTMSIが無駄になるだけでなく、
生成するシロキサン含有プルランの生成が難しくなるの
で、プルランのグルコース単位当たりの水酸基の2当量
以下で、グルコース単位当たり 0.1モル以上とすること
がよい。
【0011】
【実施例】次に本発明の実施例をあげる。 実施例 プルラン[林原商事(株)製商品名PF−20]を 105℃
で2時間乾燥させたもの 10gとジラウリン酸ジ−n−ブ
チル錫1.2gを 300mlのN−メチルピロリドン中に 100℃
で溶解し、この温度で撹拌しながらTMSI 70.5gを滴
下し、 100〜 110℃で2時間撹拌反応させて反応を完結
させ、反応液を水 1,000ml中に撹拌しながら注ぎ、生じ
た析出物をろ別し、繰り返し水洗した後更にメタノール
による洗浄を繰り返し、乾燥したところ、生成物 58gが
得られた。この生成物のSi含有量は24.4重量%であっ
た。ついで、この生成物を元素分析、IR定性分析する
と共に13C−NMRによる物質同定を行ったところ、図
1及び表1に示したとおりの結果が得られ、これはトリ
ストリメチルシロキシシリルプロピルカルバミド酸プル
ランであることが確認された。次にこれをトルエンに溶
解し、キャスティング法で厚さ50μmのフィルムを作製
したところ、強靭で弾性に富んだフィルムが得られ、こ
のものの酸素透過係数が 1.4×10-8cm3(STP)・cm/cm2・se
c・cmHgであり、ガス分離膜として有用であることが判明
した。
【0012】
【表1】
【0013】
【発明の効果】本発明のシロキサン含有プルランは新規
物質で、これらはいずれもプルランとシリコーンの両方
の性質を兼備した安定なもので、ガス分離膜、化粧品材
料、接着剤、塗料などとして有用なものであり、前記の
製造方法によればこれに使用するイソシアネート基含有
オルガノポリシロキサンのイソシアネート基が反応性の
高いものであるため、プルランの水酸基と反応して目的
とするシロキサン含有プルランを容易にかつ効率よく得
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例で得られたトリストリメチルシ
ロキシシリルプロピルカルバミド酸プルランのIRスペ
クトルを示したものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福井 育生 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 遠藤 幹夫 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 梅沢 宏 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 名倉 茂広 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 [ここにPL−はプルランのグルコース残基、R1 は炭
    素数1〜8の1価有機基、R2 、R3 、R4 は各々炭素
    数1〜8の1価有機基または−OSiR567 で示
    されるシロキシ基(R5 、R6 、R7 は各々炭素数1〜
    8の1価有機基)、nは1〜10の整数、aは0、1また
    は2]で示される分子量が50,000〜10,000,000の置換シ
    リルアルキルカルバミド酸プルラン。
  2. 【請求項2】 nが3、R2 、R3 、R4 がメチル基で
    a=0である請求項1記載の置換シリルアルキルカルバ
    ミド酸プルラン。
  3. 【請求項3】(I)プルランの水酸基と (II)一般式 【化2】 [ここにR1 は炭素数1〜8の1価有機基、R2 、R
    3 、R4 は各々炭素数1〜8の1価有機基または−OS
    iR567 で示されるシロキシ基(R5 、R6、R7
    は各々炭素数1〜8の1価有機基)、nは1〜10の整
    数、aは0、1または2]で示されるイソシアネート基
    含有オルガノポリシロキサンとを反応させることを特徴
    とする置換シリルアルキルカルバミド酸プルランの製造
    方法。
  4. 【請求項4】 イソシアネート基含有オルガノポリシロ
    キサンがトリストリメチルシロキシシリルプロピルイソ
    シアネートである請求項3記載の置換シリルアルキルカ
    ルバミド酸プルランの製造方法。
JP6273785A 1994-11-08 1994-11-08 シロキサン含有プルラン及びその製造方法 Expired - Lifetime JP3009090B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6273785A JP3009090B2 (ja) 1994-11-08 1994-11-08 シロキサン含有プルラン及びその製造方法
FR9513091A FR2726564B1 (fr) 1994-11-08 1995-11-06 Pullulan contenant du siloxane et un procede pour la preparation de celui-ci
US08/551,807 US5583244A (en) 1994-11-08 1995-11-07 Siloxane-containing pullulan and method for the preparation thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6273785A JP3009090B2 (ja) 1994-11-08 1994-11-08 シロキサン含有プルラン及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08134103A true JPH08134103A (ja) 1996-05-28
JP3009090B2 JP3009090B2 (ja) 2000-02-14

Family

ID=17532555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6273785A Expired - Lifetime JP3009090B2 (ja) 1994-11-08 1994-11-08 シロキサン含有プルラン及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3009090B2 (ja)

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1029910A (ja) * 1996-05-16 1998-02-03 Shiseido Co Ltd 化粧料
JPH1029915A (ja) * 1996-05-16 1998-02-03 Shiseido Co Ltd 口紅組成物
WO1999056702A1 (fr) * 1998-04-30 1999-11-11 Shiseido Company, Ltd. Composition pour usage externe
JPH11349450A (ja) * 1998-06-01 1999-12-21 Shiseido Co Ltd 毛髪化粧料
US7208561B2 (en) 2001-11-13 2007-04-24 Dow Corning Toray Silicone, Co. Ltd. Saccharide residue-functional organopolysiloxanes and method for the preparation thereof
US7649087B2 (en) 2001-11-13 2010-01-19 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Saccharide residue-functional organopolycarbosiloxanes and method for the preparation thereof
EP2647366A2 (en) 2012-04-04 2013-10-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Cosmetic comprising a sugar compound obtained by reacting a saccharide, an isocyanate organopolysiloxane and a isocyanate organic compound
US8853372B2 (en) 2010-08-23 2014-10-07 Dow Corning Corporation Saccharide siloxanes stable in aqueous environments and methods for the preparation and use of such saccharide siloxanes
US8877216B2 (en) 2005-05-23 2014-11-04 Dow Corning Corporation Cosmetic and skin-care compositions comprising saccharide-siloxane copolymers
WO2014181747A1 (ja) 2013-05-09 2014-11-13 信越化学工業株式会社 油性増粘剤、増粘油性組成物及び化粧料
WO2014185275A1 (ja) 2013-05-13 2014-11-20 信越化学工業株式会社 油性化粧料
US8907026B2 (en) 2004-12-23 2014-12-09 Dow Corning Corporation Crosslinkable saccharide-siloxane compositions, and networks, coatings and articles formed therefrom
US8968773B2 (en) 2006-05-23 2015-03-03 Dow Corning Corporation Silicone film former for delivery of actives
JP5766910B2 (ja) * 2007-03-30 2015-08-19 片倉チッカリン株式会社 シリル化プルランの製造方法および乾燥方法
WO2016158012A1 (ja) * 2015-03-27 2016-10-06 株式会社マンダム 頭髪用油性組成物
EP3165256A1 (en) 2015-11-05 2017-05-10 Chromavis S.P.A. A decorative polish composition for nails and a method of decorating nails with the polish composition
US9988499B2 (en) 2014-04-21 2018-06-05 Dow Corning Toray Co., Ltd. Method for producing liquid high-purity sugar derivative-modified silicone or composition thereof
WO2021187306A1 (ja) 2020-03-18 2021-09-23 信越化学工業株式会社 化粧品組成物
WO2022259964A1 (ja) * 2021-06-08 2022-12-15 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン変性シクロデキストリン化合物及びこれを含有する化粧料
WO2023068123A1 (ja) 2021-10-22 2023-04-27 信越化学工業株式会社 シリコーン変性プルラン、該変性プルランを含む組成物、並びに化粧料

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8225606B2 (en) 2008-04-09 2012-07-24 Sustainx, Inc. Systems and methods for energy storage and recovery using rapid isothermal gas expansion and compression
US8359856B2 (en) 2008-04-09 2013-01-29 Sustainx Inc. Systems and methods for efficient pumping of high-pressure fluids for energy storage and recovery
US8240140B2 (en) 2008-04-09 2012-08-14 Sustainx, Inc. High-efficiency energy-conversion based on fluid expansion and compression
US8250863B2 (en) 2008-04-09 2012-08-28 Sustainx, Inc. Heat exchange with compressed gas in energy-storage systems
US8037678B2 (en) 2009-09-11 2011-10-18 Sustainx, Inc. Energy storage and generation systems and methods using coupled cylinder assemblies
US8677744B2 (en) 2008-04-09 2014-03-25 SustaioX, Inc. Fluid circulation in energy storage and recovery systems
US7958731B2 (en) 2009-01-20 2011-06-14 Sustainx, Inc. Systems and methods for combined thermal and compressed gas energy conversion systems
WO2009126784A2 (en) 2008-04-09 2009-10-15 Sustainx, Inc. Systems and methods for energy storage and recovery using compressed gas
US8474255B2 (en) 2008-04-09 2013-07-02 Sustainx, Inc. Forming liquid sprays in compressed-gas energy storage systems for effective heat exchange
US8479505B2 (en) 2008-04-09 2013-07-09 Sustainx, Inc. Systems and methods for reducing dead volume in compressed-gas energy storage systems
US8448433B2 (en) 2008-04-09 2013-05-28 Sustainx, Inc. Systems and methods for energy storage and recovery using gas expansion and compression
WO2009152141A2 (en) 2008-06-09 2009-12-17 Sustainx, Inc. System and method for rapid isothermal gas expansion and compression for energy storage
WO2010105155A2 (en) 2009-03-12 2010-09-16 Sustainx, Inc. Systems and methods for improving drivetrain efficiency for compressed gas energy storage
US8104274B2 (en) 2009-06-04 2012-01-31 Sustainx, Inc. Increased power in compressed-gas energy storage and recovery
US8171728B2 (en) 2010-04-08 2012-05-08 Sustainx, Inc. High-efficiency liquid heat exchange in compressed-gas energy storage systems
US8191362B2 (en) 2010-04-08 2012-06-05 Sustainx, Inc. Systems and methods for reducing dead volume in compressed-gas energy storage systems
US8234863B2 (en) 2010-05-14 2012-08-07 Sustainx, Inc. Forming liquid sprays in compressed-gas energy storage systems for effective heat exchange
US8495872B2 (en) 2010-08-20 2013-07-30 Sustainx, Inc. Energy storage and recovery utilizing low-pressure thermal conditioning for heat exchange with high-pressure gas
US8578708B2 (en) 2010-11-30 2013-11-12 Sustainx, Inc. Fluid-flow control in energy storage and recovery systems
CN103930654A (zh) 2011-05-17 2014-07-16 瑟斯特克斯有限公司 用于在压缩空气能量存储***中高效两相传热的***和方法
US20130091835A1 (en) 2011-10-14 2013-04-18 Sustainx, Inc. Dead-volume management in compressed-gas energy storage and recovery systems

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1029910A (ja) * 1996-05-16 1998-02-03 Shiseido Co Ltd 化粧料
JPH1029915A (ja) * 1996-05-16 1998-02-03 Shiseido Co Ltd 口紅組成物
WO1999056702A1 (fr) * 1998-04-30 1999-11-11 Shiseido Company, Ltd. Composition pour usage externe
US6703027B2 (en) 1998-04-30 2004-03-09 Shiseido Company, Ltd. Composition for external use
JPH11349450A (ja) * 1998-06-01 1999-12-21 Shiseido Co Ltd 毛髪化粧料
US7354982B2 (en) 2001-11-13 2008-04-08 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Saccaride residue-functional organopolysiloxanes and method for the preparation thereof
US7649087B2 (en) 2001-11-13 2010-01-19 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Saccharide residue-functional organopolycarbosiloxanes and method for the preparation thereof
US7208561B2 (en) 2001-11-13 2007-04-24 Dow Corning Toray Silicone, Co. Ltd. Saccharide residue-functional organopolysiloxanes and method for the preparation thereof
US8907026B2 (en) 2004-12-23 2014-12-09 Dow Corning Corporation Crosslinkable saccharide-siloxane compositions, and networks, coatings and articles formed therefrom
US8877216B2 (en) 2005-05-23 2014-11-04 Dow Corning Corporation Cosmetic and skin-care compositions comprising saccharide-siloxane copolymers
US8968773B2 (en) 2006-05-23 2015-03-03 Dow Corning Corporation Silicone film former for delivery of actives
JP5766910B2 (ja) * 2007-03-30 2015-08-19 片倉チッカリン株式会社 シリル化プルランの製造方法および乾燥方法
US8853372B2 (en) 2010-08-23 2014-10-07 Dow Corning Corporation Saccharide siloxanes stable in aqueous environments and methods for the preparation and use of such saccharide siloxanes
CN103356403A (zh) * 2012-04-04 2013-10-23 信越化学工业株式会社 化妆材料
JP2013216583A (ja) * 2012-04-04 2013-10-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 化粧料
CN103356403B (zh) * 2012-04-04 2017-07-28 信越化学工业株式会社 化妆材料
KR20130112784A (ko) 2012-04-04 2013-10-14 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 화장료
EP2647366A2 (en) 2012-04-04 2013-10-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Cosmetic comprising a sugar compound obtained by reacting a saccharide, an isocyanate organopolysiloxane and a isocyanate organic compound
EP2647366A3 (en) * 2012-04-04 2015-04-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Cosmetic comprising a sugar compound obtained by reacting a saccharide, an isocyanate organopolysiloxane and a isocyanate organic compound
US9023830B2 (en) 2012-04-04 2015-05-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Cosmetic
WO2014181747A1 (ja) 2013-05-09 2014-11-13 信越化学工業株式会社 油性増粘剤、増粘油性組成物及び化粧料
WO2014185275A1 (ja) 2013-05-13 2014-11-20 信越化学工業株式会社 油性化粧料
US9988499B2 (en) 2014-04-21 2018-06-05 Dow Corning Toray Co., Ltd. Method for producing liquid high-purity sugar derivative-modified silicone or composition thereof
WO2016158012A1 (ja) * 2015-03-27 2016-10-06 株式会社マンダム 頭髪用油性組成物
CN107072921A (zh) * 2015-03-27 2017-08-18 株式会社漫丹 头发用油性组合物
JPWO2016158012A1 (ja) * 2015-03-27 2017-09-14 株式会社マンダム 頭髪用油性組成物
CN107072921B (zh) * 2015-03-27 2020-09-25 株式会社漫丹 头发用油性组合物
EP3165256A1 (en) 2015-11-05 2017-05-10 Chromavis S.P.A. A decorative polish composition for nails and a method of decorating nails with the polish composition
WO2021187306A1 (ja) 2020-03-18 2021-09-23 信越化学工業株式会社 化粧品組成物
WO2022259964A1 (ja) * 2021-06-08 2022-12-15 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン変性シクロデキストリン化合物及びこれを含有する化粧料
WO2023068123A1 (ja) 2021-10-22 2023-04-27 信越化学工業株式会社 シリコーン変性プルラン、該変性プルランを含む組成物、並びに化粧料

Also Published As

Publication number Publication date
JP3009090B2 (ja) 2000-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3009090B2 (ja) シロキサン含有プルラン及びその製造方法
JP2594024B2 (ja) アリールアミノシラン末端キヤツプドウレタンのシーラント
US20040254325A1 (en) Organopolysiloxane/polyurea/polyurethane block copolymers
US6018011A (en) Polyorganosiloxanes with dialkoxyorganosiloxy end groups
CN101072782A (zh) 稳定性改进的高反应性α-氨甲基-烷氧基硅烷
JP2682571B2 (ja) シロキサン含有セルロース誘導体およびその製造方法
US5583244A (en) Siloxane-containing pullulan and method for the preparation thereof
CN107365395A (zh) 有机硅氧烷接枝聚乙烯醇系聚合物及其制造方法
CN102482422A (zh) 氟碳官能硅倍半氧烷的合成
JP3016543B2 (ja) シロキサン含有セルロース誘導体およびその製造方法
JPS60255822A (ja) 有機官能性オルガノポリシロキサンの製造方法
JP3410592B2 (ja) シロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料及びその製造方法
JP5226156B2 (ja) シロキサンコポリマーを含有する組成物
JP3009092B2 (ja) シロキサン含有プルラン及びその製造方法
JP2851498B2 (ja) 樹脂の改質方法
JPS6178801A (ja) 置換シリルプロピル基含有セルロ−ス誘導体の製造方法
WO2021181941A1 (ja) イソシアネート基含有有機ケイ素化合物及びイソシアネート基含有有機ケイ素化合物の製造方法
CN101151298A (zh) 多面体低聚倍半硅氧烷单体组装的方法
JP3440645B2 (ja) 多官能イソシアネートシロキサンによる樹脂の変性方法
Zhou et al. Hydrosilylation of m‐TMI: New siloxane based aliphatic polyisocynates
JPH0390090A (ja) 新規イミノシラン
JP3409481B2 (ja) 末端イソシアネートシロキサンによる樹脂の変性方法
JPH0234997B2 (ja)
JPH10324730A (ja) ポリウレタン樹脂反応物
JPH04252228A (ja) シリコーン含有エポキシ化合物及びその製法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081203

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091203

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101203

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101203

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111203

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111203

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121203

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131203

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term