JPH0754688B2 - イオン注入装置およびイオン注入方法 - Google Patents
イオン注入装置およびイオン注入方法Info
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- JPH0754688B2 JPH0754688B2 JP2099577A JP9957790A JPH0754688B2 JP H0754688 B2 JPH0754688 B2 JP H0754688B2 JP 2099577 A JP2099577 A JP 2099577A JP 9957790 A JP9957790 A JP 9957790A JP H0754688 B2 JPH0754688 B2 JP H0754688B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、イオンビームを電気的に走査すると共に、
それと実質的に直交する方向にウェーハを機械的に走査
するいわゆるハイブリッドスキャン方式のイオン注入装
置およびイオン注入方法に関する。
それと実質的に直交する方向にウェーハを機械的に走査
するいわゆるハイブリッドスキャン方式のイオン注入装
置およびイオン注入方法に関する。
この種のイオン注入装置の従来例を第8図に示す。
即ち、図示しない走査手段によってイオンビーム2をX
方向(例えば水平方向。以下同じ)に電気的に走査して
注入室(図示省略)内に導くと共に、ウェーハ4を保持
するホルダ130を注入室内に設け、これをホルダ駆動装
置136によって注入室内でX方向に直交するY方向(例
えば垂直方向。以下同じ)に機械的に走査するようにし
ている。
方向(例えば水平方向。以下同じ)に電気的に走査して
注入室(図示省略)内に導くと共に、ウェーハ4を保持
するホルダ130を注入室内に設け、これをホルダ駆動装
置136によって注入室内でX方向に直交するY方向(例
えば垂直方向。以下同じ)に機械的に走査するようにし
ている。
ホルダ駆動装置136は、簡単に言えば、ホルダ130をウェ
ーハ4に対するイオン注入のための垂直状態とウェーハ
4のハンドリングのための水平状態との間で回転させる
ホルダ起立装置132およびホルダ130をこのホルダ起立位
置132と共にY方向に昇降させて機械的に走査するホル
ダ昇降装置134を備えている。
ーハ4に対するイオン注入のための垂直状態とウェーハ
4のハンドリングのための水平状態との間で回転させる
ホルダ起立装置132およびホルダ130をこのホルダ起立位
置132と共にY方向に昇降させて機械的に走査するホル
ダ昇降装置134を備えている。
ところが、上述の構成によれば、ホルダ昇降装置134と
しては、モータによる回転運動を例えばウォーム歯車等
を用いて直線運動に変換する機構を用いているので、そ
のストロークが長くなり、これら機構全体を注入室内に
収納すると真空容器が大きくなり、この種のイオン注入
装置の大型化を招来する。
しては、モータによる回転運動を例えばウォーム歯車等
を用いて直線運動に変換する機構を用いているので、そ
のストロークが長くなり、これら機構全体を注入室内に
収納すると真空容器が大きくなり、この種のイオン注入
装置の大型化を招来する。
また、ホルダ昇降装置134を大気中に配置すると、ホル
ダ130を昇降させる直線運動を行うスライド軸133が、真
空中である注入室と大気中との間を移動するため、その
際空気等の巻き込み等が無いよう配慮する必要がある。
例えば、真空容器を貫通する前記スライド軸133が、複
数に区画された室内を非接触状態でスライドするように
構成すると共に、各室内をそれぞれ別個の真空ポンプで
差動排気するようにしたいわゆるダイナミックバキュー
ムシール方式が試みられているが、その構成が極めて複
雑である他、注入室の到達真空度が悪く、そのため注入
室用の真空ポンプの能力アップを図る必要がある、等と
いった不具合がある。
ダ130を昇降させる直線運動を行うスライド軸133が、真
空中である注入室と大気中との間を移動するため、その
際空気等の巻き込み等が無いよう配慮する必要がある。
例えば、真空容器を貫通する前記スライド軸133が、複
数に区画された室内を非接触状態でスライドするように
構成すると共に、各室内をそれぞれ別個の真空ポンプで
差動排気するようにしたいわゆるダイナミックバキュー
ムシール方式が試みられているが、その構成が極めて複
雑である他、注入室の到達真空度が悪く、そのため注入
室用の真空ポンプの能力アップを図る必要がある、等と
いった不具合がある。
そこでこの発明は、上述の事柄に鑑み、殊更前述したよ
うなダイナミックバキュームシール方式を用いないで、
ウェーハを保持するホルダを支えるアームをモータの回
転運動により揺動回転せしめ、それによってウェーハを
イオンビームが走査されるX方向と実質的に直交するY
方向に機械的に走査するようにしたイオン注入装置およ
びイオン注入方法を提供することを主たる目的とする。
うなダイナミックバキュームシール方式を用いないで、
ウェーハを保持するホルダを支えるアームをモータの回
転運動により揺動回転せしめ、それによってウェーハを
イオンビームが走査されるX方向と実質的に直交するY
方向に機械的に走査するようにしたイオン注入装置およ
びイオン注入方法を提供することを主たる目的とする。
上記目的を達成するため、この発明のイオン注入装置
は、X方向に電気的に走査されたイオンビームが導かれ
る注入室と、この注入室内にあってウェーハを保持する
ホルダと、このホルダを支えるアームを、ホルダの中心
から離れた所にありかつイオンビームの進行方向にほぼ
平行な姿勢を取る軸を中心にして、当該軸にほぼ直交す
る平面内において所定角度範囲内で往復旋回させて、ホ
ルダを注入室内においてイオンビームに向けた状態でX
方向と実質的に直交するY方向に機械的に往復走査する
ホルダ駆動装置とを備えることを特徴とする。
は、X方向に電気的に走査されたイオンビームが導かれ
る注入室と、この注入室内にあってウェーハを保持する
ホルダと、このホルダを支えるアームを、ホルダの中心
から離れた所にありかつイオンビームの進行方向にほぼ
平行な姿勢を取る軸を中心にして、当該軸にほぼ直交す
る平面内において所定角度範囲内で往復旋回させて、ホ
ルダを注入室内においてイオンビームに向けた状態でX
方向と実質的に直交するY方向に機械的に往復走査する
ホルダ駆動装置とを備えることを特徴とする。
また、この発明のイオン注入方法は、イオンビームをX
方向に電気的に走査すると共に、ウェーハを保持したホ
ルダを支えるアームを、ホルダの中心から離れた所にあ
りかつイオンビームの進行方向にほぼ平行な軸を中心に
して、当該軸にほぼ直交する平面内において所定角度範
囲内で往復旋回させて、ホルダをイオンビームに向けた
状態でX方向と実質的に直交するY方向に機械的に往復
走査し、かつ前記ホルダを前記アームの旋回方向と逆方
向に同じ角度回転させながら、ウェーハにイオンを注入
することを特徴とする。
方向に電気的に走査すると共に、ウェーハを保持したホ
ルダを支えるアームを、ホルダの中心から離れた所にあ
りかつイオンビームの進行方向にほぼ平行な軸を中心に
して、当該軸にほぼ直交する平面内において所定角度範
囲内で往復旋回させて、ホルダをイオンビームに向けた
状態でX方向と実質的に直交するY方向に機械的に往復
走査し、かつ前記ホルダを前記アームの旋回方向と逆方
向に同じ角度回転させながら、ウェーハにイオンを注入
することを特徴とする。
上記構成によれば、ホルダに保持されたウェーハは、ホ
ルダと共に、ホルダ駆動装置によって、イオンビームの
走査方向であるX方向と実質的に直交するY方向に機械
的に走査される。
ルダと共に、ホルダ駆動装置によって、イオンビームの
走査方向であるX方向と実質的に直交するY方向に機械
的に走査される。
その際、ホルダをアームの旋回に応じて上記のように回
転させると、機械的走査時のウェーハの姿勢を一定にす
ることができる。
転させると、機械的走査時のウェーハの姿勢を一定にす
ることができる。
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す水平断面図である。この例では、イオンビー
ム2のビームラインの左右に同じ機構がほぼ左右対称に
設けられているので、以下においては主に右側(図の右
側)を例に説明する。
要部を示す水平断面図である。この例では、イオンビー
ム2のビームラインの左右に同じ機構がほぼ左右対称に
設けられているので、以下においては主に右側(図の右
側)を例に説明する。
この実施例においては、図示しない真空ポンプによって
真空排気される注入室6内に、その導入口6aから、X方
向に電気的に走査され、更に平行ビーム化されたイオン
ビーム2が導入される。
真空排気される注入室6内に、その導入口6aから、X方
向に電気的に走査され、更に平行ビーム化されたイオン
ビーム2が導入される。
イオンビーム2を平行ビーム化する走査手段の一例を第
2図に示す。即ち、イオン源110から引き出され、かつ
必要に応じて質量分析、加速等が行われたイオンビーム
2を、同一の走査電源116から互いに逆極性の走査電圧
(三角波電圧)が印加される二組の走査電極112および1
14の協働によってX方向に走査して、走査電極114から
出射した時に平行ビームになるようにしている。もっと
も、この例と違って、イオンビーム2を磁場を利用して
上記と同様に走査するようにしても良い。
2図に示す。即ち、イオン源110から引き出され、かつ
必要に応じて質量分析、加速等が行われたイオンビーム
2を、同一の走査電源116から互いに逆極性の走査電圧
(三角波電圧)が印加される二組の走査電極112および1
14の協働によってX方向に走査して、走査電極114から
出射した時に平行ビームになるようにしている。もっと
も、この例と違って、イオンビーム2を磁場を利用して
上記と同様に走査するようにしても良い。
第1図に戻って、上記のような処理室6の左右に、この
実施例では二つの互いに同一構造のホルダ駆動装置10が
設けられている。
実施例では二つの互いに同一構造のホルダ駆動装置10が
設けられている。
この発明に用いられるホルダ駆動装置10は、少なくとも
ホルダ8を支えるアーム46を揺動回転させることによ
り、ホルダ8に保持されたウェーハ4を注入室6内でX
方向に実質的に直交するY方向に機械的に走査する機能
を有することを特徴とする。揺動回転とは、所定角度範
囲内で往復旋回させることである。
ホルダ8を支えるアーム46を揺動回転させることによ
り、ホルダ8に保持されたウェーハ4を注入室6内でX
方向に実質的に直交するY方向に機械的に走査する機能
を有することを特徴とする。揺動回転とは、所定角度範
囲内で往復旋回させることである。
図示例の各ホルダ駆動装置10は、この実施例では、注入
室6の側壁に真空シール軸受12を取り付け、それに支持
軸14を貫通させ、その大気側(注入室6外側)に歯車16
を取り付け、注入角可変用のモータ20および歯車18によ
って、支持軸14を矢印Aのように回転させて、その先に
アーム46を介して取り付けられたホルダ8を設定された
注入角位置と、ウェーハ4のハンドリングのための水平
位置とに駆動するようにしている。
室6の側壁に真空シール軸受12を取り付け、それに支持
軸14を貫通させ、その大気側(注入室6外側)に歯車16
を取り付け、注入角可変用のモータ20および歯車18によ
って、支持軸14を矢印Aのように回転させて、その先に
アーム46を介して取り付けられたホルダ8を設定された
注入角位置と、ウェーハ4のハンドリングのための水平
位置とに駆動するようにしている。
支持軸14の真空側(注入室6内側)には、真空シール軸
受38によって中空のアーム軸40およびアーム46を回転自
在に支えている。このアーム軸40は、支持軸14を図示の
ような状態に回転させることによって、イオンビーム2
の進行方向にほぼ平行な姿勢を取ることができる。
受38によって中空のアーム軸40およびアーム46を回転自
在に支えている。このアーム軸40は、支持軸14を図示の
ような状態に回転させることによって、イオンビーム2
の進行方向にほぼ平行な姿勢を取ることができる。
アーム軸40の一端には、伝達手段を構成するものとし
て、プーリー36を取り付けると共に、タイミングベルト
32によって、支持軸14の大気側に取り付けた可逆転式の
モータ24およびプーリー28と連結しており、このモータ
ー24によってアーム軸40を正逆両方向に回転駆動してア
ーム46を矢印Bのように揺動回転させて、即ちアーム46
を、アーム軸40にほぼ直交する面内において所定角度範
囲内で往復旋回させて、ホルダ8を、イオンビーム2に
向けた状態で、X方向と実質的に直交するY方向(この
例では紙面表裏方向)に機械的に往復走査するようにし
ている。
て、プーリー36を取り付けると共に、タイミングベルト
32によって、支持軸14の大気側に取り付けた可逆転式の
モータ24およびプーリー28と連結しており、このモータ
ー24によってアーム軸40を正逆両方向に回転駆動してア
ーム46を矢印Bのように揺動回転させて、即ちアーム46
を、アーム軸40にほぼ直交する面内において所定角度範
囲内で往復旋回させて、ホルダ8を、イオンビーム2に
向けた状態で、X方向と実質的に直交するY方向(この
例では紙面表裏方向)に機械的に往復走査するようにし
ている。
アーム46の先端部には真空シール軸受52を取り付け、ホ
ルダ軸54およびホルダ8を回転自在に支えている。この
ホルダ軸54は、支持軸14を図示のような位置に回転させ
ることによって、イオンビーム2の進行方向にほぼ平行
な姿勢を取ることができる。そしてその先端部に、ウェ
ーハ4を保持するホルダ8がほぼ直角に取り付けられて
いる。ホルダ8は、この例ではベース8aと、それとの間
にウェーハ4を挟持するウェーハ押え8bと、ウェーハ4
を昇降させるウェーハ受け8cとを備えている。
ルダ軸54およびホルダ8を回転自在に支えている。この
ホルダ軸54は、支持軸14を図示のような位置に回転させ
ることによって、イオンビーム2の進行方向にほぼ平行
な姿勢を取ることができる。そしてその先端部に、ウェ
ーハ4を保持するホルダ8がほぼ直角に取り付けられて
いる。ホルダ8は、この例ではベース8aと、それとの間
にウェーハ4を挟持するウェーハ押え8bと、ウェーハ4
を昇降させるウェーハ受け8cとを備えている。
ホルダ軸54にはプーリー50が取り付けられている。ま
た、アーム軸40の中心部には中間軸42が回転自在に通さ
れており、その両端にはプーリー34および44が取り付け
られている。このプーリー44と50とは互いに同一直径で
あり、それらと共に連結手段を構成するタイミングベル
ト48で互いに連結されている。従って、ホルダ軸54と中
間軸42とは同一の回転比で連結されている。
た、アーム軸40の中心部には中間軸42が回転自在に通さ
れており、その両端にはプーリー34および44が取り付け
られている。このプーリー44と50とは互いに同一直径で
あり、それらと共に連結手段を構成するタイミングベル
ト48で互いに連結されている。従って、ホルダ軸54と中
間軸42とは同一の回転比で連結されている。
また、支持軸14の大気側に取り付けたステップ回転用の
モータ22およびプーリー26とプーリー34とをタイミング
ベルト30で連結しており、このモータ22によってホルダ
8を例えば矢印Cのように段階的に回転させることがで
きるようにしている。但し注入時の回転は行わないよう
にしており、その場合はアーム軸40が矢印Bのように回
転しても中間軸42はアーム軸40と一緒には回転しない。
モータ22およびプーリー26とプーリー34とをタイミング
ベルト30で連結しており、このモータ22によってホルダ
8を例えば矢印Cのように段階的に回転させることがで
きるようにしている。但し注入時の回転は行わないよう
にしており、その場合はアーム軸40が矢印Bのように回
転しても中間軸42はアーム軸40と一緒には回転しない。
尚、上記タイミングベルト30、32および48の代わりにチ
ェーンを用いても良く、その時はそれに関連するプーリ
ーをチェーン歯車にすれば良い。
ェーンを用いても良く、その時はそれに関連するプーリ
ーをチェーン歯車にすれば良い。
この実施例における走査時のホルダ8の姿勢を第3図を
も参照して説明すると、上述したようにその時はモータ
22は停止しており、従って中間軸42およびプーリー44は
停止状態にある。この状態でモータ24によって、プーリ
ー28、タイミングベルト32およびプーリー36を介してア
ーム46を例えば第3図に示すように時計方向にθ°回転
させた場合、アーム46側から見るとプーリー44は反時計
方向にθ°回転したことになり、タイミングベルト48で
接続してあるプーリー44と同一直径のプーリー50は、ア
ーム46側から見ると反時計方向にθ°回転する。従っ
て、ホルダ8およびそれに保持されたウェーハ4は、ア
ーム46の長さを半径にY方向に円弧を描くように走査さ
れるが、絶対回転角は0°であってその姿勢は不変であ
る。従って例えば、ホルダ8にウェーハ4をそのオリエ
ンテーションフラット4aを下側にして装着した場合、ホ
ルダ8の走査位置に拘わらず常にオリエンテーションフ
ラット4aは下側になる。
も参照して説明すると、上述したようにその時はモータ
22は停止しており、従って中間軸42およびプーリー44は
停止状態にある。この状態でモータ24によって、プーリ
ー28、タイミングベルト32およびプーリー36を介してア
ーム46を例えば第3図に示すように時計方向にθ°回転
させた場合、アーム46側から見るとプーリー44は反時計
方向にθ°回転したことになり、タイミングベルト48で
接続してあるプーリー44と同一直径のプーリー50は、ア
ーム46側から見ると反時計方向にθ°回転する。従っ
て、ホルダ8およびそれに保持されたウェーハ4は、ア
ーム46の長さを半径にY方向に円弧を描くように走査さ
れるが、絶対回転角は0°であってその姿勢は不変であ
る。従って例えば、ホルダ8にウェーハ4をそのオリエ
ンテーションフラット4aを下側にして装着した場合、ホ
ルダ8の走査位置に拘わらず常にオリエンテーションフ
ラット4aは下側になる。
上記例のように機械的走査時のウェーハ4の姿勢を一定
に制御することは必須ではないが、姿勢を一定に制御す
ると、ウェーハ4の姿勢が変化することによる不具合、
例えばウェーハ4がアーム46の揺動回転に伴ってわずか
に回ってその中心部と周辺部とでドーズ量に差が生じ
(より具体的には前者の方が多くなる)、またイオンビ
ーム2が平行ビームでない場合にウェーハ4の結晶に対
する注入角が変化してイオンの注入深さが変化すること
等を防止することができ、それによってウェーハ面内に
おけるドーズ量や注入深さ等の注入の均一性が一層向上
する。
に制御することは必須ではないが、姿勢を一定に制御す
ると、ウェーハ4の姿勢が変化することによる不具合、
例えばウェーハ4がアーム46の揺動回転に伴ってわずか
に回ってその中心部と周辺部とでドーズ量に差が生じ
(より具体的には前者の方が多くなる)、またイオンビ
ーム2が平行ビームでない場合にウェーハ4の結晶に対
する注入角が変化してイオンの注入深さが変化すること
等を防止することができ、それによってウェーハ面内に
おけるドーズ量や注入深さ等の注入の均一性が一層向上
する。
但し、ホルダ8をアーム46の揺動回転に応じて上記のよ
うに、即ちアーム46の回転方向と逆方向に同じ角度回転
させる手段は、必ずしも上記実施例のものに限定される
ものではない。
うに、即ちアーム46の回転方向と逆方向に同じ角度回転
させる手段は、必ずしも上記実施例のものに限定される
ものではない。
また、上記例のようにイオンビーム2を平行ビーム化す
ることも必須ではないが、平行ビーム化すると、イオン
ビームが角度を持って走査されることによる不具合、例
えばウェーハ4上の各点においてイオンビームの入射角
が異なり、ウェーハ4上に立体的な構造が形成されてい
る場合、場所によって陰のでき方が異なること等を防止
することができ、それによってウェーハ面内における注
入の均一性が一層向上する。
ることも必須ではないが、平行ビーム化すると、イオン
ビームが角度を持って走査されることによる不具合、例
えばウェーハ4上の各点においてイオンビームの入射角
が異なり、ウェーハ4上に立体的な構造が形成されてい
る場合、場所によって陰のでき方が異なること等を防止
することができ、それによってウェーハ面内における注
入の均一性が一層向上する。
なお、アーム46の制御については、例えばイオンビーム
2のビーム電流に比例してアーム46の角速度を制御すれ
ば、ウェーハ4の面内においてドーズ量の均一なイオン
注入が可能になる。
2のビーム電流に比例してアーム46の角速度を制御すれ
ば、ウェーハ4の面内においてドーズ量の均一なイオン
注入が可能になる。
ホルダ8を第1図中に2点鎖線で示すウェーハ4のハン
ドリング位置に移動させるには、モータ20によってホル
ダ8を水平状態にすると共に、モータ24によってホルダ
8を壁側に移動させれば良く、そのようにすればホルダ
8は結果的に矢印Dのように移動したことになる。
ドリング位置に移動させるには、モータ20によってホル
ダ8を水平状態にすると共に、モータ24によってホルダ
8を壁側に移動させれば良く、そのようにすればホルダ
8は結果的に矢印Dのように移動したことになる。
注入室6の後方部左右の底部には、ウェーハ4を注入室
6内と大気側との間で1枚ずつ出し入れ(アンロードお
よびロード)するための真空予備室80がそれぞれ隣接さ
れている。
6内と大気側との間で1枚ずつ出し入れ(アンロードお
よびロード)するための真空予備室80がそれぞれ隣接さ
れている。
この真空予備室80の部分の断面図を第4図および第5図
に示す。第4図は真空予備室80の真空側弁88が閉じかつ
大気側弁90が開いた状態を、第5図は真空側弁88が開き
かつ大気側弁90が閉じた状態を示す。但し、第5図に
は、後述するウェーハ搬送装置60の一部分をも便宜上示
している。
に示す。第4図は真空予備室80の真空側弁88が閉じかつ
大気側弁90が開いた状態を、第5図は真空側弁88が開き
かつ大気側弁90が閉じた状態を示す。但し、第5図に
は、後述するウェーハ搬送装置60の一部分をも便宜上示
している。
詳述すると、注入室6の底部に、真空ポンプ92によって
真空排気される真空予備室80が設けられており、その上
部には注入室6との間を仕切る真空側弁88が、下部には
大気側弁90が、それぞれ設けられている。
真空排気される真空予備室80が設けられており、その上
部には注入室6との間を仕切る真空側弁88が、下部には
大気側弁90が、それぞれ設けられている。
真空側弁88は注入室6上に設けたエアシリンダ86によっ
て、大気側弁90は下側のエアシリンダ102によってガイ
ド軸98を介して、それぞれ昇降され開閉される。尚、エ
アシリンダ86の上部に設けたレバー84およびエアシリン
ダ82は、エアシリンダ86をロックするためのものであ
る。
て、大気側弁90は下側のエアシリンダ102によってガイ
ド軸98を介して、それぞれ昇降され開閉される。尚、エ
アシリンダ86の上部に設けたレバー84およびエアシリン
ダ82は、エアシリンダ86をロックするためのものであ
る。
大気側弁90の上部には、ウェーハ4を載せる回転台94が
設けられており、この回転台94は、モータ96によってウ
ェーハ4のオリエンテーションフラット合わせ等のため
に回転させられると共に、デュアルストロークシリンダ
100によってウェーハ4のハンドリング等のために2段
階に昇降させられる。
設けられており、この回転台94は、モータ96によってウ
ェーハ4のオリエンテーションフラット合わせ等のため
に回転させられると共に、デュアルストロークシリンダ
100によってウェーハ4のハンドリング等のために2段
階に昇降させられる。
再び第1図に戻って、上記のような各真空予備室80から
水平状態にある各ホルダ8にかけての部分に、次のよう
な構造のウェーハ搬送装置60がそれぞれ設けられてい
る。
水平状態にある各ホルダ8にかけての部分に、次のよう
な構造のウェーハ搬送装置60がそれぞれ設けられてい
る。
即ち、第6図も参照して、真空予備室80と水平状態にあ
るホルダ8との間のウェーハ4の搬送経路に沿って、二
つの溝付きのプーリー70および72間にタイミングベルト
68がループ状に懸け渡されている。一方のプーリー70に
は、正転および逆転回能なモータ7が連結されている。
そして、このタイミングベルト68の上側および下側の部
分には、それぞれ連結金具66を介して、それぞれウェー
ハ4を載置可能なロード側の搬送アーム61aおよびアン
ロード側の搬送アーム装置61bがそれぞれ取り付けられ
ている。
るホルダ8との間のウェーハ4の搬送経路に沿って、二
つの溝付きのプーリー70および72間にタイミングベルト
68がループ状に懸け渡されている。一方のプーリー70に
は、正転および逆転回能なモータ7が連結されている。
そして、このタイミングベルト68の上側および下側の部
分には、それぞれ連結金具66を介して、それぞれウェー
ハ4を載置可能なロード側の搬送アーム61aおよびアン
ロード側の搬送アーム装置61bがそれぞれ取り付けられ
ている。
また、各搬送アーム61a、61bが回転せずにタイミングベ
ルト68に沿って移動するのをガイドするガイド手段とし
て、この実施例ではボールスプラインを採用している。
即ち、各搬送アーム61a、61bの根元部にスプライン軸受
64aおよび64bを取り付けると共に、それらをそれぞれ貫
通する上下2本のスプライン軸62aおよび62bをタイミン
グベルト68に平行に配置している。
ルト68に沿って移動するのをガイドするガイド手段とし
て、この実施例ではボールスプラインを採用している。
即ち、各搬送アーム61a、61bの根元部にスプライン軸受
64aおよび64bを取り付けると共に、それらをそれぞれ貫
通する上下2本のスプライン軸62aおよび62bをタイミン
グベルト68に平行に配置している。
このようなボールスプラインの代わりに、通常のガイド
軸を2本ずつ用いても良いが、ボールスプラインを用い
れば、1本のスプライン軸で、搬送アームが回転せずに
水平に安定して走行するのをガイドすることができる。
軸を2本ずつ用いても良いが、ボールスプラインを用い
れば、1本のスプライン軸で、搬送アームが回転せずに
水平に安定して走行するのをガイドすることができる。
尚、各スプライン軸62a、62bは、簡略化のために丸棒で
図示しているが、実際は、複数のボールの転動溝を有す
る丸棒状あるいは異形状のものである。
図示しているが、実際は、複数のボールの転動溝を有す
る丸棒状あるいは異形状のものである。
次に、上記のようなイオン注入装置の全体的な動作例を
第1図の右側の機構を中心に説明する。
第1図の右側の機構を中心に説明する。
ホルダ駆動装置10によってホルダ8を第1図中に2点鎖
線で示す水平位置に移動させ、ウェーハ受け8cおよびウ
ェーハ押え8bを図示しない駆動装置によって駆動して、
先に装着していたウェーハ4を下段のアンロード用の搬
送アーム61bに受け渡しする位置まで上昇させる。
線で示す水平位置に移動させ、ウェーハ受け8cおよびウ
ェーハ押え8bを図示しない駆動装置によって駆動して、
先に装着していたウェーハ4を下段のアンロード用の搬
送アーム61bに受け渡しする位置まで上昇させる。
一方、真空予備室80側では、第5図を参照して、デュア
ルストロークシリンダ100の上下両方のシリンダを動作
させて回転台94を大きく上昇させて2点鎖線で示すよう
に上段のロード側の搬送アーム61aの位置まで未注入の
ウェーハ4を持ち上げ、その状態でウェーハ搬送装置60
のモータ74によってタイミングベルト68を駆動して、搬
送アーム61aを真空予備室80上の位置に、かつ搬送アー
ム61bをホルダ8上の位置に同時に移動させ、そしてホ
ルダ8のウェーハ受け8cを降下させて先に注入済のウェ
ーハ4を搬送アーム61bに載せ、一方真空予備室80側で
も回転台94を降下させて未注入のウェーハ4を搬送アー
ム61aに載せる。
ルストロークシリンダ100の上下両方のシリンダを動作
させて回転台94を大きく上昇させて2点鎖線で示すよう
に上段のロード側の搬送アーム61aの位置まで未注入の
ウェーハ4を持ち上げ、その状態でウェーハ搬送装置60
のモータ74によってタイミングベルト68を駆動して、搬
送アーム61aを真空予備室80上の位置に、かつ搬送アー
ム61bをホルダ8上の位置に同時に移動させ、そしてホ
ルダ8のウェーハ受け8cを降下させて先に注入済のウェ
ーハ4を搬送アーム61bに載せ、一方真空予備室80側で
も回転台94を降下させて未注入のウェーハ4を搬送アー
ム61aに載せる。
次に、ウェーハ搬送装置60のモータ74を先とは逆転さ
せ、注入済のウェーハ4を載せた搬送アーム61bを真空
予備室80上へ、未注入のウェーハ4を載せた搬送アーム
61aをホルダ8上へ移動させ、そして真空予備室80側で
はデュアルストロークシリンダ100の上側のシリンダの
みを動作させて回転台64によって搬送アーム61bよりウ
ェーハ4を受け取り(第5図中の実線の状態)、ホルダ
8側ではウェーハ受け8cによって搬送アーム61aよりウ
ェーハ4を受け取る。
せ、注入済のウェーハ4を載せた搬送アーム61bを真空
予備室80上へ、未注入のウェーハ4を載せた搬送アーム
61aをホルダ8上へ移動させ、そして真空予備室80側で
はデュアルストロークシリンダ100の上側のシリンダの
みを動作させて回転台64によって搬送アーム61bよりウ
ェーハ4を受け取り(第5図中の実線の状態)、ホルダ
8側ではウェーハ受け8cによって搬送アーム61aよりウ
ェーハ4を受け取る。
次いで、ウェーハ搬送装置60のモータ74を再び逆転させ
て両搬送アーム61aおよび61bを中間の待機位置まで移動
させ(第1図の状態)、ホルダ8側ではウェーハ受け8c
およびウェーハ押え8bを降下させてウェーハ4を保持
し、ホルダ駆動装置10によってホルダ8を第1図中に実
線で示すような注入状態まで移動させて注入準備は完了
する。
て両搬送アーム61aおよび61bを中間の待機位置まで移動
させ(第1図の状態)、ホルダ8側ではウェーハ受け8c
およびウェーハ押え8bを降下させてウェーハ4を保持
し、ホルダ駆動装置10によってホルダ8を第1図中に実
線で示すような注入状態まで移動させて注入準備は完了
する。
一方、真空予備室80側では、回転台94を降下させ、かつ
真空側弁88を閉じた後、当該真空予備室80内を大気圧状
態に戻して大気側弁90を開き(第4図の状態)、図示し
ない大気側の搬送アーム装置によって注入済のウェーハ
4の搬出および次の未注入のウェーハ4の搬入を行う。
このとき並行して、注入室6内では、ホルダ駆動装置10
によってホルダ8を前述したようにY方向に機械的に走
査しながら、当該ホルダ8上のウェーハ4にイオンビー
ム2を照射してイオン注入が行われる。
真空側弁88を閉じた後、当該真空予備室80内を大気圧状
態に戻して大気側弁90を開き(第4図の状態)、図示し
ない大気側の搬送アーム装置によって注入済のウェーハ
4の搬出および次の未注入のウェーハ4の搬入を行う。
このとき並行して、注入室6内では、ホルダ駆動装置10
によってホルダ8を前述したようにY方向に機械的に走
査しながら、当該ホルダ8上のウェーハ4にイオンビー
ム2を照射してイオン注入が行われる。
以降は、必要に応じて上記と同様の動作が繰り返され
る。
る。
また、右側の機構と左側との機構との関係を説明する
と、一方の(例えば第1図中の右側の)ホルダ8を上記
のように走査しながらそこに装着したウェーハ4にイオ
ン注入を行うことと並行して、他方のホルダ8を水平状
態にしてウェーハ4のハンドリング(即ち注入済のウェ
ーハ4の取出しおよび未注入のウェーハ4の装着)を行
うことができる。即ち、二つのホルダ8において交互に
イオン注入およびウェーハ4のハンドリングを行うこと
ができ、イオン注入およびハンドリングのロス時間が殆
どなくなるのでスループットが向上する。
と、一方の(例えば第1図中の右側の)ホルダ8を上記
のように走査しながらそこに装着したウェーハ4にイオ
ン注入を行うことと並行して、他方のホルダ8を水平状
態にしてウェーハ4のハンドリング(即ち注入済のウェ
ーハ4の取出しおよび未注入のウェーハ4の装着)を行
うことができる。即ち、二つのホルダ8において交互に
イオン注入およびウェーハ4のハンドリングを行うこと
ができ、イオン注入およびハンドリングのロス時間が殆
どなくなるのでスループットが向上する。
しかも、上記のようなホルダ駆動装置10によれば、従来
のイオン注入装置におけるホルダ駆動装置136の場合と
違って、各アーム46およびホルダ8が円弧状に動くた
め、それらが互いに機械的に干渉するのを避けながら二
つのホルダ駆動装置10を互いに近づけて配置することが
でき、従って当該イオン注入装置の小型化を図ることが
できる。
のイオン注入装置におけるホルダ駆動装置136の場合と
違って、各アーム46およびホルダ8が円弧状に動くた
め、それらが互いに機械的に干渉するのを避けながら二
つのホルダ駆動装置10を互いに近づけて配置することが
でき、従って当該イオン注入装置の小型化を図ることが
できる。
また、両ホルダ8に対するウェーハ4のハンドリングが
互いに同一条件で、即ちこの例では互いに同一高さでし
かもどちらもウェーハ4の表面を上にして可能になるた
め、ウェーハ4のハンドリングが容易になる。
互いに同一条件で、即ちこの例では互いに同一高さでし
かもどちらもウェーハ4の表面を上にして可能になるた
め、ウェーハ4のハンドリングが容易になる。
第7図は、この発明の他の実施例に係るイオン注入装置
の要部を示す垂直断面図である。
の要部を示す垂直断面図である。
この実施例においても、第1図の実施例の場合と同様
に、電気的にX方向に走査して平行ビーム化されたイオ
ンビーム2が導入される注入室6の左右に、二つの前述
したようなホルダ駆動装置10を設け、それによってウェ
ーハ4を装着した各ホルダ8をそれぞれX方向と実質的
に直交するY方向に機械的に走査するようにしている。
に、電気的にX方向に走査して平行ビーム化されたイオ
ンビーム2が導入される注入室6の左右に、二つの前述
したようなホルダ駆動装置10を設け、それによってウェ
ーハ4を装着した各ホルダ8をそれぞれX方向と実質的
に直交するY方向に機械的に走査するようにしている。
但しこの実施例では、各ホルダ8に対するウェーハ4の
ハンドリングの仕方が異なる。即ち、注入室6内におけ
る各ホルダ駆動装置10の下部に、カセット120を1ピッ
チずつ紙面の表裏方向に移動させるカセット駆動機構12
2がそれぞれ設けられており、各カセット駆動機構122上
には、複数枚のウェーハ4を収納したカセット120が、
図示しない真空予備室を介して、それぞれ装着される。
ハンドリングの仕方が異なる。即ち、注入室6内におけ
る各ホルダ駆動装置10の下部に、カセット120を1ピッ
チずつ紙面の表裏方向に移動させるカセット駆動機構12
2がそれぞれ設けられており、各カセット駆動機構122上
には、複数枚のウェーハ4を収納したカセット120が、
図示しない真空予備室を介して、それぞれ装着される。
また、各カセット駆動機構122の下部は、ウェーハ垂直
搬送装置124がそれぞれ設けられている。各ウェーハ垂
直搬送装置124は、先端部にウェーハ4の端部が入る溝1
28を有していて矢印のように昇降させられる押上げ板12
6をそれぞれ有しており、これによってウェーハ4を1
枚ずつカセット120とホルダ8との間で搬送することが
できる。従ってこの実施例においても、左右のホルダ8
に対するウェーハ4のハンドリングは互いに同一条件で
可能である。
搬送装置124がそれぞれ設けられている。各ウェーハ垂
直搬送装置124は、先端部にウェーハ4の端部が入る溝1
28を有していて矢印のように昇降させられる押上げ板12
6をそれぞれ有しており、これによってウェーハ4を1
枚ずつカセット120とホルダ8との間で搬送することが
できる。従ってこの実施例においても、左右のホルダ8
に対するウェーハ4のハンドリングは互いに同一条件で
可能である。
この実施例の動作例を説明すると、図の右側のホルダ8
をホルダ駆動装置10によって実線で示す矢印Eのように
Y方向に走査してそこのウェーハ4にイオン注入してい
る間に、左側のホルダ駆動装置10ではアーム46を下方に
回転させて、ウェーハ垂直搬送装置124によってホルダ
8に先に装着されていた注入済のウェーハ4をカセット
120内に搬送すると共に、カセット駆動機構122によって
カセット120を1ピッチ駆動してカセット120内の未注入
のウェーハ4をホルダ8に装着して待機する。
をホルダ駆動装置10によって実線で示す矢印Eのように
Y方向に走査してそこのウェーハ4にイオン注入してい
る間に、左側のホルダ駆動装置10ではアーム46を下方に
回転させて、ウェーハ垂直搬送装置124によってホルダ
8に先に装着されていた注入済のウェーハ4をカセット
120内に搬送すると共に、カセット駆動機構122によって
カセット120を1ピッチ駆動してカセット120内の未注入
のウェーハ4をホルダ8に装着して待機する。
そして右側のホルダ8上のウェーハ4に対するイオン注
入が完了すると、右側のアーム46を下方に回転させて上
記と同様にしてそのホルダ8に対するウェーハ4の交換
を行う。その間に、左側のホルダ駆動装置10ではホルダ
8を待機位置(ウェーハ交換位置)から注入位置に移動
させてスキャン動作を行わせてそこのウェーハ4に対す
るイオン注入が行われる。
入が完了すると、右側のアーム46を下方に回転させて上
記と同様にしてそのホルダ8に対するウェーハ4の交換
を行う。その間に、左側のホルダ駆動装置10ではホルダ
8を待機位置(ウェーハ交換位置)から注入位置に移動
させてスキャン動作を行わせてそこのウェーハ4に対す
るイオン注入が行われる。
尚、第7図の実施例では、第1図の実施例と違って、ホ
ルダ8をウェーハ4のハンドリングのために水平状態に
する必要が無いので、注入角を可変にしないのであれ
ば、そのホルダ駆動装置10には、第1図で説明した支持
軸14を矢印Aのように回転させる機構を必ずしも設ける
必要は無い。
ルダ8をウェーハ4のハンドリングのために水平状態に
する必要が無いので、注入角を可変にしないのであれ
ば、そのホルダ駆動装置10には、第1図で説明した支持
軸14を矢印Aのように回転させる機構を必ずしも設ける
必要は無い。
また、第1図、第7図いずれの実施例においても、ホル
ダ8をステップ回転させる必要が無い場合は、ホルダ駆
動装置10にはそのための機構を必ずしも設ける必要は無
い。
ダ8をステップ回転させる必要が無い場合は、ホルダ駆
動装置10にはそのための機構を必ずしも設ける必要は無
い。
また、上記両実施例のように、ホルダ8およびホルダ駆
動装置10を二つずつ設けていわゆるデュアルタイプにす
ることは必須ではないが(即ちこれらは1つずつでも良
いが)、デュアルタイプにすれば、二つのホルダ8上の
ウェーハ4を交互に処理することができるのでスループ
ットが向上する。
動装置10を二つずつ設けていわゆるデュアルタイプにす
ることは必須ではないが(即ちこれらは1つずつでも良
いが)、デュアルタイプにすれば、二つのホルダ8上の
ウェーハ4を交互に処理することができるのでスループ
ットが向上する。
しかもデュアルタイプにする場合、イオンビーム2のビ
ームライン(換言すればイオンビーム2の電気的な走査
系等)を一つにしておく方が構造が簡単で小型かつ経済
的となるが、第8図に示したような従来のイオン注入装
置では、もう一組のホルダ130およびホルダ駆動装置136
をイオンビーム2に対して図示のものとは対称に配置
(即ち図示のものの上側に下向きに配置)しようとして
も、ホルダ昇降装置134によってホルダ130をY方向に直
線的に昇降させるだけであるから、上下のホルダ130が
互いにぶつかることになり、これを避けようとすると上
下のホルダ130およびホルダ駆動装置136を互いに大きく
離さなければならず、装置が巨大化する。しかも、ホル
ダ130に対するウェーハ4のハンドリング(着脱)位置
が上下のホルダ130で大きく異なるため、ウェーハ4の
搬送ラインが上下二段になり、また上側のホルダ130に
対してウェーハ4を下向きにハンドリングしなければな
らない等、ウェーハ4のハンドリングが非常に困難にな
る。
ームライン(換言すればイオンビーム2の電気的な走査
系等)を一つにしておく方が構造が簡単で小型かつ経済
的となるが、第8図に示したような従来のイオン注入装
置では、もう一組のホルダ130およびホルダ駆動装置136
をイオンビーム2に対して図示のものとは対称に配置
(即ち図示のものの上側に下向きに配置)しようとして
も、ホルダ昇降装置134によってホルダ130をY方向に直
線的に昇降させるだけであるから、上下のホルダ130が
互いにぶつかることになり、これを避けようとすると上
下のホルダ130およびホルダ駆動装置136を互いに大きく
離さなければならず、装置が巨大化する。しかも、ホル
ダ130に対するウェーハ4のハンドリング(着脱)位置
が上下のホルダ130で大きく異なるため、ウェーハ4の
搬送ラインが上下二段になり、また上側のホルダ130に
対してウェーハ4を下向きにハンドリングしなければな
らない等、ウェーハ4のハンドリングが非常に困難にな
る。
これに対して上記両実施例によれば、各アーム46および
ホルダ8が円弧状に動くため、それらが互いに機械的に
干渉するのを避けながら二つのホルダ駆動装置10を互い
に近づけて配置することができ、従って当該イオン注入
装置の小型化を図ることができる。また、二つのホルダ
8に対するウェーハ4のハンドリングが互いに同一条件
で可能なため、ウェーハ4のハンドリングが容易にな
る。その結果、ハイブリッドスキャン方式でしかもビー
ムラインが一つのデュアルタイプのイオン注入装置であ
って実際的なものを製作することが可能になる。
ホルダ8が円弧状に動くため、それらが互いに機械的に
干渉するのを避けながら二つのホルダ駆動装置10を互い
に近づけて配置することができ、従って当該イオン注入
装置の小型化を図ることができる。また、二つのホルダ
8に対するウェーハ4のハンドリングが互いに同一条件
で可能なため、ウェーハ4のハンドリングが容易にな
る。その結果、ハイブリッドスキャン方式でしかもビー
ムラインが一つのデュアルタイプのイオン注入装置であ
って実際的なものを製作することが可能になる。
なおこの発明は上述した実施例に限られることはなく、
モータの回転をアームに適当に伝えて、即ち直接あるい
は間接的に伝える等して、アームを揺動回転させるよう
にしても良いのは勿論である。
モータの回転をアームに適当に伝えて、即ち直接あるい
は間接的に伝える等して、アームを揺動回転させるよう
にしても良いのは勿論である。
以上のようにこの発明のイオン注入装置によれば、ウェ
ーハを保持するホルダを支えるアームを所定角度範囲内
で往復旋回せしめ、それによってウェーハをイオンビー
ムが走査されるX方向と実質的に直交するY方向に機械
的に走査するホルダ駆動装置を備えているので、従来試
みられている高価なダイナミックバキュームシール方式
を用いなくて済み、その結果、殊更に注入室用の真空ポ
ンプの能力アップを図る必要が無く、しかも経済的にこ
の種のイオン注入装置を構成することができる。その
他、次のような効果を奏することができる。
ーハを保持するホルダを支えるアームを所定角度範囲内
で往復旋回せしめ、それによってウェーハをイオンビー
ムが走査されるX方向と実質的に直交するY方向に機械
的に走査するホルダ駆動装置を備えているので、従来試
みられている高価なダイナミックバキュームシール方式
を用いなくて済み、その結果、殊更に注入室用の真空ポ
ンプの能力アップを図る必要が無く、しかも経済的にこ
の種のイオン注入装置を構成することができる。その
他、次のような効果を奏することができる。
アームを、イオンビームの進行方向にほぼ平行な姿勢
を取る軸を中心にして当該軸にほぼ直交する平面内にお
いて所定角度範囲内で往復旋回させるので、このアーム
に支持されたホルダおよびそれに保持されたウェーハ
も、イオンビームの進行方向にほぼ直交する平面内にお
いて機械的に走査されることになる。従ってウェーハ
は、その機械的走査時に、イオンビームの進行方向にお
いて前後に移動しない。イオンビームは、一般的に、空
間電荷効果によって、ビーム進行に伴ってビームサイズ
が大きくなるので、仮にウェーハがその機械的走査時に
ビーム進行方向において前後に移動すると、ウェーハ面
内でのビームサイズが変化し、それが原因でウェーハ面
内におけるドーズ量の均一性が悪化する。これに対して
この発明では、上述したように、ウェーハはその機械的
走査時にビーム進行方向において前後に移動しないの
で、ビーム進行に伴うビームサイズ変化の影響を受ける
ことはなく、従ってウェーハ面内におけるドーズ量の均
一性低下を防止することができる。
を取る軸を中心にして当該軸にほぼ直交する平面内にお
いて所定角度範囲内で往復旋回させるので、このアーム
に支持されたホルダおよびそれに保持されたウェーハ
も、イオンビームの進行方向にほぼ直交する平面内にお
いて機械的に走査されることになる。従ってウェーハ
は、その機械的走査時に、イオンビームの進行方向にお
いて前後に移動しない。イオンビームは、一般的に、空
間電荷効果によって、ビーム進行に伴ってビームサイズ
が大きくなるので、仮にウェーハがその機械的走査時に
ビーム進行方向において前後に移動すると、ウェーハ面
内でのビームサイズが変化し、それが原因でウェーハ面
内におけるドーズ量の均一性が悪化する。これに対して
この発明では、上述したように、ウェーハはその機械的
走査時にビーム進行方向において前後に移動しないの
で、ビーム進行に伴うビームサイズ変化の影響を受ける
ことはなく、従ってウェーハ面内におけるドーズ量の均
一性低下を防止することができる。
アームを、ビーム進行方向にほぼ直交する平面内にお
いて所定角度範囲内で往復旋回させることによって、ホ
ルダを機械的に走査するので、ホルダの機械的走査のた
めのビーム進行方向におけるスペースが小さくて済み、
従ってイオン注入装置のビーム進行方向の長さを短縮す
ることができる。
いて所定角度範囲内で往復旋回させることによって、ホ
ルダを機械的に走査するので、ホルダの機械的走査のた
めのビーム進行方向におけるスペースが小さくて済み、
従ってイオン注入装置のビーム進行方向の長さを短縮す
ることができる。
ウェーハが大口径化しても、その機械的走査に関して
は、アームを往復旋回させる角度範囲を大きくする、あ
るいはアームを長くする、等によって簡単に対処するこ
とができるので、ウェーハの大口径化にも容易に対応す
ることができる。
は、アームを往復旋回させる角度範囲を大きくする、あ
るいはアームを長くする、等によって簡単に対処するこ
とができるので、ウェーハの大口径化にも容易に対応す
ることができる。
また、この発明のイオン注入方法によれば、アームを上
記のように往復旋回させるので、上記〜に示した効
果を奏することができる。しかも、ホルダをアームの旋
回方向と逆方向に同じ角度回転させることによって、機
械的走査時のウェーハの姿勢を一定にすることができる
ので、ウェーハ面内におけるドーズ量や注入深さ等の注
入の均一性を一層向上させることができる。
記のように往復旋回させるので、上記〜に示した効
果を奏することができる。しかも、ホルダをアームの旋
回方向と逆方向に同じ角度回転させることによって、機
械的走査時のウェーハの姿勢を一定にすることができる
ので、ウェーハ面内におけるドーズ量や注入深さ等の注
入の均一性を一層向上させることができる。
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン注入装置の
要部を示す水平断面図である。第2図は、イオンビーム
の電気的な走査手段の一例を示す概略平面図である。第
3図は、第1図のホルダ駆動装置による走査時のホルダ
の姿勢を説明するための図である。第4図および第5図
は、共に、第1図の線I-Iに沿う断面図であるが、互い
に動作状態を異にしている。第6図は、第1図中のウェ
ーハ搬送装置を示す斜視図である。第7図は、この発明
の他の実施例に係るイオン注入装置の要部を示す垂直断
面図である。第8図は、従来のイオン注入装置の要部を
示す斜視図である。 2……イオンビーム、4……ウェーハ、6……注入室、
8……ホルダ、10……ホルダ駆動装置、24……モータ、
32……タイミングベルト、40……アーム軸、46……アー
ム。
要部を示す水平断面図である。第2図は、イオンビーム
の電気的な走査手段の一例を示す概略平面図である。第
3図は、第1図のホルダ駆動装置による走査時のホルダ
の姿勢を説明するための図である。第4図および第5図
は、共に、第1図の線I-Iに沿う断面図であるが、互い
に動作状態を異にしている。第6図は、第1図中のウェ
ーハ搬送装置を示す斜視図である。第7図は、この発明
の他の実施例に係るイオン注入装置の要部を示す垂直断
面図である。第8図は、従来のイオン注入装置の要部を
示す斜視図である。 2……イオンビーム、4……ウェーハ、6……注入室、
8……ホルダ、10……ホルダ駆動装置、24……モータ、
32……タイミングベルト、40……アーム軸、46……アー
ム。
Claims (2)
- 【請求項1】X方向に電気的に走査されたイオンビーム
が導かれる注入室と、この注入室内にあってウェーハを
保持するホルダと、このホルダを支えるアームを、ホル
ダの中心から離れた所にありかつイオンビームの進行方
向にほぼ平行な姿勢を取る軸を中心にして、当該軸にほ
ぼ直交する平面内において所定角度範囲内で往復旋回さ
せて、ホルダを注入室内においてイオンビームに向けた
状態でX方向と実質的に直交するY方向に機械的に往復
走査するホルダ駆動装置とを備えることを特徴とするイ
オン注入装置。 - 【請求項2】イオンビームをX方向に電気的に走査する
と共に、ウェーハを保持したホルダを支えるアームを、
ホルダの中心から離れた所にありかつイオンビームの進
行方向にほぼ平行な軸を中心にして、当該軸にほぼ直交
する平面内において所定角度範囲内で往復旋回させて、
ホルダをイオンビームに向けた状態でX方向と実質的に
直交するY方向に機械的に往復走査し、かつ前記ホルダ
を前記アームの旋回方向と逆方向に同じ角度回転させな
がら、ウェーハにイオンを注入することを特徴とするイ
オン注入方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2099577A JPH0754688B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | イオン注入装置およびイオン注入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2099577A JPH0754688B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | イオン注入装置およびイオン注入方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JPS5743975A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-12 | Kyodo Printing Co Ltd | Method of bonding metal, etc. intermittently on circumferential surface of rod-shaped body with resist |
-
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Patent Citations (1)
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JPS5743975A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-12 | Kyodo Printing Co Ltd | Method of bonding metal, etc. intermittently on circumferential surface of rod-shaped body with resist |
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JPH0329258A (ja) | 1991-02-07 |
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