JPH0747817B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

Info

Publication number
JPH0747817B2
JPH0747817B2 JP16977887A JP16977887A JPH0747817B2 JP H0747817 B2 JPH0747817 B2 JP H0747817B2 JP 16977887 A JP16977887 A JP 16977887A JP 16977887 A JP16977887 A JP 16977887A JP H0747817 B2 JPH0747817 B2 JP H0747817B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
evaporation source
wall
vapor deposition
ferromagnetic material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP16977887A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6415367A (en
Inventor
英明 竹内
直毅 楠木
司郎 横田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP16977887A priority Critical patent/JPH0747817B2/ja
Publication of JPS6415367A publication Critical patent/JPS6415367A/ja
Publication of JPH0747817B2 publication Critical patent/JPH0747817B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜製造用の真空蒸着装置、特に蒸着材料を有
効に利用するための回収用壁を有する真空蒸着装置に関
するものである。
〔従来の技術〕
真空蒸着は薄膜製造の手段として広く行なわれている
が、この真空蒸着による薄膜製造にあたっては蒸着材料
をいかに有効に利用するかということが、製造コスト低
減の観点から重要である。特に、高密度磁気記録媒体の
製造に適した斜方蒸着法では、蒸発源から蒸発した粒子
の飛行可能な方向範囲の立体角に対し、蒸着される範囲
の立体角が極めて小さいので、蒸着材料の有効利用の必
要性は頗る高い。
蒸着材料の有効利用を図るためには、特開昭59-173264
号公報では蒸着装置では水冷銅坩堝(回収用壁を含む)
の内側にセラミック材を内張りする方法が開示されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、こうした水冷された銅坩堝(回収用壁を
含む)にセラミックライナーを貼付ける方法は、熱が銅
坩堝に逃げ易い為、蒸発に要するエネルギーの効率はそ
れほど良くない。
一方セラミックライナーを使用しているので、セラミッ
クの熱伝導度が低くエネルギーを効率良く利用できるの
で、電子銃のパワーを低く抑えることができるが、その
パワーを低く抑えると回収用壁に付着した蒸発粒子が融
けるまで加熱されず、肝心の蒸着材料が充分回収されな
いという問題があった。そのため、蒸着効率としては、
たかだか7〜8%程度であった。
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであって上
記の如く中途半端でなく、蒸着時の省エネルギーと回収
の収率を両立せしめる真空蒸着装置を提供することを目
的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の目的は、蒸発源坩堝内の強磁性材料を電子ビー
ムにより加熱し、その蒸気流を囲む位置に不要な方向に
飛行する蒸発粒子が回収する回収用壁を設けた真空蒸着
装置において、前記蒸発源坩堝がセラミック材から成
り、更に前記回収用壁が前記電子ビームの反入射側に位
置し前記坩堝の上方部をカバーするように設けられてお
り、前記回収用壁は前記蒸発源坩堝内の強磁性材料の溶
融液面に対して該坩堝上縁部分から斜め上方にかつ該蒸
発源坩堝内の強磁性材料の溶融液面の略中心部まで延長
された支持部材と、該支持部材の前記溶融液面の側に設
けられた断熱部材と、該断熱部材を介して該溶融液面に
対面するように前記支持部材に取付けられた内壁部材と
から成ることを特徴とする真空蒸着装置によって達成さ
れる。
本発明における回収用壁に用いる内壁部材としてはMgO,
CaO,ZrO2,Al2O3等のセラミックスを蒸発材料の融点,反
応性によって選定して用いる。
本発明における回収用壁に用いる断熱部材としてはセラ
ミック繊維の焼結体であるアルミナカーボンフェライト
が適当である。
又、本発明の支持部板としては高融点金属(モリブデ
ン,タングステン等)が適当である。
以下に本発明の実施態様を磁気記録媒体の製造に例をと
って第1図を用いて説明する。第1図において、真空槽
1内は真空ポンプ5によって所望する真空度に保たれ、
蒸着材料である強磁性材料3は蒸発源坩堝2において電
子銃4の電子ビーム15によって加熱される。一方、高分
子帯状体9は送出部6から冷却キャン7を経てマスク10
によって規制された蒸気入射角を以って前記強磁性材料
3の蒸発粒子が蒸着された後、巻取部8に巻き取られ
る。16はガイドローラーである。
尚、前記蒸発源坩堝2はセラミック材から成り、更に前
記回収用壁11が前記電子ビーム15の反入射側に位置して
前記蒸発源坩堝2の上方部をカバーするように設けられ
ており、この回収用壁11は蒸発源坩堝2内の強磁性材料
3の溶融液面に対して該坩堝上縁部分から斜め上方に延
びるようにかつ該蒸発源坩堝2内の強磁性材料3の溶融
液面の略中心部まで延長された支持部材14と、この支持
部材14において前記溶融液面側に設けられた断熱部材13
と、この断熱部材13を介して該溶融液面に対面するよう
に支持部材14に取付けられた内壁部材12とから成り、前
記強磁性材料3の蒸気流17を囲み不要な方向に飛行する
前記蒸発粒子を前記坩堝2内に回収する様に構成されて
いる。
本発明による真空蒸着装置は蒸発源坩堝2にセラミック
材を使用することによって省エネルギーの効果を出すと
共に、回収用壁11をセラミック材の内壁部材12,断熱部
材13及び支持部材14とから成ることによって前記回収用
壁11の内面を前記強磁性材料3の融点よりも高い温度に
維持し、前記内壁部材13に付着した前記蒸発粒子を前記
坩堝2に略100%流下,回収できる。
前記内壁部材13に使われるのは耐熱性の観点から耐火セ
ラミックスであり、蒸発材料の融点、反応性によって適
宜選ばれる必要があるが、総じて耐火セラミックスの断
熱性は十分でなく、入射熱量の多くが裏面へ熱伝導で失
なわれ、前記内壁部材13が十分な温度に達しない場合も
生じることになる。本発明はこの点に注目して鋭意検討
を進めた結果、前記断熱部材14として、セラミック繊維
の焼結体を用いる。
〔実施例〕
次に本発明の具体的を実施例について説明する。第1図
において、蒸発源坩堝2として内径80mmのマグネシア坩
堝を用い、回収用壁の内壁のセラミック材12としてマグ
ネシア(MgO),断熱材13としてアルミナシリカ焼結
体,支持部材14としてタングステンを用いた。なお、真
空度は1×10-4Torrに設定した。
高分子帯状体9としてポリエチレンテレフタレートフイ
ルム(100mm幅,13μm厚)を冷却キャン7(直径300mm,
表面温度約0℃)にかけて蒸着を行った。
蒸発源坩堝2には蒸着材料の強磁性材料3としてコバル
トを用い出力18kwの電子銃4からの電子ビームによって
コバルトを加熱蒸発させて約1500(Å)の膜厚で高分子
帯状体上に蒸着を行った。その結果、蒸着効率を15%ま
で向上させることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の真空蒸着装置の1実施例の配置図。 1……真空槽、2……蒸発源坩堝、3……強磁性材料、
4……電子銃、5……真空ポンプ、6……送出部、7…
…冷却キャン、8……巻取部、9……高分子帯状体、10
……マスク、11……回収用壁、12……内壁部材、13……
断熱部材、14……支持部材、15……電子ビーム、17……
蒸気流。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】蒸発源坩堝内の強磁性材料を電子ビームに
    より加熱し、その蒸気流を囲む位置に不要な方向に飛行
    する蒸発粒子を回収する回収用壁を設けた真空蒸着装置
    において、前記蒸発源坩堝がセラミック材から成り、更
    に前記回収用壁が前記電子ビームの反入射側に位置し前
    記坩堝の上方部をカバーするように設けられており、前
    記回収用壁は前記蒸発源坩堝内の強磁性材料の溶融液面
    に対して該坩堝上縁部分から斜め上方にかつ該蒸発源坩
    堝内の強磁性材料の溶融液面の略中心部まで延長された
    支持部材と、該支持部材の前記溶融液面の側に設けられ
    た断熱部材と、該断熱部材を介して該溶融液面に対面す
    るように前記支持部材に取付けられた内壁部材とから成
    ることを特徴とする真空蒸着装置。
JP16977887A 1987-07-09 1987-07-09 真空蒸着装置 Expired - Fee Related JPH0747817B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16977887A JPH0747817B2 (ja) 1987-07-09 1987-07-09 真空蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16977887A JPH0747817B2 (ja) 1987-07-09 1987-07-09 真空蒸着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6415367A JPS6415367A (en) 1989-01-19
JPH0747817B2 true JPH0747817B2 (ja) 1995-05-24

Family

ID=15892687

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16977887A Expired - Fee Related JPH0747817B2 (ja) 1987-07-09 1987-07-09 真空蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0747817B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6415367A (en) 1989-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4866527B2 (ja) 昇華精製方法
CA1192318A (en) Magnetron cathode sputtering system
JPH01104770A (ja) 棒状の磁電管またはスパッタ陰極の配置、スパッタ方法、この方法を実施するための装置並びに管状のターゲット
US3560252A (en) Vapor deposition method including specified solid angle of radiant heater
US2665320A (en) Metal vaporizing crucible
JPH0747817B2 (ja) 真空蒸着装置
US4262160A (en) Evaporator feed
JP2618695B2 (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPS60152670A (ja) 高周波誘導加熱蒸発源
JP2009084680A (ja) 蒸着方法及び蒸着装置
CN110117772A (zh) 一种超稳定三电极电子束蒸发源
JP2622683B2 (ja) 磁気記録媒体の製造装置
JPH07331415A (ja) 真空蒸着装置
JPH093624A (ja) 連続真空蒸着装置における鋼板の予備加熱方法及び装置
JPS59133368A (ja) 酸化白金薄膜でコ−トされた基板の改良、及び、前記の如き膜付着基板の製造デバイス、及び、前記の如き膜付着基板から得られる製品
JPS62185871A (ja) 真空蒸着装置
Thomas New technique for producing thin boron films
JP2554488B2 (ja) 磁気記録媒体の製造装置
JPH06172984A (ja) 蒸着方法および装置
JP2554489B2 (ja) 磁気記録媒体の製造装置
JPS63277752A (ja) 真空蒸着装置
Maier-Komor Evaporation of target materials of low vapor pressure on very thin carbon backings by electron-bombardment
JP2631025B2 (ja) 磁気記録媒体の製造装置
JP3735846B2 (ja) 連続真空蒸着装置における鋼板の予備加熱方法及び装置
GB1601340A (en) Vacuum evaporation processes

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees