JPH0812744A - 樹脂組成物およびプリプレグ - Google Patents

樹脂組成物およびプリプレグ

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JPH0812744A
JPH0812744A JP15189794A JP15189794A JPH0812744A JP H0812744 A JPH0812744 A JP H0812744A JP 15189794 A JP15189794 A JP 15189794A JP 15189794 A JP15189794 A JP 15189794A JP H0812744 A JPH0812744 A JP H0812744A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プリント配線基板の耐熱性および機械的特性
の向上を図ることのできる樹脂組成物およびプリプレグ
を提供する。 【構成】 エポキシ樹脂系にテトラブロムビスフェノー
ルA構造物を必須とし、3官能エポキシ樹脂,4官能エ
ポキシ樹脂およびスルホン含有エポキシ樹脂のうち少な
くとも1つを含み、その硬化促進剤としてビスイミダゾ
ール化合物を含有する樹脂組成物であり、さらにこの樹
脂組成物を全芳香族ポリアミド繊維基材に含浸、乾燥し
て形成したプリプレグであり、エポキシ樹脂系の架橋性
改善とその架橋性向上による樹脂の高ガラス転移温度化
と高温度域での弾性率低下率の減少、および全芳香族ポ
リアミド繊維基材との接着性の向上を達成し、プリント
配線基板の耐熱性および機械的特性の向上を図る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、各種電子機器に用い
られるプリント配線基板を構成する樹脂組成物およびプ
リプレグに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の高性能化が急速に進む
につれ、プリント配線板は増々高度な特性、機能および
経済性が要求されている。基板材料としてはこれまで、
電気絶縁性、強度、コスト等に優れたガラス繊維とエポ
キシ樹脂の組合せがほとんどを占めてきていたが、最近
の配線の高密度化やチップ実装の進展にともない、ガラ
ス繊維基材では対応できない局面が顕在化し、全芳香族
ポリアミド繊維を基材とする銅張積層板を作る試みが報
告されている(例えば特開昭60−52937号公報、
特開昭61−160500号公報、特開昭62−261
190号公報、特開昭62−273792号公報、特開
昭62−274688号公報、特開昭62−27468
9号公報等)。これらは、低膨張、低誘電率、軽量であ
るといった特徴を生かして、民生用電子機器をはじめ産
業用や軍需用などの用途に検討されている。この銅張積
層板は、エポキシ樹脂等の配合ワニスを全芳香族ポリア
ミド繊維からなる織物や紙、不織布などに含浸乾燥させ
て得られるプリプレグを複数枚積層形成することにより
得られる。
【0003】従来から銅張積層板用エポキシ樹脂組成と
しては、難燃性を得るためのテトラブロムビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンから得られる臭素化エポキシ
樹脂に耐熱性のオルソクレゾールノボラック型樹脂、硬
化剤としてジシアンジアミドなどを加えたものが多用さ
れてきた。しかし該エポキシ樹脂組成物はピール強度は
良好であるが耐熱性が低く、更に従来のブロム含有率
(エポキシ樹脂組成物の固形分対比約15〜18重量
%)のワニス(FR−4相当)を芳香族ポリアミド繊維
基材に対して含浸させた基板は、難燃性が劣りまた耐湿
ハンダ性も不良である。
【0004】これらの欠点を克服するために、まず難燃
性に着目してオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂の代わりにブロム化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂を用い、次に耐熱性を向上させるためにその配合量
を増大させると、耐熱性の向上はわずかであり同時にピ
ール強度が大幅に低下し、更に耐湿ハンダ性の向上は殆
どない。更に他の耐熱性の骨格を導入したり剛直な核を
数多く導入したり架橋密度を増大したりする方法によ
り、耐熱性だけはかなり向上させることができる。しか
し一方で難燃剤を加えると耐熱性、ピール強度、耐湿ハ
ンダ性等が低下するため、従来より難燃性を強化させつ
つ耐熱性を向上させ、かつピール強度や耐湿ハンダ性を
同時に向上させることは極めて困難であった。
【0005】また、硬化剤の方では、耐熱性と耐湿性を
有する硬化剤としてフェノールノボラック樹脂やオルソ
クレゾールノボラック樹脂、メタクレゾールノボラック
樹脂、パラクレゾールノボラック樹脂、レゾルシンノボ
ラック樹脂などのアルキルフェノールノボラック樹脂等
が用いられ、またエポキシ樹脂の硬化促進剤としては、
イミダゾール類またはイミダゾリン類がよく利用されて
いる。イミダゾール類としては、2−メチルイミダゾー
ル、2−エチルイミダゾール、4−メチルイミダゾー
ル、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデ
シルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾ
ール等が、イミダゾリン類としては2−エチル−4−メ
チルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2−
メチルイミダゾリン等がある。これらのノボラック樹脂
と硬化促進剤を上記各種のエポキシ樹脂の硬化剤として
使用した場合は、耐熱性および耐湿ハンダ性はかなり向
上するが、ピール強度が著しく低下してしまう。
【0006】したがってガラス繊維に比べて難燃性が低
くかつ吸水率が高い芳香族ポリアミド繊維を基材とする
基板においては、耐熱性とピール強度を向上させかつ高
度の難燃性や耐湿ハンダ性を付与するために、全く従来
と異なるエポキシ樹脂と硬化システムの開発が必要であ
った。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ノート
型パソコンやカメラ一体型VTR等、最近の電子機器や
電子部品の小型軽量化の流れの中でプリント板材料は、
薄物多層プリント板が積極的に用いられるようになっ
た。この薄物多層プリント板としての要求に対して従来
の構成では、耐湿耐熱性、寸法安定性および機械的強度
が低いという問題を有していた。すなわち薄物多層プリ
ント板は、その宿命として単位重量当りの表面積が大き
いため吸湿性が高いうえ、ハンダリフローによる熱衝撃
を、さらには機械的強度の低下をまねきやすく、一般の
多層プリント板に比べてハンダ耐熱性、反りや寸法変化
等に極めて不利な状態である。また、全芳香族ポリアミ
ド繊維基材とエポキシ樹脂間の接着力に関して、樹脂組
成面からの充分な検討がなされていないこともプリント
板の機械的強度低下の一要因となっていた。
【0008】この発明は、かかる従来の問題点を解消す
るもので、エポキシ樹脂系の架橋性改善とその架橋性向
上による樹脂の高ガラス転移温度化と高温度域での弾性
率低下率の減少、および全芳香族ポリアミド繊維基材と
の接着性の向上を達成し、プリント配線基板の耐熱性お
よび機械的特性の向上を図ることのできる樹脂組成物お
よびプリプレグを提供することを目的とするものであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1の樹脂組成物
は、エポキシ樹脂系にテトラブロムビスフェノールA構
造を含み、硬化促進剤としてビスイミダゾール化合物を
含むことを特徴とする。請求項2の樹脂組成物は、請求
項1の樹脂組成物において、エポキシ樹脂系が3官能エ
ポキシ樹脂を含んでいる。
【0010】請求項3の樹脂組成物は、請求項1の樹脂
組成物において、エポキシ樹脂系が4官能エポキシ樹脂
を含んでいる。請求項4の樹脂組成物は、請求項1の樹
脂組成物において、エポキシ樹脂系が(化1)で表され
るジオキシジフェニルスルホン構造含有エポキシ樹脂を
含んでいる。
【0011】請求項5の樹脂組成物は、請求項1の樹脂
組成物において、エポキシ樹脂系が(化2)で表される
テトラブロムジオキシジフェニルスルホン構造含有エポ
キシ樹脂を含んでいる。請求項6の樹脂組成物は、請求
項1の樹脂組成物において、ビスイミダゾール化合物の
一般式が(化3)で表されるカルボニルジイミダゾール
を含有する。
【0012】請求項7の樹脂組成物は、請求項1の樹脂
組成物において、ビスイミダゾール化合物の一般式が
(化4)で表される化合物を含有する。請求項8のプリ
プレグは、請求項1,2,3,4,5,6または7の樹
脂組成物を全芳香族ポリアミド繊維基材に含浸させてな
ることを特徴とする。請求項9のプリプレグは、請求項
8のプリプレグにおいて、全芳香族ポリアミド繊維基材
が15重量%以下のポリメタフェニレンイソフタラミド
を含むポリパラフェニレンテレフタラミド不織布であ
る。
【0013】請求項10のプリプレグは、請求項8のプ
リプレグにおいて、全芳香族ポリアミド繊維基材がコポ
リパラフェニレン・3.4’オキシジフェニレン・テレ
フタラミド不織布である。
【0014】
【作用】この発明は、エポキシ樹脂系にテトラブロムビ
スフェノールA構造物を必須とし、3官能エポキシ樹
脂,4官能エポキシ樹脂およびスルホン含有エポキシ樹
脂のうち少なくとも1つを含み、その硬化促進剤として
ビスイミダゾール化合物を含有する樹脂組成物であり、
さらにこの樹脂組成物を全芳香族ポリアミド繊維基材に
含浸、乾燥して形成したプリプレグである。3官能エポ
キシ樹脂,4官能エポキシ樹脂およびジオキシジフェニ
レンスルホン含有エポキシ樹脂のうち少なくとも1つを
含む組成物に対してビスイミダゾール化合物は、従来の
イミダゾール系と比較してエポキシ基の開環重合反応が
非常に優れているため、少量の添加で大きな硬化性を発
揮させる能力を有する。これより得られた硬化物は架橋
密度が大きく、かつ室温から高温状態での弾性率低下が
少ないほか、全芳香族ポリアミド繊維基材との接合強度
も大きいため、耐熱性や機械的強度等の向上作用があ
る。
【0015】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。この実
施例は、耐熱性、および機械的強度に大きく影響するエ
ポキシ樹脂組成系におけるエポキシ樹脂と硬化促進剤お
よび基材を規定したものである。 (実施例1)まず、下記に示す〜の材料を溶解混合
してワニスを調製する。なお実施例に示している部数
は、全て重量部を示している。 臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂 35.0部 (臭素量;23%,エポキシ等量;270) 3官能エポキシ樹脂 35.0部 (臭素量;23%,エポキシ等量;270) ノボラック型フェノール樹脂 30.0部 (水酸基等量;120) (化3)で表されるカルボニルジイミダゾール 0.1部 メチルエチルケトン 66.6部 つぎに、全芳香族ポリアミド繊維不織布(構造;ポリパ
ラフェニレンテレフタラミド,坪量;70g/m2 ,厚
さ;0.15mm)を基材とし、この基材に、プリプレ
グ状態で含浸樹脂量が50±1%になるようにワニスを
含浸させ、140℃で5分間乾燥し、プリプレグとし
た。このプリプレグの含浸樹脂量は50重量%、厚みは
0.15mmであった。しかる後、プリプレグの両面に
厚さ18μmの電解銅箔を積層し、熱圧着してプリント
配線基板を形成した。熱圧着は圧力50kg/cm2
温度180℃で60分間の条件で行った。
【0016】(実施例2)(実施例1)において用いた
3官能エポキシ樹脂の代わりに、4官能エポキシ樹脂を
用いた以外は(実施例1)と同様にしてワニスを得て、
それを用いてプリプレグおよびプリント配線基板を形成
した。 (実施例3)(実施例1)において用いた3官能エポキ
シ樹脂の代わりに、(化1)で表されるジオキシジフェ
ニルスルホン含有ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用
いた以外は(実施例1)と同様にしてワニスを得て、そ
れを用いてプリプレグおよびプリント配線基板を形成し
た。
【0017】(実施例4)(実施例1)において用いた
3官能エポキシ樹脂の代わりに、(化2)で表されるテ
トラブロムジオキシジフェニルスルホン含有ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂を用いた以外は(実施例1)と同
様にしてワニスを得て、それを用いてプリプレグおよび
プリント配線基板を形成した。
【0018】(実施例5)(実施例1)において用いた
カルボニルジイミダゾールの代わりに、(化4)で表さ
れる化合物を用いた以外は(実施例1)と同様にしてワ
ニスを得て、それを用いてプリプレグおよびプリント配
線基板を形成した。 (比較例1)(実施例1)において用いた3官能エポキ
シ樹脂の代わりに、2官能エポキシ樹脂を用いた以外は
(実施例1)と同様にしてワニスを得て、それを用いて
プリプレグおよびプリント配線基板を形成した。
【0019】(比較例2)(実施例1)において用いた
カルボニルジイミダゾールの代わりに、2−エチル−4
−メチルイミダゾールを用いた以外は(実施例1)と同
様にしてワニスを得て、それを用いてプリプレグおよび
プリント配線基板を形成した。 (実施例6)(実施例1)において用いたポリパラフェ
ニレンテレフタラミド構造の不織布基材の代わりに、1
5重量%のポリメタフェニレンイソフタラミドを含むポ
リパラフェニレンテレフェタラミド構造の布織布を用い
た以外は(実施例1)と同様にしてプリプレグおよびプ
リント配線基板を形成した。
【0020】(実施例7)(実施例1)において用いた
ポリパラフェニレンテレフタラミド構造の不織布基材の
代わりに、コポリパラフェニレン・3.4’オキシジフ
ェニレン・テレフタラミド構造の不織布を用いた以外は
(実施例1)と同様にしてプリプレグおよびプリント配
線基板を形成した。
【0021】以上の実施例および比較例で得られたプリ
ント配線基板に対し、銅箔引き剥し強度、ガラス転移温
度(Tg)、弾性率、ハンダリフローによる抵抗変化量
の測定を行い、その結果を表1に示す。なお、評価方法
はつぎの(1)〜(4)とした。 (1)ピール強度(kg/cm):JISC6481の
方法で測定した。 (2)ガラス転移温度(Tg;℃):銅箔をエッチング
後の基板をレオバイブロンにより測定しTanδのピー
ク値で表した。 (3)弾性率(kg/mm2 ):銅箔をエッチング後の
基板をレオバイブロンにより測定した20℃と250℃
での貯蔵弾性率値で表した。 (4)ハンダリフローによる抵抗変化量(mΩ):50
0穴の直列配線基板に260℃2分のハンダリフローを
10回施した後、電極間の抵抗を測定し、初期値からの
変化量で表した。
【0022】
【表1】
【0023】この実施例によれば、エポキシ樹脂系にテ
トラブロムビスフェノールA構造物を必須とし、3また
は4官能エポキシ樹脂あるいはスルホン含有エポキシ樹
脂を含み、その硬化促進剤としてビスイミダゾール化合
物を含有する樹脂組成物を、全芳香族ポリアミド繊維基
材に含浸、乾燥してプリプレグを形成し、このプリプレ
グを所要枚数積層し、その表面へ銅箔を重ねて加圧加熱
により一体に成形して銅張積層板とすることにより、次
の効果が得られる。 (イ)リフロー法による半田付け工程時の抵抗変化率が
小さい耐熱性に優れた配線基板を得ることができる。 (ロ)銅箔および全芳香族ポリアミド繊維基材との接着
力が大きい機械的特性の優れた配線基板を得ることがで
きる。
【0024】これは、3官能エポキシ樹脂,4官能エポ
キシ樹脂およびジオキシジフェニレンスルホン含有エポ
キシ樹脂のうち少なくとも1つを含む組成物に対してビ
スイミダゾール化合物は、従来のイミダゾール系と比較
してエポキシ基の開環重合反応が非常に優れているた
め、少量の添加で大きな硬化性を発揮させる能力を有す
る。そのため、これより得られた硬化物は架橋密度が大
きく、かつ室温から高温状態での弾性率低下が少ないほ
か、全芳香族ポリアミド繊維基材との接合強度も大きい
ため、耐熱性や機械的強度等の向上作用があることによ
る。
【0025】なお、テトラブロムビスフェノールA構造
物は、加熱により分子内の水酸基と臭素との脱臭素化分
解が生じ、発生した臭化水素による酸素遮蔽効果による
難燃機能を有している。なお、全芳香族ポリアミド繊維
基材として、ポリメタフェニレンイソフタラミドが15
重量%を超える構成の場合は、吸水性が大きくなり絶縁
性が確保されないため不適当であり、(実施例6)のよ
うに、ポリメタフェニレンイソフタラミドが15重量%
以下の構成の場合であればよい。
【0026】
【発明の効果】以上のようにこの発明は、エポキシ樹脂
系にテトラブロムビスフェノールA構造物を必須とし、
3官能エポキシ樹脂,4官能エポキシ樹脂およびスルホ
ン含有エポキシ樹脂のうち少なくとも1つを含み、その
硬化促進剤としてビスイミダゾール化合物を含有する樹
脂組成物であり、さらにこの樹脂組成物を全芳香族ポリ
アミド繊維基材に含浸、乾燥して形成したプリプレグで
ある。このプリプレグを所要枚数積層し、その表面へ銅
箔を重ねて加圧加熱により一体に成形して銅張積層板と
することにより、次の効果が得られる。 (イ)リフロー法による半田付け工程時の抵抗変化率が
小さい耐熱性に優れた配線基板を得ることができる。 (ロ)銅箔および全芳香族ポリアミド繊維基材との接着
力が大きい機械的特性の優れた配線基板を得ることがで
きる。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂系にテトラブロムビスフェ
    ノールA構造を含み、硬化促進剤としてビスイミダゾー
    ル化合物を含むことを特徴とする樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 エポキシ樹脂系が3官能エポキシ樹脂を
    含む請求項1の樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 エポキシ樹脂系が4官能エポキシ樹脂を
    含む請求項1の樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 エポキシ樹脂系が 【化1】 で表されるジオキシジフェニルスルホン構造含有エポキ
    シ樹脂を含む請求項1の樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 エポキシ樹脂系が 【化2】 で表されるテトラブロムジオキシジフェニルスルホン構
    造含有エポキシ樹脂を含む請求項1の樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 ビスイミダゾール化合物の一般式が 【化3】 で表されるカルボニルジイミダゾールを含有する請求項
    1の樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 ビスイミダゾール化合物の一般式が 【化4】 で表される化合物を含有する請求項1の樹脂組成物。
  8. 【請求項8】 請求項1,2,3,4,5,6または7
    の樹脂組成物を全芳香族ポリアミド繊維基材に含浸させ
    てなることを特徴とするプリプレグ。
  9. 【請求項9】 全芳香族ポリアミド繊維基材が15重量
    %以下のポリメタフェニレンイソフタラミドを含むポリ
    パラフェニレンテレフタラミド不織布である請求項8の
    プリプレグ。
  10. 【請求項10】 全芳香族ポリアミド繊維基材がコポリ
    パラフェニレン・3.4’オキシジフェニレン・テレフ
    タラミド不織布である請求項8のプリプレグ。
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