JPH0770585B2 - ウェ−ハ支持方法 - Google Patents
ウェ−ハ支持方法Info
- Publication number
- JPH0770585B2 JPH0770585B2 JP61142567A JP14256786A JPH0770585B2 JP H0770585 B2 JPH0770585 B2 JP H0770585B2 JP 61142567 A JP61142567 A JP 61142567A JP 14256786 A JP14256786 A JP 14256786A JP H0770585 B2 JPH0770585 B2 JP H0770585B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- groove
- outer peripheral
- supporting
- supported
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 円板状のウェーハの両面の検査あるいは処理を行う際の
ウェーハの支持方法に関し、 ウェーハに外力が掛かって損傷したり汚染したりしない
ようにすることを目的とし、 円板状ウェーハの回りに配設された複数の回転車のそれ
ぞれの外周側面に、該ウェーハの厚みよりも広い幅を有
する溝が設けられ、該ウェーハと略平行となる該溝の側
壁上に、該ウェーハの外周端面と該溝の底面との間に遊
びを残すように該ウェーハを支持するように構成する。
ウェーハの支持方法に関し、 ウェーハに外力が掛かって損傷したり汚染したりしない
ようにすることを目的とし、 円板状ウェーハの回りに配設された複数の回転車のそれ
ぞれの外周側面に、該ウェーハの厚みよりも広い幅を有
する溝が設けられ、該ウェーハと略平行となる該溝の側
壁上に、該ウェーハの外周端面と該溝の底面との間に遊
びを残すように該ウェーハを支持するように構成する。
本発明は、円板状のウェーハを回転させたり、傾倒させ
たり、転倒させたりできるウェーハ支持方法に関する。
たり、転倒させたりできるウェーハ支持方法に関する。
半導体装置などの製造においては、通常、製造途上の基
板に円板状のウェーハを用い、これに種々の加工を施
す。そして加工の状態や加工中に発生し不良の原因とな
るマイクロクラックの有無などを調べるため、工程の要
所にウェーハの表面を観察する検査が挿入される。その
観察においては、表面の反射状態が影響するためウェー
ハを面方向に回転させたり傾斜させたりすることがあ
り、またマイクロクラックの発生が片面に限られないた
め、その観察は両面を対象にする必要がある。
板に円板状のウェーハを用い、これに種々の加工を施
す。そして加工の状態や加工中に発生し不良の原因とな
るマイクロクラックの有無などを調べるため、工程の要
所にウェーハの表面を観察する検査が挿入される。その
観察においては、表面の反射状態が影響するためウェー
ハを面方向に回転させたり傾斜させたりすることがあ
り、またマイクロクラックの発生が片面に限られないた
め、その観察は両面を対象にする必要がある。
このため上記観察を行う際のウェーハの支持は、上記条
件の全てを満たせるようにするのが望ましい。
件の全てを満たせるようにするのが望ましい。
上記観察を行う場合に、通常用いられるウェーハ支持の
方法は、ウェーハをピンセットで挟み持つものである。
方法は、ウェーハをピンセットで挟み持つものである。
この方法は、ウェーハの両面観察が可能であるが、操作
が不安定であり且つウェーハを損傷させ易いので望まし
いものではない。
が不安定であり且つウェーハを損傷させ易いので望まし
いものではない。
これに代わるものとして、第3図の側面図に示す如くウ
ェーハWを真空チャックCに吸着させて支持する方法が
ある。
ェーハWを真空チャックCに吸着させて支持する方法が
ある。
この方法は、チャックCを動かすことによりウェーハを
安定に面方向回転させたり傾けたりすることが出来て観
察に便利である。
安定に面方向回転させたり傾けたりすることが出来て観
察に便利である。
しかしながらこの方法は、チャックCがウェーハWの一
面に接するため、両面観察を行う場合にはウェーハWを
裏返しにしてチャックし直す必要があり、またチャック
CがウェーハWの表面を汚染する問題がある。
面に接するため、両面観察を行う場合にはウェーハWを
裏返しにしてチャックし直す必要があり、またチャック
CがウェーハWの表面を汚染する問題がある。
上記問題点は、本発明を説明する第1図と第2図に示し
たように、円板状ウェーハの回りに配設された複数の回
転車のそれぞれの外周側面に、該ウェーハの厚みよりも
広い幅を有する溝が設けられ、該ウェーハと略平行とな
る該溝の側壁上に、該ウェーハの外周端面と該溝の底面
との間に遊びを残すように該ウェーハを支持するように
構成されたウェーハ支持方法によって解決される。
たように、円板状ウェーハの回りに配設された複数の回
転車のそれぞれの外周側面に、該ウェーハの厚みよりも
広い幅を有する溝が設けられ、該ウェーハと略平行とな
る該溝の側壁上に、該ウェーハの外周端面と該溝の底面
との間に遊びを残すように該ウェーハを支持するように
構成されたウェーハ支持方法によって解決される。
本発明においては、ウェーハWの周縁部を複数の回転車
2、3の溝1の側壁に乗せて支持するようにしている。
また、ウェーハWの外周端面が溝1の底面と遊びを残し
て支持するようにしている。
2、3の溝1の側壁に乗せて支持するようにしている。
また、ウェーハWの外周端面が溝1の底面と遊びを残し
て支持するようにしている。
こゝで、溝1を凵字型に見立てたときに、側壁は側面を
示し、底面は底部を示している。従って、回転車の外周
側面に設けられた溝1は匚字型になるので、側壁はウェ
ーハWと略平行な上下の面となり、底面はウェーハWの
表面と略垂直で、外周端面と略平行となる面となる。
示し、底面は底部を示している。従って、回転車の外周
側面に設けられた溝1は匚字型になるので、側壁はウェ
ーハWと略平行な上下の面となり、底面はウェーハWの
表面と略垂直で、外周端面と略平行となる面となる。
その結果、ウェーハWは周縁部のみで支持されるので表
裏面が開放状態になるとともに、回転車2、3の何れか
を回転させてウェーハWを回しても、回転車2、3を支
持する基体11を回転させてウェーハWを傾けたり裏返し
にしたりしても、ウェーハWに異常な外力が掛からな
い。その結果、ウェーハWの損傷が防げるとともに、破
片などの付着による汚染も減少させることができる。
裏面が開放状態になるとともに、回転車2、3の何れか
を回転させてウェーハWを回しても、回転車2、3を支
持する基体11を回転させてウェーハWを傾けたり裏返し
にしたりしても、ウェーハWに異常な外力が掛からな
い。その結果、ウェーハWの損傷が防げるとともに、破
片などの付着による汚染も減少させることができる。
以下、模式的に示す第2図の平面図を用い本発明方法の
適用実施例となるウェーハ支持装置について説明する。
なお同図の実線はウェーハWを支持した状態を示し、破
線はウェーハWを解放した状態を示す。
適用実施例となるウェーハ支持装置について説明する。
なお同図の実線はウェーハWを支持した状態を示し、破
線はウェーハWを解放した状態を示す。
第2図において、2および3は第1図図示の溝1を有し
ウェーハWを支持する回転車であり、2個の回転車2お
よび4個の回転車3が、溝1を同一平面内にあるように
してウェーハW周縁の略6等分位置に配置される。そし
て回転車2の回転がウェーハWを面方向に回転させる。
回転車の上記配置は、ウェーハWにファセットが設けら
れている場合にもウェーハWの支持および回転に支障を
来さないようにしている。
ウェーハWを支持する回転車であり、2個の回転車2お
よび4個の回転車3が、溝1を同一平面内にあるように
してウェーハW周縁の略6等分位置に配置される。そし
て回転車2の回転がウェーハWを面方向に回転させる。
回転車の上記配置は、ウェーハWにファセットが設けら
れている場合にもウェーハWの支持および回転に支障を
来さないようにしている。
回転車2は、Y字状基体11の根元部に固定されたエアシ
リンダ12の駆動により図の上下方向に移動する補助基体
12に取付けられている。
リンダ12の駆動により図の上下方向に移動する補助基体
12に取付けられている。
回転車3は、2個が1組になり、基体11の先端部に支点
13を有するレバー14の先端部(図で上側)に取付けられ
ている。
13を有するレバー14の先端部(図で上側)に取付けられ
ている。
レバー14の反対側先端部と補助基体21との間には、補助
基体21側がエアシリンダ12側に寄るように斜めになって
両端部のそれぞれがピンジョイントされたレバー15が設
けられている。
基体21側がエアシリンダ12側に寄るように斜めになって
両端部のそれぞれがピンジョイントされたレバー15が設
けられている。
また補助基体21には、回転車2にベルト結合するベルト
車22とベルト車22を回転させるモータ23が取付けられて
いる。
車22とベルト車22を回転させるモータ23が取付けられて
いる。
従って上記構成は、エアシリンダ12の駆動により補助基
体21を図の上方向に移動させると、実線で示す如くに回
転車2および3がウェーハWを周囲から挟んで両面開放
の状態に支持し、下方向に移動させると、破線で示す如
くにウェーハWを解放する。
体21を図の上方向に移動させると、実線で示す如くに回
転車2および3がウェーハWを周囲から挟んで両面開放
の状態に支持し、下方向に移動させると、破線で示す如
くにウェーハWを解放する。
支持の際には、補助基体21の上方向の移動が適宜の位置
で止まるようにして溝1の底面とウェーハWの外周面と
の間に遊びが残るようにしてあり、回転車2および3が
ウェーハWの外周面を押しつけることがない。これは溝
1の幅がウェーハWの厚さより広いことと相俟ってウェ
ーハWに外力が加わわらないようにしたもので、例えば
ウェーハWの縁における欠けの発生などウェーハWが損
傷するのを防止している。
で止まるようにして溝1の底面とウェーハWの外周面と
の間に遊びが残るようにしてあり、回転車2および3が
ウェーハWの外周面を押しつけることがない。これは溝
1の幅がウェーハWの厚さより広いことと相俟ってウェ
ーハWに外力が加わわらないようにしたもので、例えば
ウェーハWの縁における欠けの発生などウェーハWが損
傷するのを防止している。
また、支持した状態でウェーハWを回転させる回転車2
の回転は、モータ23の駆動によって得ることが出来る。
の回転は、モータ23の駆動によって得ることが出来る。
本支持装置は、ウェーハWを裏返しにしたり傾斜させた
りするために、第2図の上下方向中心線を軸に基体11を
回転させるモータ31と、基体11の根元を支点に先端を図
に垂直な方向に振らせることの出来る駆動機構(図示省
略)とを具えている。
りするために、第2図の上下方向中心線を軸に基体11を
回転させるモータ31と、基体11の根元を支点に先端を図
に垂直な方向に振らせることの出来る駆動機構(図示省
略)とを具えている。
また本支持装置を使用する際のウェーハWの支持および
解放には、例えば、載置面がウェーハWより小さく且つ
上下可能なウェーハ載置用ステージと組み合わせると良
い。
解放には、例えば、載置面がウェーハWより小さく且つ
上下可能なウェーハ載置用ステージと組み合わせると良
い。
即ち、上側点に位置するステージに載置されたウェーハ
Wに対して支持操作を行い、支持状態になったところで
ステージを下側に退避させれば、ウェーハWの面方向回
転は言うまでもなく傾斜や裏返しも自由に行うことが出
来る。ウェーハWの解放は支持の場合と逆の操作を行え
ば良い。
Wに対して支持操作を行い、支持状態になったところで
ステージを下側に退避させれば、ウェーハWの面方向回
転は言うまでもなく傾斜や裏返しも自由に行うことが出
来る。ウェーハWの解放は支持の場合と逆の操作を行え
ば良い。
ステージを上下動させる代わりに、本支持装置を上下動
させても良い。
させても良い。
かくして本支持装置は、ウェーハWを両面開放の状態に
支持して、回転、裏返し、傾斜させることが可能であ
り、然もその間におけるウェーハWの損傷や汚染を減少
させることが出来る。
支持して、回転、裏返し、傾斜させることが可能であ
り、然もその間におけるウェーハWの損傷や汚染を減少
させることが出来る。
本発明によれば、ウェーハの周縁部を回転車に設けた溝
の側壁に乗せ、外周端面と溝の底面と遊びを持たさせ支
持しているので、回転させても、裏返しや傾斜させて
も、ウェーハの周縁部に異常な外力が掛からない。
の側壁に乗せ、外周端面と溝の底面と遊びを持たさせ支
持しているので、回転させても、裏返しや傾斜させて
も、ウェーハの周縁部に異常な外力が掛からない。
従って、ウェーハの周縁を損傷したりその破片で汚染し
たりさせることなく、ウェーハの両面を開放させること
ができ、両面観察などを容易に行うことができる。
たりさせることなく、ウェーハの両面を開放させること
ができ、両面観察などを容易に行うことができる。
第1図は本発明方法を説明する平面図(a)と部分拡大
側断面図(b)、 第2図は本発明方法の適用実施例となるウェーハ支持装
置を模式的に示す平面図、 第3図は従来方法例を説明する側面図、 である。 図において、 1は溝、 2、3は回転車、 11は基体、 12はエアシリンダ、 13は支点、 14、15はレバー、 21は補助基体、 22はベルト車、 23、31はモータ、 Wはウェーハ、 Cは真空チャック、 である。
側断面図(b)、 第2図は本発明方法の適用実施例となるウェーハ支持装
置を模式的に示す平面図、 第3図は従来方法例を説明する側面図、 である。 図において、 1は溝、 2、3は回転車、 11は基体、 12はエアシリンダ、 13は支点、 14、15はレバー、 21は補助基体、 22はベルト車、 23、31はモータ、 Wはウェーハ、 Cは真空チャック、 である。
Claims (1)
- 【請求項1】円板状ウェーハの回りに配設された複数の
回転車のそれぞれの外周側面に、該ウェーハの厚みより
も広い幅を有する溝が設けられ、該ウェーハと略平行と
なる該溝の側壁上に、該ウェーハの外周端面と該溝の底
面との間に遊びを残すように該ウェーハを支持すること
を特徴とするウェーハ支持方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61142567A JPH0770585B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | ウェ−ハ支持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61142567A JPH0770585B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | ウェ−ハ支持方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62299044A JPS62299044A (ja) | 1987-12-26 |
JPH0770585B2 true JPH0770585B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=15318327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61142567A Expired - Fee Related JPH0770585B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | ウェ−ハ支持方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0770585B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6817640B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-11-16 | Applied Materials, Inc. | Four-bar linkage wafer clamping mechanism |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5646948Y2 (ja) * | 1972-05-17 | 1981-11-02 | ||
JPS5170878U (ja) * | 1974-11-30 | 1976-06-04 |
-
1986
- 1986-06-18 JP JP61142567A patent/JPH0770585B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62299044A (ja) | 1987-12-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |