JPH0798401A - 反射防止膜及び反射防止部材 - Google Patents
反射防止膜及び反射防止部材Info
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- JPH0798401A JPH0798401A JP5265807A JP26580793A JPH0798401A JP H0798401 A JPH0798401 A JP H0798401A JP 5265807 A JP5265807 A JP 5265807A JP 26580793 A JP26580793 A JP 26580793A JP H0798401 A JPH0798401 A JP H0798401A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射防止効果に優れて２層等の少ない重畳数
にて波長域を有する光に対しても優れた反射防止効果を
示すと共に量産性に優れ、汚染されにくくて汚染も落ち
やすく耐汚染性に優れて反射防止効果の持続性に優れる
反射防止膜及び反射防止部材を得ること。 【構成】 入射側表面に、高さ又は深さが４０〜２００
nmで、最大水平長が２００nm以下の山又は谷の多数で形
成された微細凹凸面を有する屈折率が１．４０以下のフ
ッ素含有層（１）を有する反射防止膜、及び前記の反射
防止膜を透明基材の少なくとも片側に有する反射防止部
材。
にて波長域を有する光に対しても優れた反射防止効果を
示すと共に量産性に優れ、汚染されにくくて汚染も落ち
やすく耐汚染性に優れて反射防止効果の持続性に優れる
反射防止膜及び反射防止部材を得ること。 【構成】 入射側表面に、高さ又は深さが４０〜２００
nmで、最大水平長が２００nm以下の山又は谷の多数で形
成された微細凹凸面を有する屈折率が１．４０以下のフ
ッ素含有層（１）を有する反射防止膜、及び前記の反射
防止膜を透明基材の少なくとも片側に有する反射防止部
材。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、量産性、耐汚染性に優
れて種々の視認装置等における波長域を有する光の反射
防止に好適な反射防止膜及びその反射防止部材に関す
る。
れて種々の視認装置等における波長域を有する光の反射
防止に好適な反射防止膜及びその反射防止部材に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、可視光の如く波長域を有する光に
対する反射防止膜としては、金属酸化物等の透明薄膜を
重畳させて多層膜としたものが知られていた。かかる多
層化は、単層膜では単一波長の光に対しては有効に反射
防止しうるものの波長域を有する光に対しては有効に反
射防止できないことにより、重畳層数を増すほど広い波
長域の反射防止に有効となる。そのため、例えば波長４
００〜７００nmの可視光域の反射防止には、入射側表面
をＳiＯ2等の金属酸化物層で形成した３層以上の重畳層
とすることが一般的であり、２層の場合には高精度な反
射防止を達成できないとされてきた。
対する反射防止膜としては、金属酸化物等の透明薄膜を
重畳させて多層膜としたものが知られていた。かかる多
層化は、単層膜では単一波長の光に対しては有効に反射
防止しうるものの波長域を有する光に対しては有効に反
射防止できないことにより、重畳層数を増すほど広い波
長域の反射防止に有効となる。そのため、例えば波長４
００〜７００nmの可視光域の反射防止には、入射側表面
をＳiＯ2等の金属酸化物層で形成した３層以上の重畳層
とすることが一般的であり、２層の場合には高精度な反
射防止を達成できないとされてきた。
【０００３】しかしながら、多層構造の反射防止膜の形
成には、重畳させる各薄膜の屈折率等を踏まえてその膜
厚を高精度に制御する高度な技術が要求され、そのため
重畳数を１層増すだけで多時間、多労力を要することと
なって製造効率を大きく低下させる問題点があった。ま
た入射側表面の金属酸化物層が指紋等で汚染されやす
く、その汚染で反射防止効果が著しく低下する問題点も
あった。
成には、重畳させる各薄膜の屈折率等を踏まえてその膜
厚を高精度に制御する高度な技術が要求され、そのため
重畳数を１層増すだけで多時間、多労力を要することと
なって製造効率を大きく低下させる問題点があった。ま
た入射側表面の金属酸化物層が指紋等で汚染されやす
く、その汚染で反射防止効果が著しく低下する問題点も
あった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、波長域を有
する光に対しても少ない重畳数にて優れた反射防止効果
を示すと共に量産性に優れ、耐汚染性にも優れて反射防
止効果の持続性に優れる反射防止膜及び反射防止部材を
得ることを課題とする。
する光に対しても少ない重畳数にて優れた反射防止効果
を示すと共に量産性に優れ、耐汚染性にも優れて反射防
止効果の持続性に優れる反射防止膜及び反射防止部材を
得ることを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、入射側表面
に、高さ又は深さが４０〜２００nmで、最大水平長が２
００nm以下の山又は谷の多数で形成された微細凹凸面を
有する屈折率が１．４０以下のフッ素含有層を有するこ
とを特徴とする反射防止膜、及び前記の反射防止膜を透
明基材の少なくとも片側に有することを特徴とする反射
防止部材を提供するものである。
に、高さ又は深さが４０〜２００nmで、最大水平長が２
００nm以下の山又は谷の多数で形成された微細凹凸面を
有する屈折率が１．４０以下のフッ素含有層を有するこ
とを特徴とする反射防止膜、及び前記の反射防止膜を透
明基材の少なくとも片側に有することを特徴とする反射
防止部材を提供するものである。
【０００６】
【作用】上記構成の微細凹凸面を有するフッ素含有層を
入射側表面とすることにより、表面に傾斜屈折率層と反
射光散乱面が形成されて高度に低反射率の反射防止膜が
得られる。そしてフッ素含有層の前記微細凹凸面を形成
するための球状微粒子の分散層と重畳させる程度の、量
産性に有利な少ない重畳構造によっても波長域を有する
光に対して満足できる反射防止効果を示す反射防止膜と
することができる。ちなみに前記重畳構造で波長４００
〜７００nmの可視光域において通例９８％以上の平均透
過率を達成することができる。また入射側表面にフッ素
含有層を有することより撥水性、撥油性等に優れて汚染
されにくく、また汚染が落ちやすくて耐汚染性に優れ、
反射防止効果を長期に持続させることができる。
入射側表面とすることにより、表面に傾斜屈折率層と反
射光散乱面が形成されて高度に低反射率の反射防止膜が
得られる。そしてフッ素含有層の前記微細凹凸面を形成
するための球状微粒子の分散層と重畳させる程度の、量
産性に有利な少ない重畳構造によっても波長域を有する
光に対して満足できる反射防止効果を示す反射防止膜と
することができる。ちなみに前記重畳構造で波長４００
〜７００nmの可視光域において通例９８％以上の平均透
過率を達成することができる。また入射側表面にフッ素
含有層を有することより撥水性、撥油性等に優れて汚染
されにくく、また汚染が落ちやすくて耐汚染性に優れ、
反射防止効果を長期に持続させることができる。
【０００７】
【実施例】本発明の反射防止膜は、高さ又は深さが４０
〜２００nmで、最大水平長が２００nm以下の山又は谷の
多数で形成された微細凹凸面を有する屈折率が１．４０
以下のフッ素含有層を入射側表面に少なくとも有するも
のである。その例を図１に示した。１がフッ素含有層で
ある。２は分散層で、２１はその球状微粒子であり、こ
れはフッ素含有層の微細凹凸面を形成するためのもので
ある。
〜２００nmで、最大水平長が２００nm以下の山又は谷の
多数で形成された微細凹凸面を有する屈折率が１．４０
以下のフッ素含有層を入射側表面に少なくとも有するも
のである。その例を図１に示した。１がフッ素含有層で
ある。２は分散層で、２１はその球状微粒子であり、こ
れはフッ素含有層の微細凹凸面を形成するためのもので
ある。
【０００８】本発明においてフッ素含有層は、その単層
で反射防止膜を形成する場合もあるし、波長域を有する
光の反射防止を目的に他の層との重畳物として反射防止
膜を形成する場合もあり、いずれの場合にあっても前記
のとおり反射防止膜の入射側表面を形成する層として設
けられる。
で反射防止膜を形成する場合もあるし、波長域を有する
光の反射防止を目的に他の層との重畳物として反射防止
膜を形成する場合もあり、いずれの場合にあっても前記
のとおり反射防止膜の入射側表面を形成する層として設
けられる。
【０００９】従ってフッ素含有層の厚さは、目的とする
反射防止膜の層構造に応じて適宜に決定されるが、一般
には低反射率の達成の点より単層の反射防止膜とする場
合、５〜２００nm、就中、目的の反射防止光の波長の１
／４の厚さ、２層の重畳構造の反射防止膜とする場合、
その波長域における中心波長の０．１〜０．６倍の光学
的膜厚とされる。なお前記の光学的膜厚は、屈折率と厚
さの積として定義される。
反射防止膜の層構造に応じて適宜に決定されるが、一般
には低反射率の達成の点より単層の反射防止膜とする場
合、５〜２００nm、就中、目的の反射防止光の波長の１
／４の厚さ、２層の重畳構造の反射防止膜とする場合、
その波長域における中心波長の０．１〜０．６倍の光学
的膜厚とされる。なお前記の光学的膜厚は、屈折率と厚
さの積として定義される。
【００１０】フッ素含有層の形成は、屈折率が１．４０
以下のフッ素含有化合物を用いて行うことができる。そ
の屈折率が１．４０を超える場合には目的の低反射率が
達成されにくい。好ましく用いうるフッ素含有化合物
は、屈折率が１．３６以下のものであり、また１００μ
m厚の場合に８０％以上の透過率を示しフッ素原子の含
有量が６０重量％以上のものである。
以下のフッ素含有化合物を用いて行うことができる。そ
の屈折率が１．４０を超える場合には目的の低反射率が
達成されにくい。好ましく用いうるフッ素含有化合物
は、屈折率が１．３６以下のものであり、また１００μ
m厚の場合に８０％以上の透過率を示しフッ素原子の含
有量が６０重量％以上のものである。
【００１１】好ましく用いうるフッ素含有化合物の例と
しては次のものなどがあげられる。 一般式（１）： （ただし、Ｒはフッ素原子、水素原子又は一価の炭化水
素基、ｎは１〜４０である。）で表され、フッ素原子の
含有量が６０重量％以上のフッ素含有化合物。
しては次のものなどがあげられる。 一般式（１）： （ただし、Ｒはフッ素原子、水素原子又は一価の炭化水
素基、ｎは１〜４０である。）で表され、フッ素原子の
含有量が６０重量％以上のフッ素含有化合物。
【００１２】式（イ）： で表される屈折率１．３８のフッ素含有化合物。
【００１３】上記した一般式（１）において、Ｒの全て
がフッ素原子からなるフッ素含有化合物は本発明におい
て特に好ましく用いうる。ちなみに、Ｒの全てがフッ素
原子で、そのｎが平均９．６個のものは、屈折率が１．
３４であり、下記の一般式（２）で表されるパーフルオ
ロ系溶媒等の溶媒に可溶である。
がフッ素原子からなるフッ素含有化合物は本発明におい
て特に好ましく用いうる。ちなみに、Ｒの全てがフッ素
原子で、そのｎが平均９．６個のものは、屈折率が１．
３４であり、下記の一般式（２）で表されるパーフルオ
ロ系溶媒等の溶媒に可溶である。
【００１４】一般式（２）： （ただし、ｎは２〜８である。）
【００１５】また上記した式（イ）で表されるフッ素含
有化合物もテトラヒドロフラン等に可溶であり、本発明
においては溶媒に可溶なフッ素含有化合物がディッピン
グ方式やスピンコート方式等の塗布方式で容易に薄膜を
形成でき、量産性等の点より好ましい。その場合、膜厚
制御等の点より溶液濃度は通例０．０１〜２０重量％と
されるがこれに限定するものではない。
有化合物もテトラヒドロフラン等に可溶であり、本発明
においては溶媒に可溶なフッ素含有化合物がディッピン
グ方式やスピンコート方式等の塗布方式で容易に薄膜を
形成でき、量産性等の点より好ましい。その場合、膜厚
制御等の点より溶液濃度は通例０．０１〜２０重量％と
されるがこれに限定するものではない。
【００１６】高さ又は深さが４０〜２００nmで、最大水
平長が２００nm以下、就中４０〜２００nmの山又は谷の
多数で形成された微細凹凸面を有するフッ素含有層の形
成は、例えばバフ方式、コロナ放電方式、イオンエッチ
ング方式などの適宜な表面粗面化方式、就中、微細加工
の表面粗面化方式で形成してもよいし、下層、就中、直
下層の表面を粗面化しその粗面をフッ素含有層に反映さ
せる方式で形成してもよい。その場合、粗面化対象の直
下層等の下層としては、反射防止膜を形成する重畳層の
内部層や、反射防止膜を付設するための基材などがあげ
られる。
平長が２００nm以下、就中４０〜２００nmの山又は谷の
多数で形成された微細凹凸面を有するフッ素含有層の形
成は、例えばバフ方式、コロナ放電方式、イオンエッチ
ング方式などの適宜な表面粗面化方式、就中、微細加工
の表面粗面化方式で形成してもよいし、下層、就中、直
下層の表面を粗面化しその粗面をフッ素含有層に反映さ
せる方式で形成してもよい。その場合、粗面化対象の直
下層等の下層としては、反射防止膜を形成する重畳層の
内部層や、反射防止膜を付設するための基材などがあげ
られる。
【００１７】前記した下層、就中、直下層の表面を粗面
化することによりフッ素含有層の表面を微細凹凸面とす
る方式において好ましい方式は、図１に例示の如く平均
粒径が２００nm以下、就中４０〜２００nmの球状微粒子
２１の分散層２を形成し、それに基づいてフッ素含有層
１の表面を微細凹凸化する方式である（特開平３−１５
０５０１公報）。かかる方式によれば、ディッピング方
式やスプレー方式等のコーティング方式で球状微粒子の
粒径よりも薄いフッ素含有層を形成し、球状微粒子とフ
ッ素含有層が複合ないし重畳した層を形成することで容
易に目的の微細凹凸面を得ることができる。なお球状微
粒子は、エチルシリケートやポリマー等からなる適宜な
バインダでその分散状態が固定されていることが好まし
い。
化することによりフッ素含有層の表面を微細凹凸面とす
る方式において好ましい方式は、図１に例示の如く平均
粒径が２００nm以下、就中４０〜２００nmの球状微粒子
２１の分散層２を形成し、それに基づいてフッ素含有層
１の表面を微細凹凸化する方式である（特開平３−１５
０５０１公報）。かかる方式によれば、ディッピング方
式やスプレー方式等のコーティング方式で球状微粒子の
粒径よりも薄いフッ素含有層を形成し、球状微粒子とフ
ッ素含有層が複合ないし重畳した層を形成することで容
易に目的の微細凹凸面を得ることができる。なお球状微
粒子は、エチルシリケートやポリマー等からなる適宜な
バインダでその分散状態が固定されていることが好まし
い。
【００１８】前記の球状微粒子としては、セラミック等
の無機物やプラスチック等の有機物からなる種々の微粒
子を用いることができる。好ましく用いうる微粒子は、
硬質で可及的に球状であり、透明膜に分散させた場合に
透明性に優れるものである。その例としては、シリカ、
アルミナ、チタニア、ジルコニアなどからなる微粒子が
あげられる。
の無機物やプラスチック等の有機物からなる種々の微粒
子を用いることができる。好ましく用いうる微粒子は、
硬質で可及的に球状であり、透明膜に分散させた場合に
透明性に優れるものである。その例としては、シリカ、
アルミナ、チタニア、ジルコニアなどからなる微粒子が
あげられる。
【００１９】本発明においてフッ素含有層の微細凹凸面
が、高さ又は深さが４０〜２００nmで、最大水平長が２
００nm以下の山又は谷の多数で形成されたものでない場
合には、低反射率性等の光学特性や耐擦傷性に乏しい反
射防止膜となる。好ましい微細凹凸面は、かかる山又は
谷が平面面積に基づいて６０％以上、就中６５〜９５％
占有し、可及的に均等に分布したものである。
が、高さ又は深さが４０〜２００nmで、最大水平長が２
００nm以下の山又は谷の多数で形成されたものでない場
合には、低反射率性等の光学特性や耐擦傷性に乏しい反
射防止膜となる。好ましい微細凹凸面は、かかる山又は
谷が平面面積に基づいて６０％以上、就中６５〜９５％
占有し、可及的に均等に分布したものである。
【００２０】なお本発明の反射防止膜においては、Ｓi
Ｏ2、ＺrＯ2、Ａl2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3の如き金属酸化物やフッ
化マグネシウムなどからなる公知の層も重畳させて２層
又は３層以上の反射防止膜として透過率の向上をはかる
こともできる。その場合、フッ素含有層以外の層につい
ては、その屈折率や重畳層数等に応じて従来に準じ適宜
に形成することができ、その形成は例えば真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法の如き蒸着
方式などの適宜な方式で行うことができる。
Ｏ2、ＺrＯ2、Ａl2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3の如き金属酸化物やフッ
化マグネシウムなどからなる公知の層も重畳させて２層
又は３層以上の反射防止膜として透過率の向上をはかる
こともできる。その場合、フッ素含有層以外の層につい
ては、その屈折率や重畳層数等に応じて従来に準じ適宜
に形成することができ、その形成は例えば真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法の如き蒸着
方式などの適宜な方式で行うことができる。
【００２１】本発明の反射防止膜の適用は、反射防止を
目的とする面に所定の層を形成することにより行うこと
もできるし、フィルム等の基材上に反射防止膜を設けて
反射防止部材を形成し、それを反射防止を目的とする面
に付設する方式などによっても適用することができる。
反射防止部材として適用する方式は、ディスプレイ装置
等の既成物品への付設や、湾曲面あるいは大面積面等へ
の付設が容易な利点を有している。
目的とする面に所定の層を形成することにより行うこと
もできるし、フィルム等の基材上に反射防止膜を設けて
反射防止部材を形成し、それを反射防止を目的とする面
に付設する方式などによっても適用することができる。
反射防止部材として適用する方式は、ディスプレイ装置
等の既成物品への付設や、湾曲面あるいは大面積面等へ
の付設が容易な利点を有している。
【００２２】本発明の反射防止部材は、透明基材の少な
くとも片側に本発明の反射防止膜を有するものである。
その例を図２に示した。３が透明基材である。なお４は
必要に応じて設けられる接着剤層である。
くとも片側に本発明の反射防止膜を有するものである。
その例を図２に示した。３が透明基材である。なお４は
必要に応じて設けられる接着剤層である。
【００２３】透明基材としては適宜なものを用いうる。
透過率や強度に優れるものが好ましい。一般には、ガラ
スや、ポリエステル、トリアセチルセルロースの如きプ
ラスチックからなる板、フィルムないしシートなどが用
いられる。また偏光板や位相差板等の光学機能素材など
も用いうる。厚さは、適宜に決定でき５mm以下が一般的
であるが、これに限定されない。
透過率や強度に優れるものが好ましい。一般には、ガラ
スや、ポリエステル、トリアセチルセルロースの如きプ
ラスチックからなる板、フィルムないしシートなどが用
いられる。また偏光板や位相差板等の光学機能素材など
も用いうる。厚さは、適宜に決定でき５mm以下が一般的
であるが、これに限定されない。
【００２４】さらにハードーコート処理等の適宜な処理
を施した透明基材なども用いうる。ハードーコート処理
は基材、特にその表面の補強等を目的とするものでシリ
コーン系樹脂等の熱硬化性樹脂などで一般に形成され
る。またシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の
酸化物微粒子、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモ
ン等の導電性微粒子を混入させたハードーコート層とさ
れる場合もあり、本発明においては適宜に処理した公知
の透明基材を用いうる。反射防止部材の形成は、かかる
透明基材の片側又は両側に反射防止膜を設ける方法など
により行うことができる。
を施した透明基材なども用いうる。ハードーコート処理
は基材、特にその表面の補強等を目的とするものでシリ
コーン系樹脂等の熱硬化性樹脂などで一般に形成され
る。またシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の
酸化物微粒子、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモ
ン等の導電性微粒子を混入させたハードーコート層とさ
れる場合もあり、本発明においては適宜に処理した公知
の透明基材を用いうる。反射防止部材の形成は、かかる
透明基材の片側又は両側に反射防止膜を設ける方法など
により行うことができる。
【００２５】本発明の反射防止部材には、適用対象への
接着等を目的に接着剤層を設けることもできる。設ける
接着剤層は、透過率の低減防止等の点より屈折率差が透
明基材の±５％以内のものが好ましい。接着剤層の形成
には、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコ
ーン系粘着剤等の粘着剤やホットメルト系接着剤などの
適宜なものを用いうる。透明性や耐候性等に優れるもの
が好ましい。接着剤層の付設は、塗工方式やセパレータ
上に設けたものの移着方式など適宜な方式で行ってよ
い。なお接着剤層が粘着層の場合には、実用に供するま
での間その表面をセパレータ等で保護しておくことが好
ましい。
接着等を目的に接着剤層を設けることもできる。設ける
接着剤層は、透過率の低減防止等の点より屈折率差が透
明基材の±５％以内のものが好ましい。接着剤層の形成
には、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコ
ーン系粘着剤等の粘着剤やホットメルト系接着剤などの
適宜なものを用いうる。透明性や耐候性等に優れるもの
が好ましい。接着剤層の付設は、塗工方式やセパレータ
上に設けたものの移着方式など適宜な方式で行ってよ
い。なお接着剤層が粘着層の場合には、実用に供するま
での間その表面をセパレータ等で保護しておくことが好
ましい。
【００２６】本発明の反射防止膜ないし反射防止部材
は、偏光板等の光学機能素材や液晶表示装置等のディス
プレイ装置、重量計等の計器類など、種々の物品の界面
反射防止に好ましく用いることができる。
は、偏光板等の光学機能素材や液晶表示装置等のディス
プレイ装置、重量計等の計器類など、種々の物品の界面
反射防止に好ましく用いることができる。
【００２７】実施例１ 厚さ５００μmのガラス板（屈折率１．５３）を平均粒
径１５０nmのシリカの単分散エタノール液にエチルシリ
ケートを加えた分散液に浸漬し、それを１６０℃で３０
分間焼成して微細凹凸面（シリカ濃度４重量％）を形成
し、ついでそれに上記した一般式（１）においてＲの全
てがフッ素原子でｎが平均９．６個のフッ素含有化合物
のパーフルオロ系溶媒による０．０５重量％溶液への浸
漬方式でディップコートを施して厚さ１０nmのフッ素含
有層を形成し、反射防止部材を得た。なおフッ素含有層
は、高さ又は深さが５０〜７０nmで、最大水平長が１４
０〜１５０nmの多数の山又は谷からなる微細凹凸面を有
するものであった。なお膜厚測定は電子顕微鏡による断
面観察により行い、パーフルオロ系溶媒には一般式
（２）で表されるものを用いた（以下同じ）。
径１５０nmのシリカの単分散エタノール液にエチルシリ
ケートを加えた分散液に浸漬し、それを１６０℃で３０
分間焼成して微細凹凸面（シリカ濃度４重量％）を形成
し、ついでそれに上記した一般式（１）においてＲの全
てがフッ素原子でｎが平均９．６個のフッ素含有化合物
のパーフルオロ系溶媒による０．０５重量％溶液への浸
漬方式でディップコートを施して厚さ１０nmのフッ素含
有層を形成し、反射防止部材を得た。なおフッ素含有層
は、高さ又は深さが５０〜７０nmで、最大水平長が１４
０〜１５０nmの多数の山又は谷からなる微細凹凸面を有
するものであった。なお膜厚測定は電子顕微鏡による断
面観察により行い、パーフルオロ系溶媒には一般式
（２）で表されるものを用いた（以下同じ）。
【００２８】実施例２ 平均粒径１２０nmのシリカを分散させた液を用いたほか
は実施例１に準じて反射防止部材を得た。なおフッ素含
有層は、厚さが１０nmであり、高さ又は深さが４０〜６
０nmで、最大水平長が１１０〜１２０nmの多数の山又は
谷からなる微細凹凸面を有するものであった。
は実施例１に準じて反射防止部材を得た。なおフッ素含
有層は、厚さが１０nmであり、高さ又は深さが４０〜６
０nmで、最大水平長が１１０〜１２０nmの多数の山又は
谷からなる微細凹凸面を有するものであった。
【００２９】実施例３ ガラス板に代えて、厚さ５００μmのトリアセチルセル
ロースフィルム（屈折率１．４９）を用い、８０℃で３
時間の焼成処理でシリカを分散固定させたほかは実施例
１に準じて反射防止部材を得た。
ロースフィルム（屈折率１．４９）を用い、８０℃で３
時間の焼成処理でシリカを分散固定させたほかは実施例
１に準じて反射防止部材を得た。
【００３０】実施例４ ガラス板に代えて、厚さ５００μmのトリアセチルセル
ロースフィルム（屈折率１．４９）を用い、８０℃で３
時間の焼成処理でシリカを分散固定させたほかは実施例
２に準じて反射防止部材を得た。
ロースフィルム（屈折率１．４９）を用い、８０℃で３
時間の焼成処理でシリカを分散固定させたほかは実施例
２に準じて反射防止部材を得た。
【００３１】比較例１ フッ素含有層を設けないほかは、実施例１に準じたシリ
カ分散固定のガラス板をそのまま反射防止部材として用
いた。
カ分散固定のガラス板をそのまま反射防止部材として用
いた。
【００３２】比較例２ フッ素含有層を設けないほかは、実施例２に準じたシリ
カ分散固定のガラス板をそのまま反射防止部材として用
いた。
カ分散固定のガラス板をそのまま反射防止部材として用
いた。
【００３３】比較例３ フッ素含有層を設けないほかは、実施例３に準じたシリ
カ分散固定のトリアセチルセルロースフィルムをそのま
ま反射防止部材として用いた。
カ分散固定のトリアセチルセルロースフィルムをそのま
ま反射防止部材として用いた。
【００３４】比較例４ フッ素含有層を設けないほかは、実施例４に準じたシリ
カ分散固定のトリアセチルセルロースフィルムをそのま
ま反射防止部材として用いた。
カ分散固定のトリアセチルセルロースフィルムをそのま
ま反射防止部材として用いた。
【００３５】比較例５ 厚さ５００μmのトリアセチルセルロースフィルム（屈
折率１．４９）の片面に、蒸着方式で厚さ１２５nmのＺ
rＯ2（屈折率２．０５）を形成しその上に、実施例１に
準じて厚さ９５nmのフッ素含有層を重畳させて反射防止
部材を得た。なお、蒸着は電子銃方式により蒸着面を加
熱することなく到達真空度５×１／１０5Ｔｏｒｒ、蒸
着速度約０．５nm／秒の条件で行った（以下同じ）。
折率１．４９）の片面に、蒸着方式で厚さ１２５nmのＺ
rＯ2（屈折率２．０５）を形成しその上に、実施例１に
準じて厚さ９５nmのフッ素含有層を重畳させて反射防止
部材を得た。なお、蒸着は電子銃方式により蒸着面を加
熱することなく到達真空度５×１／１０5Ｔｏｒｒ、蒸
着速度約０．５nm／秒の条件で行った（以下同じ）。
【００３６】比較例６ 厚さ５００μmのガラス板（屈折率１．５３）の片面
に、蒸着方式で厚さ１３０nmのＹ2Ｏ3層（屈折率１．８
７）と厚さ８５nmのＳiＯ2（屈折率１．４６）を重畳さ
せて反射防止部材を得た。
に、蒸着方式で厚さ１３０nmのＹ2Ｏ3層（屈折率１．８
７）と厚さ８５nmのＳiＯ2（屈折率１．４６）を重畳さ
せて反射防止部材を得た。
【００３７】比較例７ 厚さ５００μmのガラス板（屈折率１．５３）の片面
に、蒸着方式で厚さ１２０nmのＺrＯ2（屈折率２．０
５）と厚さ９０nmのＳiＯ2（屈折率１．４６）を重畳さ
せて反射防止部材を得た。
に、蒸着方式で厚さ１２０nmのＺrＯ2（屈折率２．０
５）と厚さ９０nmのＳiＯ2（屈折率１．４６）を重畳さ
せて反射防止部材を得た。
【００３８】評価試験 汚染前 実施例、比較例で得た反射防止部材の反射防止膜側より
波長４００〜７００nmの光を垂直入射させ、分光光度計
にて反射率、透過率を測定し、それより可視域の平均反
射率及び平均透過率を求めた。
波長４００〜７００nmの光を垂直入射させ、分光光度計
にて反射率、透過率を測定し、それより可視域の平均反
射率及び平均透過率を求めた。
【００３９】汚染後 反射防止膜の上にアクリル系粘着テープを圧着して消し
ゴムで１０回擦すったのち、粘着テープを垂直方向に勢
いよく剥がし、その反射防止部材について前記に準じ平
均反射率及び平均透過率を求めた。
ゴムで１０回擦すったのち、粘着テープを垂直方向に勢
いよく剥がし、その反射防止部材について前記に準じ平
均反射率及び平均透過率を求めた。
【００４０】前記の結果を表１に示した。
【表１】
【００４１】表１より、実施例の反射防止膜は可視域の
光に対して優れた反射防止効果を示し実用上満足できる
透過率を示すと共に、汚染されにくくて反射防止効果、
透過率の持続性に優れていることがわかる。
光に対して優れた反射防止効果を示し実用上満足できる
透過率を示すと共に、汚染されにくくて反射防止効果、
透過率の持続性に優れていることがわかる。
【００４２】
【発明の効果】本発明の反射防止膜は、反射防止効果に
優れており、２層からなる重畳層の場合でも波長域を有
する光に対して優れた反射防止効果を示し、実用的で量
産性に優れている。また入射側表面にフッ素含有層を有
して汚染されにくく、汚染も落ちやすくて耐汚染性に優
れ、反射防止効果の持続性に優れている。
優れており、２層からなる重畳層の場合でも波長域を有
する光に対して優れた反射防止効果を示し、実用的で量
産性に優れている。また入射側表面にフッ素含有層を有
して汚染されにくく、汚染も落ちやすくて耐汚染性に優
れ、反射防止効果の持続性に優れている。
【図１】反射防止膜例の断面図。
【図２】反射防止部材例の断面図。
１：フッ素含有層 ２：球状微粒子の分散層 ２１：球状微粒子 ３：透明基材 ４：接着剤層
Claims (5)
- 【請求項１】 入射側表面に、高さ又は深さが４０〜２
００nmで、最大水平長が２００nm以下の山又は谷の多数
で形成された微細凹凸面を有する屈折率が１．４０以下
のフッ素含有層を有することを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 フッ素含有層が、一般式： （ただし、Ｒはフッ素原子、水素原子又は一価の炭化水
素基、ｎは１〜４０である。）で表される溶媒に可溶な
屈折率１．３６以下のフッ素含有化合物で形成されてな
る請求項１に記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 フッ素含有層の直下に平均粒径が２００
nm以下の球状微粒子の分散層を有してそれに基づきフッ
素含有層の微細凹凸面が形成されてなる請求項１に記載
の反射防止膜。 - 【請求項４】 請求項１〜３に記載の反射防止膜を透明
基材の少なくとも片側に有することを特徴とする反射防
止部材。 - 【請求項５】 屈折率差が透明基材の±５％以内の接着
剤層を有する請求項４に記載の反射防止部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5265807A JPH0798401A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | 反射防止膜及び反射防止部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5265807A JPH0798401A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | 反射防止膜及び反射防止部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0798401A true JPH0798401A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17422327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5265807A Pending JPH0798401A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | 反射防止膜及び反射防止部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798401A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US11112599B2 (en) | 2016-03-14 | 2021-09-07 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film having hard coating layer and display device including the same |
-
1993
- 1993-09-28 JP JP5265807A patent/JPH0798401A/ja active Pending
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