JPH0767058B2 - 超音波遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法 - Google Patents
超音波遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法Info
- Publication number
- JPH0767058B2 JPH0767058B2 JP62070184A JP7018487A JPH0767058B2 JP H0767058 B2 JPH0767058 B2 JP H0767058B2 JP 62070184 A JP62070184 A JP 62070184A JP 7018487 A JP7018487 A JP 7018487A JP H0767058 B2 JPH0767058 B2 JP H0767058B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- delay element
- glass medium
- ultrasonic delay
- surface treatment
- treatment method
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、超音波遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法
に関する。
に関する。
［従来の技術］ 近年、ビデオテープレコーダやカラーテレビジョン受像
機などの映像機器における小型化や低価格化への動きに
は目覚ましいものがあり、超音波遅延素子はこれらの機
器の小型無調整化を促進するものとして頻用されてい
る。
機などの映像機器における小型化や低価格化への動きに
は目覚ましいものがあり、超音波遅延素子はこれらの機
器の小型無調整化を促進するものとして頻用されてい
る。
このような超音波遅延素子は、適宜の形状に形成されて
いる超音波遅延媒体に入出力用トランスジューサを配設
することで形成されており、このうちの超音波遅延媒体
については、主に、石英ガラス等、適宜の組成からなる
ガラス材から切り出されて形成されているガラス媒体が
多く用いられている。
いる超音波遅延媒体に入出力用トランスジューサを配設
することで形成されており、このうちの超音波遅延媒体
については、主に、石英ガラス等、適宜の組成からなる
ガラス材から切り出されて形成されているガラス媒体が
多く用いられている。
ところで、このようなガラス媒体を用いて形成される超
音波遅延素子は、これが組み込まれる映像機器セットの
高画質化や高信頼性化を確保するうえから、得られる遅
延時間の経時変化を極力抑制することで、遅延時間の変
動幅をできるだけ少なくしてその無調整化を図ってやる
必要がある。この場合に問題となる経時変化について
は、ガラス媒体の表面に付着している有機質汚れが時の
経過とともにその表面状態を変化させることと無関係で
ないとされており、かかる観点から、ガラス切断時に用
いられる冷却液としての油や蛋白等の有機質汚れをガラ
ス媒体の表面から除去すべく、例えば、イソプロピルア
ルコールやトリクレゾール等の溶剤を用いて洗浄処理を
施したガラス媒体が使用されていた。
音波遅延素子は、これが組み込まれる映像機器セットの
高画質化や高信頼性化を確保するうえから、得られる遅
延時間の経時変化を極力抑制することで、遅延時間の変
動幅をできるだけ少なくしてその無調整化を図ってやる
必要がある。この場合に問題となる経時変化について
は、ガラス媒体の表面に付着している有機質汚れが時の
経過とともにその表面状態を変化させることと無関係で
ないとされており、かかる観点から、ガラス切断時に用
いられる冷却液としての油や蛋白等の有機質汚れをガラ
ス媒体の表面から除去すべく、例えば、イソプロピルア
ルコールやトリクレゾール等の溶剤を用いて洗浄処理を
施したガラス媒体が使用されていた。
［発明が解決しようとする問題点］ しかし、上記したような溶剤を用いて洗浄しても、ガラ
ス媒体表面から油や蛋白等の有機質汚れを完全に除去す
ることはできなかった。また、使用溶剤自体の有機質物
質もガラス媒体の表面に残存することなどもあって、こ
のような溶剤を用い行なわれる洗浄処理のみでは、有機
質汚れによりもたらされる経時変化を効果的に抑制する
ことに困難があった。
ス媒体表面から油や蛋白等の有機質汚れを完全に除去す
ることはできなかった。また、使用溶剤自体の有機質物
質もガラス媒体の表面に残存することなどもあって、こ
のような溶剤を用い行なわれる洗浄処理のみでは、有機
質汚れによりもたらされる経時変化を効果的に抑制する
ことに困難があった。
［発明の目的］ 本発明の目的は、従来方法が有していた上記問題点に鑑
み、超音波遅延素子を構成するガラス媒体に対し新規な
乾式洗浄処理を施すことで、遅延時間の経時変化をもた
らす有機質汚れを効果的に除去することができる超音波
遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法を提供することに
ある。
み、超音波遅延素子を構成するガラス媒体に対し新規な
乾式洗浄処理を施すことで、遅延時間の経時変化をもた
らす有機質汚れを効果的に除去することができる超音波
遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法を提供することに
ある。
［問題点を解決するための手段］ このような目的を達成するため、本発明は、次のように
して構成されている。
して構成されている。
すなわち、本発明は、超音波遅延素子を構成するガラス
媒体の表面に対し波長290nm以下の紫外線とオゾンとを
同時に照射して乾式洗浄を行なうことに構成上の特徴が
ある。
媒体の表面に対し波長290nm以下の紫外線とオゾンとを
同時に照射して乾式洗浄を行なうことに構成上の特徴が
ある。
［実施例］ 以下、本発明の実施例を説明する。
超音波遅延素子を構成し、適宜の形状を呈して形成され
る石英ガラス等からなるガラス媒体は、数十ワット程度
の出力を有する紫外線（以下、UVという）とオゾン（以
下、O3という）とを照射することができる適宜の装置内
に光源に対し好適な距離をおいて収容するとともに、そ
の表面に対し、UVとO3とを数分間照射（以下、UV/O3照
射という）することで、乾式洗浄処理を施す。
る石英ガラス等からなるガラス媒体は、数十ワット程度
の出力を有する紫外線（以下、UVという）とオゾン（以
下、O3という）とを照射することができる適宜の装置内
に光源に対し好適な距離をおいて収容するとともに、そ
の表面に対し、UVとO3とを数分間照射（以下、UV/O3照
射という）することで、乾式洗浄処理を施す。
この場合、照射するUVは、290nm以下の短波長とするこ
とが必要で好ましくはエネルギーがより強力である240n
m以下の短絡長のものであることが洗浄効果を高めるう
えからは望ましい。
とが必要で好ましくはエネルギーがより強力である240n
m以下の短絡長のものであることが洗浄効果を高めるう
えからは望ましい。
次いで、本発明方法による洗浄処理の作用について説明
する。
する。
本発明方法は、UVによりもたらされる有機化合物の化学
結合の切断効果と、O3が有している強力な酸化効果とに
着目して行なわれるものであり、UV/O3照射を行なうこ
とで、有機質汚れを例えば炭酸ガスや水等の揮発性物質
に分解し、これを除去するものである。
結合の切断効果と、O3が有している強力な酸化効果とに
着目して行なわれるものであり、UV/O3照射を行なうこ
とで、有機質汚れを例えば炭酸ガスや水等の揮発性物質
に分解し、これを除去するものである。
すなわち、光のエネルギーＥは、Ｅ＝hc/λの式で表わ
される。この式から得られるUVのエネルギー、例えば波
長が253.7nmあるいは184.9nmであるUVのエネルギーは、
結合エネルギーが83.6kcal/molであるＣ−Ｃ結合や、9
8.8kcal/molであるＣ−Ｈ結合より高い解離エネルギー
を有しており、これを対象物であるガラス媒体に照射す
ることにより、Ｃ−Ｃ結合やＣ−Ｈ結合の結合関係を解
離することができる。
される。この式から得られるUVのエネルギー、例えば波
長が253.7nmあるいは184.9nmであるUVのエネルギーは、
結合エネルギーが83.6kcal/molであるＣ−Ｃ結合や、9
8.8kcal/molであるＣ−Ｈ結合より高い解離エネルギー
を有しており、これを対象物であるガラス媒体に照射す
ることにより、Ｃ−Ｃ結合やＣ−Ｈ結合の結合関係を解
離することができる。
一方、波長が240nm以下、例えば184.9nmであるUVは、酸
素分子O2に吸収され、次の反応式によってO3を発生す
る。
素分子O2に吸収され、次の反応式によってO3を発生す
る。
O2→Ｏ＋Ｏ Ｏ＋O2→O3 また、波長が240nm以上であって290nm以下であるUV、例
えば波長が253.7nmであるUVは、酸素分子O2に吸収され
ず、次の反応式のようにしてO3に吸収され、再びO3を発
生する。
えば波長が253.7nmであるUVは、酸素分子O2に吸収され
ず、次の反応式のようにしてO3に吸収され、再びO3を発
生する。
O3→Ｏ＋O2 Ｏ＋O2→O3 しかし、波長が290nm超であるUVになると、O3による光
の吸収はなくなり、O3は分解しない。
の吸収はなくなり、O3は分解しない。
かくして、O2とO3の分解生成時に生ずる酸素原子は、非
常に強力な酸化効果を発揮し、有機質汚れを炭酸ガスや
水などの揮発性物質に分解し、これを除去することが可
能となる。
常に強力な酸化効果を発揮し、有機質汚れを炭酸ガスや
水などの揮発性物質に分解し、これを除去することが可
能となる。
なお、ガラス媒体については、UV/O3照射前における洗
浄と、UV/O3照射後における保管についても十分な配慮
を払う必要がある。
浄と、UV/O3照射後における保管についても十分な配慮
を払う必要がある。
第１図は、本発明方法により処理されたガラス媒体を用
いてなる超音波遅延素子と、未処理品を用いてなる超音
波遅延素子とを、室温が25℃で湿度が35％である雰囲気
中に置き、その遅延時間の経時変化を測定した結果得ら
れたグラフ図である。これによれば、本発明方法による
処理を施したガラス媒体を用いてなる超音波遅延素子の
遅延時間が、いずれの経過時間においても未処理品に比
較してその経時変化の少ないことが確認され、本発明方
法が遅延時間の経時変化を抑制するうえで有効であるこ
とを知ることができた。
いてなる超音波遅延素子と、未処理品を用いてなる超音
波遅延素子とを、室温が25℃で湿度が35％である雰囲気
中に置き、その遅延時間の経時変化を測定した結果得ら
れたグラフ図である。これによれば、本発明方法による
処理を施したガラス媒体を用いてなる超音波遅延素子の
遅延時間が、いずれの経過時間においても未処理品に比
較してその経時変化の少ないことが確認され、本発明方
法が遅延時間の経時変化を抑制するうえで有効であるこ
とを知ることができた。
［発明の効果］ 以上述べたように本発明方法によれば、超音波遅延素子
用のガラス媒体表面に付着し、遅延時間の経時変化を生
じさせる要因の１つであった有機質汚れを効果的に除去
することができるので、高品位で信頼性の高いガラス媒
体、ひいては、その無調整化をより効果的に促進するこ
とができる超音波遅延素子の製造を可能とすることがで
きる。
用のガラス媒体表面に付着し、遅延時間の経時変化を生
じさせる要因の１つであった有機質汚れを効果的に除去
することができるので、高品位で信頼性の高いガラス媒
体、ひいては、その無調整化をより効果的に促進するこ
とができる超音波遅延素子の製造を可能とすることがで
きる。
第１図は、本発明方法により処理されたガラス媒体を用
いてなる超音波遅延素子と未処理品を用いてなる超音波
遅延素子とにおける得られる遅延時間の経時変化を示す
グラフである。
いてなる超音波遅延素子と未処理品を用いてなる超音波
遅延素子とにおける得られる遅延時間の経時変化を示す
グラフである。
Claims (1)
- 【請求項１】超音波遅延素子を構成するガラス媒体の表
面に対し波長290nm以下の紫外線とオゾンとを同時に照
射して乾式洗浄を行なうことを特徴とする超音波遅延素
子用ガラス媒体の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62070184A JPH0767058B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 超音波遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62070184A JPH0767058B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 超音波遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63237605A JPS63237605A (ja) | 1988-10-04 |
| JPH0767058B2 true JPH0767058B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=13424183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62070184A Expired - Lifetime JPH0767058B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 超音波遅延素子用ガラス媒体の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0767058B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0626724B1 (en) * | 1992-12-14 | 2000-07-26 | Ebara Corporation | System for transferring wafer |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4984342A (ja) * | 1972-12-19 | 1974-08-13 | ||
| JPS58145643A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-30 | Sharp Corp | 電極ガラス板の製造方法 |
| JPS6075327A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-27 | Toshiba Corp | 紫外線発生装置及びそれを用いた材料処理装置 |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP62070184A patent/JPH0767058B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63237605A (ja) | 1988-10-04 |
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