JPH0780248A - ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 - Google Patents
ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法Info
- Publication number
- JPH0780248A JPH0780248A JP5230405A JP23040593A JPH0780248A JP H0780248 A JPH0780248 A JP H0780248A JP 5230405 A JP5230405 A JP 5230405A JP 23040593 A JP23040593 A JP 23040593A JP H0780248 A JPH0780248 A JP H0780248A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formaldehyde
- exhaust gas
- zeolite
- concentration
- rotor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 159
- 238000000746 purification Methods 0.000 title abstract description 14
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 32
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 72
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 25
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 19
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 10
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 8
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 8
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000012013 faujasite Substances 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- -1 etc. Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000011269 tar Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
ガスを疎水性ゼオライトのフィルターを用いて効果的に
浄化する方法を提供する。 【構成】 ホルムアルデヒド含有ガスをSiO2 /AI
2 O3 モル比100以上のZSM−5型ゼオライトを5
0kg/m3 以上の量で有するハニカム構造フィルター
に0.2〜0.5秒間接触させるホルムアルデヒド含有
ガスの浄化方法。 【効果】 従来困難であったホルムアルデヒド含有ガス
の浄化が可能となり、人体に有害なホルムアルデヒドの
放出が抑制されるため、経済的で、装置の発火などの危
険性がない。
Description
ガスの浄化処理方法に関するもので、より詳細には、塗
装排ガス等に含有され、従来捕捉の困難であったホルム
アルデヒドを有効に捕捉し、浄化する方法に関する。特
に、本発明は、低濃度のホルムアルデヒドを含む有機溶
剤排ガスを疎水性ゼオライトを担持したフィルターを用
いて効果的に浄化する方法を提供するものである。
化学スモッグの発生要因である。また、それらの多くは
有臭であり、工場が住宅地に隣接している場合にはしば
しば悪臭公害として捉えられることがある。
としては、吸着式溶剤回収法(吸着剤に吸着させて回収
する方法)、酸化分解法(高温に加熱し酸化分解させる
方法)等が広範に行われてきた。これらの方法が急速に
普及したのは排ガスを浄化するという目的と同時に、炭
化水素類を溶剤またはエネルギーとして回収できるとい
う経済的なメリットがあったためと考えられる。
った経済的なメリットを期待出来ない排ガスに対して
も、その浄化に取り組まなければならない状況になって
いる。すなわち、低濃度の排ガス浄化が、特に臭気対策
として必要になっている。なかでも、化学工場、塗装工
場、飼料工場などの排ガスに数ppm〜数十ppm含ま
れるホルムアルデヒドについてはこれまで有効な対策が
なかった。
m以下の場合は、多量の補助燃料が必要となるため経済
性が失われる。
に浄化する方法として、ハニカム式濃縮装置により連続
的に排ガス中の炭化水素を濃縮し、濃縮された小風量の
排ガスを小型の回収装置或いは酸化分解装置で処理する
方式がある。しかし、炭化水素排ガス中にホルムアルデ
ヒドが含まれる場合には、その沸点が−19.5℃と低
く吸着剤に補足されにくいためその処理が困難であっ
た。
として活性炭が広範に使用されてきた。しかし、活性炭
自体は可燃性の物質であり活性炭を吸着剤として使用す
る排ガス浄化装置には潜在的に火災や爆発などの危険が
あった。
回避する方法として、不燃性の吸着剤を使用することが
考えられ、新しい吸着剤として疎水性を高めたゼオライ
トが使用され始めている(特表昭60−501495号
公報および特開昭64−85113号公報)。
再生過程で触媒性を示さないゼオライト系吸着剤とし
て、特開平4−210235号公報では、水熱処理した
疎水性ゼオライトを、特開平4−244230号公報で
はアルカリ金属イオン型の疎水性ゼオライトを提供して
いる。また、特開平5−23586号公報は、高沸点成
分を含む排ガスの浄化に対して、吸着剤として固体酸量
0.1mmol/g以下でSiO2 /AI2 O3 モル比50以
上のゼオライトを提供している。
イトの排ガス浄化装置への適用に関する応用研究は始ま
ったばかりであり、特にその吸着特性については未だ十
分に解明されているとは言い難い。
ライト結晶内の細孔に補足されるので、ゼオライト結晶
単位容積当たりの細孔の占める容積(以下、空隙率とい
う)の大きいものほど有機化合物を多く吸着すると考え
られる。実際に大部分の有機溶剤排ガスについてこのこ
とが確認され、通常は空隙率が0.268ml/gとゼ
オライトの中でも最も大きいフォージャサイト型ゼオラ
イトが最も一般的に使用されている。
サイト型ゼオライトを吸着剤としたハニカム式濃縮装置
でホルムアルデヒドを含む排ガスの浄化を試みた。しか
しホルムアルデヒドの濃度が50ppm以下領域ではホ
ルムアルデヒドは吸着されず、ホルムアルデヒドを含む
排ガスの浄化がまったく行われないことが判明した。
機溶剤排ガスの最適な疎水性ゼオライトを用いたハニカ
ム式濃縮装置による浄化方法を提供すべく鋭意検討を重
ねた。
00以上のZSM−5型ゼオライトを50kg/m3
以上の量で有するハニカム構造フィルターが、ホルムア
ルデヒドの吸着に有効であることを見いだした。
ルデヒドを含む有機溶剤排ガスを疎水性ゼオライトのフ
ィルターを用いて効果的に浄化する方法を提供するにあ
る。
ヒドを含有するガスの浄化に最適な、SiO2 /Al 2
O3 モル比100以上のZSM−5型ゼオライトを50
kg/m3 以上の量で有するハニカム構造フィルターに
0.2〜0.5秒間接触させる方法を提供するものであ
る。
置換体のAlO4 それぞれの四面体で、それらがお互い
に頂点の酸素原子を共有し、3次元方向に発達した結晶
構造を形成している。その結果、ゼオライト結晶は他の
鉱物にみられないような非常に大きな空洞や孔路を有し
ている。これらの細孔の入口径はゼオライトによってこ
となるが、通常3〜9オングストロームであり、種々の
分子を細孔内部に捕捉することができる。また、結晶内
部にはAlO4 の負電荷を補うために陽イオンが存在し
ている。この陽イオンによって形成された静電場の影響
により極性分子や分極性分子を選択的に吸着する。汎用
の吸着剤として一般的に使用されているA型ゼオライ
ト、X型ゼオライト等のSiO2 /AI2 O3 モル比は
2〜5と低く、これらのゼオライトは有機化合物よりも
水を選択的に吸着する。したがって、有機溶剤を含む排
ガスの浄化用吸着剤としては適当ではない。
20以上で親水性を失い、次第に疎水性を示すようにな
る。このように疎水性を示すゼオライトは、有機溶剤を
含む排ガスの浄化に対して、活性炭と同様に疎水性吸着
剤として有用である。特に、水分が共存する系でも有機
溶剤に対する吸着容量の低下が小さく一定の吸着性能を
示すため気象条件によってその性能が低下する事はな
い。
ヒドを含む有機溶剤排ガスの浄化という課題に対して、
当初疎水性のフォージャサイト型ゼオライトを吸着剤と
したハニカム式溶剤濃縮装置を使用して検討を重ねた。
しかし、一般的な有機溶剤は吸着できるのに、ホルムア
ルデヒドだけは全く吸着されず、十分な排ガス浄化がで
きなかった。
オライトについてホルムアルデヒドの吸着等温線を測定
した。その結果、これまでの知見では予測できなかった
ことであるが、ZSM−5型の結晶構造を有する疎水性
ゼオライトのみが特異的に高いホルムアルデヒドの吸着
特性を示すことがわかった。
着サイトは、結晶内の細孔であるが、その表面は結晶構
造に関係なく酸素原子で形成されている。従って、この
ZSM−5型に対するホルムアルデヒドの特異的な吸着
はその特殊な細孔構造によるものではないかと推定され
る。
型のゼオライト結晶の空孔率は0.268ml/gであ
り、ZSM−5型の場合は0.199ml/gである。
また、窒素吸着法により求めた比表面積はフォージャサ
イト型で約700m2 /g、ZSM−5型で約300m
2 /gである。疎水性ゼオライトは実質的に珪素と酸素
から形成されており、吸着剤の表面状態によって吸着力
が決まるならば、低濃度でもZSM−5型に対してフォ
ージャサイト型の疎水性ゼオライトは常に高い吸着量を
示すはずである。しかし、フォージャサイト型の疎水性
ゼオライトは50ppm以下の濃度域でホルムアルデヒ
ドを全く吸着しないにもかかわらず、ZSM−5型のそ
れは常温でたしかにホルムアルデヒドを吸着する。たと
えば、50ppmのホルムアルデヒドを、30℃におい
て、疎水性のZSM−5型ゼオライトは約1.5g/1
00g吸着するが、疎水性のフォージャサイト型は0.
1g/100g以下の吸着量しか示さない。
アルデヒドに対して格段に優れた吸着性を示すことが判
明したので、さらにハニカム式濃縮装置への適用につい
て検討を行った。
カム構造を有するセラミック繊維のローターに疎水性ゼ
オライトを担持した主要部からなり、このローターは、
吸着部と再生部とにシールで区分され、ローターの各部
分は吸着部と再生部とに交互に出入りする構造になって
いる。ローターは低速で回転し、疎水性ゼオライトに吸
着されたホルムアルデヒドや有機溶剤は再生部で熱風に
より連続的に脱着される。このため、吸着部のローター
は常にホルムアルデヒドや有機溶剤を吸着することがで
きる。
て、疎水性ZSM−5型ゼオライトを担持したものを製
作し、ホルムアルデヒドを含む有機溶剤排ガスの浄化に
適用した。
トの量、即ちローター単位容積当たりの重量(kg/m
3 )は、ローターの有機溶剤保持量および濃縮倍率を決
定する因子であり、特に重要である。ローターに吸着さ
れた有機溶剤は、再生部においてローターから脱着され
るが、このとき熱風とローターの間で熱交換が行われる
ので、吸着された有機溶剤あたりの再生に必要な熱風量
はゼオライトの容積あたりの量が多いほど少なくてす
み、濃縮倍率も高く取れる。実際には、50kg/m3
以上の量があれば、十分な浄化性能及び経済的な有機溶
剤濃縮性能が達成される。
持したローターにおいて、排ガスのローター内における
滞留時間、すなわち接触時間が0.2〜0.5秒の条件
で、最も効率良くホルムアルデヒドが除去された。接触
時間が0.2秒以下の場合は、ローター部におけるホル
ムアルデヒド分子の拡散過程が律速となり、ホルムアル
デヒドの吸着が十分に行われなかったと考えられる。一
方、0.5秒以上の場合は排ガスの浄化は申し分なく達
成されるものであるが、接触時間を長くするということ
は一定の処理ガス量に対して大型のローターを必要とす
ることであり、過大な設備投資につながるので好ましく
ない。
の種類にもよるが、ホルムアルデヒドだけであれば10
0℃以上の温度で行えば良い。
含有ガスとしては、ホルムアルデヒドを比較的低濃度で
含む任意のガス、例えば、化学工場、塗装工場、飼料工
場などの排ガスに適用することができる。
溶剤濃度がメタン換算で500〜5000ppmであ
り、かつホルムアルデヒド濃度が5〜100ppmであ
る排ガス、特に塗料やインクの乾燥乃至焼き付け排ガス
の処理に有用である。
が使用されているが、樹脂の主成分や樹脂の硬化剤成分
として、或いは樹脂の変性剤成分として、フェノール−
ホルムアルデヒド樹脂や、メラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂が使用されているこ
とが多い。
は、樹脂の重縮合により、或いは樹脂の熱分解により、
樹脂中のホルムアルデヒドが発生する。このホルムアル
デヒドは、濃度が比較的低いものであるが、本発明によ
れば、このホルムアルデヒドを有効に除去することがで
きる。
としては、水性塗料乃至インクの乾燥乃至焼き付け排ガ
スや、無溶剤型乃至低溶剤型の塗料乃至インクからの排
ガスが挙げられる。水性塗料乃至インクの場合、溶剤の
主たるものは勿論水であるが、樹脂分の水に対する溶解
性や分散性を向上させ、塗料等に造膜性を付与するた
め、極性有機溶媒等が必ず含有されている。無溶剤型乃
至低溶剤型の塗料乃至インクでは、液状の樹脂分が、紫
外線、放射線、触媒等の作用により硬化して、緻密な被
覆となるものであるが、基体への濡れ性や塗装性等を高
めるために、若干の溶剤が希釈剤として含まれている場
合がほとんどである。また、無溶剤型乃至低溶剤型の塗
料では、塗膜の硬化は紫外線等により行われるとして
も、塗膜の硬化を完結させ、塗膜の歪を取り除くため、
熱処理を行うのが一般的である。従って、排出される排
ガスには、低濃度の有機溶剤成分が含有されているが、
本発明によれば、この様な塗料乃至インクの処理時の付
排ガスから、低濃度の有機溶剤成分をも同時に除去する
ことができる。
は、SiO2 /AI2 O3 のモル比が100以上、特に
200乃至5000の範囲にあるのがよい。このZSM
−5型ゼオライトは、上記シリカ分及びアルミナ分に加
えて、ナトリウム等のアルカリ金属分を含有していても
よく、またアルカリ金属分が水素に置換された水素型ゼ
オライトであってもよい。
表面積は、一般に300乃至400m2 /gの範囲にあ
り、一方細孔容積は、0.18〜0.21cc/gの範
囲にあることが望ましい。また、その粒子径は、一般に
1乃至5μmの範囲内にある。
の方法、例えば、シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属
成分及び水を、塩基性有機窒素化合物をテンプレートと
して水熱処理する方法や、テンプレートを用いることな
く、水性コロイドシリカゾル、アルミン酸アルカリ、及
び水酸化アルカリを水熱処理する方法等により得られ
る。
ルターとしては、既に指摘した通り、ハニカム構造を有
するセラミック繊維のローターに疎水性ゼオライトを担
持させたものが有利に使用されるが、これに限定される
ことなく、他のハニカム基体にZSM−5型ゼオライト
を担持させたものや、ZSM−5型ゼオライトを、必要
によりクレイ等の無機成形助剤や樹脂等の有機成形助剤
と共に、ハニカムに成形したものを用いることもでき
る。
填量は、50kg/m3 以上、特に70乃至150kg
/m3 の範囲にあることが好ましい。ZSM−5型ゼオ
ライトの充填量が余り大きくなりすぎると、ガスの圧損
が増大し、コストも高くなるので好ましくない。
いが、一般に400乃至6000mm程度のものが適当
であり、吸着部と脱着部との面積比率は、一般に7:1
乃至3:1の範囲にあるのがよい。ローターの回転速度
は、1.5乃至8回転/時間、特に2乃至5回転/分の
範囲で変化させることができる。
の吸着性の点で、ハニカムフィルターに、60℃以下、
特に40℃以下の温度で供給することが好ましい。勿
論、排ガスが上記温度よりも高温である場合には、冷却
し、または排ガス中にタール分や粉塵が含有されている
場合には集塵操作を行うことができる。
溶剤濃度を100ppm以下となし、かつ同時にホルム
アルデヒド濃度を5ppm以下とすることが望ましい。
0℃の温度で、また吸着剤の吸着平衡特性によっても相
違するが、脱着−吸着の温度差が30乃至450℃、特
に80乃至200℃となるように、吸着処理を行うこと
が好ましい。脱着用高温キャリアーガスは、処理用ガス
の一部を、上記温度に加熱して、用いるのが好ましい。
濃度に濃縮されており、有機成分の濃度は、一般に爆発
下限界値の30%以下の範囲であり、濃縮の程度は、5
乃至15倍のオーダーである。このため、この濃縮ガス
は、少ない燃料での混燃で、或いは触媒との接触による
酸化で容易に処理を行えるという利点を与える。
を図1に示す。本実施例で使用するローター式吸着装置
1は、吸着剤ローター2からなっており、この吸着剤ロ
ーター2は、吸着域3、脱着域4及び冷却域5をこの順
序に横切るように設けられている。
を、吸着域3に供給して、有機成分を吸着剤ローター2
に吸着させ、前記ガスの一部を冷却域5に供給し、この
ガス7を熱交換器8により高温に加熱し、この高温ガス
9を、前記吸着装置の脱着域4に供給し、有機成分を脱
着して、有機成分の濃縮ガス10を生成させる。
気処理装置11に供給し、濃縮ガス中の有機成分を酸化
燃焼させることにより、大気中に放出可能なガスに転化
する。このガスは高温であるので、前述した熱交換器8
に供給し、脱着用高温ガスへの加熱に利用する。
0mmφであった。ローター2の約75%は吸着部であ
り、残り約25%は再生部(脱着域4及び冷却域5)で
ある。ローターは4rpmで回転し、再生部には180
℃の熱風が供給され、ホルムアルデヒド及び有機溶剤を
吸着した部分は連続的に再生される。
ゼオライトを100kg/m3 で担持したハニカムロー
ターを用い有機溶剤排ガスの浄化試験を行った。排ガス
の温度、組成を表1に示す。
の排ガス中のTHCおよびホルムアルデヒド濃度を表2
に示す。この結果から、接触時間が0.2秒以上であれ
ば、ホルムアルデヒドを含む排ガスの浄化が有効に行わ
れることがわかる。
イト型ゼオライトを100kg/m3 で担持したハニカ
ムローターを用い、実施例1と同様に有機溶剤排ガスの
浄化実験を行った。結果を表3に示す。THC低下して
いるがホルムアルデヒドはほとんど除去されていないこ
とがわかる。
ムアルデヒド含有ガスの浄化が可能になった。特に、ホ
ルムアルデヒドの濃度が50ppm以下である有機溶剤
排ガスがハニカム式濃縮装置において可能になった意義
は大きい。すなわち、人体に有害なホルムアルデヒドの
放出が抑制するため経済的で、装置の発火などの危険性
のない方法が提供された。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 ホルムアルデヒド含有ガスをSiO2 /
AI2 O3 モル比100以上のZSM−5型ゼオライト
を50kg/m3 以上の量で有するハニカム構造フィル
ターに0.2〜0.5秒間接触させることを特徴とする
ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法。 - 【請求項2】 全有機溶剤濃度がメタン換算で500〜
5000ppmであり、かつホルムアルデヒド濃度が5
〜100ppmであるホルムアルデヒド含有ガスを、前
記接触により、全有機溶剤濃度を100ppm以下とな
し、かつ同時にホルムアルデヒド濃度を5ppm以下と
する請求項1記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23040593A JP3526892B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23040593A JP3526892B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0780248A true JPH0780248A (ja) | 1995-03-28 |
JP3526892B2 JP3526892B2 (ja) | 2004-05-17 |
Family
ID=16907374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23040593A Expired - Fee Related JP3526892B2 (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3526892B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11226342A (ja) * | 1997-04-22 | 1999-08-24 | Johannes Schedler | ガス浄化方法および装置 |
JP2009082797A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Toyobo Co Ltd | 有機溶剤含有ガス処理システム |
JP2010524628A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-07-22 | エンビオン、インコーポレイテッド | 再生脱臭フィルターを備えた空気浄化器及びこの空気浄化器の再生脱臭フィルターの再生方法 |
JP2010201316A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Jg Environmental Technology Co Ltd | 濃縮ローターシステムに用いる運転最適化制御方法及び装置 |
WO2011064371A1 (fr) * | 2009-11-27 | 2011-06-03 | Institut Regional Des Materiaux Avances (Irma) | Zeolithe hydrophobe echangee avec un metal de transition en tant qu'adsorbant d'aldehydes |
JP2012115721A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Honda Motor Co Ltd | 排ガス処理装置 |
CN107952289A (zh) * | 2016-10-17 | 2018-04-24 | 秦素洁 | 一种具有甲醛净化功能的过滤网及其制备方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108905559A (zh) * | 2018-07-18 | 2018-11-30 | 浙江柯迈环境建设有限公司 | 一种装修用甲醛去除剂及其制备方法 |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP23040593A patent/JP3526892B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11226342A (ja) * | 1997-04-22 | 1999-08-24 | Johannes Schedler | ガス浄化方法および装置 |
JP2010524628A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-07-22 | エンビオン、インコーポレイテッド | 再生脱臭フィルターを備えた空気浄化器及びこの空気浄化器の再生脱臭フィルターの再生方法 |
JP2009082797A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Toyobo Co Ltd | 有機溶剤含有ガス処理システム |
JP2010201316A (ja) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Jg Environmental Technology Co Ltd | 濃縮ローターシステムに用いる運転最適化制御方法及び装置 |
WO2011064371A1 (fr) * | 2009-11-27 | 2011-06-03 | Institut Regional Des Materiaux Avances (Irma) | Zeolithe hydrophobe echangee avec un metal de transition en tant qu'adsorbant d'aldehydes |
FR2953153A1 (fr) * | 2009-11-27 | 2011-06-03 | Irma | Zeolithe hydrophobe echangee avec un metal de transition en tant qu'adsorbant d'aldehydes |
JP2012115721A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Honda Motor Co Ltd | 排ガス処理装置 |
CN107952289A (zh) * | 2016-10-17 | 2018-04-24 | 秦素洁 | 一种具有甲醛净化功能的过滤网及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3526892B2 (ja) | 2004-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6962617B2 (en) | Method of removing mercury from exhaust gases | |
JP5298292B2 (ja) | 吸着剤を利用した水分除去、冷熱の回収を行う、温度スイング法voc濃縮、低温液化voc回収方法。 | |
US7862725B2 (en) | Method for mercury capture from fluid streams | |
JP4319222B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒と排ガスの浄化方法 | |
US5421860A (en) | Sorption of organic compounds from fluids | |
JP2557307B2 (ja) | NOx吸着除去法 | |
US5414201A (en) | Combined sorbent/catalyst system | |
EP2032252A2 (en) | Systems and methods for removal of contaminants from fluid streams | |
US3363401A (en) | Process for the recovery of gaseous sulphuric compounds present in small quantities in residual gases | |
JP3526892B2 (ja) | ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法 | |
JPH04200742A (ja) | 炭酸ガス吸着剤 | |
WO2011114978A1 (ja) | 二酸化炭素回収装置からの排ガスの処理方法及び装置 | |
JPH0549918A (ja) | 炭酸ガス吸着剤 | |
KR100347720B1 (ko) | 다중 흡착-탈착 반응조에 의해 유기용제를 회수하는 방법, 이에 사용되는 장치 및 상기 방법에 사용되는 제올라이트 흡착제 | |
Graham et al. | Recover VOCs using activated carbon | |
JP4512994B2 (ja) | 水処理システム | |
JP6345964B2 (ja) | NOx吸着剤及びその製造方法 | |
Kim et al. | Catalytic oxidation of toluene with ozone over the Ru-Mn/desilicated nanoporous H-Zeolite Socony Mobil-5 at room temperature | |
JP2009082785A (ja) | 有害物質含有ガスの処理方法及び装置 | |
JP2012236142A (ja) | 大気汚染物質除去用のゼオライト膜、および同膜を用いる排ガスの浄化方法 | |
JP2010221074A (ja) | 有機溶剤含有ガス処理システム | |
JP3576189B2 (ja) | 悪臭の除去方法と悪臭成分吸着剤 | |
RU2094098C1 (ru) | Устройство для очистки воздуха от вредных микропримесей в герметично замкнутом помещении и способ для очистки воздуха от вредных микропримесей в герметично замкнутом помещении | |
JP3627414B2 (ja) | 臭化メチル除去用吸着剤及びそれを用いた除去方法 | |
JPH0947628A (ja) | 窒素酸化物および硫黄酸化物の吸収材とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20031210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040218 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080227 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090227 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090227 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100227 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |