JPH0748631A - Continuous heat treatment furnace - Google Patents
Continuous heat treatment furnaceInfo
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- JPH0748631A JPH0748631A JP21086993A JP21086993A JPH0748631A JP H0748631 A JPH0748631 A JP H0748631A JP 21086993 A JP21086993 A JP 21086993A JP 21086993 A JP21086993 A JP 21086993A JP H0748631 A JPH0748631 A JP H0748631A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は連続熱処理炉に関する。
さらに詳しくは、各種の薄肉鋼板、合金鋼板に種々の熱
処理をするために用いられる連続熱処理炉の改良に関す
る。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a continuous heat treatment furnace.
More specifically, it relates to improvement of a continuous heat treatment furnace used for various heat treatments on various thin steel plates and alloy steel plates.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、各種の薄肉鋼板、合金鋼板の
圧延等の熱処理をするために、図５に示すような、加熱
室ａとこの加熱室ａの下流側に連設されている冷却室ｂ
を主要構成要素としてなる連続熱処理炉ｃが設けられて
いる。この連続熱処理炉ｃにおいては、図６に示すよう
に、冷却室ｂの加熱室側に水冷ジャケットｊで構成され
た接続ダクトｄが設けられている。また、この接続ダク
トｄの下流側には、図７〜８に示すように、加熱室ａか
ら送給されてくる薄板ｐの表面および裏面の両面に、冷
却用流体を吹きつけて薄板ｐを冷却するための冷却用流
体噴射部ｅ，ｅが、薄板ｐの送給方向に沿って、薄板ｐ
の上方および下方に平行に設けられている。2. Description of the Related Art Conventionally, in order to perform heat treatment such as rolling of various thin steel plates and alloy steel plates, as shown in FIG. Room b
A continuous heat treatment furnace c whose main constituent element is is provided. In this continuous heat treatment furnace c, as shown in FIG. 6, a connection duct d composed of a water cooling jacket j is provided on the heating chamber side of the cooling chamber b. Further, on the downstream side of the connection duct d, as shown in FIGS. 7 to 8, a cooling fluid is sprayed onto both the front surface and the back surface of the thin plate p fed from the heating chamber a to form the thin plate p. Cooling fluid ejecting parts e, e for cooling are provided along the feeding direction of the thin plate p.
Are provided in parallel above and below.
【０００３】しかしながら、かかる構成を有する連続熱
処理炉ｃにより、熱処理を行った場合には、次のような
問題が生じている。However, when the heat treatment is carried out by the continuous heat treatment furnace c having such a structure, the following problems occur.
【０００４】加熱室ａにおいて高温に加熱された薄板ｐ
が冷却室ｂに送給されると、水冷ジャケットｊにより構
成されている接続ダクトｄにより急冷や過冷却がなされ
冷却ムラが生じ、そのため内部に残留歪を生じたり、波
打ち歪が生じたりする。また、複数の幅の狭い薄板ｐが
列状に送給されている場合には、冷却用流体が図９に示
すような円形孔から噴射されるために、冷却用流体が、
図１０に示すように不均一に薄板ｐに当たる。その結
果、薄板ｐが均一に冷却されないために、薄板ｐに幅方
向の曲がりが生ずるという問題もある。A thin plate p heated to a high temperature in the heating chamber a
Is supplied to the cooling chamber b, rapid cooling or supercooling is performed by the connection duct d formed by the water cooling jacket j, and uneven cooling occurs. Therefore, residual strain or wavy strain occurs inside. Further, when a plurality of thin plates p having a narrow width are fed in a row, the cooling fluid is injected from the circular holes as shown in FIG.
As shown in FIG. 10, the thin plate p is hit unevenly. As a result, since the thin plate p is not cooled uniformly, there is a problem that the thin plate p is bent in the width direction.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の問題点に鑑みなされたものであって、薄板、とりわ
け複数の幅の狭い薄板が多列状に送給されている場合に
おいても、薄板が均一に冷却できる連続熱処理炉を提供
することを主たる目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art. Even when thin plates, particularly a plurality of narrow thin plates are fed in multiple rows, The main purpose is to provide a continuous heat treatment furnace capable of uniformly cooling thin plates.
【０００６】また、本発明は加熱室から送給されてくる
薄板の急冷や過冷却が防止されてなる連続熱処理炉を提
供することをも目的としている。Another object of the present invention is to provide a continuous heat treatment furnace in which rapid cooling or supercooling of a thin plate fed from a heating chamber is prevented.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の連続熱処理炉
は、薄板用の連続熱処理炉であって、薄板が連続して送
給されながら加熱される加熱室と、その下流側に連設さ
れている薄板が連続して送給されながら冷却される冷却
室とを備え、前記冷却室には、送給されてくる前記薄板
の表面および裏面の両方向から冷却用流体を薄板の幅方
向に均一に噴射する、前記薄板の表面および裏面に対し
て平行に配設されている多数の噴射孔を有する噴射部
と、該冷却用流体の温度を制御する温度制御手段とを有
する冷却手段が設けられてなることを特徴とする。The continuous heat treatment furnace of the present invention is a continuous heat treatment furnace for thin plates, which is connected to a heating chamber in which thin plates are continuously fed and heated and a downstream side thereof. A cooling chamber in which the thin plates are cooled while being continuously fed, and the cooling fluid is evenly distributed in the width direction of the thin plates from both the front and back directions of the fed thin plates. Cooling means having a plurality of injection holes, which are arranged in parallel to the front surface and the back surface of the thin plate, and a temperature control means for controlling the temperature of the cooling fluid. It is characterized by
【０００８】本発明の連続熱処理炉においては、前記温
度制御手段が、冷却器と加熱器と該冷却器と加熱器への
流量を調節するダンパーとを、前記冷却用流体の流路中
に備えてなるのが好ましい。In the continuous heat treatment furnace of the present invention, the temperature control means includes a cooler, a heater, and a damper for adjusting the flow rate to the cooler and the heater in the flow path of the cooling fluid. It is preferable that
【０００９】また、本発明の連続熱処理炉においては、
前記噴射部に形成されている噴射孔が、前記薄板の送給
方向に対して直交状に所定間隔をおいて設けられてい
る、前記薄板の幅よりも若干大きな幅の長方形状のスリ
ットであるのが好ましい。In the continuous heat treatment furnace of the present invention,
The injection hole formed in the injection unit is a rectangular slit having a width slightly larger than the width of the thin plate and provided at a predetermined interval in a direction orthogonal to the feeding direction of the thin plate. Is preferred.
【００１０】さらに、本発明の連続熱処理炉において
は、前記冷却室の前記噴射部と前記加熱室との間に、前
記薄板をその送給方向に囲う断熱材からなる徐冷ダクト
が設けられ、前記徐冷ダクト内には余熱手段が設けら
れ、前記余熱手段の余熱部の配設密度が、前記加熱室側
が高く、前記噴射部側が低くされてなるのが好ましい。Further, in the continuous heat treatment furnace of the present invention, a slow cooling duct made of a heat insulating material that surrounds the thin plate in the feeding direction is provided between the injection section of the cooling chamber and the heating chamber, It is preferable that a residual heat means is provided in the slow cooling duct, and a disposition density of a residual heat portion of the residual heat means is high on the heating chamber side and low on the injection portion side.
【００１１】[0011]
【作用】本発明の連続熱処理炉は、その冷却室に送給さ
れてくる前記薄板の表面および裏面の両方向から冷却用
流体を薄板の幅方向に均一に噴射する、前記薄板の表面
および裏面に対して平行に配設されている多数の噴射孔
を有する噴射部と、該冷却用流体の温度を制御する温度
制御手段とが設けられているので、送給されてくる薄板
を所定の冷却速度により所望温度に均一に冷却すること
ができる。In the continuous heat treatment furnace of the present invention, the cooling fluid is uniformly jetted in the width direction of the thin plate from both the front side and the back side of the thin plate fed to the cooling chamber. Since the injection unit having a large number of injection holes arranged in parallel to each other and the temperature control means for controlling the temperature of the cooling fluid are provided, the thin plate fed is cooled at a predetermined cooling rate. Thus, it is possible to uniformly cool to a desired temperature.
【００１２】また、冷却室の噴射部と加熱室との間に断
熱材からなる徐冷ダクトが設けられて、前記徐冷ダクト
内には余熱手段が設けられ、前記余熱手段の余熱部の配
設密度が、前記加熱室側が高く、前記噴射部側が低くさ
れてなる好ましい実施例においては、加熱室から送給さ
れてくる薄板の急冷や過冷却が防止される。A gradual cooling duct made of a heat insulating material is provided between the injection section of the cooling chamber and the heating chamber, and residual heat means is provided in the gradual cooling duct. In a preferred embodiment in which the installation density is high on the heating chamber side and low on the injection part side, rapid cooling or supercooling of the thin plate fed from the heating chamber is prevented.
【００１３】[0013]
【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明を実施
例に基づいて説明するが、本発明はかかる実施例のみに
限定されるものではない。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described based on embodiments with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such embodiments.
【００１４】図１は本発明の一実施例における徐冷ダク
トの長手方向断面図、図２は同実施例における冷却装置
の長手方向断面図、図３は同横方向断面図、図４は同冷
却装置の噴射部に形成されているスリットの説明図であ
る。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a slow cooling duct according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view of a cooling device according to the same embodiment, FIG. 3 is a lateral sectional view thereof, and FIG. It is explanatory drawing of the slit formed in the injection part of a cooling device.
【００１５】本発明の連続熱処理炉の一実施例におい
て、薄板は加熱室１において７００°Ｃ〜８００°Ｃに
加熱された後、冷却室２に送給される。この冷却室２の
加熱室１との接続部には、従来と同様に接続ダクト３が
設けられているが、この接続ダクト３は、従来のものが
水冷ジャケットにより構成されているのに対し、本発明
においては断熱材４により構成されている。しかも、送
給されてくる薄板Ｐを支持しているローラーＲを余熱す
るための余熱ヒーター５が、底部に設けられている。こ
の余熱ヒーター５の余熱面の配設密度は、図１に示すよ
うに、加熱室側が高く、後述する冷却用流体の噴射部側
に行くにしたがって低くなるよう調整されている。した
がって、冷却室２へ送給されてくる薄板Ｐは、従来のよ
うに急冷や過冷却されることなく徐冷されることにな
る。すなわち、本発明においては、この接続ダクト３は
徐冷ダクトを構成する。In one embodiment of the continuous heat treatment furnace of the present invention, the thin plate is heated to 700 ° C. to 800 ° C. in the heating chamber 1 and then fed to the cooling chamber 2. A connection duct 3 is provided at the connection portion of the cooling chamber 2 with the heating chamber 1 as in the conventional case. The connection duct 3 of the conventional one is formed by a water cooling jacket. In the present invention, the heat insulating material 4 is used. Moreover, the residual heat heater 5 for residual heat of the roller R supporting the fed thin plate P is provided at the bottom portion. As shown in FIG. 1, the disposition density of the residual heat surface of the residual heat heater 5 is adjusted so as to be higher on the heating chamber side and lower on the cooling fluid injection portion side, which will be described later. Therefore, the thin plate P fed to the cooling chamber 2 is gradually cooled without being rapidly cooled or overcooled as in the conventional case. That is, in the present invention, this connection duct 3 constitutes a slow cooling duct.
【００１６】この徐冷ダクト３を通過した薄板Ｐは冷却
装置６に送給される。この冷却装置６は、薄板Ｐの上方
および下方に、薄板Ｐの送給方向に平行に設けられた多
数の噴射孔を有する噴射部７，７より、ファン８からの
冷却用流体を吹きつけて薄板Ｐを冷却するという基本的
構成は、従来の連続熱処理炉に用いられている冷却装置
と同様であるが、本発明においては、複数の幅の狭い薄
板Ｐが多列状に送給されてくる場合にも均一な冷却がな
しえるよう、次のような改善がなされている。The thin plate P which has passed through the slow cooling duct 3 is fed to the cooling device 6. In this cooling device 6, a cooling fluid from a fan 8 is blown from above the thin plate P and below the thin plate P from jet parts 7, 7 having a large number of injection holes provided in parallel to the feeding direction of the thin plate P. The basic structure of cooling the thin plates P is the same as that of the cooling device used in the conventional continuous heat treatment furnace, but in the present invention, a plurality of narrow thin plates P are fed in multiple rows. The following improvements have been made so that even cooling can be achieved evenly.
【００１７】従来の冷却装置においては、薄板ｐの冷却
により温度が上昇した冷却用流体は、ファン入口に設け
られたクーラーｆにより温度が下げられてファンに導入
されていたが、本発明においては、クーラー９とヒータ
ー１０と前記クーラー９と前記ヒーター１０への冷却用
流体の流量を調節するダンパー１１と、それらを制御す
る制御装置（図示せず）とからなる温度制御装置が設け
られて、ファン入口の冷却用流体の温度が最適に調整さ
れている（図２参照）。すなわち、薄板Ｐを冷却した後
の冷却用流体の温度が所定温度よりも高い場合には、ダ
ンパー１１をヒーター１０側に倒してクーラー９を通過
する流量を多くし、その逆の場合には、ダンパー１１を
クーラー９側に倒してヒーター１０を通過する流量を多
くする。In the conventional cooling device, the cooling fluid whose temperature has risen due to the cooling of the thin plate p is introduced into the fan after its temperature is lowered by the cooler f provided at the fan inlet. A temperature controller including a cooler 9, a heater 10, a damper 11 for adjusting the flow rate of the cooling fluid to the cooler 9 and the heater 10, and a controller (not shown) for controlling them is provided. The temperature of the cooling fluid at the fan inlet is optimally adjusted (see FIG. 2). That is, when the temperature of the cooling fluid after cooling the thin plate P is higher than the predetermined temperature, the damper 11 is tilted to the heater 10 side to increase the flow rate passing through the cooler 9, and vice versa. The damper 11 is tilted to the cooler 9 side to increase the flow rate passing through the heater 10.
【００１８】また、ファン８から噴射部７，７への流路
１２は、内部で複数に分割される（図示の例では３分割
されている）とともに、それぞれの入口部には流量調節
用のダンパー１３，１３が設けられている。その上、流
路１２の途中には適宜整流板１４が設けられている（図
３参照）。このようにして、本発明の冷却装置６におい
ては、薄板Ｐに冷却用流体が均等に各噴射部７，７に分
配されるようにされている。The flow path 12 from the fan 8 to the injection parts 7, 7 is internally divided into a plurality of parts (in the example shown, divided into three parts), and the respective inlet parts are provided for adjusting the flow rate. Dampers 13, 13 are provided. Moreover, a flow straightening plate 14 is appropriately provided in the middle of the flow path 12 (see FIG. 3). In this way, in the cooling device 6 of the present invention, the cooling fluid is evenly distributed to the thin plates P to the respective injection parts 7, 7.
【００１９】さらに、噴射部７の噴射孔は、図３に示す
ように、薄板Ｐの送給方向に対して直交状に所定間隔を
おいて設けられている、薄板Ｐの最大幅Ｗ1よりも若干
大きな幅Ｗ2を有する長方形状のスリット７１とされて
いる。それゆえ、複数の幅の狭い薄板（帯状の薄板）Ｐ
が列状に送給されている場合においても、各帯状の薄板
Ｐに冷却用流体が均一に噴射される。したがって、従来
の冷却装置のような、幅方向の冷却不均一や不均一振動
並びに曲がり、歪等が発生することはない。Further, as shown in FIG. 3, the injection holes of the injection unit 7 are defined by a maximum width W 1 of the thin plate P which is provided at a predetermined interval in a direction orthogonal to the feeding direction of the thin plate P. Is a rectangular slit 71 having a slightly larger width W 2 . Therefore, a plurality of narrow thin plates (strip-shaped thin plates) P
Even when the gas is supplied in a row, the cooling fluid is uniformly ejected to each strip-shaped thin plate P. Therefore, unlike the conventional cooling device, uneven cooling in the width direction, uneven vibration, bending, distortion, etc. do not occur.
【００２０】[0020]
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の連続
熱処理炉によれば、冷却室の加熱室との接続部に徐冷ダ
クトが設けられているので、加熱室において高温に加熱
された薄板が冷却室に送給された際に、急冷や過冷却さ
れることはない。また、冷却装置には、所定温度に調整
された冷却用流体が均一に薄板に噴射されるので、薄板
は所定の冷却速度で均一に冷却される。したがって、熱
処理された薄板に内部歪が生ずることもなく、また波打
ち状の歪や幅方向の曲がりが生ずることもない。As described above, according to the continuous heat treatment furnace of the present invention, since the slow cooling duct is provided at the connecting portion of the cooling chamber with the heating chamber, the heating chamber is heated to a high temperature. When the thin plate is sent to the cooling chamber, it is not rapidly cooled or supercooled. Further, since the cooling fluid adjusted to the predetermined temperature is uniformly jetted to the thin plate in the cooling device, the thin plate is uniformly cooled at the predetermined cooling rate. Therefore, no internal strain occurs in the heat-treated thin plate, and neither wavy strain nor bending in the width direction occurs.
【００２１】また、冷却用流体の温度を薄板の材質や形
状に応じて適宜調整できるので、薄板の材質や形状に制
約を受けないという優れた効果を奏する。Further, since the temperature of the cooling fluid can be adjusted appropriately according to the material and shape of the thin plate, there is an excellent effect that the material and shape of the thin plate are not restricted.
【図１】本発明の一実施例における徐冷ダクトの長手方
向断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an annealing duct according to an embodiment of the present invention.
【図２】同実施例における冷却装置の長手方向断面図で
ある。FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the cooling device in the embodiment.
【図３】同横方向断面図である。FIG. 3 is a lateral sectional view of the same.
【図４】同冷却装置の噴射部に形成されているスリット
の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of slits formed in an injection unit of the cooling device.
【図５】従来の連続熱処理炉の概略図である。FIG. 5 is a schematic view of a conventional continuous heat treatment furnace.
【図６】従来の水冷ジャケット製接続ダクトの長手方向
断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a conventional water-cooled jacket connection duct.
【図７】従来の冷却装置の長手方向断面図である。FIG. 7 is a longitudinal sectional view of a conventional cooling device.
【図８】同横方向断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the same.
【図９】同冷却装置の噴射部に形成されている噴射孔の
説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of injection holes formed in an injection portion of the cooling device.
【図１０】同噴射孔を用いた場合に生ずる不均一振動の
説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of non-uniform vibration that occurs when the same injection hole is used.
１ 加熱室 ２ 冷却室 ３ 接続ダクト（徐冷ダクト） ４ 断熱材 ５ 余熱ヒーター ６ 冷却装置 ７ 噴射部 ７１ スリット ８ ファン ９ クーラー １０ ヒーター １１ ダンパー Ｐ 薄板 Ｒ ローラー 1 heating chamber 2 cooling chamber 3 connection duct (slow cooling duct) 4 heat insulating material 5 residual heat heater 6 cooling device 7 injection part 71 slit 8 fan 9 cooler 10 heater 11 damper P thin plate R roller
Claims (4)
連続して送給されながら加熱される加熱室と、その下流
側に連設されている薄板が連続して送給されながら冷却
される冷却室とを備え、前記冷却室には、送給されてく
る前記薄板の表面および裏面の両方向から冷却用流体を
薄板の幅方向に均一に噴射する、前記薄板の表面および
裏面に対して平行に配設されている多数の噴射孔を有す
る噴射部と、該冷却用流体の温度を制御する温度制御手
段とを有する冷却手段が設けられてなることを特徴とす
る連続熱処理炉。1. A continuous heat treatment furnace for thin plates, wherein a heating chamber in which thin plates are continuously fed and heated, and a thin plate continuously provided downstream thereof are continuously fed and cooled. The cooling chamber is provided, wherein the cooling chamber uniformly jets a cooling fluid from both the front and back directions of the thin plate fed to the front and back sides of the thin plate. And a cooling means having a temperature control means for controlling the temperature of the cooling fluid, and a continuous heat treatment furnace.
該冷却器と加熱器への流量を調節するダンパーとを、前
記冷却用流体の流路中に備えてなることを特徴とする請
求項１記載の連続熱処理炉。2. The temperature control means is provided with a cooler, a heater, and a damper for adjusting a flow rate to the cooler and the heater in a flow path of the cooling fluid. The continuous heat treatment furnace according to claim 1.
前記薄板の送給方向に対して直交状に所定間隔をおいて
設けられている前記薄板の幅よりも若干大きな幅を有す
る長方形状のスリットであることを特徴とする請求項１
または２記載の連続熱処理炉。3. The injection hole formed in the injection portion,
2. A rectangular slit having a width slightly larger than the width of the thin plate and provided at a predetermined interval in a direction orthogonal to the feeding direction of the thin plate.
Alternatively, the continuous heat treatment furnace described in 2.
の間に、前記薄板をその送給方向に囲う断熱材からなる
徐冷ダクトが設けられ、前記徐冷ダクト内には余熱手段
が設けられ、前記余熱手段の余熱部の配設密度が、前記
加熱室側が高く、前記噴射部側が低くされてなることを
特徴とする請求項１、２または３記載の連続熱処理炉。4. A gradual cooling duct made of a heat insulating material that surrounds the thin plate in the feeding direction is provided between the injection section of the cooling chamber and the heating chamber, and residual heat means is provided in the gradual cooling duct. 4. The continuous heat treatment furnace according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the disposition density of the residual heat portion of the residual heat means is high on the heating chamber side and low on the injection portion side.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP21086993A JP3489143B2 (en) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | Continuous heat treatment furnace |
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| JP21086993A Expired - Fee Related JP3489143B2 (en) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | Continuous heat treatment furnace |
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|---|---|
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-
1993
- 1993-08-02 JP JP21086993A patent/JP3489143B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JP3489143B2 (en) | 2004-01-19 |
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