JPH0782918B2 - インダクションプラズマトーチ - Google Patents
インダクションプラズマトーチInfo
- Publication number
- JPH0782918B2 JPH0782918B2 JP3323751A JP32375191A JPH0782918B2 JP H0782918 B2 JPH0782918 B2 JP H0782918B2 JP 3323751 A JP3323751 A JP 3323751A JP 32375191 A JP32375191 A JP 32375191A JP H0782918 B2 JPH0782918 B2 JP H0782918B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- cooling
- tube
- plasma torch
- outer tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Plasma Technology (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、誘導結合型プラズマ
内でセラミックスや金属等の粉体を効率よく加熱し、溶
解して噴射でき、主として溶射に使用されるインダクシ
ョンプラズマトーチに関するものである。
内でセラミックスや金属等の粉体を効率よく加熱し、溶
解して噴射でき、主として溶射に使用されるインダクシ
ョンプラズマトーチに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、インダクションプラズマトーチと
しては、透明石英で形成された外側管、中間管、キャリ
アガス導入管からなる三重構造のトーチに水冷誘導コイ
ルを設けたものが多く用いられている。本来、インダク
ションプラズマトーチを用いて被溶射物上に満足できる
溶融皮膜を形成させるためには、プラズマ炎を完全に左
右にバランスよく発生させて、供給される粉体を完全溶
融させることが必要であり、このためにはトーチの構成
において前記各管が完全に同心円状に形成されているこ
とが必要である。
しては、透明石英で形成された外側管、中間管、キャリ
アガス導入管からなる三重構造のトーチに水冷誘導コイ
ルを設けたものが多く用いられている。本来、インダク
ションプラズマトーチを用いて被溶射物上に満足できる
溶融皮膜を形成させるためには、プラズマ炎を完全に左
右にバランスよく発生させて、供給される粉体を完全溶
融させることが必要であり、このためにはトーチの構成
において前記各管が完全に同心円状に形成されているこ
とが必要である。
【０００３】しかしながら、石英製の外側管、中間管、
キャリアガス導入管の各管を用いて完全に同心円状のト
ーチを構成することは非常に難しいとされている。
キャリアガス導入管の各管を用いて完全に同心円状のト
ーチを構成することは非常に難しいとされている。
【０００４】本発明者らはこのような状況に鑑みて、さ
きに窒化ほう素の焼結体を素材として用いた完全に同心
円状のインダクションプラズマトーチを提案した。即
ち、窒化ほう素焼結体よりなり、内部に多段の同心円状
挿着孔を形成した円筒状支持体に、窒化ほう素焼結体製
のキャリアガス導入管、中間管および外側管を順次嵌合
螺着させるとともに、前記支持体内の中間管と外側管の
先端に該管に対して接線方向にガスを導入するガス供給
管を嵌合螺着した構造のインダクションプラズマトーチ
である。
きに窒化ほう素の焼結体を素材として用いた完全に同心
円状のインダクションプラズマトーチを提案した。即
ち、窒化ほう素焼結体よりなり、内部に多段の同心円状
挿着孔を形成した円筒状支持体に、窒化ほう素焼結体製
のキャリアガス導入管、中間管および外側管を順次嵌合
螺着させるとともに、前記支持体内の中間管と外側管の
先端に該管に対して接線方向にガスを導入するガス供給
管を嵌合螺着した構造のインダクションプラズマトーチ
である。
【０００５】このトーチの構成を図２の縦断面図で説明
すると、図において１は窒化ほう素焼結体を加工して得
た円筒形状の支持体である。この支持体１の内部には１
ａ〜１ｅの多段の挿着孔が支持体１を旋盤等にて孔加
工、ネジ切りを繰返すことにより同心円状に設けられて
おり、これらの挿着孔にキャリアガス導入管４、中間管
３、外側管２が嵌合螺着により固定されている。
すると、図において１は窒化ほう素焼結体を加工して得
た円筒形状の支持体である。この支持体１の内部には１
ａ〜１ｅの多段の挿着孔が支持体１を旋盤等にて孔加
工、ネジ切りを繰返すことにより同心円状に設けられて
おり、これらの挿着孔にキャリアガス導入管４、中間管
３、外側管２が嵌合螺着により固定されている。
【０００６】この円筒状支持体１に対する挿着孔の形成
は、まず、キャリアガス導入管４を貫通挿着するための
挿着孔１ａを支持体１に貫通形成し、次に中間管３の挿
着孔１ｂを支持体１のほぼ中間の位置に挿着孔１ａと同
心円状に形成し、その後外側管２の挿着孔１ｃを形成す
る。次いで中間管３支持用挿着孔１ｂの上方に中間管３
の内径と同じか又は若干小径の挿着孔１ｄを、また外側
管２支持用挿着孔１ｃの上方に外側管２の内径と同じか
又は若干小径の挿着孔１ｅを形成する。
は、まず、キャリアガス導入管４を貫通挿着するための
挿着孔１ａを支持体１に貫通形成し、次に中間管３の挿
着孔１ｂを支持体１のほぼ中間の位置に挿着孔１ａと同
心円状に形成し、その後外側管２の挿着孔１ｃを形成す
る。次いで中間管３支持用挿着孔１ｂの上方に中間管３
の内径と同じか又は若干小径の挿着孔１ｄを、また外側
管２支持用挿着孔１ｃの上方に外側管２の内径と同じか
又は若干小径の挿着孔１ｅを形成する。
【０００７】このようにして内部に同心円状の１ａ〜１
ｅを形成した窒化ほう素焼結体製の円筒状支持体１に、
同じく窒化ほう素焼結体を用いて夫々円筒形状に作った
外側管２、中間管３、キャリアガス導入管４およびプラ
ズマガス供給管５、シースガス供給管６を取り付けるに
は、まず挿着孔１ａに下方からキャリアガス導入管４を
貫通させ、ネジ９で螺着固定する。その後同様にして挿
着孔１ｂに中間管３を、挿着孔１ｃに外側管２を順次螺
着し、次いでプラズマガス供給管５、シースガス導入管
６を夫々挿着孔１ｄ、１ｅに接線方向に設けたネジ部１
ｆ、１ｇに挿着し螺着する。なお、外側管２の内周面と
中間管３の外周面との間は供給するガスの速度を増して
冷却効率を高めるため約１mmの小間隙となっている。
ｅを形成した窒化ほう素焼結体製の円筒状支持体１に、
同じく窒化ほう素焼結体を用いて夫々円筒形状に作った
外側管２、中間管３、キャリアガス導入管４およびプラ
ズマガス供給管５、シースガス供給管６を取り付けるに
は、まず挿着孔１ａに下方からキャリアガス導入管４を
貫通させ、ネジ９で螺着固定する。その後同様にして挿
着孔１ｂに中間管３を、挿着孔１ｃに外側管２を順次螺
着し、次いでプラズマガス供給管５、シースガス導入管
６を夫々挿着孔１ｄ、１ｅに接線方向に設けたネジ部１
ｆ、１ｇに挿着し螺着する。なお、外側管２の内周面と
中間管３の外周面との間は供給するガスの速度を増して
冷却効率を高めるため約１mmの小間隙となっている。
【０００８】このようにして窒化ほう素焼結体を用いて
同心円状に構成したインダクションプラズマトーチを用
い、プラズマガス供給管５からキャリアガス導入管４と
中間管３との間にアルゴンガスなどのプラズマガスを５
リッター／分で供給し、シースガス供給路６から中間管
３と外側管２との間にアルゴンガスなどのシースガスを
２０リッター／分で供給し、キャリアガス導入管４から
キャリアガスとともに粒径５〜１００μｍの粉体を１ｇ
／分供給する状態で誘導コイル１１に５ＫＷ、１３．５
６ＭＨｚの高周波を印加すると、左右によくバランスの
とれた正常なプラズマ炎１２が発生して粉体が溶融さ
れ、被溶射物１０上に皮膜が形成される。
同心円状に構成したインダクションプラズマトーチを用
い、プラズマガス供給管５からキャリアガス導入管４と
中間管３との間にアルゴンガスなどのプラズマガスを５
リッター／分で供給し、シースガス供給路６から中間管
３と外側管２との間にアルゴンガスなどのシースガスを
２０リッター／分で供給し、キャリアガス導入管４から
キャリアガスとともに粒径５〜１００μｍの粉体を１ｇ
／分供給する状態で誘導コイル１１に５ＫＷ、１３．５
６ＭＨｚの高周波を印加すると、左右によくバランスの
とれた正常なプラズマ炎１２が発生して粉体が溶融さ
れ、被溶射物１０上に皮膜が形成される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに窒化ほう素焼結体を素材として用いて完全に同心円
状構造に製造したインダクションプラズマトーチによっ
て溶融粉体の溶射を行なったとしても、誘導コイル１１
の下端から外側管２の下端までの距離Ｌ3 があまり短い
と、粉体のプラズマ炎による溶融、溶射時にプラズマト
ーチ外部からの低温空気による冷却凝固や酸化反応が生
じ、被溶射物１０に対する溶射不良を生ずるおそれがあ
る。
うに窒化ほう素焼結体を素材として用いて完全に同心円
状構造に製造したインダクションプラズマトーチによっ
て溶融粉体の溶射を行なったとしても、誘導コイル１１
の下端から外側管２の下端までの距離Ｌ3 があまり短い
と、粉体のプラズマ炎による溶融、溶射時にプラズマト
ーチ外部からの低温空気による冷却凝固や酸化反応が生
じ、被溶射物１０に対する溶射不良を生ずるおそれがあ
る。
【００１０】また、外側管２の外周に設けた誘導コイル
１１の下端から被溶射物１０までの距離Ｌ1 が短かい場
合、プラズマ炎による粉体の溶融が充分に行なわれない
ために溶射不良が生ずる。例えば、粉体としてアルミナ
を用いて上記の条件で溶射した場合にはγ−アルミナの
灰色を呈し、周囲が黒色の縞模様の皮膜しか得られなか
った。
１１の下端から被溶射物１０までの距離Ｌ1 が短かい場
合、プラズマ炎による粉体の溶融が充分に行なわれない
ために溶射不良が生ずる。例えば、粉体としてアルミナ
を用いて上記の条件で溶射した場合にはγ−アルミナの
灰色を呈し、周囲が黒色の縞模様の皮膜しか得られなか
った。
【００１１】このような溶射不良を防止する対策とし
て、外側管を長くする（即ち、誘導コイル１１の下端か
ら外側管２の下端までの距離Ｌ3 を長くする）ことも考
えられるが、外側管２があまり長いと、トーチの下端で
はシースガスとプラズマガスとが混在してしまってシー
スガスによる外側管の冷却が十分に行なわれず、外側管
が過熱されて好ましくない。特にＬ3 の距離が２０mm以
上になると、外側管の過熱が甚だしくなり、このため外
側管外部の酸素と外側管の材質である窒化ほう素とが結
合して昇華をはじめ、その結果外側管の外壁から崩れだ
して、遂には外側管に穴があいてしまうという問題を引
き起こす。
て、外側管を長くする（即ち、誘導コイル１１の下端か
ら外側管２の下端までの距離Ｌ3 を長くする）ことも考
えられるが、外側管２があまり長いと、トーチの下端で
はシースガスとプラズマガスとが混在してしまってシー
スガスによる外側管の冷却が十分に行なわれず、外側管
が過熱されて好ましくない。特にＬ3 の距離が２０mm以
上になると、外側管の過熱が甚だしくなり、このため外
側管外部の酸素と外側管の材質である窒化ほう素とが結
合して昇華をはじめ、その結果外側管の外壁から崩れだ
して、遂には外側管に穴があいてしまうという問題を引
き起こす。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明は上記したイン
ダクションプラズマトーチにおける種々の問題点を解消
すべく検討の結果、外側管を外壁面から冷却ガスによっ
て冷却するための冷却管を外側管の周囲に設けて四層構
造のプラズマトーチとするならば、外側管をたとえ長く
しても外側管の過熱を防止して常に正常な溶射が可能と
なることを見出し、この発明に至ったものである。
ダクションプラズマトーチにおける種々の問題点を解消
すべく検討の結果、外側管を外壁面から冷却ガスによっ
て冷却するための冷却管を外側管の周囲に設けて四層構
造のプラズマトーチとするならば、外側管をたとえ長く
しても外側管の過熱を防止して常に正常な溶射が可能と
なることを見出し、この発明に至ったものである。
【００１３】即ち、この発明は窒化ほう素焼結体よりな
り、内部に多段の同心円状挿着孔を形成した円筒状支持
体に、窒化ほう素焼結体製のキャリアガス導入管、中間
管、外側管および冷却管を順次嵌合螺着させるととも
に、前記支持体内の中間管、外側管および冷却管の先端
に該管に対して接線方向にガスを導入するガス供給管を
嵌合螺着させた四層構造であって、外側管および冷却管
の下端の位置が冷却管の外周に設けた誘導コイルの下端
から２０mm以上離れているインダクションプラズマトー
チを提供するものである。
り、内部に多段の同心円状挿着孔を形成した円筒状支持
体に、窒化ほう素焼結体製のキャリアガス導入管、中間
管、外側管および冷却管を順次嵌合螺着させるととも
に、前記支持体内の中間管、外側管および冷却管の先端
に該管に対して接線方向にガスを導入するガス供給管を
嵌合螺着させた四層構造であって、外側管および冷却管
の下端の位置が冷却管の外周に設けた誘導コイルの下端
から２０mm以上離れているインダクションプラズマトー
チを提供するものである。
【００１４】
【作用】この発明は、外側管の周囲に冷却管を配設して
キャリアガス導入管、中間管、外側管および冷却管の四
層構造のプラズマトーチとしたことによって、溶射時に
外側管をその外壁面から冷却ガスの供給によって十分に
冷却することができ、これによって外側管を長くとった
場合、即ち、誘導コイル下端から外側管および冷却管の
下端までの距離Ｌ3 を２０mm以上とした場合でも溶射不
良の事態を招くことなく正常なプラズマ溶射を行なうこ
とができる。
キャリアガス導入管、中間管、外側管および冷却管の四
層構造のプラズマトーチとしたことによって、溶射時に
外側管をその外壁面から冷却ガスの供給によって十分に
冷却することができ、これによって外側管を長くとった
場合、即ち、誘導コイル下端から外側管および冷却管の
下端までの距離Ｌ3 を２０mm以上とした場合でも溶射不
良の事態を招くことなく正常なプラズマ溶射を行なうこ
とができる。
【００１５】
【実施例】以下、この発明をその一実施例を示す図１に
より詳細に説明する。なお、図１において図２と同一の
符号を付した部位は図２を参照して従来の技術の項で説
明したと同じ作用であるのでそれらの説明は省略する。
より詳細に説明する。なお、図１において図２と同一の
符号を付した部位は図２を参照して従来の技術の項で説
明したと同じ作用であるのでそれらの説明は省略する。
【００１６】図１において、１３は外側管２の周囲に設
けた冷却管である。この冷却管１３は窒化ほう素焼結体
を用いて作った円筒形状で外側管２とほぼ同長のもので
あり、その先端外周に小さなピッチのネジが切られてお
り、支持体１の最外側の位置に挿着孔１ａと同心円状に
形成した挿着孔１ｊの先端に切られた小さいピッチのネ
ジ１４とによって挿着孔１ｊに螺着固定されている。
けた冷却管である。この冷却管１３は窒化ほう素焼結体
を用いて作った円筒形状で外側管２とほぼ同長のもので
あり、その先端外周に小さなピッチのネジが切られてお
り、支持体１の最外側の位置に挿着孔１ａと同心円状に
形成した挿着孔１ｊの先端に切られた小さいピッチのネ
ジ１４とによって挿着孔１ｊに螺着固定されている。
【００１７】１５は冷却管１３と外側管２の間に外側管
２を冷却するために供給される冷却ガスの供給管であっ
て、この供給管１５は冷却管１３支持用挿着孔１ｊの上
方に冷却管１３の内径と同じか又は若干小径にて形成さ
れた挿着孔１ｋにその接線方向に螺着されている。１ｍ
は、この螺着のために挿着孔１ｋに切られている小さい
ピッチのネジである。
２を冷却するために供給される冷却ガスの供給管であっ
て、この供給管１５は冷却管１３支持用挿着孔１ｊの上
方に冷却管１３の内径と同じか又は若干小径にて形成さ
れた挿着孔１ｋにその接線方向に螺着されている。１ｍ
は、この螺着のために挿着孔１ｋに切られている小さい
ピッチのネジである。
【００１８】なお、上記した挿着孔１ｊおよび１ｋを支
持体内に形成するには、挿着孔１ｊは外側管２挿着用の
挿着孔１ｃの形成についで行えばよく、挿着孔１ｋの形
成は挿着孔１ｅの形成後に行えばよい。
持体内に形成するには、挿着孔１ｊは外側管２挿着用の
挿着孔１ｃの形成についで行えばよく、挿着孔１ｋの形
成は挿着孔１ｅの形成後に行えばよい。
【００１９】かくして得られたこの発明のインダクショ
ンプラズマトーチは、冷却管１３、外側管２、中間管３
およびキャリアガス導入管４の各管を窒化ほう素焼結体
より製造し、これらを窒化ほう素焼結体よりなる円筒状
支持体１の内部に形成した各挿着孔に同心円状に設け、
かつ外側管および冷却管を十分長くしたことによって、
プラズマガス供給管５からキャリアガス導入管４と中間
管３との間にアルゴンガスなどのプラズマガスを５リッ
ター／分で供給し、シースガス供給管６から中間管３と
外側管２との間にアルゴンガスなどのシースガスを２０
リッター／分で、また冷却ガス供給管１５から冷却管１
３にアルゴンガスなどの冷却ガスを２０リッター／分で
夫々供給し、キャリアガス導入管４からキャリアガスと
ともに例えば粒径５〜５０μｍのアルミナ粉体を１ｇ／
分供給するようしにして誘導コイルに５ＫＷ、１３．５
６ＭＨｚの高周波を印加すると、左右によくバランスの
とれた正常なプラズマ炎１２が発生してアルミナ粉体が
完全に溶融され、被溶射物１０上に均一で熱導電性、絶
縁性にすぐれ、耐電圧の高い皮膜を形成することができ
た。
ンプラズマトーチは、冷却管１３、外側管２、中間管３
およびキャリアガス導入管４の各管を窒化ほう素焼結体
より製造し、これらを窒化ほう素焼結体よりなる円筒状
支持体１の内部に形成した各挿着孔に同心円状に設け、
かつ外側管および冷却管を十分長くしたことによって、
プラズマガス供給管５からキャリアガス導入管４と中間
管３との間にアルゴンガスなどのプラズマガスを５リッ
ター／分で供給し、シースガス供給管６から中間管３と
外側管２との間にアルゴンガスなどのシースガスを２０
リッター／分で、また冷却ガス供給管１５から冷却管１
３にアルゴンガスなどの冷却ガスを２０リッター／分で
夫々供給し、キャリアガス導入管４からキャリアガスと
ともに例えば粒径５〜５０μｍのアルミナ粉体を１ｇ／
分供給するようしにして誘導コイルに５ＫＷ、１３．５
６ＭＨｚの高周波を印加すると、左右によくバランスの
とれた正常なプラズマ炎１２が発生してアルミナ粉体が
完全に溶融され、被溶射物１０上に均一で熱導電性、絶
縁性にすぐれ、耐電圧の高い皮膜を形成することができ
た。
【００２０】上記において、外側管２および冷却管１３
を誘導コイル１１の下端からそれらの下端までの距離Ｌ
3 が３０mmとなる長さとし、誘導コイル１１の下端から
被溶射物１０までの距離Ｌ1 を７５mmとした場合には被
溶射物上に均一な白色のアルミナ皮膜が形成され、また
Ｌ1 を５５mmとした場合においては灰色ではあるが縞模
様のないアルミナ皮膜が形成された。
を誘導コイル１１の下端からそれらの下端までの距離Ｌ
3 が３０mmとなる長さとし、誘導コイル１１の下端から
被溶射物１０までの距離Ｌ1 を７５mmとした場合には被
溶射物上に均一な白色のアルミナ皮膜が形成され、また
Ｌ1 を５５mmとした場合においては灰色ではあるが縞模
様のないアルミナ皮膜が形成された。
【００２１】この発明では上記のように誘導コイルの下
端から外側管下端までの距離Ｌ3 を２０mm以上（好まし
くは２０〜４０mm）と長くしてシースガスとプラズマガ
スが混在する領域が生じても、外側管はその外壁面から
冷却ガスによって十分冷却されるため、過大に熱せられ
るという心配はない。このため外側管を構成する窒化ほ
う素が外部の酸素と結合して昇華したりして外側管が損
傷するようなおそれは全くない。
端から外側管下端までの距離Ｌ3 を２０mm以上（好まし
くは２０〜４０mm）と長くしてシースガスとプラズマガ
スが混在する領域が生じても、外側管はその外壁面から
冷却ガスによって十分冷却されるため、過大に熱せられ
るという心配はない。このため外側管を構成する窒化ほ
う素が外部の酸素と結合して昇華したりして外側管が損
傷するようなおそれは全くない。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のインダ
クションプラズマトーチは、全ての部材に窒化ほう素焼
結体を用いて同心円状に嵌合螺着により構成され、かつ
外側管の周囲に冷却管を配設して四層構造としたので、
使用時に左右にバランスのとれたプラズマ炎の発生を可
能とするとともに冷却管の配設により、外側管を長くし
て効率のよい粉体の溶融、溶射を行なうことができる。
クションプラズマトーチは、全ての部材に窒化ほう素焼
結体を用いて同心円状に嵌合螺着により構成され、かつ
外側管の周囲に冷却管を配設して四層構造としたので、
使用時に左右にバランスのとれたプラズマ炎の発生を可
能とするとともに冷却管の配設により、外側管を長くし
て効率のよい粉体の溶融、溶射を行なうことができる。
【００２３】また、全ての部材を窒化ほう素焼結体の切
削加工によって得ることができるので、同一寸法の部材
を容易にかつ多量に生産できること、さらに各部材は円
筒状支持体内に形成した各挿着孔に同心円状に嵌合螺着
するので精度よく設計、製造することができるという多
大の効果を有するのである。なお、このインダクション
プラズマトーチに外部から力が加わり、冷却管、外側管
などが破損しても、それぞれネジが切られているので交
換も容易である。
削加工によって得ることができるので、同一寸法の部材
を容易にかつ多量に生産できること、さらに各部材は円
筒状支持体内に形成した各挿着孔に同心円状に嵌合螺着
するので精度よく設計、製造することができるという多
大の効果を有するのである。なお、このインダクション
プラズマトーチに外部から力が加わり、冷却管、外側管
などが破損しても、それぞれネジが切られているので交
換も容易である。
【図１】この発明のインダクションプラズマトーチの縦
断面図である。
断面図である。
【図２】従来のインダクションプラズマトーチの縦断面
図である。
図である。
１ 円筒状支持体 １ａ 挿着孔 １ｂ 挿着孔 １ｃ 挿着孔 １ｊ 挿着孔 ２ 外側管 ３ 中間管 ４ キャリアガス導入管 ９ ネジ １１ 誘導コイル １２ プラズマ炎 １３ 冷却管 １４ ネジ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エミリオ 藤原 大阪府大阪市東淀川区淡路２丁目14番３号 株式会社三社電機製作所内 (72)発明者 村田 裕康 大阪府大阪市東淀川区淡路２丁目14番３号 株式会社三社電機製作所内 (72)発明者 橘 秀久 大阪府大阪市東淀川区淡路２丁目14番３号 株式会社三社電機製作所内 (56)参考文献 特開 昭58−137999（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−74591（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 窒化ほう素焼結体よりなり、内部に多段
の同心円状挿着孔を形成した円筒状支持体に、窒化ほう
素焼結体製のキャリアガス導入管、中間管、外側管およ
び冷却管を順次嵌合螺着させるとともに、前記支持体内
の中間管、外側管および冷却管の先端に該管に対して接
線方向にガスを導入するガス供給管を嵌合螺着したこと
を特徴とする四層構造のインダクションプラズマトー
チ。 - 【請求項２】 外側管および冷却管の下端の位置が冷却
管の外周に設けた誘導コイルの下端から２０mm以上離れ
ていることを特徴とする請求項１記載の四層構造のイン
ダクションプラズマトーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3323751A JPH0782918B2 (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | インダクションプラズマトーチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3323751A JPH0782918B2 (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | インダクションプラズマトーチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05135896A JPH05135896A (ja) | 1993-06-01 |
| JPH0782918B2 true JPH0782918B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=18158218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3323751A Expired - Lifetime JPH0782918B2 (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | インダクションプラズマトーチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782918B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6207923B1 (en) | 1998-11-05 | 2001-03-27 | Hypertherm, Inc. | Plasma arc torch tip providing a substantially columnar shield flow |
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-
1991
- 1991-11-11 JP JP3323751A patent/JPH0782918B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05135896A (ja) | 1993-06-01 |
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