JPH0762536A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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- JPH0762536A JPH0762536A JP21249093A JP21249093A JPH0762536A JP H0762536 A JPH0762536 A JP H0762536A JP 21249093 A JP21249093 A JP 21249093A JP 21249093 A JP21249093 A JP 21249093A JP H0762536 A JPH0762536 A JP H0762536A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 連続作業、例えば連続蒸着を可能とし、か
つ、製造歩留りが高い成膜装置を提供することである。 【構成】 第１の室と、この第１の室内に配設された乾
式メッキ手段と、支持体を供給する供給側ロールと、支
持体を巻き取る巻取側ロールと、前記供給側ロール及び
巻取側ロールを装填する第２の室とを備えてなり、前記
第２の室内の供給側ロールから支持体が第１の室内に送
られ、第１の室内において前記乾式メッキ手段により支
持体に金属膜が設けられ、この後第１の室から第２の室
内の巻取側ロールに巻き取られて行くよう構成されてな
る成膜装置。
つ、製造歩留りが高い成膜装置を提供することである。 【構成】 第１の室と、この第１の室内に配設された乾
式メッキ手段と、支持体を供給する供給側ロールと、支
持体を巻き取る巻取側ロールと、前記供給側ロール及び
巻取側ロールを装填する第２の室とを備えてなり、前記
第２の室内の供給側ロールから支持体が第１の室内に送
られ、第１の室内において前記乾式メッキ手段により支
持体に金属膜が設けられ、この後第１の室から第２の室
内の巻取側ロールに巻き取られて行くよう構成されてな
る成膜装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気記録媒体の
製造装置といった成膜装置に関するものである。
製造装置といった成膜装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。特に、蒸着手段により磁性
膜を構成する手段は、スパッタリングによる場合よりも
成膜速度が速いことから好ましいものと言われている。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。特に、蒸着手段により磁性
膜を構成する手段は、スパッタリングによる場合よりも
成膜速度が速いことから好ましいものと言われている。
【０００４】このような蒸着手段による磁気記録媒体の
製造装置は、図２のように構成されているものが一般的
である。尚、図２中、２１は冷却キャン、２２ａはポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３の供給
側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側ロー
ル、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容器で
ある。そして、真空容器２６内を所定の真空度のものに
排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁性金
属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁性金
属２５の粒子を堆積（蒸着）させることによって磁気記
録媒体が製造されている。
製造装置は、図２のように構成されているものが一般的
である。尚、図２中、２１は冷却キャン、２２ａはポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３の供給
側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側ロー
ル、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容器で
ある。そして、真空容器２６内を所定の真空度のものに
排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁性金
属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁性金
属２５の粒子を堆積（蒸着）させることによって磁気記
録媒体が製造されている。
【０００５】ところで、このようにして製造される長尺
状の磁気記録媒体において、供給側ロール２２ａに巻か
れているフィルムが終了すると、新しいロールを装填し
なければならないものであり、この為装填作業に際して
は真空容器２６を開放系にしなければならないことか
ら、蒸着作業を中断しなければならず、作業能率の低下
が起きている。
状の磁気記録媒体において、供給側ロール２２ａに巻か
れているフィルムが終了すると、新しいロールを装填し
なければならないものであり、この為装填作業に際して
は真空容器２６を開放系にしなければならないことか
ら、蒸着作業を中断しなければならず、作業能率の低下
が起きている。
【０００６】又、中断後の作業開始に際して真空容器２
６からの真空排気に時間が掛かり、かつ、中断後の蒸着
作業開始から蒸着が安定系に移行するまでに出来た磁気
記録媒体は不良品であることから、製造歩留りもそれだ
け低い。
６からの真空排気に時間が掛かり、かつ、中断後の蒸着
作業開始から蒸着が安定系に移行するまでに出来た磁気
記録媒体は不良品であることから、製造歩留りもそれだ
け低い。
【０００７】
【発明の開示】本発明の目的は、連続作業、例えば連続
蒸着を可能とし、かつ、製造歩留りが高い成膜装置を提
供することである。この本発明の目的は、第１の室と、
この第１の室内に配設された乾式メッキ手段と、支持体
を供給する供給側ロールと、支持体を巻き取る巻取側ロ
ールと、前記供給側ロール及び巻取側ロールを装填する
第２の室とを備えてなり、前記第２の室内の供給側ロー
ルから支持体が第１の室内に送られ、第１の室内におい
て前記乾式メッキ手段により支持体に金属膜が設けら
れ、この後第１の室から第２の室内の巻取側ロールに巻
き取られて行くよう構成されてなることを特徴とする成
膜装置によって達成される。
蒸着を可能とし、かつ、製造歩留りが高い成膜装置を提
供することである。この本発明の目的は、第１の室と、
この第１の室内に配設された乾式メッキ手段と、支持体
を供給する供給側ロールと、支持体を巻き取る巻取側ロ
ールと、前記供給側ロール及び巻取側ロールを装填する
第２の室とを備えてなり、前記第２の室内の供給側ロー
ルから支持体が第１の室内に送られ、第１の室内におい
て前記乾式メッキ手段により支持体に金属膜が設けら
れ、この後第１の室から第２の室内の巻取側ロールに巻
き取られて行くよう構成されてなることを特徴とする成
膜装置によって達成される。
【０００８】尚、この成膜装置において、第２の室を大
気下に開放した状態において、第１の室を真空に保持で
きるよう第１の室と第２の室との接続部にはシャッター
が配設されてなることが好ましく、そしてこのシャッタ
ーには気密性材料が配設されてなることが好ましい。す
なわち、例えば磁性膜の成膜が行われる第１の室と、供
給側ロールや巻取側ロールを装填する第２の室とを別の
ものとすることにより、支持体の補充に際して磁性膜の
成膜が行われる大きな第１の室を開放する必要はなく、
すなわち支持体の補充は第２の室を開放系とするのみで
済み、よって蒸着作業を中断しなくても済み、蒸着が安
定して行われるから、高品質の磁気記録媒体を歩留り良
く得られる。
気下に開放した状態において、第１の室を真空に保持で
きるよう第１の室と第２の室との接続部にはシャッター
が配設されてなることが好ましく、そしてこのシャッタ
ーには気密性材料が配設されてなることが好ましい。す
なわち、例えば磁性膜の成膜が行われる第１の室と、供
給側ロールや巻取側ロールを装填する第２の室とを別の
ものとすることにより、支持体の補充に際して磁性膜の
成膜が行われる大きな第１の室を開放する必要はなく、
すなわち支持体の補充は第２の室を開放系とするのみで
済み、よって蒸着作業を中断しなくても済み、蒸着が安
定して行われるから、高品質の磁気記録媒体を歩留り良
く得られる。
【０００９】又、蒸着作業をたとえ中断するにしても短
時間で済み、又、供給側ロールや巻取側ロールの交換補
充に際しての真空排気は、第２の室が第１の室に比べれ
ば小さくて済むから短時間で済み、作業能率が高い。
時間で済み、又、供給側ロールや巻取側ロールの交換補
充に際しての真空排気は、第２の室が第１の室に比べれ
ば小さくて済むから短時間で済み、作業能率が高い。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明に係る成膜装置、例えば磁気
記録媒体の製造装置の概略図である。同図中、１は第１
の真空槽、２は第１の真空槽１内に配設された冷却キャ
ン、３はルツボ、４はルツボ３内に充填されているＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ
合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−
Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ある
いはこれらにＡｌやＴａ等が添加されてなる磁性金属で
ある。
記録媒体の製造装置の概略図である。同図中、１は第１
の真空槽、２は第１の真空槽１内に配設された冷却キャ
ン、３はルツボ、４はルツボ３内に充填されているＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ
合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−
Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ある
いはこれらにＡｌやＴａ等が添加されてなる磁性金属で
ある。
【００１１】５は電子銃、６は遮蔽板、７は冷却キャン
２に添接されている支持体である。この支持体７は、例
えばＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化
ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラミッ
ク等の無機系材料、アルミニウム合金などの金属材料で
構成されている。尚、非磁性の支持体７の表面には、磁
性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダーコ
ート層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度
に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成される
磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面
の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例
えばＳｉＯ 2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜
０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート
層が構成されている。
２に添接されている支持体である。この支持体７は、例
えばＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化
ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラミッ
ク等の無機系材料、アルミニウム合金などの金属材料で
構成されている。尚、非磁性の支持体７の表面には、磁
性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダーコ
ート層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度
に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成される
磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面
の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例
えばＳｉＯ 2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜
０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート
層が構成されている。
【００１２】８ａは供給側ロール、８ｂは巻取側ロール
であり、これら供給側ロール８ａ及び巻取側ロール８ｂ
は第２の真空槽９内に配設されている。この第２の真空
槽９は第１の真空槽１に隣接して着脱自在、例えばカセ
ット式といった方式により着脱自在に設けられている。
１０は第１の真空槽１と第２の真空槽９との接続部に設
けられたシャッターであり、第２の真空槽９を取り外す
段階ではシャッター閉状態となり、第１の真空槽１内の
真空度が保持されており、第２の真空槽９を取り付け、
そして第２の真空槽９内が真空排気された後の段階でシ
ャッター開状態となり、供給側ロール８ａから支持体７
が送り出されて行くよう構成されている。尚、シャッタ
ー１０には気密性を高める為のゴムが取り付けられてい
る。そして、送り出されて来た支持体７は冷却キャン２
に添接され、所定のパスを経て第２の真空槽９内の巻取
側ロール８ｂに巻き取られて行く。
であり、これら供給側ロール８ａ及び巻取側ロール８ｂ
は第２の真空槽９内に配設されている。この第２の真空
槽９は第１の真空槽１に隣接して着脱自在、例えばカセ
ット式といった方式により着脱自在に設けられている。
１０は第１の真空槽１と第２の真空槽９との接続部に設
けられたシャッターであり、第２の真空槽９を取り外す
段階ではシャッター閉状態となり、第１の真空槽１内の
真空度が保持されており、第２の真空槽９を取り付け、
そして第２の真空槽９内が真空排気された後の段階でシ
ャッター開状態となり、供給側ロール８ａから支持体７
が送り出されて行くよう構成されている。尚、シャッタ
ー１０には気密性を高める為のゴムが取り付けられてい
る。そして、送り出されて来た支持体７は冷却キャン２
に添接され、所定のパスを経て第２の真空槽９内の巻取
側ロール８ｂに巻き取られて行く。
【００１３】１１は第１の真空槽１の排気系につながる
通路、１２は第２の真空槽９の排気系につながる通路で
あり、これらに接続された真空ポンプにより各々の真空
槽は真空排気される。上記のように構成させた装置にお
いて、第１の真空槽１及び第２の真空槽９内を１０-4〜
１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子
ビーム加熱によりルツボ３内の磁性金属４を溶融、蒸発
させ、冷却キャン２に添接されているＰＥＴフィルム等
の支持体７に対して０．０４〜１μｍ厚さ磁性金属４を
蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒体が製
造される。尚、磁性薄膜の形成に際して、蒸着部分に酸
素を供給し、強制酸化させることによって磁性薄膜の表
層部分を酸化させ、酸化膜による保護層を形成するよう
にすることが好ましい。但し、この酸化膜から構成され
る保護層の厚さは数十Å程度のものであり、この程度の
厚さの酸化膜は自然酸化で構成される場合もあり、この
ような時には強制酸化の手段を講じなくても良い場合が
ある。
通路、１２は第２の真空槽９の排気系につながる通路で
あり、これらに接続された真空ポンプにより各々の真空
槽は真空排気される。上記のように構成させた装置にお
いて、第１の真空槽１及び第２の真空槽９内を１０-4〜
１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子
ビーム加熱によりルツボ３内の磁性金属４を溶融、蒸発
させ、冷却キャン２に添接されているＰＥＴフィルム等
の支持体７に対して０．０４〜１μｍ厚さ磁性金属４を
蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒体が製
造される。尚、磁性薄膜の形成に際して、蒸着部分に酸
素を供給し、強制酸化させることによって磁性薄膜の表
層部分を酸化させ、酸化膜による保護層を形成するよう
にすることが好ましい。但し、この酸化膜から構成され
る保護層の厚さは数十Å程度のものであり、この程度の
厚さの酸化膜は自然酸化で構成される場合もあり、この
ような時には強制酸化の手段を講じなくても良い場合が
ある。
【００１４】ところで、供給側ロール８ａに巻かれてい
る支持体７が残り少なくなった段階、あるいは無くなっ
た段階では次のように操作する。先ず、シャッター１０
を閉じ、それまで取り付けられている第２の真空槽９を
新たな供給側ロール８ａ及び巻取側ロール８ｂが装填さ
れているカセット式の第２の真空槽９と交換し、そして
支持体７をスプライシングテープで接続し、この後ただ
ちに第２の真空槽９を真空排気し、所定の真空度になっ
た段階でシャッター１０を開く。この後、上記成膜工程
と同様に続ける。
る支持体７が残り少なくなった段階、あるいは無くなっ
た段階では次のように操作する。先ず、シャッター１０
を閉じ、それまで取り付けられている第２の真空槽９を
新たな供給側ロール８ａ及び巻取側ロール８ｂが装填さ
れているカセット式の第２の真空槽９と交換し、そして
支持体７をスプライシングテープで接続し、この後ただ
ちに第２の真空槽９を真空排気し、所定の真空度になっ
た段階でシャッター１０を開く。この後、上記成膜工程
と同様に続ける。
【００１５】このように、本発明によれば、第１の真空
槽１を開放系にしなくても、つまり蒸着作業を中断する
ことなく成膜作業を継続して行える。従って、蒸着が安
定して行われるから、高品質の磁気記録媒体を歩留り良
く得られる。そして、磁性薄膜が構成された支持体７が
巻き取られてなる巻取側ロール８ｂを取り出し、そして
平均粒径２０ｎｍのカーボンブラック及び塩化ビニル系
樹脂とウレタンプレポリマーとからなるバインダ樹脂を
分散させてなるバックコート用の塗料をダイレクトグラ
ビア法により磁性層とは反対側の支持体７面上に塗布
し、乾燥厚さが０．５μｍのバックコート層を設ける。
槽１を開放系にしなくても、つまり蒸着作業を中断する
ことなく成膜作業を継続して行える。従って、蒸着が安
定して行われるから、高品質の磁気記録媒体を歩留り良
く得られる。そして、磁性薄膜が構成された支持体７が
巻き取られてなる巻取側ロール８ｂを取り出し、そして
平均粒径２０ｎｍのカーボンブラック及び塩化ビニル系
樹脂とウレタンプレポリマーとからなるバインダ樹脂を
分散させてなるバックコート用の塗料をダイレクトグラ
ビア法により磁性層とは反対側の支持体７面上に塗布
し、乾燥厚さが０．５μｍのバックコート層を設ける。
【００１６】又、フッ素パーフルオロポリエーテル（グ
レード：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル
基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面に
塗布し、７０℃で乾燥させる。
レード：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル
基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面に
塗布し、７０℃で乾燥させる。
【００１７】この後、所定の幅にスリットすることによ
って磁気テープなどが得られる。
って磁気テープなどが得られる。
【００１８】
【効果】本発明によれば、高性能な磁気記録媒体を効率
良く、かつ、歩留り良く製造でき、低廉な磁気記録媒体
が得られる。
良く、かつ、歩留り良く製造でき、低廉な磁気記録媒体
が得られる。
【図１】本発明になる磁気記録媒体の製造装置の一実施
例の概略説明図
例の概略説明図
【図２】従来の磁気記録媒体の製造装置の概略説明図
１ 第１の真空槽 ２ 冷却キャン ３ ルツボ ４ 磁性金属 ７ 支持体 ８ａ 供給側ロール ８ｂ 巻取側ロール ９ 第２の真空槽 １０ シャッター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 第１の室と、この第１の室内に配設され
た乾式メッキ手段と、支持体を供給する供給側ロール
と、支持体を巻き取る巻取側ロールと、前記供給側ロー
ル及び巻取側ロールを装填する第２の室とを備えてな
り、前記第２の室内の供給側ロールから支持体が第１の
室内に送られ、第１の室内において前記乾式メッキ手段
により支持体に金属膜が設けられ、この後第１の室から
第２の室内の巻取側ロールに巻き取られて行くよう構成
されてなることを特徴とする成膜装置。 - 【請求項２】 第２の室を大気下に開放した状態におい
て、第１の室を真空に保持できるよう第１の室と第２の
室との接続部にはシャッターが配設されてなることを特
徴とする請求項１の成膜装置。 - 【請求項３】 シャッターには気密性材料が配設されて
なることを特徴とする請求項２の成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21249093A JPH0762536A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21249093A JPH0762536A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0762536A true JPH0762536A (ja) | 1995-03-07 |
Family
ID=16623521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21249093A Pending JPH0762536A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762536A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008018119A1 (fr) * | 2006-08-08 | 2008-02-14 | Life Technology Reserch Institute, INC. | Appareil de dépôt de film |
| JP2012219322A (ja) * | 2011-04-07 | 2012-11-12 | Ulvac Japan Ltd | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
| WO2022210966A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | Ａｐｂ株式会社 | 電池用電極製造装置 |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP21249093A patent/JPH0762536A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008018119A1 (fr) * | 2006-08-08 | 2008-02-14 | Life Technology Reserch Institute, INC. | Appareil de dépôt de film |
| JP5068264B2 (ja) * | 2006-08-08 | 2012-11-07 | 株式会社ライフ技術研究所 | 成膜装置 |
| JP2012219322A (ja) * | 2011-04-07 | 2012-11-12 | Ulvac Japan Ltd | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
| WO2022210966A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | Ａｐｂ株式会社 | 電池用電極製造装置 |
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