JPH0772402A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPH0772402A JPH0772402A JP24365793A JP24365793A JPH0772402A JP H0772402 A JPH0772402 A JP H0772402A JP 24365793 A JP24365793 A JP 24365793A JP 24365793 A JP24365793 A JP 24365793A JP H0772402 A JPH0772402 A JP H0772402A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポストオブジェクティブ走査型の光走査装置
に焦点深度の深いレーザービームを導入して高精度な光
走査を行なうことができる光走査装置を得ること。 【構成】 光源手段1から射出したレーザービームをベ
ッセルビーム生成手段3を介して第1種0次ベッセル関
数の2乗に略比例する強度分布を有するベッセルビーム
とし、該ベッセルビームを集光手段4により集光して偏
向手段5に入射させ、該偏向手段で反射偏向させた後、
直接被走査面6上に導光し、該被走査面上を光走査する
こと。
に焦点深度の深いレーザービームを導入して高精度な光
走査を行なうことができる光走査装置を得ること。 【構成】 光源手段1から射出したレーザービームをベ
ッセルビーム生成手段3を介して第1種0次ベッセル関
数の2乗に略比例する強度分布を有するベッセルビーム
とし、該ベッセルビームを集光手段4により集光して偏
向手段5に入射させ、該偏向手段で反射偏向させた後、
直接被走査面6上に導光し、該被走査面上を光走査する
こと。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光走査装置に関し、特に
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ(LBP)等に好適なポストオブジェク
ティブ走査型の光走査装置に関するものである。
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ(LBP)等に好適なポストオブジェク
ティブ走査型の光走査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタ(LB
P)等の光走査装置においては集光手段(結像手段)の
前側、即ち光源手段側でビーム偏向を行なう、所謂プレ
オブジェクティブ走査型と、該集光手段の後側、即ち被
走査面側でビーム偏向を行なう、所謂ポストオブジェク
ティブ走査型とがある。
P)等の光走査装置においては集光手段(結像手段)の
前側、即ち光源手段側でビーム偏向を行なう、所謂プレ
オブジェクティブ走査型と、該集光手段の後側、即ち被
走査面側でビーム偏向を行なう、所謂ポストオブジェク
ティブ走査型とがある。
【0003】このうちプレオブジェクティブ走査型の光
走査装置は画像信号に応じて光源手段から射出されたレ
ーザービームを光変調し、該光変調されたレーザービー
ムをポリゴンミラー等の光偏向器により周期的に偏向さ
せ、f−θレンズ等の結像光学系(集光手段)によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に収束させ光走査し
て画像記録を行なっている。
走査装置は画像信号に応じて光源手段から射出されたレ
ーザービームを光変調し、該光変調されたレーザービー
ムをポリゴンミラー等の光偏向器により周期的に偏向さ
せ、f−θレンズ等の結像光学系(集光手段)によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に収束させ光走査し
て画像記録を行なっている。
【0004】又、ポストオブジェクティブ型の光走査装
置は光源手段から射出されたレーザービームを光変調
し、該光変調されたレーザービームを結像光学系(集光
手段)を介して光偏向器に入射させ、該光偏向器で反射
偏向されたレーザービームを直接被走査面上に導光し、
該被走査面上を光走査して画像記録を行なっている。
置は光源手段から射出されたレーザービームを光変調
し、該光変調されたレーザービームを結像光学系(集光
手段)を介して光偏向器に入射させ、該光偏向器で反射
偏向されたレーザービームを直接被走査面上に導光し、
該被走査面上を光走査して画像記録を行なっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来のプレオブジェク
ティブ走査型において、結像光学系としては通常fθレ
ンズが用いられるが、該fθレンズはそのfθ特性や像
面湾曲収差等の補正をはじめとして、例えばスポット径
が小さい高解像度の場合には球面収差やコマ収差等も同
時に良好に補正する必要があった。
ティブ走査型において、結像光学系としては通常fθレ
ンズが用いられるが、該fθレンズはそのfθ特性や像
面湾曲収差等の補正をはじめとして、例えばスポット径
が小さい高解像度の場合には球面収差やコマ収差等も同
時に良好に補正する必要があった。
【0006】その為、レンズ口径の大きい複数枚のレン
ズを用いてfθレンズ系を構成しなければならない為、
装置全体が大型化になり易く、しかもレンズ間の光学調
整も難しくなり、又部品点数が増えることから低コスト
化を図るのが難しいという問題点があった。
ズを用いてfθレンズ系を構成しなければならない為、
装置全体が大型化になり易く、しかもレンズ間の光学調
整も難しくなり、又部品点数が増えることから低コスト
化を図るのが難しいという問題点があった。
【0007】一方、ポストオブジェクティブ走査型の結
像光学系は前述のプレオブジェクティブ走査型の結像光
学系に比べて軸上性能だけを良好に補正すれば良いの
で、レンズ構成が容易となり、又レンズ口径も小さなレ
ンズで良いので、装置全体の小型化及び低コスト化を図
るのには有利である。
像光学系は前述のプレオブジェクティブ走査型の結像光
学系に比べて軸上性能だけを良好に補正すれば良いの
で、レンズ構成が容易となり、又レンズ口径も小さなレ
ンズで良いので、装置全体の小型化及び低コスト化を図
るのには有利である。
【0008】しかしながら、このポストオブジェクティ
ブ走査型を用いたとき、該走査型特有の円弧状の像面湾
曲が発生してしまう為、例えばスポット径が小さい高解
像度の場合には被走査面上に形成される一部のスポット
(点像)が焦点深度内から外れてしまい、スポットのボ
ケが発生してくるという問題点があった。
ブ走査型を用いたとき、該走査型特有の円弧状の像面湾
曲が発生してしまう為、例えばスポット径が小さい高解
像度の場合には被走査面上に形成される一部のスポット
(点像)が焦点深度内から外れてしまい、スポットのボ
ケが発生してくるという問題点があった。
【0009】そこで従来のポストオブジェクティブ走査
型の光走査装置においては、この問題点を解決する為
に、例えば特開昭63−239417号公報では結像レ
ンズ(結像光学系)を走査に同期させ光軸方向に沿って
駆動手段により単振動運動させることによって像面湾曲
を補正している。
型の光走査装置においては、この問題点を解決する為
に、例えば特開昭63−239417号公報では結像レ
ンズ(結像光学系)を走査に同期させ光軸方向に沿って
駆動手段により単振動運動させることによって像面湾曲
を補正している。
【0010】しかしながら、この光走査装置では比較的
重い物体(結像レンズ)を10μm程度のストロークで
数KHZ 以上の高速度で振動させなければならないの
で、その目的に合致した駆動手段(例えばアクチュエー
タ)を実現させるのが大変難しく、又装置全体が複雑化
し又低コストの装置を得るのが非常に難しいという問題
点があった。
重い物体(結像レンズ)を10μm程度のストロークで
数KHZ 以上の高速度で振動させなければならないの
で、その目的に合致した駆動手段(例えばアクチュエー
タ)を実現させるのが大変難しく、又装置全体が複雑化
し又低コストの装置を得るのが非常に難しいという問題
点があった。
【0011】本発明はベッセルビーム生成手段により生
成されたベッセルビームを用いて被走査面を光走査する
ことにより、簡易な構成で記録画像の画質の向上を図る
ことができる光走査装置の提供を目的とする。
成されたベッセルビームを用いて被走査面を光走査する
ことにより、簡易な構成で記録画像の画質の向上を図る
ことができる光走査装置の提供を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介して第1種0次ベッセル関数の2乗に略比
例する強度分布を有するベッセルビームとし、該ベッセ
ルビームを集光手段により集光して偏向手段に入射さ
せ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面上に
導光し、該被走査面上を光走査することを特徴としてい
る。
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介して第1種0次ベッセル関数の2乗に略比
例する強度分布を有するベッセルビームとし、該ベッセ
ルビームを集光手段により集光して偏向手段に入射さ
せ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面上に
導光し、該被走査面上を光走査することを特徴としてい
る。
【0013】特に前記ベッセルビーム生成手段により生
成されたベッセルビームの光軸方向の中心位置を前記集
光手段の前側焦点位置よりも前記光源手段側になるよう
に各要素を設定したことを特徴としている。
成されたベッセルビームの光軸方向の中心位置を前記集
光手段の前側焦点位置よりも前記光源手段側になるよう
に各要素を設定したことを特徴としている。
【0014】
【実施例】図1は本発明の実施例1の要部概略図であ
る。
る。
【0015】同図において1は光源手段であり、例えば
半導体レーザより成っている。2はコリメーターレンズ
であり、光源手段1から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム(光ビーム)を平行光束としてい
る。
半導体レーザより成っている。2はコリメーターレンズ
であり、光源手段1から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム(光ビーム)を平行光束としてい
る。
【0016】3はベッセルビーム生成手段としてのアキ
シコンであり、焦点深度の深いビームスポットを持つ第
1種0次ベッセル関数の2乗に略比例する強度分布を有
するベッセルビームを生成している。
シコンであり、焦点深度の深いビームスポットを持つ第
1種0次ベッセル関数の2乗に略比例する強度分布を有
するベッセルビームを生成している。
【0017】4は集光レンズ(集光手段)であり、単一
のレンズより成っており、ベッセルビームを集光して偏
向手段としての光偏向器5の偏向面(反射面)に入射さ
せている。該光偏向器5は4つの偏向面を有した回転多
面鏡より成っており、モータ等の駆動手段(不図示)に
より回転軸Oを中心に矢印C方向に等速回転している。
6は被走査面であり、例えば複写機やLBP等では感光
体ドラム面に相当している。
のレンズより成っており、ベッセルビームを集光して偏
向手段としての光偏向器5の偏向面(反射面)に入射さ
せている。該光偏向器5は4つの偏向面を有した回転多
面鏡より成っており、モータ等の駆動手段(不図示)に
より回転軸Oを中心に矢印C方向に等速回転している。
6は被走査面であり、例えば複写機やLBP等では感光
体ドラム面に相当している。
【0018】本実施例の光走査装置は集光レンズ4より
も後側、即ち被走査面6側でビーム偏向を行なう、所謂
ポストオブジェクティブ走査型より構成している。
も後側、即ち被走査面6側でビーム偏向を行なう、所謂
ポストオブジェクティブ走査型より構成している。
【0019】次にベッセルビームについて説明する。
【0020】ベッセルビームは、例えばJ.Durnin,J,Op
t,Soc,Am.A4(1987)651.や特開平4−171415号公
報で開示されているように第1種0次ベッセル関数の2
乗に略比例する強度分布を有しており、極めて焦点深度
の深いレーザービームであり、かつスポット径が比較的
小さいという特長を有している。
t,Soc,Am.A4(1987)651.や特開平4−171415号公
報で開示されているように第1種0次ベッセル関数の2
乗に略比例する強度分布を有しており、極めて焦点深度
の深いレーザービームであり、かつスポット径が比較的
小さいという特長を有している。
【0021】このベッセルビームの強度分布I0 は中心
強度を1に正規化したとき I0 (r)=J0 2(αr) ‥‥‥(1) で表わされる。ここでJ0 は第1種0次ベッセル関数、
rは光軸に直交する断面内での光軸からの距離である。
又パラメータαはベッセルビームを形成する光線が光軸
となす角度とレーザービームの波長とで決るパラメータ
である。
強度を1に正規化したとき I0 (r)=J0 2(αr) ‥‥‥(1) で表わされる。ここでJ0 は第1種0次ベッセル関数、
rは光軸に直交する断面内での光軸からの距離である。
又パラメータαはベッセルビームを形成する光線が光軸
となす角度とレーザービームの波長とで決るパラメータ
である。
【0022】図5はこのベッセルビームの被走査面上に
おける断面強度分布を示した説明図である。
おける断面強度分布を示した説明図である。
【0023】本実施例においては図1に示すように半導
体レーザ1から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ2により平面波に変換し、アキシコン3に入射さ
せている。そしてアキシコン3から出射したレーザービ
ームは互いに干渉しあい、その光路を横切る平面(位
置)A近傍に第1種0次ベッセル関数の2乗に略比例す
る強度分布を有するベッセルビームBを形成している。
そして該ベッセルビームBは平面Aから離れるに従い発
散するが集光レンズ4により収束作用を受け、回転多面
鏡5の偏向面(反射面)5b近傍に略リング形状に集光
している。
体レーザ1から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ2により平面波に変換し、アキシコン3に入射さ
せている。そしてアキシコン3から出射したレーザービ
ームは互いに干渉しあい、その光路を横切る平面(位
置)A近傍に第1種0次ベッセル関数の2乗に略比例す
る強度分布を有するベッセルビームBを形成している。
そして該ベッセルビームBは平面Aから離れるに従い発
散するが集光レンズ4により収束作用を受け、回転多面
鏡5の偏向面(反射面)5b近傍に略リング形状に集光
している。
【0024】尚、本実施例においてベッセルビームBの
光軸方向の中心位置Aは集光レンズ4の前側焦点位置よ
りも半導体レーザー1側に位置するように設定してい
る。
光軸方向の中心位置Aは集光レンズ4の前側焦点位置よ
りも半導体レーザー1側に位置するように設定してい
る。
【0025】そして回転多面鏡5の偏向面5bで反射偏
向されたレーザービームは直接被走査面6上に集光しベ
ッセルビームB´を形成している。
向されたレーザービームは直接被走査面6上に集光しベ
ッセルビームB´を形成している。
【0026】尚、本実施例においては被走査面6と平面
(位置)Aとは光学的に略共役な関係に設定しているの
で、被走査面6近傍でのレーザービームはベッセルビー
ムB´になっている。
(位置)Aとは光学的に略共役な関係に設定しているの
で、被走査面6近傍でのレーザービームはベッセルビー
ムB´になっている。
【0027】そして回転多面鏡5を図中矢印C方向に回
転させることによって被走査面6上を主走査方向に図中
矢印Dの如く微小スポット径で光走査すると共に、該被
走査面6を副走査方向に移動、もしくは回動させること
により2次元的に画像を光走査(記録)するようにして
いる。
転させることによって被走査面6上を主走査方向に図中
矢印Dの如く微小スポット径で光走査すると共に、該被
走査面6を副走査方向に移動、もしくは回動させること
により2次元的に画像を光走査(記録)するようにして
いる。
【0028】このように本実施例では被走査面近傍に形
成されるレーザービームがベッセルビームとなってお
り、このベッセルビームは前述の如く焦点深度が非常に
深く、図1に示す斜線部分の領域内では該ベッセルビー
ムの中心スポットの直径が殆ど変化しないという特長が
ある。
成されるレーザービームがベッセルビームとなってお
り、このベッセルビームは前述の如く焦点深度が非常に
深く、図1に示す斜線部分の領域内では該ベッセルビー
ムの中心スポットの直径が殆ど変化しないという特長が
ある。
【0029】従って、走査ビームが被走査面6の中央部
を走査する場合でも周辺部を走査する場合でも、共にベ
ッセルビームの焦点深度内の許容値に治まっているの
で、該ベッセルビームの中心スポットの直径は殆ど変化
せず、これにより被走査面6領域全体にわたって微小ス
ポットで走査することができる。
を走査する場合でも周辺部を走査する場合でも、共にベ
ッセルビームの焦点深度内の許容値に治まっているの
で、該ベッセルビームの中心スポットの直径は殆ど変化
せず、これにより被走査面6領域全体にわたって微小ス
ポットで走査することができる。
【0030】次に本発明の実施例1の集光レンズ4の近
軸関係について図2を用いて説明する。同図において図
1に示した要素と同一要素には同符番を付している。
軸関係について図2を用いて説明する。同図において図
1に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【0031】同図においてfは集光レンズ4の焦点距
離、F1は該集光レンズ4の前側焦点位置、F2は該集
光レンズ4の後側焦点位置、F3は後側焦点位置F2よ
りも焦点距離fだけ被走査面6側に離した位置である。
又ベッセルビームの中心位置Aから集光レンズ4の前側
主点までの距離をa、集光レンズ4の後側主点から回転
多面鏡5を介して被走査面6までの距離をbとしてい
る。
離、F1は該集光レンズ4の前側焦点位置、F2は該集
光レンズ4の後側焦点位置、F3は後側焦点位置F2よ
りも焦点距離fだけ被走査面6側に離した位置である。
又ベッセルビームの中心位置Aから集光レンズ4の前側
主点までの距離をa、集光レンズ4の後側主点から回転
多面鏡5を介して被走査面6までの距離をbとしてい
る。
【0032】このとき例えばa>0、b>0、f>0と
したとき本実施例においては 1/a+1/b=1/f の関係が略成立するように各要素を設定している。
したとき本実施例においては 1/a+1/b=1/f の関係が略成立するように各要素を設定している。
【0033】又、本実施例においては被走査面6が集光
レンズ4からあまり遠方にならないように、a>fの関
係が満足するように各要素を設定している。
レンズ4からあまり遠方にならないように、a>fの関
係が満足するように各要素を設定している。
【0034】即ち、ベッセルビームの光軸方向の中心位
置Aが集光レンズ4の前側焦点位置F1よりも光源手段
1側に位置するように設定している。
置Aが集光レンズ4の前側焦点位置F1よりも光源手段
1側に位置するように設定している。
【0035】更に本実施例においては中心位置A近傍に
生成されるベッセルビームBを被走査面6上に所定の倍
率で拡大結像させているので、a<2f(即ちb>2
f)の関係も同時に満足させている。これは被走査面6
が位置F3より遠方の位置にあることを意味している。
生成されるベッセルビームBを被走査面6上に所定の倍
率で拡大結像させているので、a<2f(即ちb>2
f)の関係も同時に満足させている。これは被走査面6
が位置F3より遠方の位置にあることを意味している。
【0036】次に具体的な数値例を挙げて本実施例の光
学的作用について説明する。
学的作用について説明する。
【0037】図1において、例えば材質の屈折率Nが
1.511、プリズム頂角αが170°より成るアキシ
コンを用い、かつ波長λが780nmの半導体レーザを
用い、ビームスポット径を4mmに設定して該アキシコ
ンに入射させると、中心位置A近傍に形成されるベッセ
ルビームBの中心スポットの直径は中心強度の1/e2
値で約10μm、焦点深度は約44mm(±22mm)
となる。
1.511、プリズム頂角αが170°より成るアキシ
コンを用い、かつ波長λが780nmの半導体レーザを
用い、ビームスポット径を4mmに設定して該アキシコ
ンに入射させると、中心位置A近傍に形成されるベッセ
ルビームBの中心スポットの直径は中心強度の1/e2
値で約10μm、焦点深度は約44mm(±22mm)
となる。
【0038】このとき、例えば結像倍率を2倍(a=
1.5f、b=3f)にして拡大結像させたとき、該被
走査面6上に形成されるベッセルビームB´の中心スポ
ットの直径は約20μm、焦点深度は約176mm(±
88mm)となる。
1.5f、b=3f)にして拡大結像させたとき、該被
走査面6上に形成されるベッセルビームB´の中心スポ
ットの直径は約20μm、焦点深度は約176mm(±
88mm)となる。
【0039】このように被走査面6上に形成されるベッ
セルビームは非常に焦点深度が深く、かつスポット径が
小さいレーザービームであるので、例えば回転多面鏡5
のビーム偏向点(レーザービームが光偏向器に入射する
点)を曲率中心とするようなポストオブジェクティブ走
査型特有の円弧状の大きな像面湾曲が発生しても、微小
スポット径の強度分布は変化せず一定に保つことがで
き、これにより高解像度の光走査装置を得ることができ
る。
セルビームは非常に焦点深度が深く、かつスポット径が
小さいレーザービームであるので、例えば回転多面鏡5
のビーム偏向点(レーザービームが光偏向器に入射する
点)を曲率中心とするようなポストオブジェクティブ走
査型特有の円弧状の大きな像面湾曲が発生しても、微小
スポット径の強度分布は変化せず一定に保つことがで
き、これにより高解像度の光走査装置を得ることができ
る。
【0040】次に上記の光学的作用について図3、図4
を用いて説明する。
を用いて説明する。
【0041】図3はポストオブジェクティブ走査型の光
走査装置の光学系の像面湾曲を示す為の説明図である。
走査装置の光学系の像面湾曲を示す為の説明図である。
【0042】同図において6は被走査面、7は湾曲した
円弧状の像面(結像位置)、Oはビーム偏向点(レーザ
ービームが光偏向器に入射する点)、Rはビーム偏向点
Oから被走査面6と光軸Xとが交わる点までの距離、X
は光軸、θはレーザービームの走査角、ΔLは像面湾曲
量である。本実施例による像面7はビーム偏向点Oを中
心とした半径Rの円弧に略等しい。
円弧状の像面(結像位置)、Oはビーム偏向点(レーザ
ービームが光偏向器に入射する点)、Rはビーム偏向点
Oから被走査面6と光軸Xとが交わる点までの距離、X
は光軸、θはレーザービームの走査角、ΔLは像面湾曲
量である。本実施例による像面7はビーム偏向点Oを中
心とした半径Rの円弧に略等しい。
【0043】通常、像面湾曲量は光軸に沿った距離とし
て定義されているが、ここでは便宜上被走査面6から像
面7までの走査ビームに沿って測った距離を像面湾曲量
ΔLと定義する。
て定義されているが、ここでは便宜上被走査面6から像
面7までの走査ビームに沿って測った距離を像面湾曲量
ΔLと定義する。
【0044】このときの像面湾曲量ΔLは以下の式
(2)より |ΔL|=R(1/cosθ−1) ‥‥‥(2) 求めることができる。
(2)より |ΔL|=R(1/cosθ−1) ‥‥‥(2) 求めることができる。
【0045】ここで例えばR=300mm、θ=0°〜
30°としたときの像面湾曲量ΔLを計算した結果を図
4に示す。同図に示す如く像面湾曲量ΔLの最大値は走
査角θ=30°のときΔL=46mmとなる。
30°としたときの像面湾曲量ΔLを計算した結果を図
4に示す。同図に示す如く像面湾曲量ΔLの最大値は走
査角θ=30°のときΔL=46mmとなる。
【0046】この像面湾曲量ΔLは前述した焦点深度内
(±88mm)の許容値に治まっているので実用上のス
ポットのボケは発生しない。
(±88mm)の許容値に治まっているので実用上のス
ポットのボケは発生しない。
【0047】従って、本実施例においては被走査面領域
全体にわたり微小スポットを形成することができ、これ
により高精度な光走査を可能としている。
全体にわたり微小スポットを形成することができ、これ
により高精度な光走査を可能としている。
【0048】尚、上記の実施例においては走査角θが0
°のとき被走査面6と像面7とが一致するように設定し
たが、必ずしも走査角θが0°のときで一致させる必要
はなく、例えば走査角θが20°前後の中間走査角θの
とき被走査面6と像面7とを一致させても良く、これに
より焦点深度の許容範囲に余裕を持たせることができ
る。
°のとき被走査面6と像面7とが一致するように設定し
たが、必ずしも走査角θが0°のときで一致させる必要
はなく、例えば走査角θが20°前後の中間走査角θの
とき被走査面6と像面7とを一致させても良く、これに
より焦点深度の許容範囲に余裕を持たせることができ
る。
【0049】又、本実施例においての集光手段は必ずし
も単一レンズで構成する必要はなく、例えば複数枚のレ
ンズから構成されるレンズ系であっても良い。
も単一レンズで構成する必要はなく、例えば複数枚のレ
ンズから構成されるレンズ系であっても良い。
【0050】又、ベッセルビームを発生させる手段とし
てはアキシコンの代わりに、例えば細いリング開口とレ
ンズとを用いた光学系や、アキシコンと同等の光学性能
を有する回折格子等を用いても良い。
てはアキシコンの代わりに、例えば細いリング開口とレ
ンズとを用いた光学系や、アキシコンと同等の光学性能
を有する回折格子等を用いても良い。
【0051】又、本実施例においては偏向器として回転
多面鏡を用いたが、例えばガルバノミラー等の単一面鏡
であっても本発明は前述の実施例と同様に適用すること
ができる。
多面鏡を用いたが、例えばガルバノミラー等の単一面鏡
であっても本発明は前述の実施例と同様に適用すること
ができる。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば前述の如くポストオブジ
ェクティブ走査型の光走査装置にレーザービームとして
ベッセルビームを導入することにより、焦点深度の深い
微小スポットで被走査面上を光走査することができ、こ
れにより装置の高性能化を図ることができる光走査装置
を達成することができる。
ェクティブ走査型の光走査装置にレーザービームとして
ベッセルビームを導入することにより、焦点深度の深い
微小スポットで被走査面上を光走査することができ、こ
れにより装置の高性能化を図ることができる光走査装置
を達成することができる。
【図1】 本発明の実施例1の要部概略図
【図2】 本発明の実施例1の集光手段の近軸関係を説
明する為の説明図
明する為の説明図
【図3】 本発明の実施例1の像面湾曲量を説明する為
の説明図
の説明図
【図4】 本発明の実施例1の像面湾曲を示す説明図
【図5】 ベッセルビームの断面強度分布を示す説明図
1 光源手段 2 コリメーターレンズ 3 ベッセルビーム生成手段(アキシコン) 4 集光手段 5 偏向手段 6 被走査面 7 像面 ΔL 像面湾曲量 θ 走査角
Claims (2)
- 【請求項1】 光源手段から射出したレーザービームを
ベッセルビーム生成手段を介して第1種0次ベッセル関
数の2乗に略比例する強度分布を有するベッセルビーム
とし、該ベッセルビームを集光手段により集光して偏向
手段に入射させ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接
被走査面上に導光し、該被走査面上を光走査することを
特徴とする光走査装置。 - 【請求項2】 前記ベッセルビーム生成手段により生成
されたベッセルビームの光軸方向の中心位置を前記集光
手段の前側焦点位置よりも前記光源手段側になるように
各要素を設定したことを特徴とする請求項1の光走査装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24365793A JP3198750B2 (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24365793A JP3198750B2 (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0772402A true JPH0772402A (ja) | 1995-03-17 |
JP3198750B2 JP3198750B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=17107077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24365793A Expired - Fee Related JP3198750B2 (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3198750B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7342700B2 (en) | 2005-02-04 | 2008-03-11 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
US7876485B2 (en) | 2007-02-09 | 2011-01-25 | Ricoh Company, Ltd. | Light scanning unit and image forming apparatus using the same |
JP2012008195A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-01-12 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011055160A1 (en) | 2009-11-06 | 2011-05-12 | Laboratorio Jaer, S.A. | The use of xylitol for the economic improvement of intensive pig farming production |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP24365793A patent/JP3198750B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7342700B2 (en) | 2005-02-04 | 2008-03-11 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
US7876485B2 (en) | 2007-02-09 | 2011-01-25 | Ricoh Company, Ltd. | Light scanning unit and image forming apparatus using the same |
JP2012008195A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-01-12 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3198750B2 (ja) | 2001-08-13 |
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