JPH0797564B2 - Vertical semiconductor manufacturing equipment - Google Patents
Vertical semiconductor manufacturing equipmentInfo
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- JPH0797564B2 JPH0797564B2 JP2042179A JP4217990A JPH0797564B2 JP H0797564 B2 JPH0797564 B2 JP H0797564B2 JP 2042179 A JP2042179 A JP 2042179A JP 4217990 A JP4217990 A JP 4217990A JP H0797564 B2 JPH0797564 B2 JP H0797564B2
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- boat
- shelf
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は縦型半導体製造装置に係り、特に縦型半導体製
造装置と外部のカセット搬送ロボットとの間で行われる
カセットの搬送を効率よく行うことができる縦型半導体
製造装置に関する。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a vertical semiconductor manufacturing apparatus, and particularly to efficiently carry a cassette between the vertical semiconductor manufacturing apparatus and an external cassette carrying robot. The present invention relates to a vertical semiconductor manufacturing apparatus capable of performing the above.
従来の縦型半導体製造装置としては、例えば実開平１−
121923号に記載されたものがある。この装置は、反応室
と、反応室内と反応室下方との間で移動可能なボート
と、ボートとウェハ移載位置にあるカセットとの間でウ
ェハを移載するウェハ移載機と、ウェハ移載位置に設け
られるカセットストッカとを有している。As a conventional vertical semiconductor manufacturing apparatus, for example,
There is one described in No. 121923. This apparatus includes a reaction chamber, a boat movable between the reaction chamber and a lower portion of the reaction chamber, a wafer transfer device for transferring a wafer between the boat and a cassette at a wafer transfer position, and a wafer transfer device. And a cassette stocker provided at the loading position.
このカセットストッカは横方向にスライドすることがで
き、カセット収納数を２倍、即ち２バッチ分として、生
膜処理の終えたウェハを収納するカセットと次に処理し
ようとするウェハを収納するカセットを収納することが
可能である。しかしながら、カセットストッカには、生
膜状態を管理するためのモニター用ウェハやボートの端
部におかれる製品とならないダミーウェハを収納するカ
セットも収納しなければならないため、製品となるウェ
ハ２バッチ分のカセットも含めて全カセットを収納する
ためには、カセットストッカ自体が大きくなるという問
題がある。カセットストッカは、ウェハ移載位置として
精密な位置出しが要求されるため、カセットストッカ自
体が大きくなることは、その加工性、組立性の悪化につ
ながる。また、カセットストッカを横スライドさせるた
めの駆動機構の負担も大きくなるため高価になるという
問題もある。This cassette stocker can slide laterally, and the number of cassettes stored is doubled, that is, for two batches, and there are a cassette for storing wafers for which biofilm treatment has been completed and a cassette for storing wafers to be processed next. It can be stored. However, since the cassette stocker must also accommodate cassettes for storing monitor wafers for managing the biofilm state and dummy wafers that are not products at the end of the boat, two batches of product wafers can be stored. In order to store all cassettes including cassettes, there is a problem that the cassette stocker itself becomes large. Since the cassette stocker requires precise positioning as a wafer transfer position, an increase in the size of the cassette stocker leads to deterioration in workability and assemblability. There is also a problem in that the load on the drive mechanism for laterally sliding the cassette stocker becomes large and the cost becomes high.
そのため、カセットストッカには、１バッチ分のカセッ
トしか収納できないのが実情である。Therefore, in reality, the cassette stocker can store only one batch of cassettes.
カセットストッカに１バッチ分のカセットしか収納でき
ないと、ウェハの処理終了後装置外部へカセット搬出
し、その後次のバッチ分のカセットを装置外部から装置
内部のカセットストッカへ搬入する必要がある。装置外
部からのカセットの搬入，搬出はファクトリオートメー
ション化によりカセット搬送ロボット等により行われる
が、カセット搬送ロボット等によりカセットの搬送速度
に制限があるため、多くの半導体製造装置のあるクリー
ンルームで効率良く装置を稼働させるには、多くのカセ
ット搬送ロボットが必要であるとともに、装置外に設け
られカセットを収納するカセットストッカの台数が多く
なり、あるいはカセットストッカの容量が大きくなると
いう問題がある。If only one batch of cassettes can be stored in the cassette stocker, it is necessary to carry out the cassette to the outside of the apparatus after the wafer processing is completed, and then carry the cassette for the next batch from the outside of the apparatus to the cassette stocker inside the apparatus. Although cassettes are loaded and unloaded from the outside of the equipment by factory automation by a cassette transportation robot, etc., the cassette transportation speed is limited by the cassette transportation robot, so the equipment can be efficiently used in a clean room with many semiconductor manufacturing equipment. There is a problem that many cassette transfer robots are required to operate the device, and the number of cassette stockers that are provided outside the apparatus to store the cassettes increases or the capacity of the cassette stocker increases.
本発明は、上記課題を解決するために、ウェハ移載位置
の上方に設けられ、少なくとも次に処理されるウェハを
収納したカセットと処理済みのウェハを収納したカセッ
トとを収納することができるバッファカセット棚と、前
記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこれ
らと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇降
可能なカセット移載機とを有することを特徴とする。In order to solve the above problems, the present invention provides a buffer that is provided above a wafer transfer position and can store at least a cassette that stores a wafer to be processed next and a cassette that stores a processed wafer. It is characterized by comprising a cassette shelf, and a cassette transfer machine capable of moving up and down, for transferring cassettes between the wafer transfer position and the buffer cassette shelf and between these and the outside of the apparatus.
即ち、請求項１記載の発明によれば、ウェハ移載位置に
あるカセット内に収納された半導体ウェハを反応室下方
にあるボートへ移載し、ウェハを載置したボートを反応
室内に入れて処理した後、ボートを反応室から下方に出
して、該ボートからウェハを前記ウェハ移載位置にある
カセット内に移載する縦型半導体製造装置において、前
記ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次に処
理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウェハ
を収納したカセットとを収納することができるバッファ
カセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファカセ
ット棚及びこれらと装置外部との間でカセットを搬送す
る，上下に昇降可能なカセット移載機とを有することを
特徴とする。That is, according to the first aspect of the invention, the semiconductor wafers stored in the cassette at the wafer transfer position are transferred to the boat below the reaction chamber, and the boat on which the wafer is mounted is placed in the reaction chamber. After processing, the boat is taken out from the reaction chamber downward, and in the vertical semiconductor manufacturing apparatus for transferring the wafers from the boat into the cassette at the wafer transfer position, it is provided above the wafer transfer position, A buffer cassette shelf capable of accommodating at least a cassette containing wafers to be processed next and a cassette containing processed wafers, the wafer transfer position, the buffer cassette shelf, and between these and the outside of the apparatus. It is characterized by having a cassette transfer machine that can move the cassette up and down and that can be moved up and down.
また、請求項２記載の発明によれば、ウェハ移載位置に
あるカセット内に収納された半導体ウェハを反応室下方
にあるボートへ移載し、ウェハを載置したボートを反応
室内に入れて処理した後、ボートを反応室から下方に出
して、該ボートからウェハを前記ウェハ移載位置にある
カセット内に移載する縦型半導体製造装置において、前
記ウェハ移載位置には、少なくとも１バッチ分の半導体
ウェハを収納するカセットを収納する移載棚が設けられ
ると共に、前記移載棚の上方に設けられ、少なくとも次
に処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウ
ェハを収納したカセットを収納することができるバッフ
ァカセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファカ
セット棚間及びこれらと装置外部との間でカセット搬送
する，上下に昇降可能なカセット移載機と、を有するこ
とを特徴とする。According to the second aspect of the invention, the semiconductor wafers stored in the cassette at the wafer transfer position are transferred to the boat below the reaction chamber, and the boat on which the wafer is mounted is placed in the reaction chamber. In the vertical semiconductor manufacturing apparatus, in which the boat is taken out from the reaction chamber after processing and the wafers are transferred from the boat into the cassette at the wafer transfer position, at least one batch is provided at the wafer transfer position. A transfer shelf for storing a cassette for storing the semiconductor wafers is provided, and a cassette for storing at least the wafer to be processed next and a cassette for storing the processed wafer are provided above the transfer shelf. A buffer cassette shelf that can be stored, a cassette transfer between the wafer transfer position and the buffer cassette shelf, and between these and the outside of the apparatus, and vertical movement And having a capacity cassette transfer machine, a.
本発明装置はこのような構成であるから、ウェハ移載位
置にあるカセット内のウェハを取り出してボートへ移載
し処理している間に、カセット移載機により次バッチの
カセットを外部からバッファカセット棚内の一部に収納
しておく。処理終了時には処理済みウェハがボートから
ウェハ移載位置のカセット内へ移載された後、このカセ
ットをカセット移載機によりバッファカセット棚内の他
の部分に搬送する。そして次バッチ用カセットをカセッ
ト移載機によりバッファカセット棚内の前記一部からウ
ェハ移載位置に搬送後、これよりウェハを取り出してボ
ートへ移載しウェハの処理を行う。この間に外部へのカ
セットの回収，外部からのカセットの供給をカセット移
載機により行うことで、装置のウェハカセットの回収，
供給待ちをなくすことができる。Since the apparatus of the present invention has such a structure, while the wafer in the cassette at the wafer transfer position is taken out, transferred to the boat and processed, the cassette transfer machine buffers the next batch of cassettes from the outside. Store in a part of the cassette shelf. At the end of processing, the processed wafer is transferred from the boat into the cassette at the wafer transfer position, and then the cassette is transferred to another portion in the buffer cassette shelf by the cassette transfer machine. Then, after the cassette for the next batch is conveyed from the part in the buffer cassette shelf to the wafer transfer position by the cassette transfer machine, the wafer is taken out from this and transferred to the boat to process the wafer. During this time, by collecting the cassette to the outside and supplying the cassette from the outside by the cassette transfer machine, the wafer cassette of the device can be collected,
The supply waiting can be eliminated.
縦型半導体製造装置において、ウェハ移載位置の上方に
バッファカセット棚を設けることで、従来空いていた空
間を有効利用できる。また、バッファカセット棚とウェ
ハ移載位置との間はカセット単位の搬送になるため、バ
ッファカセット棚の加工、組立、位置出し精度はウェハ
移載位置よりも厳密である必要はない。従って、バッフ
ァカセット棚増設費用は低く抑えることができる。In the vertical semiconductor manufacturing apparatus, by providing the buffer cassette shelf above the wafer transfer position, the conventionally empty space can be effectively used. Further, since the cassette is transported between the buffer cassette shelf and the wafer transfer position, the accuracy of processing, assembling, and positioning of the buffer cassette shelf need not be stricter than that of the wafer transfer position. Therefore, the cost for adding a buffer cassette shelf can be kept low.
以下図面により本発明の実施例を説明する。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図面は本発明装置の一実施例の構成を示す説明用斜視図
であり、１は、ウェハ移載位置にあるカセット内に収納
された半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載
し、ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理し
た後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートから
ウェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載す
る縦型半導体製造装置、即ち炉体である。FIG. 1 is a perspective view for explaining the configuration of an embodiment of the apparatus of the present invention, in which a semiconductor wafer stored in a cassette at a wafer transfer position is transferred to a boat below the reaction chamber, After the boat on which is mounted is placed in the reaction chamber for processing, the boat is taken out of the reaction chamber, and the wafer is transferred from the boat into the cassette at the wafer transfer position. It is a furnace body.
炉体１内には、ウェハ移載位置に、ボートへ又はボート
から移載されるウェハを収納するカセットを収納する移
載棚３が設けられる。移載棚は、左右に移動可能な移動
カセット棚３となっている。移動カセット棚３の上方に
は、一時的に次に処理されるバッチ分のカセットと、処
理済みのバッチ分のカセットを収納することができるバ
ッファカセット棚２が設けられる。さらに、炉体１内に
は、移動カセット棚３とバッファカセット棚２間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット搬送機構４が設けられる。Inside the furnace body 1, a transfer shelf 3 is provided at the wafer transfer position, and a transfer shelf 3 for storing a cassette for storing wafers transferred to or from the boat is provided. The transfer shelf is a movable cassette shelf 3 that can be moved left and right. Above the moving cassette shelf 3, there is provided a cassette for the batch to be processed next temporarily and a buffer cassette shelf 2 for storing the cassette for the processed batch. Further, inside the furnace body 1, there is provided a cassette transfer mechanism 4 capable of moving up and down, which transfers cassettes between the moving cassette shelf 3 and the buffer cassette shelf 2 and between these and the outside of the apparatus.
本実施例は上記のような構成であるから、移動カセット
棚３にあるカセット内のウェハを取り出してボートへ移
載し処理している間に、カセット搬送機構４により次バ
ッチのカセットを外部からバッファカセット棚２内の一
部に収納しておく。処理済みウェハがボートから移動カ
セット棚３のカセット内へ移載された後、このカセット
をカセット搬送機構４によりバッファカセット棚２内の
他の部分に搬送する。そして、次バッチ用カセットをカ
セット搬送機構４によりバッファカセット棚２内から移
動カセット棚３に搬送後、これよりウェハを取り出して
ボートへ移載しウェハの処理を行う。この間に外部への
カセットの回収，外部からのカセットの供給をカセット
搬送機構４により行うことで、装置のウェハカセットの
回収，供給待ちをなくすことができる。Since the present embodiment is configured as described above, while the wafers in the cassettes on the movable cassette shelf 3 are taken out, transferred to the boat and processed, the cassettes of the next batch are transferred from the outside by the cassette transfer mechanism 4. It is stored in a part of the buffer cassette shelf 2. After the processed wafer is transferred from the boat into the cassette of the transfer cassette shelf 3, the cassette is transferred to another portion in the buffer cassette shelf 2 by the cassette transfer mechanism 4. Then, after the cassette for the next batch is transported from the buffer cassette shelf 2 to the moving cassette shelf 3 by the cassette transport mechanism 4, the wafer is taken out from the buffer cassette shelf 3 and transferred to the boat for wafer processing. By collecting the cassettes to the outside and supplying the cassettes from the outside by the cassette transfer mechanism 4 during this time, it is possible to eliminate the waiting for the collection and supply of the wafer cassettes of the apparatus.
上述のように本発明によれば、縦型半導体製造装置にお
いて、ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次
に処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウ
ェハを収納したカセットとを収納することができるバッ
ファカセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファ
カセット棚間及びこれらと装置外部との間でカセットを
搬送する，上下に昇降可能なカセット移載機とを有する
構成としたので、外部のカセット搬送ロボットの台数を
増大することなく、装置のカセット回収，供給待ちによ
る休止時間をなくすことが可能となり、装置の稼働率を
向上することができる。As described above, according to the present invention, in the vertical semiconductor manufacturing apparatus, the cassette is provided above the wafer transfer position, and at least the cassette for storing the wafer to be processed next and the cassette for storing the processed wafer are stored. Since it is configured to have a buffer cassette shelf that can be carried out, and a cassette transfer machine that can move up and down, that transfers cassettes between the wafer transfer position and the buffer cassette shelf, and between these and the outside of the apparatus. Thus, without increasing the number of external cassette transfer robots, it is possible to eliminate the down time due to the cassette collection and supply waiting of the apparatus, and it is possible to improve the operation rate of the apparatus.
縦型半導体製造装置において、ウェハ移載位置の上方に
バッファカセット棚を設けることで、従来空いていた空
間を有効利用できる。また、バッファカセット棚とウェ
ハ移載位置との間はカセット単位の搬送になるため、バ
ッファカセット棚の加工、組立、位置出し精度はウェハ
移載位置よりも厳密である必要はない。従ってバッファ
カセット棚増設費用は低く抑えることができる。In the vertical semiconductor manufacturing apparatus, by providing the buffer cassette shelf above the wafer transfer position, the conventionally empty space can be effectively used. Further, since the cassette is transported between the buffer cassette shelf and the wafer transfer position, the accuracy of processing, assembling, and positioning of the buffer cassette shelf need not be stricter than that of the wafer transfer position. Therefore, the cost for adding a buffer cassette shelf can be kept low.
またカセット移載機の台数及び装置外に設置すべきカセ
ットストッカの台数あるいはその容量が少なくて済むの
で、それだけコストを低減でき、運用上のソフトウェア
の開発も容易となり、ファクトリオートメーション化を
容易に達成することができる。In addition, the number of cassette transfer machines and the number or capacity of cassette stockers that should be installed outside the device are small, so costs can be reduced accordingly, development of operational software is facilitated, and factory automation can be easily achieved. can do.
図面は本発明装置の一実施例の構成を示す説明用斜視図
である。 １……装置、２……バッファカセット棚、３……移載棚
（移動カセット棚）、４……カセット移載機（カセット
搬送機構）。The drawing is an explanatory perspective view showing the configuration of an embodiment of the device of the present invention. 1 ... Device, 2 ... Buffer cassette shelf, 3 ... Transfer shelf (moving cassette shelf), 4 ... Cassette transfer machine (cassette transport mechanism).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 文秀 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (72)発明者 泉 昭一郎 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (72)発明者 吉田 徹 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (72)発明者 斉藤 良二 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (56)参考文献 特開 昭63−219134（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−121923（ＪＰ，Ｕ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Fumihide Ikeda, Shinmeidai, Hamura-cho, Nishitama-gun, Tokyo 2-1-1 Kokusai Electric Co., Ltd. Hamura Plant (72) Shoichiro Izumi, Shinmeidai, Hamura-cho, Nishitama-gun, Tokyo 2-1 ―1 Kokusai Electric Co., Ltd. Hamura Plant (72) Inventor Toru Yoshida Shinmeidai, Hamura-cho, Nishitama-gun, Tokyo 2-1-1 Kokusai Electric Co., Ltd. Hamura Plant (72) Ryoji Saito 2 Shinmeidai, Hamura-cho, Nishitama-gun, Tokyo ―1-1 Inside the Hamura Factory of Kokusai Electric Co., Ltd. (56) References JP-A-63-219134 (JP, A) Fukukaihei 1-121923 (JP, U)
Claims (2)
れた半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載し、
ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理した
後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートからウ
ェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載する
縦型半導体製造装置において、 前記ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次に
処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウェ
ハを収納したカセットとを収納することができるバッフ
ァカセット棚と、 前記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット移載機と、 を有することを特徴とする縦型半導体製造装置。1. A semiconductor wafer stored in a cassette at a wafer transfer position is transferred to a boat below a reaction chamber,
In a vertical semiconductor manufacturing apparatus in which a boat on which a wafer is placed is placed in a reaction chamber for processing, the boat is taken out from the reaction chamber, and the wafer is transferred from the boat into the cassette at the wafer transfer position. A buffer cassette shelf that is provided above the wafer transfer position and that can store at least a cassette that stores wafers to be processed next and a cassette that stores processed wafers; and the wafer transfer position, A vertical semiconductor manufacturing apparatus, comprising: a cassette transfer machine capable of moving vertically between the buffer cassette shelves and between the buffer cassette shelves and the outside of the apparatus.
れた半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載し、
ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理した
後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートからウ
ェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載する
縦型半導体製造装置において、 前記ウェハ移載位置には、少なくとも１バッチ分の半導
体ウェハを収納するカセットを収納する移載棚が設けら
れると共に、 前記移載棚の上方に設けられ、少なくとも次に処理され
るウェハを収納したカセットと処理済みのウェハを収納
したカセットとを収納することができるバッファカセッ
ト棚と、 前記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット移載機と、 を有することを特徴とする縦型半導体製造装置。2. A semiconductor wafer stored in a cassette at a wafer transfer position is transferred to a boat below the reaction chamber,
In a vertical semiconductor manufacturing apparatus in which a boat on which a wafer is placed is placed in a reaction chamber for processing, the boat is taken out from the reaction chamber, and the wafer is transferred from the boat into the cassette at the wafer transfer position. The wafer transfer position is provided with a transfer shelf for accommodating a cassette for accommodating at least one batch of semiconductor wafers, and is provided above the transfer shelf for accommodating at least a wafer to be processed next. Buffer cassette shelf capable of accommodating the processed cassette and a cassette accommodating processed wafers, and carrying the cassette between the wafer transfer position and the buffer cassette shelf and between these and the outside of the apparatus, vertically. A vertical semiconductor manufacturing apparatus comprising: a cassette transfer machine that can move up and down.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042179A JPH0797564B2 (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | Vertical semiconductor manufacturing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042179A JPH0797564B2 (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | Vertical semiconductor manufacturing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03244121A JPH03244121A (en) | 1991-10-30 |
| JPH0797564B2 true JPH0797564B2 (en) | 1995-10-18 |
Family
ID=12628764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2042179A Expired - Lifetime JPH0797564B2 (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | Vertical semiconductor manufacturing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797564B2 (en) |
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-
1990
- 1990-02-21 JP JP2042179A patent/JPH0797564B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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| JPH03244121A (en) | 1991-10-30 |
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