JPH077857B2 - 放電励起パルスレーザ装置 - Google Patents

放電励起パルスレーザ装置

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JPH077857B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はエキシマレーザ装置等放電励起パルスレーザ
装置に係り、特にそのパルス発生回路に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
第6図は例えば“OPTICS COMMUNICATIONS"Vol.56、No.
1、1985.11.1発行P.51に記載されたこの種従来のエキシ
マレーザ装置のパルス発生回路を示す回路図である。図
において、(1)は例えばXeCl等のレーザガスを封入す
るレーザチャンバーで、以下の各電極等を内部に収容し
ている。即ち、(2)は曲面状の放電面を有する第1主
電極、(3)は第1主電極(2)と対向して配置され、
メッシュ金属材を曲面状に成形した第2主電極、(4)
は第2主電極(3)の凹面側に設けられた補助電極、
(5)は補助電極(4)の表面を覆うように配置された
絶縁物、(6)は充電用端子、(7)は充電用抵抗、
(8)は火花ギャップからなるスイッチで、その一方の
極は第2主電極(3)に接続されかつ接地されている。
(9)はリアクトル(10)と直列となってスイッチ
(8)の他方の極と第1主電極(2)との間に接続され
た第1の充電用コンデンサ、(11)は第1の充電用コン
デンサ(9)とリアクトル(10)との接続点と第2主電
極(3)との間に接続された充電用コンデンサ、(12)
はスイッチ(8)の他方の極と補助電極(4)との間に
接続された第2の充電用コンデンサ、(13)は両主電極
(2)(3)間に接続されたピーキングコンデンサ、
(14)は両主電極(2)(3)間に接続された第1の充
電用回路素子としての抵抗、(15)は第2主電極(3)
と補助電極(4)との間に接続された第2の充電用回路
素子としての抵抗である。
次に動作について説明する。先ず、充電用端子(6)に
電源(図示せず)から直流電圧を供給して充電用抵抗
(7)を介して各コンデンサ(9)(11)(12)を充電
する。ここで、各電極間には抵抗(14)(15)が接続さ
れているので、上記各コンデンサ(9)(11)(12)に
十分な電圧が印加される。
スイッチ(8)、リアクトル(10)およびコンデンサ
(9)(11)は従来からよく用いられるいわゆるLC反転
回路を構成する。従って、充電が完了した後スイッチ
(8)の火花ギャップを放電させると、第7図の波形1
に示すように、両コンデンサ(9)(11)の電圧が重畳
して両主電極(2)(3)間に高いパルス電圧が発生す
る。また、スイッチ(8)の閉と同時に第2の充電用コ
ンデンサ(12)も放電し、第2主電極(3)と補助電極
(4)との間にも、第7図波形2で示すようなパルス電
圧が発生する。
上記したパルス電圧の発生により、先ず、第2主電極
(3)と補助電極(4)との間にコロナ放電(16)が発
生する。この結果、このコロナ放電(16)による紫外線
がメッシュ構造の第2主電極(3)を通して両主電極
(2)(3)間に照射され予備電離が行われる。なお、
絶縁物(5)はコロナ放電(16)がアーク放電に移行す
るのを防止する。
両主電極(2)(3)間のパルス電圧の波高値が上昇し
てくると、予備電離によって発生した電子が種になって
衝突電離が発生し、両主電極(2)(3)間に主放電
(17)が発生しレーザ発振を行う。なお、ピーキングコ
ンデンサ(13)はいわゆる容量移行により両主電極
(2)(3)間に発生する電圧波高値を増大させるか、
または、主放電(17)へのピークパワーを増大させるも
のである。
ところで、第2主電極(3)と補助電極(4)との間に
発生するパルス電圧の立ち上がりを速くすると、そのコ
ロナ放電(16)による予備電離量が増加し、主放電(1
7)の均一性が増してレーザ出力が増大することが知ら
れている。(例えば、“J.Appl.Phys."54(10)、1983.
10発行P.5672〜P.5675参照)。上記した補助電極(4)
の回路のパルス電圧の立ち上がり速度は、回路の漂遊イ
ンダクタンス成分等に大きく左右される。即ち、特に、
スイッチ(8)の端部に存在する漂遊インダクタンス成
分や抵抗成分には主放電(17)の回路の電流も流れ、こ
れが電圧降下分となってコロナ放電(16)の回路の電圧
の立ち上がりが遅れることになる。
従って、リアクトル(10)の容量を増大して主放電(1
7)の回路の電流を抑制すると、その分コロナ放電(1
6)の回路の電圧の立ち上がりが速くなる(第8図波形
2)。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の放電励起パルスレーザ装置は以上のように構成さ
れているので、コロナ放電による予備電離量を増大させ
るためリアクトル(10)の容量を増大させると、第8図
の波形1に示すように、主放電の回路の電圧パルスの立
ち上がりが遅くなる。そのため、主放電のV-t特性から
放電開始電圧VBが低下して注入エネルギーが減少し、結
果としてレーザ出力を増大させることができないという
問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、両主電極間の放電開始電圧を低下させること
なく、補助電極と第2主電極との間の電圧の立ち上がり
を速めてレーザ出力の増大を図ることができる放電励起
パルスレーザ装置を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段および作用〕
この発明に係る放電励起パルスレーザ装置は、第1の充
電用コンデンサと直列に接続されるリアクトルを可飽和
リアクトルで構成し、スイッチを閉として補助電極と第
2主電極との間の電圧が立ち上がった後、上記可飽和リ
アクトルのインダクタンスが低減するようにしたもので
ある。
可飽和リアクトルの当初の容量を大きくしておくことに
より、補助電極と第2主電極との間のパルス電圧の立ち
上がりは急峻となる。そして、このパルス電圧が立ち上
がった後、可飽和リアクトルは磁気飽和してその容量
(インダクタンス)が非線形に低下し、両主電極間のパ
ルス電圧の立ち上がりはほとんど遅くならない。
更に、第2の充電用コンデンサと直列に遅延回路を挿入
して補助電極と第2主電極との間のパルス電圧の立ち上
がりのタイミングを両主電極間のパルス電圧の立ち上が
りのタイミングに合わせたものでは、コロナ放電による
予備電離で発生した電子があまり減少しない間に両主電
極間の電圧が立ち上がってくることになり予備電離の効
果が有効に活かされる。
〔実施例〕
第1図はこの発明の一実施例によるエキシマレーザ装置
を示す回路図である。図において、従来の第6図と同一
符号のものは従来と同一または相当部分を示す。但し、
充電用回路素子(14)(15)としては充電用リアクトル
を使用している。また、(18)は充電用リアクトル、
(19)は可飽和リアクトルで、従来のリアクトル(10)
に替わるものである。
次に動作について説明する。従来と同様、先ず、充電用
リアクトル(18)を介して各コンデンサ(9)(11)
(12)を充電しておく。この充電の過程で、可飽和リア
クトル(19)の鉄心は一方の極性に飽和した状態となっ
ている。そして、時刻t=0でスイッチ(8)の火花ギ
ャップを放電させると各コンデンサ(9)(11)(12)
は放電を開始する。可飽和リアクトル(19)を流れる電
流の向きは充電時と逆になるので、その鉄心は非飽和の
状態となり、従来の第8図の部分で説明した通り、可飽
和リアクトル(19)は大容量のリアクトルとして働き、
第2図に示すように、第1の充電用コンデンサ(9)の
放電を抑制する一方、第2の充電用コンデンサ(12)の
放電の立ち上がりが速くなってコロナ放電(16)による
予備電離量が増大する等、リアクトル(19)の容量増大
に基づく効果が期待通り得られる。
そして、第2図において放電が進み、時刻t=Tsに至る
と可飽和リアクトル(19)の鉄心は飽和状態となり、そ
のインダクタンスは非線形に急減する。この結果、同図
波形1で示すように、両主電極(2)(3)間のパルス
電圧の立ち上がりはこの急減したインダクタンスで決ま
り、従って、従来の第7図の場合とほぼ同様に高速度で
立ち上がり放電開始電圧VBも高くなって主放電(17)に
注入されるエネルギーも増大する。
補助電極(4)と第2主電極(3)との間には、第2図
に波形2で示したように、立ち上がりの急峻なパルス電
圧が印加され、コロナ放電(16)が発生して両主電極
(2)(3)間の予備電離が行われる。ところで、レー
ザチャンバー(1)内に封入するレーザガスとしてF2
HCl等の電子付着性ガスを混合したものを採用した場合
(特にF2ガスの場合)、予備電離により一旦発生した電
子が上記電子付着性ガスに吸着され予備電離の効果が減
少する。
第3図はこの点の不具合を解消した実施例を示す回路図
で、第1図と異なるところは、第2の充電用コンデンサ
(12)と直列に遅延回路として同軸ケーブル(20)を新
たに挿入した点のみである。
第4図はこの場合の各パルス電圧の波形を示す。即ち、
補助電極(4)と第2主電極(3)との間のパルス電圧
(同図波形2)を、第2図の場合に比較して、その立ち
上がり峻度を変えることなくその立ち上がり時点を同軸
ケーブル(20)により約40ns遅らせている。この結果、
パルス電圧波形2の立ち上がりのタイミングが両主電極
(2)(3)間のパルス電圧波形1の立ち上がりのタイ
ミングに合うことになり、コロナ放電に基づく予備電離
で発生した電子が吸着される弊害がほぼ除去され、主放
電への移行がスムーズに行われる。
なお、上記各実施例では、両主電極(2)(3)間にパ
ルス電圧を発生させる回路として充電用コンデンサ(1
1)をも使用したいわゆるLC反転回路を用いているが、
この発明の適用にあたっては、必ずしもこの回路に限定
されることはなく、従って、充電用コンデンサ(11)を
省略した回路であってもよい。
また、電極の構造は、第5図に示すようなものであって
もよい。即ち、図において、第2主電極(3)は第1主
電極(2)と同じ形状とされ、この第2主電極(3)の
両側に棒状の補助電極(4)が配置され、更にこの補助
電極(4)の周囲を絶縁物(5)が覆っている。
この場合も、先ず、補助電極(4)と第2主電極(3)
との間でコロナ放電(16)を発生させ、これによって両
電極(2)(3)間を予備電離し、更に主放電(17)に
移行させるもので、上記実施例と同様に適用でき同様の
効果を奏する。
また、上記各実施例ではスイッチ(8)として火花ギャ
ップによるものを採用したが、例えばサイラトロンを用
いても同様の効果を奏する。また、充電用回路素子(1
4)(15)としてはリアクトルに限らず抵抗やリアクト
ルと抵抗とを直並列接続して構成したものであってもよ
い。更に、当然ながら、この発明はエキシマレーザ装置
に限らず、広く放電励起パルスレーザ装置に適用するこ
とができる。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明では、第1の充電用コンデンサ
と可飽和リアクトルとを組合せ、コロナ放電のための電
圧が立ち上がった後、上記可飽和リアクトルのインダク
タンスが低減するようにしたので、コロナ放電と主放電
とのための電圧の立ち上がり峻度を共に高い値に設定す
ることができ、予備電離量が増大して主放電が均一とな
り放電への注入エネルギーも増大してレーザ出力、発振
効率が向上する。
また、第2の充電用コンデンサに遅延回路を挿入してコ
ロナ放電と主放電とのための電圧の立ち上がりのタイミ
ングを合わせるようにしたものでは、コロナ放電による
予備電離の効果が有効に活かされ、主放電への移行がス
ムーズとなりレーザ出力およびレーザ発振効率が一層向
上する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるエキシマレーザ装置
を示す回路図、第2図はそのパルス電圧波形を示す波形
図、第3図は他の実施例のものを示す回路図、第4図は
第3図の場合のパルス電圧波形を示す波形図、第5図は
更に他の実施例における電極構造を示す構成図、第6図
は従来のエキシマレーザ装置を示す回路図、第7図,第
8図は第6図の場合のパルス電圧波形を示す波形図であ
る。 図において、(2)は第1主電極、(3)は第2主電
極、(4)は補助電極、(8)はスイッチ、(9)は第
1の充電用コンデンサ、(12)は第2の充電用コンデン
サ、(14)および(15)はそれぞれ第1および第2の充
電用回路素子としての充電用リアクトル、(16)はコロ
ナ放電、(17)は主放電、(19)は可飽和リアクトル、
(20)は遅延回路としての同軸ケーブルである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】主放電を発生させる一対の第1主電極と第
    2主電極、この第2主電極との間でコロナ放電を発生さ
    せる補助電極、一方の極が上記第2主電極に接続された
    スイッチ、このスイッチの他方の極と上記第1主電極と
    の間に接続されたリアクトルと上記主放電のための第1
    の充電用コンデンサとの直列体、上記両主電極間に接続
    された第1の充電用回路素子、上記スイッチの他方の極
    と上記補助電極との間に接続された上記コロナ放電のた
    めの第2の充電用コンデンサ、および上記第2主電極と
    補助電極との間に接続された第2の充電用回路素子を備
    え、上記スイッチを開とした状態で上記両充電用コンデ
    ンサを充電した後、上記スイッチを閉とすることによ
    り、先ず、上記補助電極と第2主電極との間にコロナ放
    電を発生させこのコロナ放電により上記主電極間を予備
    電離して主放電に移行させるようにしたものにおいて、 上記リアクトルを可飽和リアクトルで構成し、上記スイ
    ッチを閉として上記補助電極と第2主電極との間の電圧
    が立ち上がった後上記可飽和リアクトルのインダクタン
    スが低減するようにしたことを特徴とする放電励起パル
    スレーザ装置。
  2. 【請求項2】第2の充電用コンデンサと直列に接続さ
    れ、補助電極と第2主電極との間に印加されるパルス電
    圧の立ち上がりのタイミングを両主電極間に印加される
    パルス電圧の立ち上がりのタイミングに合わせる遅延回
    路を備えたことを特徴とする請求項1記載の放電励起パ
    ルスレーザ装置。
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US07/523,688 US5090021A (en) 1989-05-17 1990-05-15 Discharge exciting pulse laser device
CA002017056A CA2017056C (en) 1989-05-17 1990-05-17 Discharge exciting pulse laser device
EP90109341A EP0398330B1 (en) 1989-05-17 1990-05-17 Discharge exciting pulse laser device
DE69016258T DE69016258T2 (de) 1989-05-17 1990-05-17 Durch Entladung angeregte, gepulste Laservorrichtung.
DE69029150T DE69029150T2 (de) 1989-05-17 1990-05-17 Entladungsangeregte Impulslaservorrichtung
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5040184A (en) * 1990-06-04 1991-08-13 Raytheon Company Starter circuit for an RF laser
DE69111061T2 (de) * 1991-02-08 1996-04-11 Mitsubishi Electric Corp Pulslaservorrichtung.
US5181217A (en) * 1991-02-27 1993-01-19 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Laser oscillator circuit
DE4108474A1 (de) * 1991-03-15 1992-09-17 Lambda Physik Forschung Vorrichtung zur vorionisierung eines gepulsten gaslasers
JPH04311077A (ja) * 1991-04-08 1992-11-02 Tech Res & Dev Inst Of Japan Def Agency パルス気体レーザ装置
JPH04326584A (ja) * 1991-04-25 1992-11-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 放電励起ガスレーザ装置
US5202892A (en) * 1991-11-08 1993-04-13 Kigre, Inc. Pulse forming and delivery system
US5309462A (en) * 1993-02-17 1994-05-03 National Research Council Of Canada Magnetic spiker gas laser excitation circuit
CN1034898C (zh) * 1994-09-21 1997-05-14 中国科学院电子学研究所 高重复频率高平均功率激光器
JPH08132321A (ja) * 1994-11-04 1996-05-28 Mitsubishi Electric Corp 放電励起パルスレーザ装置
JP3815578B2 (ja) * 1996-07-19 2006-08-30 忠弘 大見 エキシマレーザー発振装置
US6198761B1 (en) * 1999-05-07 2001-03-06 Lambda Physik Gmbh Coaxial laser pulser with solid dielectrics
WO2001084678A2 (en) 2000-04-18 2001-11-08 Lambda Physik Ag Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers
US6862307B2 (en) * 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
US7706424B2 (en) * 2005-09-29 2010-04-27 Cymer, Inc. Gas discharge laser system electrodes and power supply for delivering electrical energy to same

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4380079A (en) * 1980-09-12 1983-04-12 Northrop Corp. Gas laser preionization device
IT1171313B (it) * 1981-06-17 1987-06-10 Selenia Ind Elettroniche Laser a scarica longitudinale ad impulsi con preionizzazione ottenuta mediante effetto corona
DE3240372A1 (de) * 1982-11-02 1984-05-03 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Anregungssystem zur erzeugung einer schnellen, gepulsten hochspannungsentladung, insbesondere zur anregung eines hochleistungslasers
DE3313811A1 (de) * 1983-04-15 1984-10-18 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Transversal angeregter gaslaser
IT1197768B (it) * 1983-12-29 1988-12-06 Selenia Ind Elettroniche Preionizzatore ad effetto corona per laser a gas
EP0243374A4 (en) * 1985-10-18 1988-02-15 Amoco Corp ELECTRICAL EXCITATION CIRCUIT FOR GAS LASERS.
DE3705165A1 (de) * 1986-02-18 1987-08-20 Mitsubishi Electric Corp Mit entladungserregung arbeitende laservorrichtung fuer kurze impulse
US4975921A (en) * 1989-03-29 1990-12-04 Lasertechnics, Inc. Integrated prepulse circuits for efficient excitation of gas lasers

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