JPH08110294A - 高性能フィルタ検査装置 - Google Patents
高性能フィルタ検査装置Info
- Publication number
- JPH08110294A JPH08110294A JP27450394A JP27450394A JPH08110294A JP H08110294 A JPH08110294 A JP H08110294A JP 27450394 A JP27450394 A JP 27450394A JP 27450394 A JP27450394 A JP 27450394A JP H08110294 A JPH08110294 A JP H08110294A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来は、１０7 〜１０9ケ ／cf程度の高濃度塵
埃を１．２×０．６ｍ2の供試フィルタで７〜８分間浴
びせるため、多量の塵埃を要するだけでなく、供試フィ
ルタに多量に付着して検査後の清掃が容易でなく、塵埃
保持能力を低下させる。また、フィルタの高性能化に伴
い益々増大傾向にある。かかる問題点の解決を期する。 【構成】供試フィルタ１に対し、上流側で所定のテスト
塵埃を供給し、下流側でそのテスト塵埃の濃度を検出す
るよう構成した高性能フィルタ検査装置において、その
上流側にテスト塵埃吹出ノズル４を、また、下流側にサ
ンプリングプローブ５を、供試フィルタをあいだにして
少ない間隔で相互に対峙させるとともに、そのテスト塵
埃吹出ノズルとサンプリングプローブとに上記対峙を維
持させつつフィルタ全面にわたってスキャンニングさせ
る同期スキャンニング機構６，７を装備させた。
埃を１．２×０．６ｍ2の供試フィルタで７〜８分間浴
びせるため、多量の塵埃を要するだけでなく、供試フィ
ルタに多量に付着して検査後の清掃が容易でなく、塵埃
保持能力を低下させる。また、フィルタの高性能化に伴
い益々増大傾向にある。かかる問題点の解決を期する。 【構成】供試フィルタ１に対し、上流側で所定のテスト
塵埃を供給し、下流側でそのテスト塵埃の濃度を検出す
るよう構成した高性能フィルタ検査装置において、その
上流側にテスト塵埃吹出ノズル４を、また、下流側にサ
ンプリングプローブ５を、供試フィルタをあいだにして
少ない間隔で相互に対峙させるとともに、そのテスト塵
埃吹出ノズルとサンプリングプローブとに上記対峙を維
持させつつフィルタ全面にわたってスキャンニングさせ
る同期スキャンニング機構６，７を装備させた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、テスト塵埃の低減を可
能にして高性能フィルタ検査装置に関するものである。
能にして高性能フィルタ検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種高性能フィルタの検査では、
総合効率テストと個々の部位でのリークテストとが行わ
れるが、その間、供試フィルタには、検査・検出力向上
のため、人工的に作りだした高濃度のＤＯＰ（ジオ ク
チル フタレート）等の塵埃（高濃度負荷：１０7 〜１
０9 ケ ／cfクラス）を通過させながら検査している。
総合効率テストと個々の部位でのリークテストとが行わ
れるが、その間、供試フィルタには、検査・検出力向上
のため、人工的に作りだした高濃度のＤＯＰ（ジオ ク
チル フタレート）等の塵埃（高濃度負荷：１０7 〜１
０9 ケ ／cfクラス）を通過させながら検査している。
【０００３】従来の検査装置の基本的構成は、図２に示
すように、供試フィルタＡを着脱自在に装着する試験チ
ャンバーＢを設け、該試験チャンバーの上流側に、テス
ト塵埃吹出ノズルＣと上流サンプル取出口Ｄとを設け、
下流側に、下流サンプル取出口Ｅを設け、而して、その
テスト塵埃吹出ノズルＣへテスト塵埃作成装置Ｆで人工
的に作りだした上述の高濃度の塵埃を供給して試験チャ
ンバーＢの上流側に噴出させ、また、上流サンプル取出
口Ｄから上流サンプルを抽出して希釈装置Ｇで所定濃度
に希釈させた後、これをレーザスペクトロメータＨへ送
り、一方、下流サンプル取出口Ｅから下流サンプルを検
出して、これを上記レーザスペクトロメータＨへ送って
前記希釈上流サンプルと比較し、その比較データをマイ
クロコンピュータＩで演算し、データ出力Ｊを得るよう
になっている。上記テスト塵埃作成装置Ｆは、ファンF-
a により、ＨＥＰＡフィルタ（前処理フィルタ）F-b を
通して導入した外気を、オリフィスF-c と該オリフィス
の前後に接続した差圧計F-f とでその値を測定しつつ所
定風量に規制して上記試験チャンバーＢへと送風すると
ともに、その送風路にＤＯＰ発生器（テスト塵埃発生
器）F-d で発生させたＤＯＰスモーク（テスト塵埃）を
混入させるものである。なお、ＤＯＰ発生器F-d は、適
宜フィルタF-e を介して供給される圧縮空気により所要
のＤＯＰスモークを生ずるものである。
すように、供試フィルタＡを着脱自在に装着する試験チ
ャンバーＢを設け、該試験チャンバーの上流側に、テス
ト塵埃吹出ノズルＣと上流サンプル取出口Ｄとを設け、
下流側に、下流サンプル取出口Ｅを設け、而して、その
テスト塵埃吹出ノズルＣへテスト塵埃作成装置Ｆで人工
的に作りだした上述の高濃度の塵埃を供給して試験チャ
ンバーＢの上流側に噴出させ、また、上流サンプル取出
口Ｄから上流サンプルを抽出して希釈装置Ｇで所定濃度
に希釈させた後、これをレーザスペクトロメータＨへ送
り、一方、下流サンプル取出口Ｅから下流サンプルを検
出して、これを上記レーザスペクトロメータＨへ送って
前記希釈上流サンプルと比較し、その比較データをマイ
クロコンピュータＩで演算し、データ出力Ｊを得るよう
になっている。上記テスト塵埃作成装置Ｆは、ファンF-
a により、ＨＥＰＡフィルタ（前処理フィルタ）F-b を
通して導入した外気を、オリフィスF-c と該オリフィス
の前後に接続した差圧計F-f とでその値を測定しつつ所
定風量に規制して上記試験チャンバーＢへと送風すると
ともに、その送風路にＤＯＰ発生器（テスト塵埃発生
器）F-d で発生させたＤＯＰスモーク（テスト塵埃）を
混入させるものである。なお、ＤＯＰ発生器F-d は、適
宜フィルタF-e を介して供給される圧縮空気により所要
のＤＯＰスモークを生ずるものである。
【０００４】また、従来の検査装置には、自動化された
装置では図３に示すスキャンテスト装置がある。このス
キャンテスト装置は、上記基本的構成に加え、試験チャ
ンバーＢの下流側で、供試フィルタＡに接近させてサン
プルプローブE-a を配し、該サンプルプローブを自動ス
キャンニング装置E-b により供試フィルタ全面に対し５
cm間隔程度でスキャンニングさせてサンプリングするも
のであり、このサンプルプローブE-a からの下流サンプ
ルと上流サンプル取出口Ｄからの上流サンプルとをフォ
トメータＫに送って検査データを得るもの、又は、図２
に示すような出力手段により下流の空気の塵埃濃度が設
定限度を超える箇所を特定するものである。なお、F-g
は、ケーシング、F-h は、ダクト、F-i は、バタフライ
バルブ、F-J は、前記ＤＯＰ発生器F-d に付随するＤＯ
Ｐ原液びんである。
装置では図３に示すスキャンテスト装置がある。このス
キャンテスト装置は、上記基本的構成に加え、試験チャ
ンバーＢの下流側で、供試フィルタＡに接近させてサン
プルプローブE-a を配し、該サンプルプローブを自動ス
キャンニング装置E-b により供試フィルタ全面に対し５
cm間隔程度でスキャンニングさせてサンプリングするも
のであり、このサンプルプローブE-a からの下流サンプ
ルと上流サンプル取出口Ｄからの上流サンプルとをフォ
トメータＫに送って検査データを得るもの、又は、図２
に示すような出力手段により下流の空気の塵埃濃度が設
定限度を超える箇所を特定するものである。なお、F-g
は、ケーシング、F-h は、ダクト、F-i は、バタフライ
バルブ、F-J は、前記ＤＯＰ発生器F-d に付随するＤＯ
Ｐ原液びんである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、１．２×０．
６ｍ2の供試フィルタでもリーク測定のためには上述の
１０7 〜１０9 ケ ／cf程度の高濃度塵埃を７〜８分間浴
びせる必要があり、多量の塵埃を要するだけでなく、供
試フィルタに多量に付着して、検査後の清掃が容易でな
く、また、フィルタの塵埃保持能力を低下させる。そし
て、これらのことはフィルタの高性能化増進に伴い益々
増大する傾向にある。本発明は、かかる問題点を解決し
ようとするものである。
６ｍ2の供試フィルタでもリーク測定のためには上述の
１０7 〜１０9 ケ ／cf程度の高濃度塵埃を７〜８分間浴
びせる必要があり、多量の塵埃を要するだけでなく、供
試フィルタに多量に付着して、検査後の清掃が容易でな
く、また、フィルタの塵埃保持能力を低下させる。そし
て、これらのことはフィルタの高性能化増進に伴い益々
増大する傾向にある。本発明は、かかる問題点を解決し
ようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明は、供試フィルタに対し、上流側で所定のテスト塵
埃を供給し、下流側でそのテスト塵埃の濃度を検出する
よう構成した高性能フィルタ検査装置において、その上
流側にテスト塵埃吹出ノズルを、また、下流側にサンプ
リングプローブを、供試フィルタをあいだにして少ない
間隔で相互に対峙させるとともに、そのテスト塵埃吹出
ノズルとサンプリングプローブとに上記対峙を維持させ
つつフィルタ全面にわたってスキャンニングさせる同期
スキャンニング機構を装備させたことを特徴とする。
発明は、供試フィルタに対し、上流側で所定のテスト塵
埃を供給し、下流側でそのテスト塵埃の濃度を検出する
よう構成した高性能フィルタ検査装置において、その上
流側にテスト塵埃吹出ノズルを、また、下流側にサンプ
リングプローブを、供試フィルタをあいだにして少ない
間隔で相互に対峙させるとともに、そのテスト塵埃吹出
ノズルとサンプリングプローブとに上記対峙を維持させ
つつフィルタ全面にわたってスキャンニングさせる同期
スキャンニング機構を装備させたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】如上の構成であるから、検査に当たっては、同
期スキャンニング機構を作動させて、テスト塵埃吹出ノ
ズルとサンプリングプローブとを、その対峙を維持させ
つつ、共に供試フィルタ全面に対して走行させる。ま
た、この走行と同時に、テスト塵埃吹出ノズルから一定
のテスト塵埃を噴出させ、サンプリングプローブで供試
フィルタを通過した清浄化空気を捕らえて、該清浄化空
気の塵埃の濃度を検出する。
期スキャンニング機構を作動させて、テスト塵埃吹出ノ
ズルとサンプリングプローブとを、その対峙を維持させ
つつ、共に供試フィルタ全面に対して走行させる。ま
た、この走行と同時に、テスト塵埃吹出ノズルから一定
のテスト塵埃を噴出させ、サンプリングプローブで供試
フィルタを通過した清浄化空気を捕らえて、該清浄化空
気の塵埃の濃度を検出する。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明の高性能フィルタ検査装置の
実施例を示している。図１において、１は、供試フィル
タ、２は、フィルタ寸法に合わせて複数の枠体を取り付
け得るようにした機枠、３は、該機枠の上部に設けた試
験チャンバーで、供試フィルタ１をその側面に着脱自在
に取り付け得るよう構成している。４は、上記試験チャ
ンバーの上流部31内に可動に配したテスト塵埃吹出ノズ
ル、５は、その下流部32に可動に配したサンプリングプ
ルーブで、供試フィルタ１をあいだにして少ない間隔で
相互に対峙させている。６，７は、上記テスト塵埃吹出
ノズル４とサンプリングプローブ５とに上記対峙を維持
させつつフィルタ全面にわたって座標軸Ｘ−Ｙにスキャ
ンニングさせる同期スキャンニング機構であり、該同期
スキャンニング機構は、機械的又は電気的に連動するも
のである。８は、上記試験チャンバー３の上流部31の上
流に連ねた送風チャンバー、９は、該送風チャンバーの
上流に連ねたファン、10は、該ファンの上流に連ねた前
処理フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）である。11は、上記
試験チャンバーの上流部31乃至上記送風チャンバー８に
付設し、前記テスト塵埃吹出ノズル４の上流にフレキシ
ブルホース12を介して連通させたテスト塵埃濃度確認チ
ャンバー、13は、該テスト塵埃濃度確認チャンバーの上
流に連ねたラスキンノズル型ＤＯＰ発生器（テスト塵埃
発生器）であり、該ＤＯＰ発生器は、外部からの圧縮空
気を導入してテスト塵埃を作成し、これをその圧縮空気
の圧力で前記テスト塵埃濃度確認チャンバー11及びフレ
キシブルホース12を介して上記テスト塵埃吹出ノズル４
へと供給し、該テスト塵埃吹出ノズルから噴出させる。
14は、上記サンプリングプローブ５の下流にフレキシブ
ルホース15を介して連ね、そのサンプリングプローブ５
から下流サンプルを吸入して塵埃濃度を数値的に検出す
る微粒子計測器、16は、該微粒子計測器からの出力と前
記テスト塵埃濃度確認チャンバー11での確認値とから検
査データを演算するコンピュータ、17は、該コンピュー
タの検査データを印字するプリンタである。
実施例を示している。図１において、１は、供試フィル
タ、２は、フィルタ寸法に合わせて複数の枠体を取り付
け得るようにした機枠、３は、該機枠の上部に設けた試
験チャンバーで、供試フィルタ１をその側面に着脱自在
に取り付け得るよう構成している。４は、上記試験チャ
ンバーの上流部31内に可動に配したテスト塵埃吹出ノズ
ル、５は、その下流部32に可動に配したサンプリングプ
ルーブで、供試フィルタ１をあいだにして少ない間隔で
相互に対峙させている。６，７は、上記テスト塵埃吹出
ノズル４とサンプリングプローブ５とに上記対峙を維持
させつつフィルタ全面にわたって座標軸Ｘ−Ｙにスキャ
ンニングさせる同期スキャンニング機構であり、該同期
スキャンニング機構は、機械的又は電気的に連動するも
のである。８は、上記試験チャンバー３の上流部31の上
流に連ねた送風チャンバー、９は、該送風チャンバーの
上流に連ねたファン、10は、該ファンの上流に連ねた前
処理フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）である。11は、上記
試験チャンバーの上流部31乃至上記送風チャンバー８に
付設し、前記テスト塵埃吹出ノズル４の上流にフレキシ
ブルホース12を介して連通させたテスト塵埃濃度確認チ
ャンバー、13は、該テスト塵埃濃度確認チャンバーの上
流に連ねたラスキンノズル型ＤＯＰ発生器（テスト塵埃
発生器）であり、該ＤＯＰ発生器は、外部からの圧縮空
気を導入してテスト塵埃を作成し、これをその圧縮空気
の圧力で前記テスト塵埃濃度確認チャンバー11及びフレ
キシブルホース12を介して上記テスト塵埃吹出ノズル４
へと供給し、該テスト塵埃吹出ノズルから噴出させる。
14は、上記サンプリングプローブ５の下流にフレキシブ
ルホース15を介して連ね、そのサンプリングプローブ５
から下流サンプルを吸入して塵埃濃度を数値的に検出す
る微粒子計測器、16は、該微粒子計測器からの出力と前
記テスト塵埃濃度確認チャンバー11での確認値とから検
査データを演算するコンピュータ、17は、該コンピュー
タの検査データを印字するプリンタである。
【０００９】如上の構成であり、検査に当たっては、供
試フィルタ１を試験チャンバー３の上流部31と下流部32
との中間に介入させ、ファン９を働かせて、外気を前処
理フィルタ10で清浄化させて導入し、送風チャンバー７
から試験チャンバー３の上流部31へ供給し、供試フィル
タ１に全面的にかつ各部均一に通過させ、試験チャンバ
ー３の下流部32から外へと放出させる。また、同期スキ
ャンニング機構６，７を働かせて、対峙するテスト塵埃
吹出ノズル４とサンプリングプローブ５とを供試フィル
タ１の全面に対し等速で同期スキャンニングさせ、その
間、供試フィルタ１の上流側において、圧縮空気により
ＤＯＰ発生器13で発生させた所定濃度のテスト塵埃を、
テスト塵埃濃度確認チャンバー11にてその濃度を確認し
つつテスト塵埃吹出ノズル４から噴出させて、供試フィ
ルタ１の各所へ点的に浴びせ、かつ、供試フィルタ１の
下流側において、サンプリングプローブ５で供試フィル
タ１を通過した下流サンプルを捕らえて、その塵埃濃度
を微粒子計測器で数値的に検出し、該検出出力とテスト
塵埃濃度確認チャンバー11での確認値とからコンピュー
タ16で検査データを演算し、その検査データをプリンタ
17で印字する。
試フィルタ１を試験チャンバー３の上流部31と下流部32
との中間に介入させ、ファン９を働かせて、外気を前処
理フィルタ10で清浄化させて導入し、送風チャンバー７
から試験チャンバー３の上流部31へ供給し、供試フィル
タ１に全面的にかつ各部均一に通過させ、試験チャンバ
ー３の下流部32から外へと放出させる。また、同期スキ
ャンニング機構６，７を働かせて、対峙するテスト塵埃
吹出ノズル４とサンプリングプローブ５とを供試フィル
タ１の全面に対し等速で同期スキャンニングさせ、その
間、供試フィルタ１の上流側において、圧縮空気により
ＤＯＰ発生器13で発生させた所定濃度のテスト塵埃を、
テスト塵埃濃度確認チャンバー11にてその濃度を確認し
つつテスト塵埃吹出ノズル４から噴出させて、供試フィ
ルタ１の各所へ点的に浴びせ、かつ、供試フィルタ１の
下流側において、サンプリングプローブ５で供試フィル
タ１を通過した下流サンプルを捕らえて、その塵埃濃度
を微粒子計測器で数値的に検出し、該検出出力とテスト
塵埃濃度確認チャンバー11での確認値とからコンピュー
タ16で検査データを演算し、その検査データをプリンタ
17で印字する。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、供試フィルタをあいだ
にして、その上流側にテスト塵埃吹出ノズルを、また、
下流側にサンプリングプローブを、少ない間隔で相互に
対峙させるとともに、両者にその対峙を維持させつつフ
ィルタ全面にわたってスキャンニングさせる同期スキャ
ンニング機構を装備させているので、上流側では、下流
側のサンプリングプローブに対応させてテスト塵埃吹出
ノズルから部分的にテスト塵埃を噴出させることがで
き、したがって、例えば、１．２×０．６ｍ2の供試フ
ィルタで、従来、 1０7 〜１０9 ケ ／cf程度の高濃度塵
埃を供試フィルタ全面に７〜８分間浴びせる必要があっ
たのを、個々のポイントにおいて１０秒程度浴びせれば
よくなり、検査効率を格段に向上させることができ、し
かも、検査のために供試フィルタに付着させるテスト塵
埃の量を大幅に縮減でき、検査後の清掃を容易にするこ
とができ、フィルタの塵埃保持能力の低下を最小限に押
さえることができる。而して、これにより、フィルタの
高性能化増進に伴うテスト塵埃の益々の高濃度化、検査
速度の低下による全負荷量の増加にも対処できる。
にして、その上流側にテスト塵埃吹出ノズルを、また、
下流側にサンプリングプローブを、少ない間隔で相互に
対峙させるとともに、両者にその対峙を維持させつつフ
ィルタ全面にわたってスキャンニングさせる同期スキャ
ンニング機構を装備させているので、上流側では、下流
側のサンプリングプローブに対応させてテスト塵埃吹出
ノズルから部分的にテスト塵埃を噴出させることがで
き、したがって、例えば、１．２×０．６ｍ2の供試フ
ィルタで、従来、 1０7 〜１０9 ケ ／cf程度の高濃度塵
埃を供試フィルタ全面に７〜８分間浴びせる必要があっ
たのを、個々のポイントにおいて１０秒程度浴びせれば
よくなり、検査効率を格段に向上させることができ、し
かも、検査のために供試フィルタに付着させるテスト塵
埃の量を大幅に縮減でき、検査後の清掃を容易にするこ
とができ、フィルタの塵埃保持能力の低下を最小限に押
さえることができる。而して、これにより、フィルタの
高性能化増進に伴うテスト塵埃の益々の高濃度化、検査
速度の低下による全負荷量の増加にも対処できる。
【図１】 本発明の高性能フィルタ検査装置に係る実施
例を示す側面図である。
例を示す側面図である。
【図２】 従来の高性能フィルタ検査装置に係る基本的
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
【図３】 従来の高性能フィルタ検査装置の具体的一例
を示す構成要領説明図である。
を示す構成要領説明図である。
１…供試フィルタ ２…機枠 ３…試験チャンバー 31…上流部 32…下流部 ４…テスト塵埃吹出ノズル ５…サンプリング
プルーブ ６，７…同期スキャンニング機構 ８…送風チャンバ
ー ９…ファン 10…前処理フィル
タ 11…テスト塵埃濃度確認チャンバー 12…フレキシブル
ホース 13…ＤＯＰ発生器 14…微粒子計測器 15…フレキシブルホース 16…コンピュータ 17…プリンタ Ａ…供試フィルタ Ｂ…試験チャンバ
ー Ｃ…テスト塵埃吹出ノズル Ｄ…上流サンプル
取出口 Ｅ…下流サンプル取出口 Ｆ…テスト塵埃作成装置 F-a …ファン F-b …ＨＥＰＡフィルタ F-c …オリフィス F-d …ＤＯＰ発生器 F-e …フィルタ F-f …差圧計 F-g …ケーシング F-h …ダクト F-i …バタフライ
バルブ Ｇ…希釈装置 Ｈ…レーザスペク
トロメータ Ｉ…マイクロコンピュータ Ｊ…データ出力 Ｋ…フォトメータ
プルーブ ６，７…同期スキャンニング機構 ８…送風チャンバ
ー ９…ファン 10…前処理フィル
タ 11…テスト塵埃濃度確認チャンバー 12…フレキシブル
ホース 13…ＤＯＰ発生器 14…微粒子計測器 15…フレキシブルホース 16…コンピュータ 17…プリンタ Ａ…供試フィルタ Ｂ…試験チャンバ
ー Ｃ…テスト塵埃吹出ノズル Ｄ…上流サンプル
取出口 Ｅ…下流サンプル取出口 Ｆ…テスト塵埃作成装置 F-a …ファン F-b …ＨＥＰＡフィルタ F-c …オリフィス F-d …ＤＯＰ発生器 F-e …フィルタ F-f …差圧計 F-g …ケーシング F-h …ダクト F-i …バタフライ
バルブ Ｇ…希釈装置 Ｈ…レーザスペク
トロメータ Ｉ…マイクロコンピュータ Ｊ…データ出力 Ｋ…フォトメータ
Claims (1)
- 【請求項１】 供試フィルタに対し、上流側で所定のテ
スト塵埃を供給し、下流側でそのテスト塵埃の濃度を検
出するよう構成した高性能フィルタ検査装置において、
その上流側にテスト塵埃吹出ノズルを、また、下流側に
サンプリングプローブを、供試フィルタをあいだにして
少ない間隔で相互に対峙させるとともに、そのテスト塵
埃吹出ノズルとサンプリングプローブとに上記対峙を維
持させつつフィルタ全面にわたってスキャンニングさせ
る同期スキャンニング機構を装備させたことを特徴とす
る高性能フィルタ検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27450394A JP3323336B2 (ja) | 1994-10-12 | 1994-10-12 | 高性能フィルタ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27450394A JP3323336B2 (ja) | 1994-10-12 | 1994-10-12 | 高性能フィルタ検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08110294A true JPH08110294A (ja) | 1996-04-30 |
| JP3323336B2 JP3323336B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=17542607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27450394A Expired - Fee Related JP3323336B2 (ja) | 1994-10-12 | 1994-10-12 | 高性能フィルタ検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3323336B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002214115A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 空気浄化装置及びその試験システム |
| KR100621610B1 (ko) * | 1999-05-10 | 2006-09-06 | 삼성전자주식회사 | 필터 테스트용 시뮬레이션 장치 |
| JP2006275983A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nippon Muki Co Ltd | フィルタ検査装置 |
| JP2013002922A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Nippon Muki Co Ltd | 空気浄化装置およびその試験システム |
| KR101244070B1 (ko) * | 2010-07-09 | 2013-03-18 | (주)엘지하우시스 | 차량용 필터의 성능 비교체험 키트 |
| JP2013200176A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Asahi Kogyosha Co Ltd | 排気用フィルタユニット群のフィルタ検査システム及び排気用フィルタユニット |
| JP2015121561A (ja) * | 2015-03-20 | 2015-07-02 | 日本無機株式会社 | 空気浄化装置およびその試験システム |
| CN106018235A (zh) * | 2016-05-20 | 2016-10-12 | 广州纤维产品检测研究院 | 一种口罩的防护效果测试仓室及测试方法 |
| KR20230060556A (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-08 | 한국산업기술시험원 | 유해가스 필터 성능평가장치 |
-
1994
- 1994-10-12 JP JP27450394A patent/JP3323336B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100621610B1 (ko) * | 1999-05-10 | 2006-09-06 | 삼성전자주식회사 | 필터 테스트용 시뮬레이션 장치 |
| JP2002214115A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 空気浄化装置及びその試験システム |
| JP2006275983A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nippon Muki Co Ltd | フィルタ検査装置 |
| JP4579744B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2010-11-10 | 日本無機株式会社 | フィルタ検査装置 |
| KR101244070B1 (ko) * | 2010-07-09 | 2013-03-18 | (주)엘지하우시스 | 차량용 필터의 성능 비교체험 키트 |
| JP2013002922A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Nippon Muki Co Ltd | 空気浄化装置およびその試験システム |
| JP2013200176A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Asahi Kogyosha Co Ltd | 排気用フィルタユニット群のフィルタ検査システム及び排気用フィルタユニット |
| JP2015121561A (ja) * | 2015-03-20 | 2015-07-02 | 日本無機株式会社 | 空気浄化装置およびその試験システム |
| CN106018235A (zh) * | 2016-05-20 | 2016-10-12 | 广州纤维产品检测研究院 | 一种口罩的防护效果测试仓室及测试方法 |
| KR20230060556A (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-08 | 한국산업기술시험원 | 유해가스 필터 성능평가장치 |
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