JPH0787378A - 合焦検出装置 - Google Patents

合焦検出装置

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JPH0787378A
JPH0787378A JP5247318A JP24731893A JPH0787378A JP H0787378 A JPH0787378 A JP H0787378A JP 5247318 A JP5247318 A JP 5247318A JP 24731893 A JP24731893 A JP 24731893A JP H0787378 A JPH0787378 A JP H0787378A
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JP
Japan
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pattern
contrast
detection
signal
deviation
Prior art date
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Pending
Application number
JP5247318A
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English (en)
Inventor
Giichi Konishi
義一 小西
Shigeyuki Akimoto
茂行 秋元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
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Publication date
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Publication of JPH0787378A publication Critical patent/JPH0787378A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な構成であり、被測定対象物の所定位置
からの偏差量及びその方向を迅速かつ正確に求めること
ができる合焦検出装置を提供する。 【構成】 光軸に対して傾いた方向にパターンを有する
パターン部と、このパターンを被対象物上に投影する投
影光学系と、パターンが投影された被対象物の像を検出
する検出部と、検出部の検出信号のうち、投影されたパ
ターン像に対応する信号中でコントラストが最大となる
位置に基づいて合焦状態を検出する合焦状態検出部とを
有することを特徴とする合焦検出装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、合焦検出装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】オートフォーカス機構では、正確かつ迅
速に合焦検出を行うことが重要である。従来、様々な合
焦検出方法が提案されているが、代表的なものに光スポ
ットを利用する方法と画像コントラストを利用する方法
がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前者の光スポットを利
用する方法では、ワーク表面の凸凹や段差によって光が
散乱されるため、ワークの表面状態が悪い場合には高精
度で合焦検出を行うことが難しかった。
【0004】後者の画像コントラストを利用する方法
は、縞パターンをワーク表面に投影してその像のコント
ラストをフォトダイオードアレイやCCDカメラで検出
する方法である。この方法では、例えば顕微鏡ユニット
とワークの距離を変化させつつ投影された縞パターンに
関する信号を取り込み、これを処理することによって合
焦検出並びに合焦動作を行う構成になっている。このた
め、合焦が終了するまでかなりの時間を要する欠点があ
った。
【0005】このような問題点に鑑み、本発明は簡単な
構成を有し、しかも被測定対象物の所定(合焦)位置か
らの偏差量及びその方向を迅速かつ正確に求めることが
できる合焦検出装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明は、光軸に対し
て傾斜した方向にパターンを有するパターン部と、この
パターンを被対象物上に投影する投影光学系と、パター
ンが投影された被対象物の像を検出する検出部と、検出
部の検出信号のうち、投影されたパターン像に対応する
信号中でコントラストが最大となる位置に基づいて合焦
状態を検出する合焦状態検出部とを有することを特徴と
する合焦検出装置を要旨としている。
【0007】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の好適な実施例
を説明する。図1は本発明の実施例における光学系を示
す概念図である。
【0008】光源1から出た光は、一旦コリメータレン
ズ2を通って平行光束となりパターン3を照射する。
【0009】パターン3は、平板状であり、図2に示す
ように同じ幅の明暗部の繰り返しで構成されている。パ
ターン3は、対物レンズ7によって形成される被測定物
側の端部3aと光源側の端部3bとの像が、少なくと
も、対物レンズ7の焦点深度から外れるように、光軸と
直行する方向から角度θで傾斜させる必要がある。ま
た、パターン3の明暗部の繰り返しピッチpは、対物レ
ンズ7による投影倍率をMとし、要求される位置合せの
精度をdz とした場合、dz ≧M*p*sinθなる関
係を満足するように決定されている。
【0010】パターン3は、被測定物Mが所定位置に配
置されたときに、パターンの中央部がピントのあった鮮
明な像として被測定物Mの表面に形成されるように配置
される。
【0011】パターン3を通過した光は、ハーフミラー
6で反射され、しかる後に、対物レンズ7を通って被測
定物K付近にパターン3の像3′を形成する。パターン
3の両端部、すなわち被測定物側の端部3a及び光源側
の端部3bは、図1に示すように、像3′の一方の端部
3a′及び他方の端部3b′として結像する。
【0012】被測定物Kからの反射光は、対物レンズ7
によって一旦結像され、その後、リレーレンズ8を介し
て、カメラ部10に導かれる。
【0013】カメラ部10は、撮像管やCCDカメラ等
で構成することができる。信号処理の観点からいえば、
カメラ部の水平走査方向に上記パターン3の繰り返し方
向すなわち光軸に対して傾斜した方向を一致させること
が好ましい。カメラ部10は、極値検出部20に接続さ
れている。
【0014】極値検出部20は、カメラ部10からの画
像信号のうち、光軸に対して傾斜した方向を横切る水平
走査線の信号を抜き出し、そのピーク位置及びボトム位
置を求める。そして、コントラストを検出し、コントラ
ストが一番大きなパターン像の位置を求めるのである。
【0015】次にピントずれの大きさ及びその方向の求
め方を説明する。
【0016】制御演算部100は、コントラスト検出部
20からの信号を受け、互いに隣り合うピークレベルと
ボトムレベルの比(又は差)が一番大きくなるようなピ
ーク位置をコントラスト最大位置とみなす。
【0017】そして、コントラスト最大位置と、パター
ン中心との偏差dを求め、この偏差dを、そのときの被
測定物の位置と予め定めた所定位置との差に変換する。
その為には、両者の関係を予め求めておき、この対応関
係に基づいて換算を行うようにすれば良い。
【0018】又、被測定物が所定位置のどちら側にずれ
ているかは、次のようにして判定する。すなわち、パタ
ーン中心よりも光源側のパターン部分がコントラスト最
大(鮮明な像)になった場合には、被対象物が所定位置
よりも手前に位置しているものと判定する。反対に、パ
ターン中心よりも被対象物側のパターン部分がコントラ
スト最大(鮮明な像)になった場合には、被対象物が所
定位置よりも後ろ側に位置しているものと判定する。
【0019】被対象物が所定位置にあるときには、例え
ば図4に示す信号11が得られる。また、被対象物が所
定位置よりも手前側にあるときには、例えば図5の信号
12が得られる。反対に、被対象物が所定位置よりも後
ろ側にあるときには、例えば図6の信号13が得られ
る。なお、図4〜図6における矢印は各信号におけるパ
ターン中央位置を示している。
【0020】以上のようにして、予め定めた所定位置と
被測定物の位置との偏差の大きさ及び偏差の方向(手前
側か後ろ側か)を求め、表示部30で表示する。
【0021】また、制御演算部100は、前述のように
して求めた偏差の大きさ及び方向に基づき、被測定部移
動部40を制御して被測定物を所定位置まで移動させ
る。被測定部移動部40は、例えば、光軸方向に被測定
物Kを移動させるためのステージとして構成する。
【0022】さて、制御演算部100において前述の方
法でコントラストデータの処理を行った場合には、投影
されたパターン3の1ピッチ程度の分解能しか得られな
いが、図7に示すフローチャートに従って内挿を行うこ
とにより、より高精度にコントラスト最大位置を求める
ことができる。
【0023】まず、S1において、極値検出部の出力か
らピークを抽出し、S2において、抽出された各ピーク
を通る近似曲線を求める。ここで、近似曲線を求める方
法としては、1)スプラインの補間法、2)直線近似に
よる方法等がある。なお、両方法とも周知の方法である
ので簡単に述べる。
【0024】1)スプラインの補間法 スプラインの補間法とは、与えられた区間を幾つかの小
区間にわけ、それぞれの小区間ごとに多項式(よく利用
されるのは3次の多項式)を適用し、全体として、与え
られた点を通り、かつ、1階及び2階の微係数が与えら
れる点で一致するように定めるものである。
【0025】2)直線近似による方法 右上がり又は左上がりの傾斜をそれぞれ直線近似し、そ
の近似直線の交点をピークとする方法である。
【0026】このようにして、S2で近似曲線を求めた
後で、S3において、この近似曲線に基づいてピーク位
置を定め、これをコントラスト最大の位置とする。
【0027】次に、S4において、S3で求めたコント
ラスト最大の位置とパターン中心位置との偏差量及び偏
差方向を求め、S5で表示又は移動制御を行う。図3に
示すように、表示部30で表示したり、被測定物移動部
40を駆動して被測定物を所定位置に移動させるのであ
る。最後にS5で検出の継続・終了を決定する。
【0028】上述のように、内挿を行うことによって、
投影されたパターンの1ピッチ(その光軸方向長さ)よ
りも細かい分解能を得ることができる。
【0029】なお、光軸とパターン3のなす角を90度
に近づけることによって分解能を高めることができる
が、その場合には概略の焦点出しが多少難しくなる。
【0030】
【発明の効果】本発明の合焦検出装置は、光軸に対して
傾いた方向にパターンを有するパターン部と、このパタ
ーンを被対象物上に投影する投影光学系と、パターンが
投影された被対象物の像を検出する検出部と、検出部の
検出信号のうち、投影されたパターン像に対応する信号
中でコントラストが最大となる位置に基づいて合焦状態
を検出する合焦状態検出部と、を有することを特徴とす
るので、簡単な構成により、被測定対象物の所定位置か
らの偏差の量及び方向を求めることができる。
【0031】又、請求項2のように内挿を行うことによ
って、投影したパターンのピッチ以下の精度で被測定対
象物が所定位置からの偏差の量及び方向を求めることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における光学系を示す概念図。
【図2】図1のパターンを示す平面図。
【図3】実施例における信号の流れを示すブロック図。
【図4】被対象物が所定位置にあるときに得られる信号
を示す図。
【図5】被対象物が所定位置よりも手前側にあるときに
得られる信号を示す図。
【図6】被対象物が所定位置よりも後ろ側にあるときに
得られる信号を示す図。
【図7】コントラスト最大位置を求める際に内挿を行う
場合のフローチャート。
【符号の説明】
1 光源 2 コリメータレンズ 3 パターン 6 ハーフミラー 7 対物レンズ 8 リレーレンズ 10 カメラ部 20 極値(コントラスト)検出部 30 表示部 40 被測定部移動部 100 制御演算部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光軸に対して傾いた方向にパターンを有
    するパターン部と、 このパターンを被対象物上に投影する投影光学系と、 パターンが投影された被対象物の像を検出する検出部
    と、 検出部の検出信号のうち、投影されたパターン像に対応
    する信号中でコントラストが最大となる位置に基づいて
    合焦状態を検出する合焦状態検出部と、 を有することを特徴とする合焦検出装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の合焦検出装置において、 上記パターン部は、周期的な明暗の繰り返しパターンか
    らなり、 上記合焦状態検出部は、検出信号の複数のピークを通る
    近似曲線を想定し、その近似曲線のピーク位置をコント
    ラスト最大位置とするように構成されていることを特徴
    とする合焦検出装置。
JP5247318A 1993-09-09 1993-09-09 合焦検出装置 Pending JPH0787378A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004528605A (ja) * 2001-06-05 2004-09-16 カール ツアイス マイクロエレクトロニック システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 光学機器用オートフォーカス装置
JP2006139182A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 V Technology Co Ltd オートフォーカス装置及びオートフォーカス方法
JP2011504143A (ja) * 2007-11-21 2011-02-03 カールツァイス アーゲー レーザ光機械加工
DE10362244B4 (de) * 2003-04-29 2014-06-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition und der Verkippung der Fokusebene bei der Abbildung einer Probe
JP2015225288A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 株式会社レイテックス オートフォーカス装置及びオートフォーカス方法
DE102006027836B4 (de) * 2006-06-16 2020-02-20 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Mikroskop mit Autofokuseinrichtung

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