JPH07638Y2 - 日射調整板 - Google Patents
日射調整板Info
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- JPH07638Y2 JPH07638Y2 JP1986058071U JP5807186U JPH07638Y2 JP H07638 Y2 JPH07638 Y2 JP H07638Y2 JP 1986058071 U JP1986058071 U JP 1986058071U JP 5807186 U JP5807186 U JP 5807186U JP H07638 Y2 JPH07638 Y2 JP H07638Y2
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- layer
- metal
- compound layer
- film
- radiation
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、横型及び縦型ブラインドのスラット材、カー
テン地、ロールブラインドのブラインド地、外部ルーバ
ー、庇、窓ガラス等として用いられ、室内へ入射する太
陽光線を適宜に調整する日射調整板に関する。
テン地、ロールブラインドのブラインド地、外部ルーバ
ー、庇、窓ガラス等として用いられ、室内へ入射する太
陽光線を適宜に調整する日射調整板に関する。
窓ガラスやブラインドで日射調整可能なものとしては、
可撓性フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルムにアルミニウム等の金属蒸着層を設けたフィルム
体を貼着するものが実用化されている。
可撓性フィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフ
ィルムにアルミニウム等の金属蒸着層を設けたフィルム
体を貼着するものが実用化されている。
これに対し、実公昭55−33027号公報に示すように透明
な合成樹脂基板に金属あるいは(および)金属化合物層
を積層し、さらに耐久性を向上させるために最も外側面
にケイ素化合物層を形成するものも提案されている。
な合成樹脂基板に金属あるいは(および)金属化合物層
を積層し、さらに耐久性を向上させるために最も外側面
にケイ素化合物層を形成するものも提案されている。
しかし、これらは単純に反射率を高めるだけであり、太
陽熱の一部が透明な合成樹脂基板内へと吸収され、これ
により基板自体の温度上昇を生じることは防止できず、
その結果、室内側への放射熱の量が多くなっている。
陽熱の一部が透明な合成樹脂基板内へと吸収され、これ
により基板自体の温度上昇を生じることは防止できず、
その結果、室内側への放射熱の量が多くなっている。
例えば、ブラインドについていえば、ブラインドを閉め
ても太陽光線で熱せられたブラインドから「ほてり」を
感じて不快を感じることがある。
ても太陽光線で熱せられたブラインドから「ほてり」を
感じて不快を感じることがある。
本考案の目的は前記従来例の不都合を解消し、室内側へ
の熱放射を抑制できるので日射遮蔽効果が増大し、また
耐久性にも富む日射調整板を提供することにある。
の熱放射を抑制できるので日射遮蔽効果が増大し、また
耐久性にも富む日射調整板を提供することにある。
本考案は、前記目的を達成するため、透明な基板Aと、
可撓性の有機高分子固体からなるフィルム層Bと、フッ
素化合物層Cと、金属あるいは金属化合物層Dと、接着
層Eの各層が透明な基板Aの片面に、接着層E−(フィ
ルム層B−金属あるいは金属化合物層D、又は、金属あ
るいは金属化合物層D−フィルム層B)−フッ素化合物
層Cの順に積層し、透明な基板Aの他面にフッ素化合物
層Cのみ、若しくは接着層E−(フィルム層B、又は、
フィルムB−金属あるいは金属化合物層D、又は、金属
あるいは金属化合物層D−フィルム層B)−フッ素化合
物層Cの順に積層してなることを要旨とするものであ
る。
可撓性の有機高分子固体からなるフィルム層Bと、フッ
素化合物層Cと、金属あるいは金属化合物層Dと、接着
層Eの各層が透明な基板Aの片面に、接着層E−(フィ
ルム層B−金属あるいは金属化合物層D、又は、金属あ
るいは金属化合物層D−フィルム層B)−フッ素化合物
層Cの順に積層し、透明な基板Aの他面にフッ素化合物
層Cのみ、若しくは接着層E−(フィルム層B、又は、
フィルムB−金属あるいは金属化合物層D、又は、金属
あるいは金属化合物層D−フィルム層B)−フッ素化合
物層Cの順に積層してなることを要旨とするものであ
る。
本考案によれば、金属層等が反射層として作用する他に
フッ素化合物層が一定の波長を選択して外部へ放射する
選択放射特性を発揮し、これにより基板の温度は降下し
て室内への熱放射も抑制できる。また、該フッ素化合物
層は耐久性にもすぐれるので保護層としての役割もな
す。
フッ素化合物層が一定の波長を選択して外部へ放射する
選択放射特性を発揮し、これにより基板の温度は降下し
て室内への熱放射も抑制できる。また、該フッ素化合物
層は耐久性にもすぐれるので保護層としての役割もな
す。
以下、図面について本考案の実施例を詳細に説明する。
第1図は本考案の日射調整板の1実施例を示す説明図
で、図中Aは透明基板、Bは可撓性有機高分子フィルム
層、Cはフッ素化合物層、Dは金属あるいは金属化合物
層、Eは接着層である。
で、図中Aは透明基板、Bは可撓性有機高分子フィルム
層、Cはフッ素化合物層、Dは金属あるいは金属化合物
層、Eは接着層である。
Aの透明基板は、窓ガラスやブラインドのスラット等を
構成する基板で、合成樹脂板が適するが、ガラス等でも
よい。そして、かかる透明な合成樹脂板は、可視光線透
過率(波長550mμ)が40%以上、実用的強さから厚さ0.
2mm以上が好ましい。例えばポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレ
ン、スチレン−アクリロニトリル半重合体、ABS樹脂、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリエ
ステル−スチレン共重合体、セルローズアセテート、エ
ポキシ樹脂などがある。
構成する基板で、合成樹脂板が適するが、ガラス等でも
よい。そして、かかる透明な合成樹脂板は、可視光線透
過率(波長550mμ)が40%以上、実用的強さから厚さ0.
2mm以上が好ましい。例えばポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレ
ン、スチレン−アクリロニトリル半重合体、ABS樹脂、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリエ
ステル−スチレン共重合体、セルローズアセテート、エ
ポキシ樹脂などがある。
Bの有機高分子フィルム層としては、例えばポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレン―2.6ナフタリンジカルボキシレート、ポリエ
チレン―1.2ジフエノキシエタン―P,P′ジカルボキシレ
ートなどのポリエステル重合体、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのポリオレフィン、いわゆるナイロン―
6、ナイロン―12などのポリアミド、高分子主鎖に五員
環イミド結合を有するポリイミド、セルローズエステル
などのセルローズ誘導体、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸エス
テル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリエーテル、ポリエ
ステルエーテルなどがあり、これらの共重合体あるいは
ブレンド物をも含むが、必ずしもこれらに限定されな
い。
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレン―2.6ナフタリンジカルボキシレート、ポリエ
チレン―1.2ジフエノキシエタン―P,P′ジカルボキシレ
ートなどのポリエステル重合体、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのポリオレフィン、いわゆるナイロン―
6、ナイロン―12などのポリアミド、高分子主鎖に五員
環イミド結合を有するポリイミド、セルローズエステル
などのセルローズ誘導体、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸エス
テル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリエーテル、ポリエ
ステルエーテルなどがあり、これらの共重合体あるいは
ブレンド物をも含むが、必ずしもこれらに限定されな
い。
該フィルム層Bの厚みは、6−200μの範囲が望ましい
が、作業性、コストなどから通常12〜100μが好ましく
使用できる。
が、作業性、コストなどから通常12〜100μが好ましく
使用できる。
Cのフッ素化合物層は、例えばポリテトラフルオロエチ
レン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデ
ンフルオライド、ポリビニルフルオライド、テトラフル
オロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テ
トラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフル
オロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共
重合体、クロロトリフルオロエチエン−エチレン共重合
体等で構成される。
レン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデ
ンフルオライド、ポリビニルフルオライド、テトラフル
オロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テ
トラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフル
オロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共
重合体、クロロトリフルオロエチエン−エチレン共重合
体等で構成される。
これらを主成分とし、必要に応じて硬化触媒、添加剤
(例えば接着促進剤、帯電防止剤、PH調整剤、ぬれ改良
剤、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑
剤、消泡剤、増粘剤、着色剤など)などと共に混合ある
いは溶剤に溶かし、これを加熱あるいは紫外線、β線、
γ線などの放射線により硬化させて得られた組成物があ
げられる。溶液の状態であらかじめ予備縮合したものも
もちろん含まれる。二種以上を混合したあと加水分解し
てもよい。
(例えば接着促進剤、帯電防止剤、PH調整剤、ぬれ改良
剤、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑
剤、消泡剤、増粘剤、着色剤など)などと共に混合ある
いは溶剤に溶かし、これを加熱あるいは紫外線、β線、
γ線などの放射線により硬化させて得られた組成物があ
げられる。溶液の状態であらかじめ予備縮合したものも
もちろん含まれる。二種以上を混合したあと加水分解し
てもよい。
Dの金属あるいは金属化合物層は、メッキ、真空蒸着、
スパッタリング、イオン化静電メッキ法などにより形成
する。
スパッタリング、イオン化静電メッキ法などにより形成
する。
メッキは、例えば無電解メッキ法により基材フィルムの
上にパラジウムまたは金を真空蒸着またはスパッタリン
グして表面改質層を設け、無電解メッキする。
上にパラジウムまたは金を真空蒸着またはスパッタリン
グして表面改質層を設け、無電解メッキする。
真空蒸着は、例えば抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方
式、エレクトロンビームによる加熱方式などがあるが、
なるべく高真空下、例えば10-3Torr以上、好ましくは10
-4Torr以上で蒸発、付着することが望ましい。
式、エレクトロンビームによる加熱方式などがあるが、
なるべく高真空下、例えば10-3Torr以上、好ましくは10
-4Torr以上で蒸発、付着することが望ましい。
スパッタリングは、通常の各種スパッタリング方式、例
えば直流スパッタリング、高周波スパッタリング、陰極
スパッタリング、プラズマスパッタリングなどが使用で
きる。
えば直流スパッタリング、高周波スパッタリング、陰極
スパッタリング、プラズマスパッタリングなどが使用で
きる。
イオン化静電メッキは、プラズマ中でイオンを利用する
プラズマ法、高真空領域へイオンを引き出して利用する
イオンビーム法、クラスターイオン法などが用いられ
る。
プラズマ法、高真空領域へイオンを引き出して利用する
イオンビーム法、クラスターイオン法などが用いられ
る。
これら金属あるいは金属化合物の析出、付着方法は単独
で用いてもよいし、2種以上の方法を用いてもよい。ま
た金属化合物は最初から化合物を蒸発原料とすることも
できれば、金属層を設けたのち化合物化してもよい。ま
た金属あるいは金属化合物層は単一組成物でも混合物層
でもよいし、相異なる組成物層を積層してもよい。
で用いてもよいし、2種以上の方法を用いてもよい。ま
た金属化合物は最初から化合物を蒸発原料とすることも
できれば、金属層を設けたのち化合物化してもよい。ま
た金属あるいは金属化合物層は単一組成物でも混合物層
でもよいし、相異なる組成物層を積層してもよい。
本考案に用いるDの金属、金属化合物として、例えばA
l,Sb,As,B,Cd,Cr,Ge,Fe,Mg,Si,Ti,Co,Cu,Au,In,Ir,Pb,M
n,Mo,Ni,Pd,Pt,Rh,Se,Ag,Ta,Te,Sn,W,V,Zn,Zrあるいは
前記の合金あるいは酸化物、窒化物、ホウ化物、炭素化
物、硫化物、カルコゲナイド物、塩類、金属どうしの化
合物などの金属化合物があるが、これに限定されるもの
ではない。
l,Sb,As,B,Cd,Cr,Ge,Fe,Mg,Si,Ti,Co,Cu,Au,In,Ir,Pb,M
n,Mo,Ni,Pd,Pt,Rh,Se,Ag,Ta,Te,Sn,W,V,Zn,Zrあるいは
前記の合金あるいは酸化物、窒化物、ホウ化物、炭素化
物、硫化物、カルコゲナイド物、塩類、金属どうしの化
合物などの金属化合物があるが、これに限定されるもの
ではない。
室内から外の景色が見えるようにと、透明性が要求され
る場合は、厚さを薄くしてもよいし、紫外線を遮断し可
視光線を透過するもの、例えばS,Se,Te等のVI族元素と
金属を組み合わせて得た化合物が有効に使用できる。
る場合は、厚さを薄くしてもよいし、紫外線を遮断し可
視光線を透過するもの、例えばS,Se,Te等のVI族元素と
金属を組み合わせて得た化合物が有効に使用できる。
金属あるいは(および)金属化合物層Dの厚さは0.01A
〜2000mμの範囲が望ましく、薄い範囲では接着促進層
として適用も可能である。
〜2000mμの範囲が望ましく、薄い範囲では接着促進層
として適用も可能である。
Eの接着層は特に限定されるものではなく、例えば飽和
ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキッ
ド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系
樹脂、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン
など)、天然樹脂(例えば松脂、ダンマー、テルペン樹
脂、クマロンインデン樹脂、天然ゴム)、水溶性樹脂
(例えばポリビニルアルコール、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルピロリドン、ポリエチレンイミン)、合成ゴムな
どの各種接着剤から便宜選択されるものであり、共重合
体あるいはブレンド物であってもよい。さらに添加剤
(例えば帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、接着
促進剤、ぬれ改良剤、可塑剤、滑剤、増粘剤、着色剤な
ど)を適宜加えることができる。
ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキッ
ド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系
樹脂、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン
など)、天然樹脂(例えば松脂、ダンマー、テルペン樹
脂、クマロンインデン樹脂、天然ゴム)、水溶性樹脂
(例えばポリビニルアルコール、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルピロリドン、ポリエチレンイミン)、合成ゴムな
どの各種接着剤から便宜選択されるものであり、共重合
体あるいはブレンド物であってもよい。さらに添加剤
(例えば帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、接着
促進剤、ぬれ改良剤、可塑剤、滑剤、増粘剤、着色剤な
ど)を適宜加えることができる。
接着層Eの厚みは100μ以下、望ましくは50μ以下にす
るのがよく、厚くなると塗布、乾燥に手間がかかり、作
業性に問題がある。接着層を薄くすることが好ましい他
の目的は、耐摩耗性被膜はフィルム層より柔らかい層が
合成樹脂板との間に少ない程耐久性向上の効果が大きく
なるためである。
るのがよく、厚くなると塗布、乾燥に手間がかかり、作
業性に問題がある。接着層を薄くすることが好ましい他
の目的は、耐摩耗性被膜はフィルム層より柔らかい層が
合成樹脂板との間に少ない程耐久性向上の効果が大きく
なるためである。
この第1図に示す実施例では前記A〜Eの構成要素を、
C−B−D−E−A−Cと組み合わせて積層させた。
C−B−D−E−A−Cと組み合わせて積層させた。
また、第2実施例として第2図に示すように、C−D−
B−E−A−Cとしてもよく、図示は省略するがさらに
他の実施例としてC−B−D−E−A−E−B−C,C−
D−B−E−A−E−B−C,C−B−D−E−A−E−
D−B−C,C−D−B−E−A−E−B−D−C,C−B−
D−E−A−E−B−D−Cのいずれかの順に積層する
場合も考えられる。
B−E−A−Cとしてもよく、図示は省略するがさらに
他の実施例としてC−B−D−E−A−E−B−C,C−
D−B−E−A−E−B−C,C−B−D−E−A−E−
D−B−C,C−D−B−E−A−E−B−D−C,C−B−
D−E−A−E−B−D−Cのいずれかの順に積層する
場合も考えられる。
なお、このような積層を形成するに際し、接着層Eはフ
ィルム層B側に設けたのち基板Aと積層してもよいし、
あるいは基板A側に設けたのちフィルム層Bと積層して
もよく、さらにフィルム層B側および基板A側の両方に
設けたあと積層することもできる。
ィルム層B側に設けたのち基板Aと積層してもよいし、
あるいは基板A側に設けたのちフィルム層Bと積層して
もよく、さらにフィルム層B側および基板A側の両方に
設けたあと積層することもできる。
また、各層間に必要に応じて接着性を向上させるために
表面処理(例えばコロナ放電処理、不活性ガス中でのコ
ロナ放電処理、火炎処理、逆スパッタリング処理、電荷
を負荷した火炎による処理など)を行なったり、表面改
質層を設けてもよく、また必要があれば金属の保護層や
着色層を設けることができる。
表面処理(例えばコロナ放電処理、不活性ガス中でのコ
ロナ放電処理、火炎処理、逆スパッタリング処理、電荷
を負荷した火炎による処理など)を行なったり、表面改
質層を設けてもよく、また必要があれば金属の保護層や
着色層を設けることができる。
着色は基板Aあるいは(および)フィルムの原着、上記
に示した塗剤中への着色剤の添加や新しい着色層の設置
により可能である。
に示した塗剤中への着色剤の添加や新しい着色層の設置
により可能である。
次に使用法について説明する。
先に、本考案の低温効果の原理について説明する。
周知のごとく、大気放射は8〜13μmの所に大気の窓と
呼ばれる放射密度の少ない部分がある。
呼ばれる放射密度の少ない部分がある。
このため、8〜13μmの間で、吸収率(即ち放射率)が
高く、その他の波長で反射率の高い物体(この部分を選
択放射体と呼ぶ)を大気に面して置くと、黒体よりも低
温度まで冷却される。
高く、その他の波長で反射率の高い物体(この部分を選
択放射体と呼ぶ)を大気に面して置くと、黒体よりも低
温度まで冷却される。
その原理を図で示すと第4図は黒体(放射率ελ=1.
0)の場合の放射エネルギー収支である。
0)の場合の放射エネルギー収支である。
大気の下向放射は8〜13μm以外の波長では周囲外気温
度と同じ温度の黒体放射と同じ放射を行うため、黒体が
外気温以下になるとこの部分の放射収支が+になり、温
度降下が制限される。
度と同じ温度の黒体放射と同じ放射を行うため、黒体が
外気温以下になるとこの部分の放射収支が+になり、温
度降下が制限される。
一方、仮に理想的に8〜13μmで吸収率(即ち放射率)
が0.5(ε=a=0.5)、その他では0.1(ε=a=0.1)
の物体があると、第5図のように第4図と同じ物体温度
でもエネルギー収支が−となってより低下する。
が0.5(ε=a=0.5)、その他では0.1(ε=a=0.1)
の物体があると、第5図のように第4図と同じ物体温度
でもエネルギー収支が−となってより低下する。
現実には、このようなステップ状の波長特性を持つ物体
は、本考案以外には公表されていないが、本考案は第3
図に示す特性を有するフッ素化合物層Cと金属あるいは
金属化合物層Dとを組合わせることにより得られる。
は、本考案以外には公表されていないが、本考案は第3
図に示す特性を有するフッ素化合物層Cと金属あるいは
金属化合物層Dとを組合わせることにより得られる。
本考案によれば、日射は金属あるいは金属化合物層Dに
より一部反射されて外部へ戻るものと、一部透過して室
内へ出るものと、一部吸収されて板体(基板A)の温度
を上昇させるものに分かれる。
より一部反射されて外部へ戻るものと、一部透過して室
内へ出るものと、一部吸収されて板体(基板A)の温度
を上昇させるものに分かれる。
ちなみに、透過しなかった光はほとんど吸収されると考
えられる。
えられる。
ところで、フッ素化合物層Cとして例えばアフレックス
(商標名)を利用した場合、第3図からも知見できるよ
うに層Cの表面から大気の透過率が比較的大きい約8〜
13μmの波長領域の長波放射が選択的に強く天空に向け
て放射され、その結果、基板Aやその他の層自体の温度
を降下させ、また室内側へ向けての長波放射も減じるこ
とができる。
(商標名)を利用した場合、第3図からも知見できるよ
うに層Cの表面から大気の透過率が比較的大きい約8〜
13μmの波長領域の長波放射が選択的に強く天空に向け
て放射され、その結果、基板Aやその他の層自体の温度
を降下させ、また室内側へ向けての長波放射も減じるこ
とができる。
この作用をさらに説明すると、よく晴れた夜などに地表
面が上空の低温の大気との放射熱交換によって気温より
数度低くまで冷却され、朝露や霜が降りることはよく知
られている。このような放射冷却現象は、乾燥した中近
東諸国の都市建築において建物の躯体の蓄冷効果を利用
して日中炎熱を避ける自然冷房法として体験的、伝統的
にしかも大変巧妙に利用された。
面が上空の低温の大気との放射熱交換によって気温より
数度低くまで冷却され、朝露や霜が降りることはよく知
られている。このような放射冷却現象は、乾燥した中近
東諸国の都市建築において建物の躯体の蓄冷効果を利用
して日中炎熱を避ける自然冷房法として体験的、伝統的
にしかも大変巧妙に利用された。
ところが、大気放射の放射波長分布は約8〜13μmに同
じ温度の黒体より放射量の少ない、いわゆる“大気の
窓”と呼ばれる領域を持っている。このため、かかる大
気の窓に相当する約8〜13μmでの選択放射面を利用す
るとかなり低温の冷却効果が得られる。
じ温度の黒体より放射量の少ない、いわゆる“大気の
窓”と呼ばれる領域を持っている。このため、かかる大
気の窓に相当する約8〜13μmでの選択放射面を利用す
るとかなり低温の冷却効果が得られる。
データそのものはないが、大気の窓8〜13μmにおいて
吸収率(即ち放射率)が大きく、その他の波長で吸収率
(即ち放射率)が小さく、反射率の大きい物体が得られ
る。
吸収率(即ち放射率)が大きく、その他の波長で吸収率
(即ち放射率)が小さく、反射率の大きい物体が得られ
る。
このようにして、基板Aに吸収される成分を減らし、室
内へ板体自体が熱せられて放射される放射熱を減少させ
ることができる。
内へ板体自体が熱せられて放射される放射熱を減少させ
ることができる。
以上述べたように本考案の日射調整板は、ブラインドの
スラットや窓ガラスに用いるものとして、選択放射特性
により室内側への熱放射を抑制して日射遮蔽効果を増大
するものである。
スラットや窓ガラスに用いるものとして、選択放射特性
により室内側への熱放射を抑制して日射遮蔽効果を増大
するものである。
また、最外面には耐久性のある層が形成でき、これによ
り強度が増し、耐スクラッチ性、および耐摩耗性、耐候
性、耐水性、耐薬品性を満足するものとなる。
り強度が増し、耐スクラッチ性、および耐摩耗性、耐候
性、耐水性、耐薬品性を満足するものとなる。
第1図は本考案の日射調整板の説明図、第2図は同上他
の実施例を示す説明図、第3図はフッ素化合物層の特性
(透過率)を示すグラフ、第4図、第5図は黒体の放射
エネルギー収支を説明する説明図である。 A…透明基板 B…可撓性の有機高分子固体からなるフィルム層 C…フッ素化合物層 D…金属あるいは金属化合物層 E…接着層
の実施例を示す説明図、第3図はフッ素化合物層の特性
(透過率)を示すグラフ、第4図、第5図は黒体の放射
エネルギー収支を説明する説明図である。 A…透明基板 B…可撓性の有機高分子固体からなるフィルム層 C…フッ素化合物層 D…金属あるいは金属化合物層 E…接着層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭61−7538(JP,U) 実公 昭55−33027(JP,Y2) 化学便覧昭和38年3月20日丸善P.1685
Claims (1)
- 【請求項1】透明な基板Aと、可撓性の有機高分子固体
からなるフィルム層Bと、フッ素化合物層Cと、金属あ
るいは金属化合物層Dと、接着層Eの各層が透明な基板
Aの片面に、接着層E−(フィルム層B−金属あるいは
金属化合物層D、又は、金属あるいは金属化合物層D−
フィルム層B)−フッ素化合物層Cの順に積層し、 透明な基板Aの他面にフッ素化合物層Cのみ、若しくは
接着層E−(フィルム層B、又は、フィルムB−金属あ
るいは金属化合物層D、又は、金属あるいは金属化合物
層D−フィルム層B)−フッ素化合物層Cの順に積層し
てなることを特徴とする日射調整板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986058071U JPH07638Y2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | 日射調整板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986058071U JPH07638Y2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | 日射調整板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62169197U JPS62169197U (ja) | 1987-10-27 |
JPH07638Y2 true JPH07638Y2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=30888337
Family Applications (1)
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JP (1) | JPH07638Y2 (ja) |
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-
1986
- 1986-04-17 JP JP1986058071U patent/JPH07638Y2/ja not_active Expired - Lifetime
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化学便覧昭和38年3月20日丸善P.1685 |
Also Published As
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