JPH0743696A - 表示装置用基板 - Google Patents
表示装置用基板Info
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- JPH0743696A JPH0743696A JP19057193A JP19057193A JPH0743696A JP H0743696 A JPH0743696 A JP H0743696A JP 19057193 A JP19057193 A JP 19057193A JP 19057193 A JP19057193 A JP 19057193A JP H0743696 A JPH0743696 A JP H0743696A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表示装置の薄型軽量化を実現するとともに表
示装置の表示品位および表示信頼性を向上することがで
きる表示装置用基板を得る。 【構成】 表示装置用基板２１は、一対の厚さ０．０５
ｍｍの超薄板ガラス２２，２２ａ間に厚さ０．３８ｍｍ
のポリビニルブチラール系透明接着性樹脂層２３を介在
して形成される。表示装置用基板２１は、両面に超薄板
ガラス２２，２２ａを備えるので、従来のプラスチック
基板と同程度の薄型軽量化を実現できるとともに、ガラ
ス基板と同様の長所を備える。
示装置の表示品位および表示信頼性を向上することがで
きる表示装置用基板を得る。 【構成】 表示装置用基板２１は、一対の厚さ０．０５
ｍｍの超薄板ガラス２２，２２ａ間に厚さ０．３８ｍｍ
のポリビニルブチラール系透明接着性樹脂層２３を介在
して形成される。表示装置用基板２１は、両面に超薄板
ガラス２２，２２ａを備えるので、従来のプラスチック
基板と同程度の薄型軽量化を実現できるとともに、ガラ
ス基板と同様の長所を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＳＴＮ（スーパーツイ
ステッドネマティック）型液晶表示装置、２端子素子液
晶表示装置、３端子素子液晶表示装置などの表示装置に
好適に使用することができる表示装置用基板に関する。
ステッドネマティック）型液晶表示装置、２端子素子液
晶表示装置、３端子素子液晶表示装置などの表示装置に
好適に使用することができる表示装置用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、情報機器、通信機器、ＡＶ（オー
ディオアンドビジュアル）機器およびゲーム機器などに
使用される大面積または中面積の表示装置として、ＳＴ
Ｎ型液晶表示装置、ＭＩＭ（Metal Insulator Metal）
液晶表示装置およびＴＦＴ（薄膜トランジスタ）液晶表
示装置などがある。これらの液晶表示装置の基板として
は、厚さ０．７ｍｍのホウケイ酸ガラス板、厚さ１ｍｍ
または厚さ０．７ｍｍのソーダライムガラス板および厚
さ１．１ｍｍの無アルカリガラス板などが使用されてい
る。また、厚さ０．５ｍｍのガラス板を使用する基板
も、検討されている。しかし、近年前述の情報機器、通
信機器、ＡＶ機器およびゲーム機器などの薄型軽量化を
進めるため、これらの機器に備えられる表示装置の薄型
軽量化が図られている。たとえば、前記表示装置の基板
として、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ポリアリ
レート、ポリカーボネート、エポキシブタジエン共重合
体およびノルボルネン系樹脂などのプラスチック基板を
使用し、表示装置の薄型軽量化を図ることが提案されて
いる。
ディオアンドビジュアル）機器およびゲーム機器などに
使用される大面積または中面積の表示装置として、ＳＴ
Ｎ型液晶表示装置、ＭＩＭ（Metal Insulator Metal）
液晶表示装置およびＴＦＴ（薄膜トランジスタ）液晶表
示装置などがある。これらの液晶表示装置の基板として
は、厚さ０．７ｍｍのホウケイ酸ガラス板、厚さ１ｍｍ
または厚さ０．７ｍｍのソーダライムガラス板および厚
さ１．１ｍｍの無アルカリガラス板などが使用されてい
る。また、厚さ０．５ｍｍのガラス板を使用する基板
も、検討されている。しかし、近年前述の情報機器、通
信機器、ＡＶ機器およびゲーム機器などの薄型軽量化を
進めるため、これらの機器に備えられる表示装置の薄型
軽量化が図られている。たとえば、前記表示装置の基板
として、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ポリアリ
レート、ポリカーボネート、エポキシブタジエン共重合
体およびノルボルネン系樹脂などのプラスチック基板を
使用し、表示装置の薄型軽量化を図ることが提案されて
いる。
【０００３】図１４は、特開昭６１−８６２５２に開示
される表示装置用基板５の構成を示す断面図である。図
１４に示すように、基板５は、厚さ１００μｍの耐熱性
に優れたＰＥＳフィルムから成る透明プラスチックフィ
ルム１の一方表面上に、厚さ２μｍのウレタン樹脂をア
ンダーコートとして、厚さ５μｍのＰＶＡ（ポリビニル
アルコール）樹脂から成るガスバリアコート２が設けら
れる。これに積層して、厚さ３μｍのエポキシ樹脂から
成る保護コート３が設けられる。また、前記透明プラス
チックフィルム１の他方表面上には、酸化インジウムか
ら成る透明導電膜のアンダーコート４として、厚さ５μ
ｍにエポキシアクリレート樹脂が塗布される。
される表示装置用基板５の構成を示す断面図である。図
１４に示すように、基板５は、厚さ１００μｍの耐熱性
に優れたＰＥＳフィルムから成る透明プラスチックフィ
ルム１の一方表面上に、厚さ２μｍのウレタン樹脂をア
ンダーコートとして、厚さ５μｍのＰＶＡ（ポリビニル
アルコール）樹脂から成るガスバリアコート２が設けら
れる。これに積層して、厚さ３μｍのエポキシ樹脂から
成る保護コート３が設けられる。また、前記透明プラス
チックフィルム１の他方表面上には、酸化インジウムか
ら成る透明導電膜のアンダーコート４として、厚さ５μ
ｍにエポキシアクリレート樹脂が塗布される。
【０００４】また、液晶表示装置などの表示装置の薄型
軽量化を図るため、特開昭６１−１１６３３１および特
開昭６１−１１６３３２に開示されるように、表示装置
が形成される基板上に、偏光膜などの光学部材を予め形
成しておくことが提案されている。
軽量化を図るため、特開昭６１−１１６３３１および特
開昭６１−１１６３３２に開示されるように、表示装置
が形成される基板上に、偏光膜などの光学部材を予め形
成しておくことが提案されている。
【０００５】図１５は、特開昭６１−１１６３３１に開
示される偏光板一体型基板１６の構成を示す断面図であ
る。図１５に示すように、厚さ５０μｍのＰＥＳフィル
ム１１の一方表面には、１軸延伸ＰＶＡフィルムに染料
分子を吸着した偏光板１２が、ウレタン系接着剤１３を
介して貼合わされる。これに積層して、紫外線吸収剤を
含む厚さ５０μｍのＴＡＣ（トリアセチルセルロース）
フィルム１４が、保護コートとしてウレタン系接着剤１
３を介して貼合わされる。また、前記ＰＥＳフィルム１
１の他方表面上には、酸化インジウムから成る透明導電
膜のアンダーコート１５が設けられる。
示される偏光板一体型基板１６の構成を示す断面図であ
る。図１５に示すように、厚さ５０μｍのＰＥＳフィル
ム１１の一方表面には、１軸延伸ＰＶＡフィルムに染料
分子を吸着した偏光板１２が、ウレタン系接着剤１３を
介して貼合わされる。これに積層して、紫外線吸収剤を
含む厚さ５０μｍのＴＡＣ（トリアセチルセルロース）
フィルム１４が、保護コートとしてウレタン系接着剤１
３を介して貼合わされる。また、前記ＰＥＳフィルム１
１の他方表面上には、酸化インジウムから成る透明導電
膜のアンダーコート１５が設けられる。
【０００６】また、特開昭５９−２２４８７６および
「Penz,P.A．ら，SID'81Digests，11.7,pp,116-118，Ap
r.1981」に示されるように、ＰＥＳフィルム以外に、１
軸延伸ポリエステルフィルムを使用した基板や、フェノ
キシ系フィルムなどを使用した基板が提案されている。
「Penz,P.A．ら，SID'81Digests，11.7,pp,116-118，Ap
r.1981」に示されるように、ＰＥＳフィルム以外に、１
軸延伸ポリエステルフィルムを使用した基板や、フェノ
キシ系フィルムなどを使用した基板が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図１４に示す
表示装置用基板５は、アンダーコート４上に透明電極を
形成して、液晶セル製造プロセスを施した場合、電極の
断線が生じやすい。また、液晶を充填した液晶セル中に
気泡を生じやすく、十分な表示信頼性を得られないとい
う問題がある。
表示装置用基板５は、アンダーコート４上に透明電極を
形成して、液晶セル製造プロセスを施した場合、電極の
断線が生じやすい。また、液晶を充填した液晶セル中に
気泡を生じやすく、十分な表示信頼性を得られないとい
う問題がある。
【０００８】また、図１５に示す表示装置用基板１６
は、薄いプラスチック製であるので基板１６の強度が低
く、ＳＴＮ型液晶表示装置などの液晶セルを形成した
際、セル厚の均一化が困難である。このため、液晶セル
の色調むらなどを発生しやすいという問題がある。
は、薄いプラスチック製であるので基板１６の強度が低
く、ＳＴＮ型液晶表示装置などの液晶セルを形成した
際、セル厚の均一化が困難である。このため、液晶セル
の色調むらなどを発生しやすいという問題がある。
【０００９】さらに、前記表示装置用基板１６は、液晶
セル製造プロセスなどを施した場合、熱処理などの工程
で熱応力による寸法変化を起こし、透明電極の断線が発
生しやすいという問題がある。
セル製造プロセスなどを施した場合、熱処理などの工程
で熱応力による寸法変化を起こし、透明電極の断線が発
生しやすいという問題がある。
【００１０】本発明の目的は、前記課題を解消し、表示
装置の薄型軽量化を実現するとともに、表示装置の表示
品位、表示信頼性およびペン入力タブレットなどの他の
装置が併設されたときの使用感を向上することができる
表示装置用基板を提供することである。
装置の薄型軽量化を実現するとともに、表示装置の表示
品位、表示信頼性およびペン入力タブレットなどの他の
装置が併設されたときの使用感を向上することができる
表示装置用基板を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、透光性を有す
る一対の超薄ガラス板間に、該超薄ガラス板の１枚の厚
さ以上の厚さを有する、少なくとも１層の接着性透光性
樹脂層を含む板状体層が介在されることを特徴とする表
示装置用基板である。
る一対の超薄ガラス板間に、該超薄ガラス板の１枚の厚
さ以上の厚さを有する、少なくとも１層の接着性透光性
樹脂層を含む板状体層が介在されることを特徴とする表
示装置用基板である。
【００１２】また本発明は、前記超薄ガラス板は、厚さ
が０．００１５ｍｍ以上、０．２５ｍｍ未満であること
を特徴とする。
が０．００１５ｍｍ以上、０．２５ｍｍ未満であること
を特徴とする。
【００１３】また本発明は、前記一対の超薄ガラス板の
うち、少なくとも一方の超薄ガラス板の基板外方表面と
なる面は、研磨が施されていることを特徴とする。
うち、少なくとも一方の超薄ガラス板の基板外方表面と
なる面は、研磨が施されていることを特徴とする。
【００１４】また本発明は、前記一対の超薄ガラス板の
うち、少なくとも一方の超薄ガラス板の基板外方表面と
なる面には、凹凸が施されていることを特徴とする。
うち、少なくとも一方の超薄ガラス板の基板外方表面と
なる面には、凹凸が施されていることを特徴とする。
【００１５】また本発明は、前記一対の超薄ガラス板の
うち、少なくとも一方の超薄ガラス板の基板外方表面と
なる面には、反射防止処理が施されていることを特徴と
する。
うち、少なくとも一方の超薄ガラス板の基板外方表面と
なる面には、反射防止処理が施されていることを特徴と
する。
【００１６】また本発明は、前記板状体層は、光学部材
を含むことを特徴とする。
を含むことを特徴とする。
【００１７】また本発明は、前記光学部材は、偏光板で
あることを特徴とする。
あることを特徴とする。
【００１８】また本発明は、前記光学部材は、位相差板
であることを特徴とする。
であることを特徴とする。
【００１９】また本発明は、前記光学部材は、反射板で
あることを特徴とする。
あることを特徴とする。
【００２０】また本発明は、前記光学部材は、半透過反
射板であることを特徴とする。
射板であることを特徴とする。
【００２１】また本発明は、前記光学部材は、複数の位
相差板であることを特徴とする。
相差板であることを特徴とする。
【００２２】また本発明は、前記光学部材は、捩れ位相
差フィルムであることを特徴とする。
差フィルムであることを特徴とする。
【００２３】
【作用】本発明に従えば、表示装置用基板は、透光性を
有する一対の超薄ガラス板間に、少なくとも１層の接着
性透光性樹脂層を含む板状体層が介在される。特に、前
記超薄ガラス板の厚さを０．２５ｍｍ未満にすることに
よって、従来のガラス基板より薄型軽量の表示装置用基
板を作成することができる。また、表示装置用基板は、
両面に超薄ガラス板を備えるので、基板表面が傷付きに
くく、基板を介して空気が透過することを防止すること
ができる。さらに、基板の耐熱性、耐薬品性を向上する
ことができる。また基板の熱膨張を低く抑えることがで
きるので、基板の熱膨張による電極の断線を防止するこ
とができる。さらに、基板の強度を高めることができる
ので、液晶セルのセル厚を均一に形成でき、液晶セルの
表示の均一性を向上することができる。
有する一対の超薄ガラス板間に、少なくとも１層の接着
性透光性樹脂層を含む板状体層が介在される。特に、前
記超薄ガラス板の厚さを０．２５ｍｍ未満にすることに
よって、従来のガラス基板より薄型軽量の表示装置用基
板を作成することができる。また、表示装置用基板は、
両面に超薄ガラス板を備えるので、基板表面が傷付きに
くく、基板を介して空気が透過することを防止すること
ができる。さらに、基板の耐熱性、耐薬品性を向上する
ことができる。また基板の熱膨張を低く抑えることがで
きるので、基板の熱膨張による電極の断線を防止するこ
とができる。さらに、基板の強度を高めることができる
ので、液晶セルのセル厚を均一に形成でき、液晶セルの
表示の均一性を向上することができる。
【００２４】また本発明に従えば、表示装置用基板の超
薄ガラス板は、厚さが０．００１５ｍｍ以上、０．２５
ｍｍ未満に形成される。
薄ガラス板は、厚さが０．００１５ｍｍ以上、０．２５
ｍｍ未満に形成される。
【００２５】また本発明に従えば、表示装置用基板の一
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面は、研磨が施されている。し
たがって一対の前記表示装置用基板を前記研磨面が対向
するように配置し、液晶を封入することによって、液晶
セルのセル厚を精度よく均一にすることができ、表示む
らのない液晶表示装置を形成することができる。
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面は、研磨が施されている。し
たがって一対の前記表示装置用基板を前記研磨面が対向
するように配置し、液晶を封入することによって、液晶
セルのセル厚を精度よく均一にすることができ、表示む
らのない液晶表示装置を形成することができる。
【００２６】また、本発明に従えば、表示装置用基板の
一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラ
ス板の基板外方表面となる面には、凹凸が施されてい
る。したがって、前記表示装置用基板の凹凸面が、前記
表示装置用基板が備えられる装置、たとえば表示装置に
積層されるタブレットなどの表面に配置されることによ
って、前記表示装置の反射光によるちらつきを防止する
とともに、ペン入力の書き味を向上することができる。
一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラ
ス板の基板外方表面となる面には、凹凸が施されてい
る。したがって、前記表示装置用基板の凹凸面が、前記
表示装置用基板が備えられる装置、たとえば表示装置に
積層されるタブレットなどの表面に配置されることによ
って、前記表示装置の反射光によるちらつきを防止する
とともに、ペン入力の書き味を向上することができる。
【００２７】また本発明に従えば、表示装置用基板の一
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面には、反射防止処理が施され
ている。したがって前記反射防止処理面が、前記表示装
置用基板が備えられる表示装置の表示面側となるように
配置されることによって、反射光による表示面のちらつ
きを防止することができる。
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面には、反射防止処理が施され
ている。したがって前記反射防止処理面が、前記表示装
置用基板が備えられる表示装置の表示面側となるように
配置されることによって、反射光による表示面のちらつ
きを防止することができる。
【００２８】また本発明に従えば、表示装置用基板の板
状体層は、光学部材を含む。したがって、前記光学部材
によって前記表示装置用基板が備えられる表示装置の表
示品位を向上することができる。
状体層は、光学部材を含む。したがって、前記光学部材
によって前記表示装置用基板が備えられる表示装置の表
示品位を向上することができる。
【００２９】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、偏光板である。したがって、前記表示装
置用基板は、偏光板を用いる液晶表示装置などの表示装
置に好適に使用することができる。
記光学部材は、偏光板である。したがって、前記表示装
置用基板は、偏光板を用いる液晶表示装置などの表示装
置に好適に使用することができる。
【００３０】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、位相差板である。したがって前記表示装
置用基板は、位相差板を用いる液晶表示装置などの表示
装置に好適に使用することができる。
記光学部材は、位相差板である。したがって前記表示装
置用基板は、位相差板を用いる液晶表示装置などの表示
装置に好適に使用することができる。
【００３１】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、反射板である。したがって前記表示装置
用基板は、反射板を用いる表示装置に好適に使用するこ
とができる。
記光学部材は、反射板である。したがって前記表示装置
用基板は、反射板を用いる表示装置に好適に使用するこ
とができる。
【００３２】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、半透過反射板である。したがって前記表
示装置用基板は、半透過反射板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
記光学部材は、半透過反射板である。したがって前記表
示装置用基板は、半透過反射板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
【００３３】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、複数の位相差板である。したがって前記
表示装置用基板は、複数の位相差板を用いる表示装置に
好適に使用することができる。
記光学部材は、複数の位相差板である。したがって前記
表示装置用基板は、複数の位相差板を用いる表示装置に
好適に使用することができる。
【００３４】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、捩れ位相差板である。したがって前記表
示装置用基板は、捩れ位相差板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
記光学部材は、捩れ位相差板である。したがって前記表
示装置用基板は、捩れ位相差板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
【００３５】
【実施例】図１は、本発明の一実施例である表示装置用
基板２１の構成を示す断面図である。図１に示すよう
に、基板２１は、一対の超薄板ガラス２２および超薄板
ガラス２２ａ間に、前記超薄板ガラス２２，２２ａより
厚いポリビニルブチラール系透明接着性樹脂層２３を介
在して形成される。
基板２１の構成を示す断面図である。図１に示すよう
に、基板２１は、一対の超薄板ガラス２２および超薄板
ガラス２２ａ間に、前記超薄板ガラス２２，２２ａより
厚いポリビニルブチラール系透明接着性樹脂層２３を介
在して形成される。
【００３６】基板２１は、以下に示す手順で作成され
る。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体として
この上に、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃｍの
大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０５ｍｍの
低アルカリガラスのマイクロシート２２が積層される。
この上に接着性を有し、水洗、乾燥、裁断、調湿した厚
さ０．３８ｍｍのポリビニルブチラールフィルム２３が
積層される。さらに、一方表面をオスカー式研磨機で研
磨された厚さ０．０５ｍｍのホウケイ酸ガラス板２２ａ
が研磨面を上にして積層される。
る。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体として
この上に、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃｍの
大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０５ｍｍの
低アルカリガラスのマイクロシート２２が積層される。
この上に接着性を有し、水洗、乾燥、裁断、調湿した厚
さ０．３８ｍｍのポリビニルブチラールフィルム２３が
積層される。さらに、一方表面をオスカー式研磨機で研
磨された厚さ０．０５ｍｍのホウケイ酸ガラス板２２ａ
が研磨面を上にして積層される。
【００３７】このようにして、支持体上に積層された基
板２１は、ゴム袋の中に収納されて温度９０℃、真空度
６００ｍｍＨｇで３０分間減圧加熱され、予備接着が行
われる。次いで、前記基板２１の端面にＵＶ（紫外線）
硬化型アクリル樹脂が塗布され、紫外線照射によって前
記アクリル樹脂の硬化が行われる。これによって基板２
１の端面が封止される。さらに基板２１は、オートクレ
ーブで１４０℃、１５ｋｇ／ｃｍ2 で３０分間加圧さ
れ、同時に基板２１の端面に塗布されたＵＶ硬化型アク
リル樹脂の十分な硬化が行われる。
板２１は、ゴム袋の中に収納されて温度９０℃、真空度
６００ｍｍＨｇで３０分間減圧加熱され、予備接着が行
われる。次いで、前記基板２１の端面にＵＶ（紫外線）
硬化型アクリル樹脂が塗布され、紫外線照射によって前
記アクリル樹脂の硬化が行われる。これによって基板２
１の端面が封止される。さらに基板２１は、オートクレ
ーブで１４０℃、１５ｋｇ／ｃｍ2 で３０分間加圧さ
れ、同時に基板２１の端面に塗布されたＵＶ硬化型アク
リル樹脂の十分な硬化が行われる。
【００３８】また本実施例において、前記低アルカリガ
ラスのマイクロシート２２には、コーニング社製マイク
ロシートを使用し、前記ポリビニルブチラールフィルム
２３には、積水化学工業社製エスレックフィルムシリー
ズを使用した。
ラスのマイクロシート２２には、コーニング社製マイク
ロシートを使用し、前記ポリビニルブチラールフィルム
２３には、積水化学工業社製エスレックフィルムシリー
ズを使用した。
【００３９】図２は、図１に示す基板２１を用いた白黒
表示反射型位相差板ＳＴＮ液晶セル２８の構成を示す断
面図である。図１に示すように、液晶セル２８は、前記
一対の基板２１間に、液晶層２６がスペーサ（図示せ
ず）を介して封入されて形成される。前記一対の基板２
１は、研磨面上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜など
から成る透明電極および配向膜など２５が形成され、こ
の面が対向するように配置される。液晶セル２８の一方
外側基板面上には、位相差板付き偏光板２４が設けら
れ、他方外側基板面上には、反射板付き偏光板２７が設
けられる。
表示反射型位相差板ＳＴＮ液晶セル２８の構成を示す断
面図である。図１に示すように、液晶セル２８は、前記
一対の基板２１間に、液晶層２６がスペーサ（図示せ
ず）を介して封入されて形成される。前記一対の基板２
１は、研磨面上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜など
から成る透明電極および配向膜など２５が形成され、こ
の面が対向するように配置される。液晶セル２８の一方
外側基板面上には、位相差板付き偏光板２４が設けら
れ、他方外側基板面上には、反射板付き偏光板２７が設
けられる。
【００４０】前記液晶セル２８は、がラス基板を使用す
るカラー表示ＳＴＮ液晶セルの製造プロセスを用いて作
成される。カラー表示ＳＴＮ液晶セルの製造プロセス
は、製造される液晶セル内にカラーフィルタなどを備え
るため、通常のガラス基板を使用する白黒表示ＳＴＮ液
晶セルの製造プロセスより低温で処理が行われる。この
ようにして作成された液晶セル２８は、さらにガラス基
板を使用した場合と同様の、通常の液晶モジュール化プ
ロセスによってモジュール化され、解像度６４０×４８
０ドット、０．１８ｍｍドットピッチの白黒表示反射型
位相差板ＳＴＮ液晶モジュールが作成される。
るカラー表示ＳＴＮ液晶セルの製造プロセスを用いて作
成される。カラー表示ＳＴＮ液晶セルの製造プロセス
は、製造される液晶セル内にカラーフィルタなどを備え
るため、通常のガラス基板を使用する白黒表示ＳＴＮ液
晶セルの製造プロセスより低温で処理が行われる。この
ようにして作成された液晶セル２８は、さらにガラス基
板を使用した場合と同様の、通常の液晶モジュール化プ
ロセスによってモジュール化され、解像度６４０×４８
０ドット、０．１８ｍｍドットピッチの白黒表示反射型
位相差板ＳＴＮ液晶モジュールが作成される。
【００４１】前述のようにして作成された液晶モジュー
ルは、温度６０℃、湿度９５％、１００時間のエージン
グの結果、液晶層２６中に気泡の発生は見られなかっ
た。また、透明電極の断線も生じなかった。さらに前記
液晶モジュールでは、従来のプラスチック基板を用いた
液晶モジュールと同程度の薄型軽量化を実現することが
でき、同時にガラス基板を用いた液晶モジュールと同程
度の均一な表示を得ることができた。
ルは、温度６０℃、湿度９５％、１００時間のエージン
グの結果、液晶層２６中に気泡の発生は見られなかっ
た。また、透明電極の断線も生じなかった。さらに前記
液晶モジュールでは、従来のプラスチック基板を用いた
液晶モジュールと同程度の薄型軽量化を実現することが
でき、同時にガラス基板を用いた液晶モジュールと同程
度の均一な表示を得ることができた。
【００４２】図３は、本発明の他の実施例である表示装
置用基板３０の構成を示す断面図である。表示装置用基
板３０は、図３に示すように一対の超薄板ガラス２２
と、これに介在する透明樹脂層２９とが透明接着性樹脂
層２３を介して接着される。このとき、透明樹脂層２９
と、その両面に設けられる透明接着性樹脂層２３とから
成る板状体層の厚さは、超薄板ガラス２２の厚さより大
きくなるように設計される。
置用基板３０の構成を示す断面図である。表示装置用基
板３０は、図３に示すように一対の超薄板ガラス２２
と、これに介在する透明樹脂層２９とが透明接着性樹脂
層２３を介して接着される。このとき、透明樹脂層２９
と、その両面に設けられる透明接着性樹脂層２３とから
成る板状体層の厚さは、超薄板ガラス２２の厚さより大
きくなるように設計される。
【００４３】前記基板３０は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体として
この上に、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃｍの
大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０１ｍｍの
ゾルゲル法無アルカリガラス板２２が積層され、さらに
厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２
３、厚さ０．１ｍｍのポリアリレートフィルム２９、厚
さ０．１５ｍｍの前記変成ポリオレフィンフィルム２３
および厚さ０．０１ｍｍのゾルゲル法無アルカリガラス
板２２が、この順に積層される。
れる。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体として
この上に、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃｍの
大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０１ｍｍの
ゾルゲル法無アルカリガラス板２２が積層され、さらに
厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２
３、厚さ０．１ｍｍのポリアリレートフィルム２９、厚
さ０．１５ｍｍの前記変成ポリオレフィンフィルム２３
および厚さ０．０１ｍｍのゾルゲル法無アルカリガラス
板２２が、この順に積層される。
【００４４】これらは、ゴム袋の中に収納され、温度９
０℃、真空度６００ｍｍＨｇで３０分間減圧加熱され、
基板３０の予備接着が行われる。次いで、前記基板３０
の端面に、ＵＶ硬化型アクリル樹脂が塗布される。さら
に紫外線照射によって前記アクリル樹脂の硬化が行わ
れ、基板３０の端面が封止される。さらに基板３０は、
オートクレーブで１２０℃、１０ｋｇ／ｃｍ2 で３０分
間加圧され、同時に基板３０の端面に塗布されたＵＶ硬
化型アクリル樹脂の十分な硬化が行われる。
０℃、真空度６００ｍｍＨｇで３０分間減圧加熱され、
基板３０の予備接着が行われる。次いで、前記基板３０
の端面に、ＵＶ硬化型アクリル樹脂が塗布される。さら
に紫外線照射によって前記アクリル樹脂の硬化が行わ
れ、基板３０の端面が封止される。さらに基板３０は、
オートクレーブで１２０℃、１０ｋｇ／ｃｍ2 で３０分
間加圧され、同時に基板３０の端面に塗布されたＵＶ硬
化型アクリル樹脂の十分な硬化が行われる。
【００４５】また本実施例において、前記変成ポリオレ
フィン系フィルム２３には、武田薬品工業社製デュミラ
ンシリーズを使用し、前記ポリアリレートフィルム２９
には、ユニチカ社製Ｕシリーズを使用した。
フィン系フィルム２３には、武田薬品工業社製デュミラ
ンシリーズを使用し、前記ポリアリレートフィルム２９
には、ユニチカ社製Ｕシリーズを使用した。
【００４６】図４は、他の実施例を示す断面図である。
図４に示すように、基板３０ａは、図３に示す基板３０
と同様の構成であるが、基板３０ａの一方表面には凹凸
が施されている。
図４に示すように、基板３０ａは、図３に示す基板３０
と同様の構成であるが、基板３０ａの一方表面には凹凸
が施されている。
【００４７】基板３０ａは、支持体である厚さ５ｍｍの
無アルカリガラス板上に、厚さ０．１ｍｍの無アルカリ
ガラス板２２、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフイン
系フィルム２３、厚さ０．１ｍｍのポリアリレートフィ
ルム２９、厚さ０．１５ｍｍの前記ポリオレフィン系フ
ィルム２３およびケミカルエッチングによって一方表面
上に凹凸が施された厚さ０．１ｍｍの無アルカリガラス
板２２ａがこの順で積層される。ただし、前記基板３０
ａの各構成部材の大きさは、すべて３０ｃｍ×３０ｃｍ
である。また、予備接着、端面封止およびオートクレー
ブによる加圧は、図３に示す基板３０と同様の処理を行
う。
無アルカリガラス板上に、厚さ０．１ｍｍの無アルカリ
ガラス板２２、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフイン
系フィルム２３、厚さ０．１ｍｍのポリアリレートフィ
ルム２９、厚さ０．１５ｍｍの前記ポリオレフィン系フ
ィルム２３およびケミカルエッチングによって一方表面
上に凹凸が施された厚さ０．１ｍｍの無アルカリガラス
板２２ａがこの順で積層される。ただし、前記基板３０
ａの各構成部材の大きさは、すべて３０ｃｍ×３０ｃｍ
である。また、予備接着、端面封止およびオートクレー
ブによる加圧は、図３に示す基板３０と同様の処理を行
う。
【００４８】また本実施例において、前記変成ポリオレ
フィン系フィルム２３には、武田薬品工業社製デュミラ
ンシリーズを使用し、前記ポリアリレートフィルム２９
には、ユニチカ社製Ｕシリーズを使用した。
フィン系フィルム２３には、武田薬品工業社製デュミラ
ンシリーズを使用し、前記ポリアリレートフィルム２９
には、ユニチカ社製Ｕシリーズを使用した。
【００４９】図５は、図４に示す基板３０ａを用いた反
射型カラー表示ゲストホストＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）液晶セル４０の構成を示す断面図である。図５に示
すように、液晶セル４０は、前記基板３０と基板３０ａ
との間にＰＣ（相転移）ＧＨ（ゲストホスト）液晶層３
６を介在して形成される。基板３０の液晶層３６側表面
上には、各画素を選択的に駆動するためのＴＦＴが形成
される。前記ＴＦＴは、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコ
ン）から成るゲート端子３３がたとえば図示しない走査
信号線に、ソース端子３１が図示しないデータ信号線
に、ドレイン端子３２がＡｌから成る画素電極３５にそ
れぞれ接続され、走査信号によってＴＦＴが導通される
とき、画素電極３５にデータ信号が印加され、画素が駆
動される。さらに前記ＴＦＴに積層して、アクリル樹脂
の保護膜３４が形成され、これに積層して画素電極３５
が形成され。前記画素電極３５は、前記保護膜３４に形
成されるコンタクトホールを介してＴＦＴのドレイン端
子３２に接続される。前記画素電極３５に積層して、図
示しない配向膜などが形成され、配向処理が施される。
射型カラー表示ゲストホストＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）液晶セル４０の構成を示す断面図である。図５に示
すように、液晶セル４０は、前記基板３０と基板３０ａ
との間にＰＣ（相転移）ＧＨ（ゲストホスト）液晶層３
６を介在して形成される。基板３０の液晶層３６側表面
上には、各画素を選択的に駆動するためのＴＦＴが形成
される。前記ＴＦＴは、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコ
ン）から成るゲート端子３３がたとえば図示しない走査
信号線に、ソース端子３１が図示しないデータ信号線
に、ドレイン端子３２がＡｌから成る画素電極３５にそ
れぞれ接続され、走査信号によってＴＦＴが導通される
とき、画素電極３５にデータ信号が印加され、画素が駆
動される。さらに前記ＴＦＴに積層して、アクリル樹脂
の保護膜３４が形成され、これに積層して画素電極３５
が形成され。前記画素電極３５は、前記保護膜３４に形
成されるコンタクトホールを介してＴＦＴのドレイン端
子３２に接続される。前記画素電極３５に積層して、図
示しない配向膜などが形成され、配向処理が施される。
【００５０】また、基板３０ａの凹凸が施されていない
側の表面上には、青、赤、緑などのカラーフィルタ３８
および遮光膜などが設けられ、これに積層してＩＴＯ膜
３７および配向膜（図示せず）などが形成される。前記
配向膜には、配向処理が施される。
側の表面上には、青、赤、緑などのカラーフィルタ３８
および遮光膜などが設けられ、これに積層してＩＴＯ膜
３７および配向膜（図示せず）などが形成される。前記
配向膜には、配向処理が施される。
【００５１】前記液晶セル４０は、前記基板３０と基板
３０ａとが、配向膜が形成された表面が対向するように
貼合わされ、スペーサ（図示せず）を介してＰＣＧＨ液
晶層３６が封入されて形成される。液晶セル４０は、前
述のようにしてガラス基板を使用する従来の反射型カラ
ー表示ゲストホストＴＦＴ液晶セル用製造プロセスによ
って作成される。前記液晶セル製造プロセスは、「SID'
92，Session23,23.6報告」に基づくものである。さら
に、前記液晶セル４０は、従来のモジュール化プロセス
によってモジュール化され、液晶モジュールが作成され
る。
３０ａとが、配向膜が形成された表面が対向するように
貼合わされ、スペーサ（図示せず）を介してＰＣＧＨ液
晶層３６が封入されて形成される。液晶セル４０は、前
述のようにしてガラス基板を使用する従来の反射型カラ
ー表示ゲストホストＴＦＴ液晶セル用製造プロセスによ
って作成される。前記液晶セル製造プロセスは、「SID'
92，Session23,23.6報告」に基づくものである。さら
に、前記液晶セル４０は、従来のモジュール化プロセス
によってモジュール化され、液晶モジュールが作成され
る。
【００５２】この結果、従来のガラス基板を使用した液
晶モジュールより、薄型軽量の反射型カラー表示のゲス
トホストＴＦＴ液晶モジュールを得ることができた。さ
らに、基板３０ａ表面には凹凸処理が施されているた
め、表示面からの反射を防止し、視認性を向上すること
ができるとともに、ペン入力を行う場合の書き味を向上
することができる。
晶モジュールより、薄型軽量の反射型カラー表示のゲス
トホストＴＦＴ液晶モジュールを得ることができた。さ
らに、基板３０ａ表面には凹凸処理が施されているた
め、表示面からの反射を防止し、視認性を向上すること
ができるとともに、ペン入力を行う場合の書き味を向上
することができる。
【００５３】図６は、さらに他の実施例を示す断面図で
ある。図６に示すように、基板３０ｂは、図３に示す基
板３０の一方表面上に反射防止膜４１が形成される。す
なわち、表示装置用基板３０ｂは、図６に示すように一
対の厚さ０．０５ｍｍの無アルカリガラスから成る超薄
板ガラス２２と、これに介在する厚さ０．１ｍｍのポリ
アリレートフィルム２９とが、厚さ０．１５ｍｍの変成
ポリオレフィン系フィルムから成る透明接着性樹脂層２
３を介して接着され、前記一対の超薄板ガラス２２の一
方には、外方表面上に反射防止膜４１が形成されてい
る。
ある。図６に示すように、基板３０ｂは、図３に示す基
板３０の一方表面上に反射防止膜４１が形成される。す
なわち、表示装置用基板３０ｂは、図６に示すように一
対の厚さ０．０５ｍｍの無アルカリガラスから成る超薄
板ガラス２２と、これに介在する厚さ０．１ｍｍのポリ
アリレートフィルム２９とが、厚さ０．１５ｍｍの変成
ポリオレフィン系フィルムから成る透明接着性樹脂層２
３を介して接着され、前記一対の超薄板ガラス２２の一
方には、外方表面上に反射防止膜４１が形成されてい
る。
【００５４】また、基板３０ｂの予備接着、端面封止お
よびオートクレーブによる加圧は前述の基板３０と同様
の処理によって行う。
よびオートクレーブによる加圧は前述の基板３０と同様
の処理によって行う。
【００５５】図７は、本発明の他の実施例である表示装
置用基板４５の構成を示す断面図である。図７に示すよ
うに、基板４５は、一対の超薄板ガラス２２と、これに
介在して両面に備えられる透明フィルムを保護層とする
偏光板４４とが透明接着性樹脂層２３を介して接着され
る。
置用基板４５の構成を示す断面図である。図７に示すよ
うに、基板４５は、一対の超薄板ガラス２２と、これに
介在して両面に備えられる透明フィルムを保護層とする
偏光板４４とが透明接着性樹脂層２３を介して接着され
る。
【００５６】前記基板４５は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体とし
て、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃｍの大きさ
の部材を積層する。まず前記支持体上に一方表面をオス
カー式研磨機で研磨された厚さ０．０５ｍｍの無アルカ
リガラス板２２が研磨面を下にして積層される。この上
に厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２
３が積層され、さらに延伸ＰＶＡ（ポリビニルアルコー
ル）膜に２色性染料を吸着させ、保護膜として前記ＰＶ
Ａ膜の両面に厚さ０．１ｍｍのＰＥＳ（ポリエーテルサ
ルフォン）フィルムを備える偏光板４４が積層される。
さらに厚さ０．１５ｍｍの前記変成ポリオレフィン系フ
ィルム２３が積層され、これに厚さ０．０５ｍｍの前記
無アルカリガラス板２２が研磨面を上にして積層され
る。
れる。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体とし
て、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃｍの大きさ
の部材を積層する。まず前記支持体上に一方表面をオス
カー式研磨機で研磨された厚さ０．０５ｍｍの無アルカ
リガラス板２２が研磨面を下にして積層される。この上
に厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２
３が積層され、さらに延伸ＰＶＡ（ポリビニルアルコー
ル）膜に２色性染料を吸着させ、保護膜として前記ＰＶ
Ａ膜の両面に厚さ０．１ｍｍのＰＥＳ（ポリエーテルサ
ルフォン）フィルムを備える偏光板４４が積層される。
さらに厚さ０．１５ｍｍの前記変成ポリオレフィン系フ
ィルム２３が積層され、これに厚さ０．０５ｍｍの前記
無アルカリガラス板２２が研磨面を上にして積層され
る。
【００５７】このようにして支持体上に積層された基板
４５は、ゴム袋の中に収納され、温度９０℃、真空度６
００ｍｍＨｇで３０分間減圧加熱され、予備接着が行わ
れる。次いで、前記基板４５は、端面にＵＶ硬化型アク
リル樹脂を塗布され、紫外線照射によって前記アクリル
樹脂の硬化が行われる。これによって、基板４５の端面
が封止される。さらに基板４５は、オートクレーブで１
４０℃、１５ｋｇ／ｃｍ2 で３０分間加圧され、同時に
基板４５の端面に塗布されたＵＶ硬化型アクリル樹脂の
十分な硬化が行われる。
４５は、ゴム袋の中に収納され、温度９０℃、真空度６
００ｍｍＨｇで３０分間減圧加熱され、予備接着が行わ
れる。次いで、前記基板４５は、端面にＵＶ硬化型アク
リル樹脂を塗布され、紫外線照射によって前記アクリル
樹脂の硬化が行われる。これによって、基板４５の端面
が封止される。さらに基板４５は、オートクレーブで１
４０℃、１５ｋｇ／ｃｍ2 で３０分間加圧され、同時に
基板４５の端面に塗布されたＵＶ硬化型アクリル樹脂の
十分な硬化が行われる。
【００５８】本実施例において前記偏光膜に保護層とし
て備えられる透明フィルムは、ＰＥＳフィルム以外に、
ＰＥＳ系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、エ
ポキシブタジエン共重合体系、ノルボルネン系、ポリエ
ステル系などの他の透明フィルムが使用されてもよい。
この場合、前記透明フィルムは、耐熱性が高く、複屈折
性が小さいものが望ましい。
て備えられる透明フィルムは、ＰＥＳフィルム以外に、
ＰＥＳ系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、エ
ポキシブタジエン共重合体系、ノルボルネン系、ポリエ
ステル系などの他の透明フィルムが使用されてもよい。
この場合、前記透明フィルムは、耐熱性が高く、複屈折
性が小さいものが望ましい。
【００５９】このように本実施例の表示装置用基板４５
は、偏光板４４を備えるので、偏光板を必要とするＴＦ
Ｔ液晶表示装置、ＭＩＭ液晶表示装置、ＳＴＮ系液晶表
示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＴＮ系液晶表示装置、Ｓ
ＳＦＬＣ（表面安定型強誘電性液晶）および反強誘電性
液晶表示装置などの液晶装置に好適に用いることができ
る。
は、偏光板４４を備えるので、偏光板を必要とするＴＦ
Ｔ液晶表示装置、ＭＩＭ液晶表示装置、ＳＴＮ系液晶表
示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＴＮ系液晶表示装置、Ｓ
ＳＦＬＣ（表面安定型強誘電性液晶）および反強誘電性
液晶表示装置などの液晶装置に好適に用いることができ
る。
【００６０】図８は、本発明の他の実施例である表示装
置用基板４８の構成を示す断面図である。図８に示すよ
うに、前記基板４８は、超薄板ガラス２２、透明樹脂層
２３、位相差板４６、偏光板４７、透明樹脂層２３およ
び超薄板ガラス２２がこの順で積層されて形成される。
置用基板４８の構成を示す断面図である。図８に示すよ
うに、前記基板４８は、超薄板ガラス２２、透明樹脂層
２３、位相差板４６、偏光板４７、透明樹脂層２３およ
び超薄板ガラス２２がこの順で積層されて形成される。
【００６１】前記基板４８は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×
３０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．
００５ｍｍのゾルゲル法無アルカリガラス板２２が前記
研磨面を下にして積層され、さらに水洗、乾燥、裁断、
調湿された厚さ０．３８ｍｍのポリビニルブチラールフ
ィルム２３がこれに積層される。これに位相差４３０ｎ
ｍのポリカーボネート系位相差板４６、保護層として両
面に位相差を持たない厚さ０．１ｍｍのポリカーボネー
ト系フィルムが備えられる偏光板４７、厚さ０．３８ｍ
ｍのポリビニルブチラールフィルム２３、厚さ０．００
５ｍｍのゾルゲル法無アルカリガラス板２２が研磨面を
上にして、この順で積層される。
れる。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に、以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×
３０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．
００５ｍｍのゾルゲル法無アルカリガラス板２２が前記
研磨面を下にして積層され、さらに水洗、乾燥、裁断、
調湿された厚さ０．３８ｍｍのポリビニルブチラールフ
ィルム２３がこれに積層される。これに位相差４３０ｎ
ｍのポリカーボネート系位相差板４６、保護層として両
面に位相差を持たない厚さ０．１ｍｍのポリカーボネー
ト系フィルムが備えられる偏光板４７、厚さ０．３８ｍ
ｍのポリビニルブチラールフィルム２３、厚さ０．００
５ｍｍのゾルゲル法無アルカリガラス板２２が研磨面を
上にして、この順で積層される。
【００６２】前述のように支持体上に積層された基板４
８は、前述の図７に示す基板４５と同様にして予備接
着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行われ
る。
８は、前述の図７に示す基板４５と同様にして予備接
着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行われ
る。
【００６３】本実施例において前記位相差板４６は、ポ
リカーボネート系位相差板を使用したが、これ以外に、
ポリエステル系、アクリル系、ＰＶＡ系、ポリスチレン
系など、他の位相差板を使用してもよい。
リカーボネート系位相差板を使用したが、これ以外に、
ポリエステル系、アクリル系、ＰＶＡ系、ポリスチレン
系など、他の位相差板を使用してもよい。
【００６４】このように本実施例の表示装置用基板４８
は、少なくとも色補償用、広視角用および１／４λ用な
ど位相差板を必要とするＳＴＮ系液晶表示装置、ＳＨ系
液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、ＴＦＴ液晶表示装置などの
液晶セルに用いることができる。
は、少なくとも色補償用、広視角用および１／４λ用な
ど位相差板を必要とするＳＴＮ系液晶表示装置、ＳＨ系
液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、ＴＦＴ液晶表示装置などの
液晶セルに用いることができる。
【００６５】図９は、本発明のさらに他の実施例である
表示装置用基板４８ａの構成を示す断面図である。図９
に示すように、基板４８ａは、超薄板ガラス２２、透明
樹脂層２３、位相差板４６、透明樹脂層２３ａ、偏光板
４７、透明樹脂層２３および超薄板ガラス２２が、この
順で積層され形成される。
表示装置用基板４８ａの構成を示す断面図である。図９
に示すように、基板４８ａは、超薄板ガラス２２、透明
樹脂層２３、位相差板４６、透明樹脂層２３ａ、偏光板
４７、透明樹脂層２３および超薄板ガラス２２が、この
順で積層され形成される。
【００６６】前記基板４８ａは、以下に示す手順で作成
される。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体と
して、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×
３０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．
０５ｍｍの一方表面を研磨されたソーダライムガラス板
２２が、前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ
０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積
層される。さらに、アクリル粘着剤２３ａを介して予め
接着された位相差４３０ｎｍのポリカーボネイト系位相
差板４６と、保護層として両面に位相差を持たない厚さ
０．１ｍｍのポリカーボネートフィルムが備えられる偏
光板４７とが積層される。ただし、前記偏光板４７と位
相差板４６とは、偏光板の吸収軸が位相差板の延伸軸に
対して３０°の交差角をなすように配置される。さら
に、前記偏光板４７上に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリ
オレフィン系フィルム２３および厚さ０．０５ｍｍの一
方表面を研磨されたソーダライムガラス板２２がこの順
で前記研磨面を上にして積層される。
される。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体と
して、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×
３０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．
０５ｍｍの一方表面を研磨されたソーダライムガラス板
２２が、前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ
０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積
層される。さらに、アクリル粘着剤２３ａを介して予め
接着された位相差４３０ｎｍのポリカーボネイト系位相
差板４６と、保護層として両面に位相差を持たない厚さ
０．１ｍｍのポリカーボネートフィルムが備えられる偏
光板４７とが積層される。ただし、前記偏光板４７と位
相差板４６とは、偏光板の吸収軸が位相差板の延伸軸に
対して３０°の交差角をなすように配置される。さら
に、前記偏光板４７上に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリ
オレフィン系フィルム２３および厚さ０．０５ｍｍの一
方表面を研磨されたソーダライムガラス板２２がこの順
で前記研磨面を上にして積層される。
【００６７】前述のようにして支持体上に積層された基
板４８ａは、前述の図７に示す基板４５と同様にして、
予備接着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が
行われる。
板４８ａは、前述の図７に示す基板４５と同様にして、
予備接着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が
行われる。
【００６８】本実施例においても、前記位相差板４６お
よび偏光板４７に、他の位相差板および偏光板を使用し
てもよい。また、偏光板４７の吸収軸と位相差板４６の
延伸軸とを異なる交差角で配置してもよい。
よび偏光板４７に、他の位相差板および偏光板を使用し
てもよい。また、偏光板４７の吸収軸と位相差板４６の
延伸軸とを異なる交差角で配置してもよい。
【００６９】このように本実施例の表示装置用基板４８
ａは、位相差板と偏光板とを同時に必要とするＳＴＮ系
液晶表示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、ＴＦ
Ｔ液晶表示装置などに用いることができる。
ａは、位相差板と偏光板とを同時に必要とするＳＴＮ系
液晶表示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、ＴＦ
Ｔ液晶表示装置などに用いることができる。
【００７０】図１０は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板５１の構成を示す断面図である。図１０に示
すように、基板５１は、超薄板ガラス２２、透明樹脂層
２３、捩れ位相差フィルム５０および超薄板ガラス２２
が、この順で積層され形成される。
装置用基板５１の構成を示す断面図である。図１０に示
すように、基板５１は、超薄板ガラス２２、透明樹脂層
２３、捩れ位相差フィルム５０および超薄板ガラス２２
が、この順で積層され形成される。
【００７１】前記基板５１は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ５ｍｍのホウケイ酸ガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３
０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．２
ｍｍの一方表面を研磨されたホウケイ酸ガラス板２２が
前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ０．３８ｍ
ｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層される。
この上に、特公平４−２２９１７に公示される厚さ約２
０μｍの捩れ位相差フィルム５０が一方表面上に形成さ
れた厚さ０．２ｍｍのホウケイ酸ガラス板２２が、前記
捩れ位相差フィルム５０を下にして積層される。また、
前記ホウケイ酸ガラス板２２の他方表面は、研磨されて
いる。
れる。厚さ５ｍｍのホウケイ酸ガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３
０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．２
ｍｍの一方表面を研磨されたホウケイ酸ガラス板２２が
前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ０．３８ｍ
ｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層される。
この上に、特公平４−２２９１７に公示される厚さ約２
０μｍの捩れ位相差フィルム５０が一方表面上に形成さ
れた厚さ０．２ｍｍのホウケイ酸ガラス板２２が、前記
捩れ位相差フィルム５０を下にして積層される。また、
前記ホウケイ酸ガラス板２２の他方表面は、研磨されて
いる。
【００７２】前述のように支持体上に積層された基板５
１は、前述の図７に示した基板４５と同様にして、予備
接着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行わ
れる。
１は、前述の図７に示した基板４５と同様にして、予備
接着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行わ
れる。
【００７３】本実施例において、前記捩れ位相差フィル
ム５０は、光学活性なポリカーボネイトなどの主鎖型ポ
リマー、光学活性なポリアクリレートなどの側鎖型ポリ
マー、光学活性でないポリエステルアミドなどの主鎖型
ポリマーに他の光学活性化合物を加えたポリマー、光学
活性でないポリメタクリレートなどの側鎖型ポリマーに
他の光学活性化合物を加えたポリマーなどの他の材質を
用いた位相差フィルム５０を使用してもよい。
ム５０は、光学活性なポリカーボネイトなどの主鎖型ポ
リマー、光学活性なポリアクリレートなどの側鎖型ポリ
マー、光学活性でないポリエステルアミドなどの主鎖型
ポリマーに他の光学活性化合物を加えたポリマー、光学
活性でないポリメタクリレートなどの側鎖型ポリマーに
他の光学活性化合物を加えたポリマーなどの他の材質を
用いた位相差フィルム５０を使用してもよい。
【００７４】このように本実施例の表示装置用基板５１
は、捩れ位相差フィルム５０を備えるので、ＳＴＮ液晶
表示装置などの液晶表示装置に使用することができ、Ｄ
ＳＴＮ（Double ＳＴＮ）液晶表示装置の光学補償用セ
ルと同様の効果を得ることができる。
は、捩れ位相差フィルム５０を備えるので、ＳＴＮ液晶
表示装置などの液晶表示装置に使用することができ、Ｄ
ＳＴＮ（Double ＳＴＮ）液晶表示装置の光学補償用セ
ルと同様の効果を得ることができる。
【００７５】図１１は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板５２の構成を示す断面図である。前記基板５
２は、超薄板ガラス２２、透明樹脂層２３、位相差板４
６、透明樹脂層２３ａ、位相差板４６、透明樹脂層２３
および超薄板ガラス２２が、この順で積層され形成され
る。
装置用基板５２の構成を示す断面図である。前記基板５
２は、超薄板ガラス２２、透明樹脂層２３、位相差板４
６、透明樹脂層２３ａ、位相差板４６、透明樹脂層２３
および超薄板ガラス２２が、この順で積層され形成され
る。
【００７６】前記基板５２は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３
０ｃｍの大きさの部材を積層する。まず、厚さ０．０５
ｍｍの一方表面を研磨されたソーダライムガラス板２２
が前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ０．１５
ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層され
る。さらに、アクリル粘着剤２３ａを介して予め接着さ
れた２枚の位相差４３０ｎｍ、厚さ０．５ｍｍのポリカ
ーボネイト位相差フィルム４６が積層される。前記位相
差フィルム４６は、延伸軸が相互に４０°の交差角をな
すように配置される。さらに、前記位相差フィルム４６
上に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィンフィルム
２３および厚さ０．０５ｍｍの一方表面を研磨されたソ
ーダライムガラス板２２が前記研磨面を上にしてこの順
で積層される。
れる。厚さ５ｍｍのソーダライムガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３
０ｃｍの大きさの部材を積層する。まず、厚さ０．０５
ｍｍの一方表面を研磨されたソーダライムガラス板２２
が前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ０．１５
ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層され
る。さらに、アクリル粘着剤２３ａを介して予め接着さ
れた２枚の位相差４３０ｎｍ、厚さ０．５ｍｍのポリカ
ーボネイト位相差フィルム４６が積層される。前記位相
差フィルム４６は、延伸軸が相互に４０°の交差角をな
すように配置される。さらに、前記位相差フィルム４６
上に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィンフィルム
２３および厚さ０．０５ｍｍの一方表面を研磨されたソ
ーダライムガラス板２２が前記研磨面を上にしてこの順
で積層される。
【００７７】前述のように支持体上に積層された基板５
２は、前述の図７に示す基板４５と同様にして、予備接
着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行われ
る。
２は、前述の図７に示す基板４５と同様にして、予備接
着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行われ
る。
【００７８】本実施例の表示装置用基板５２は、図８に
示す基板４８と同様、位相差板４６として、本実施例で
使用した位相差板以外に他の材質から成る位相差フィル
ムを使用してもよいし、位相差、位相差板の枚数、延伸
軸の方向などが異なるものを使用してもよい。また、複
数の位相差板４６は、同種の位相差フィルムを組合わせ
てもよいし、異種の位相差フィルムを組合わせてもよ
く、各位相差板相互の延伸軸の交差角が本実施例とは異
なる配置にしてもよい。
示す基板４８と同様、位相差板４６として、本実施例で
使用した位相差板以外に他の材質から成る位相差フィル
ムを使用してもよいし、位相差、位相差板の枚数、延伸
軸の方向などが異なるものを使用してもよい。また、複
数の位相差板４６は、同種の位相差フィルムを組合わせ
てもよいし、異種の位相差フィルムを組合わせてもよ
く、各位相差板相互の延伸軸の交差角が本実施例とは異
なる配置にしてもよい。
【００７９】このように本実施例の表示装置用基板５２
は、複数の位相差板を備えるので、広視角、高解像度の
位相差板ＳＴＮ液晶表示装置、高コントラスト反射型の
位相差板ＳＴＮ液晶表示装置に使用することができる。
は、複数の位相差板を備えるので、広視角、高解像度の
位相差板ＳＴＮ液晶表示装置、高コントラスト反射型の
位相差板ＳＴＮ液晶表示装置に使用することができる。
【００８０】図１２は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板５５の構成を示す断面図である。前記基板５
５は、図１２に示すように、超薄板ガラス２２と樹脂層
２３、透明フィルム５４、反射層５３、透明樹脂層２
３、偏光板４７、透明樹脂層２３および超薄板ガラス２
２が、この順で積層され形成される。
装置用基板５５の構成を示す断面図である。前記基板５
５は、図１２に示すように、超薄板ガラス２２と樹脂層
２３、透明フィルム５４、反射層５３、透明樹脂層２
３、偏光板４７、透明樹脂層２３および超薄板ガラス２
２が、この順で積層され形成される。
【００８１】前記基板５５は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３
０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０
５ｍｍの一方表面が研磨された無アルカリガラス板２２
が前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ０．１５
ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層され
る。これにＰＥＳフィルム５４およびＡｌ蒸着膜から成
る反射層５３が、この順に積層される。前記反射層５３
は、予めＰＥＳフィルム５４上に形成されており、前記
反射層５３とＰＥＳフィルム５４との総厚が約０．１ｍ
ｍとなるように形成される。さらに前記反射層５３上
に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム
２３が積層される。これに保護層として両面に厚さ０．
１ｍｍのＰＥＳフィルムが備えられる偏光板４７が積層
される。前記偏光板４７は、延伸ＰＶＡにヨウ素を吸着
させたものを用いる。さらに、厚さ０．１５ｍｍの変成
ポリオレフィン系フィルム２３および厚さ０．０５ｍｍ
の一方表面を研磨された無アルカリガラス板２２が、前
記研磨面を上にしてこの順で積層される。 前述のよう
に支持体上に積層された基板５５は、前述の図７に示し
た基板４５と同様にして、予備接着、端面封止およびオ
ートクレーブによる加圧が行われる。
れる。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３
０ｃｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０
５ｍｍの一方表面が研磨された無アルカリガラス板２２
が前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ０．１５
ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層され
る。これにＰＥＳフィルム５４およびＡｌ蒸着膜から成
る反射層５３が、この順に積層される。前記反射層５３
は、予めＰＥＳフィルム５４上に形成されており、前記
反射層５３とＰＥＳフィルム５４との総厚が約０．１ｍ
ｍとなるように形成される。さらに前記反射層５３上
に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレフィン系フィルム
２３が積層される。これに保護層として両面に厚さ０．
１ｍｍのＰＥＳフィルムが備えられる偏光板４７が積層
される。前記偏光板４７は、延伸ＰＶＡにヨウ素を吸着
させたものを用いる。さらに、厚さ０．１５ｍｍの変成
ポリオレフィン系フィルム２３および厚さ０．０５ｍｍ
の一方表面を研磨された無アルカリガラス板２２が、前
記研磨面を上にしてこの順で積層される。 前述のよう
に支持体上に積層された基板５５は、前述の図７に示し
た基板４５と同様にして、予備接着、端面封止およびオ
ートクレーブによる加圧が行われる。
【００８２】このように本実施例の表示装置用基板５５
は、蒸着Ａｌ反射層５４を備えるので、ＳＴＮ系液晶表
示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、ＴＦＴ液晶
表示装置などの反射型液晶表示装置に使用することがで
きる。
は、蒸着Ａｌ反射層５４を備えるので、ＳＴＮ系液晶表
示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、ＴＦＴ液晶
表示装置などの反射型液晶表示装置に使用することがで
きる。
【００８３】図１３は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板５７の構成を示す断面図である。図１３に示
すように、前記基板５７は、超薄板ガラス２２、透明樹
脂層２３、透明フィルム５３、半透過反射層５６、偏光
板４７、透明樹脂層２３および超薄板ガラス２２がこの
順で積層される。
装置用基板５７の構成を示す断面図である。図１３に示
すように、前記基板５７は、超薄板ガラス２２、透明樹
脂層２３、透明フィルム５３、半透過反射層５６、偏光
板４７、透明樹脂層２３および超薄板ガラス２２がこの
順で積層される。
【００８４】前記基板５５は、以下に示す順で作成され
る。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体として、
前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃ
ｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０５ｍ
ｍの一方表面を研磨された無アルカリガラス板２２が前
記研磨面を下にして積層される。さらに厚さ０．１５ｍ
ｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層される。
この上に、ポリカーボネイトフィルム５３と偏光板４７
とが、厚さ０．１ｍｍの真珠顔料とアクリル系接着剤と
が混合された半透過反射層５６を介して予め接着したも
のが、ポリカーボネイトフィルム５３を下にして積層さ
れる。また、前記偏光板４７は、延伸ＰＶＡ膜にヨウ素
を吸着させたもので、保護膜として両面に厚さ０．１ｍ
ｍのポリカーボネイトフィルムが備えられる。さらに、
前記偏光板４７上に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレ
フィン系フィルム２３および厚さ０．０５ｍｍの一方表
面を研磨されたソーダライムガラス板２２が前記研磨面
を上にして、この順で積層される。
る。厚さ５ｍｍの無アルカリガラス板を支持体として、
前記支持体上に以下に述べるそれぞれ３０ｃｍ×３０ｃ
ｍの大きさの部材が積層される。まず、厚さ０．０５ｍ
ｍの一方表面を研磨された無アルカリガラス板２２が前
記研磨面を下にして積層される。さらに厚さ０．１５ｍ
ｍの変成ポリオレフィン系フィルム２３が積層される。
この上に、ポリカーボネイトフィルム５３と偏光板４７
とが、厚さ０．１ｍｍの真珠顔料とアクリル系接着剤と
が混合された半透過反射層５６を介して予め接着したも
のが、ポリカーボネイトフィルム５３を下にして積層さ
れる。また、前記偏光板４７は、延伸ＰＶＡ膜にヨウ素
を吸着させたもので、保護膜として両面に厚さ０．１ｍ
ｍのポリカーボネイトフィルムが備えられる。さらに、
前記偏光板４７上に、厚さ０．１５ｍｍの変成ポリオレ
フィン系フィルム２３および厚さ０．０５ｍｍの一方表
面を研磨されたソーダライムガラス板２２が前記研磨面
を上にして、この順で積層される。
【００８５】前述のようにして支持体上に積層された基
板は、図７に示す基板４５と同様にして、予備接着、端
面封止およびオートクレーブによる加圧が行われる。
板は、図７に示す基板４５と同様にして、予備接着、端
面封止およびオートクレーブによる加圧が行われる。
【００８６】本実施例において、前記半透過反射層５６
および偏光板４７は、半透過反射層の形成方法、半透過
反射層のベースフィルムの材質、偏光板の材質など、実
施例中で使用した以外の半透過反射層および偏光板が使
用されてもよい。
および偏光板４７は、半透過反射層の形成方法、半透過
反射層のベースフィルムの材質、偏光板の材質など、実
施例中で使用した以外の半透過反射層および偏光板が使
用されてもよい。
【００８７】また本実施例の表示装置用基板５７は、半
透過反射層５６および偏光板４７を備えるので、ＳＴＮ
系液晶表示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、Ｔ
ＦＴ液晶表示装置などの半透過反射型液晶表示装置に使
用することができる。
透過反射層５６および偏光板４７を備えるので、ＳＴＮ
系液晶表示装置、ＳＨ系液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、Ｔ
ＦＴ液晶表示装置などの半透過反射型液晶表示装置に使
用することができる。
【００８８】なお、本発明の基板２１，３０，４５，４
８，５１，５２，５５，５７に使用される一対の超薄板
ガラス２２の材質は、ホウケイ酸ガラス、ソーダライム
ガラス、無アルカリガラスおよびゾルゲルガラスなど、
本実施例で使用したもの以外のガラスを使用してもよ
く、また、本実施例で使用した組合わせ以外の組合わせ
で使用してもよい。
８，５１，５２，５５，５７に使用される一対の超薄板
ガラス２２の材質は、ホウケイ酸ガラス、ソーダライム
ガラス、無アルカリガラスおよびゾルゲルガラスなど、
本実施例で使用したもの以外のガラスを使用してもよ
く、また、本実施例で使用した組合わせ以外の組合わせ
で使用してもよい。
【００８９】また、前記超薄板ガラス２２は、リドロー
法、フュージョン法、マイクロシート法およびゾルゲル
法など、どのような製法で形成されていてもよく、超薄
板ガラス２２の厚さは、０．００１５ｍｍ以上、０．２
５ｍｍ未満が好ましい。
法、フュージョン法、マイクロシート法およびゾルゲル
法など、どのような製法で形成されていてもよく、超薄
板ガラス２２の厚さは、０．００１５ｍｍ以上、０．２
５ｍｍ未満が好ましい。
【００９０】さらに前記一対の超薄板ガラス２２は、表
面に研磨が施されていても、いなくてもよく、また前記
一対の超薄板ガラス２２は、必ずしも同一の表面加工を
施されていなくてもよい。
面に研磨が施されていても、いなくてもよく、また前記
一対の超薄板ガラス２２は、必ずしも同一の表面加工を
施されていなくてもよい。
【００９１】また、本発明の基板２１，３０，４５，４
８，５１，５２，５５，５７に使用される透明接着性樹
脂層２３は、ポリビニルブチラール系樹脂、変成ポリオ
レフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂、ＵＶ硬化型アクリ
ル樹脂、アクリル系粘着剤、ウレタン系接着剤など、本
実施例で使用したもの以外の透明接着性樹脂を使用して
もよく、またこれらの硬化方法は、オートクレーブ法、
真空減圧法、紫外線照射など、本実施例で使用した以外
の方法で硬化されてもよい。
８，５１，５２，５５，５７に使用される透明接着性樹
脂層２３は、ポリビニルブチラール系樹脂、変成ポリオ
レフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂、ＵＶ硬化型アクリ
ル樹脂、アクリル系粘着剤、ウレタン系接着剤など、本
実施例で使用したもの以外の透明接着性樹脂を使用して
もよく、またこれらの硬化方法は、オートクレーブ法、
真空減圧法、紫外線照射など、本実施例で使用した以外
の方法で硬化されてもよい。
【００９２】さらに本発明の基板２１，３０，４５，４
８，５１，５２，５５，５７に使用される透明樹脂層２
９は、ポリアリレート系、ポリエーテルサルフォン（Ｐ
ＥＳ）系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系、ポリ
スルフォン系などの非晶質プラスチック、ポリエステル
などの結晶質プラスチックなど、本実施例において使用
したもの以外の透明樹脂を使用してもよい。ただし、前
記透明樹脂層２９は、耐熱性が高いほうが望ましい。ま
た前記透明樹脂層２９は、０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、
０．３ｍｍなど、本実施例において使用した以外の厚さ
のものを使用してもよい。
８，５１，５２，５５，５７に使用される透明樹脂層２
９は、ポリアリレート系、ポリエーテルサルフォン（Ｐ
ＥＳ）系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系、ポリ
スルフォン系などの非晶質プラスチック、ポリエステル
などの結晶質プラスチックなど、本実施例において使用
したもの以外の透明樹脂を使用してもよい。ただし、前
記透明樹脂層２９は、耐熱性が高いほうが望ましい。ま
た前記透明樹脂層２９は、０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、
０．３ｍｍなど、本実施例において使用した以外の厚さ
のものを使用してもよい。
【００９３】また本発明の基板２１，３０，４５，４
８，５１，５２，５５，５７に施される表面処理は、研
磨、凹凸の形成、反射防止膜の形成など、本実施例にお
いて施された以外の処理が施されてもよいし、基板２
１，３０，４５，４８，５１，５２，５５，５７の片面
あるいは両面に施されてもよい。さらに基板の一方表面
と他方表面とで異なる表面処理が施されてもよい。ま
た、前記表面処理は、基板２１，３０，４５，４８，５
１，５２，５５，５７の形成後に施されてもよいし、超
薄板ガラス２２の状態で施されてもよい。
８，５１，５２，５５，５７に施される表面処理は、研
磨、凹凸の形成、反射防止膜の形成など、本実施例にお
いて施された以外の処理が施されてもよいし、基板２
１，３０，４５，４８，５１，５２，５５，５７の片面
あるいは両面に施されてもよい。さらに基板の一方表面
と他方表面とで異なる表面処理が施されてもよい。ま
た、前記表面処理は、基板２１，３０，４５，４８，５
１，５２，５５，５７の形成後に施されてもよいし、超
薄板ガラス２２の状態で施されてもよい。
【００９４】さらに本発明の基板２１，３０，４５，４
８，５１，５２，５５，５７は、本実施例において示し
た液晶表示装置以外の反射型、半透過型、透過型などの
表示タイプ、ＳＴＮ系液晶表示装置、ＴＮ系液晶表示装
置、ＳＨ系液晶表示装置，ＴＦＴ液晶表示装置、ＭＦＭ
液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、反強誘電性液晶表示装置、
高分子分散型液晶表示装置などの表示方式などが異なる
液晶表示装置に用いてもよい。また、前記基板２１，３
０，４５，４８，５１，５２，５５，５７は、ＩＴＯ膜
などの電極が形成されない光学補償板としての液晶セル
に用いてもよい。さらに、前記基板２１，３０は、液晶
表示装置以外に、薄膜ＥＬ装置などの表示装置およびタ
ッチパネルなどに用いてもよい。
８，５１，５２，５５，５７は、本実施例において示し
た液晶表示装置以外の反射型、半透過型、透過型などの
表示タイプ、ＳＴＮ系液晶表示装置、ＴＮ系液晶表示装
置、ＳＨ系液晶表示装置，ＴＦＴ液晶表示装置、ＭＦＭ
液晶表示装置、ＳＳＦＬＣ、反強誘電性液晶表示装置、
高分子分散型液晶表示装置などの表示方式などが異なる
液晶表示装置に用いてもよい。また、前記基板２１，３
０，４５，４８，５１，５２，５５，５７は、ＩＴＯ膜
などの電極が形成されない光学補償板としての液晶セル
に用いてもよい。さらに、前記基板２１，３０は、液晶
表示装置以外に、薄膜ＥＬ装置などの表示装置およびタ
ッチパネルなどに用いてもよい。
【００９５】またさらに、本発明の基板４５，４８，５
１，５２，５５，５７に備えられる光学部材は、本実施
例において使用されたもの以外に単数または複数の偏光
板、位相差板、反射板、半透過反射板、単数または複数
のＵＶ吸収フィルタ、波長変換フィルタ、カラーフィル
タ、マイクロレンズなどを単独で、または組合わせて使
用してもよい。
１，５２，５５，５７に備えられる光学部材は、本実施
例において使用されたもの以外に単数または複数の偏光
板、位相差板、反射板、半透過反射板、単数または複数
のＵＶ吸収フィルタ、波長変換フィルタ、カラーフィル
タ、マイクロレンズなどを単独で、または組合わせて使
用してもよい。
【００９６】また、本発明の基板４５，４８，５１，５
２，５５，５７に備えられる位相差板は、本実施例で使
用したもの以外に、ポリカーボネート系、ポリエステル
系、アクリル系、ＰＶＡ系およびポリスチレン系など、
他の位相差フィルムを使用してもよく、また、１軸延伸
位相差板、捩れ位相差板などのいずれであってもよい。
また延伸軸の方向、位相差、厚さおよびこれと組合わさ
れる他の光学部材との配置など、本実施例において使用
した以外のものを使用してもよい。
２，５５，５７に備えられる位相差板は、本実施例で使
用したもの以外に、ポリカーボネート系、ポリエステル
系、アクリル系、ＰＶＡ系およびポリスチレン系など、
他の位相差フィルムを使用してもよく、また、１軸延伸
位相差板、捩れ位相差板などのいずれであってもよい。
また延伸軸の方向、位相差、厚さおよびこれと組合わさ
れる他の光学部材との配置など、本実施例において使用
した以外のものを使用してもよい。
【００９７】また同様に、本発明の基板４５，４８，５
１，５２，５５，５７に備えられる偏光板４７は、本実
施例で使用したもの以外に、染料系、ヨウ素系などの偏
光板の種類、偏光板の色調、偏光軸の方向、偏光板フィ
ルムの材質などが異なる他の偏光板を使用してもよい。
また、ＰＥＳ系、ポリアリレート系、ポリカーボネート
系、エポキシブタジエン共重合体系、ノルボルネン系お
よびポリエステル系など、偏光板の保護層として備えら
れる透明フィルムの種類が異なる偏光板を使用してもよ
い。
１，５２，５５，５７に備えられる偏光板４７は、本実
施例で使用したもの以外に、染料系、ヨウ素系などの偏
光板の種類、偏光板の色調、偏光軸の方向、偏光板フィ
ルムの材質などが異なる他の偏光板を使用してもよい。
また、ＰＥＳ系、ポリアリレート系、ポリカーボネート
系、エポキシブタジエン共重合体系、ノルボルネン系お
よびポリエステル系など、偏光板の保護層として備えら
れる透明フィルムの種類が異なる偏光板を使用してもよ
い。
【００９８】またさらに本発明の基板４５，４８，５
１，５２，５５，５７に備えられる反射板は、本実施例
で使用したもの以外に、反射板の種類、Ａｌ、Ａｇなど
の反射膜の材質、ベースフィルムの材質およびそれらの
表面形状などが異なる反射板を使用してもよい。
１，５２，５５，５７に備えられる反射板は、本実施例
で使用したもの以外に、反射板の種類、Ａｌ、Ａｇなど
の反射膜の材質、ベースフィルムの材質およびそれらの
表面形状などが異なる反射板を使用してもよい。
【００９９】以上、本発明の表示装置用基板は、前記実
施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲において種々の変更が可能である。
施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲において種々の変更が可能である。
【０１００】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、表示装置
用基板は、透光性を有する一対の超薄ガラス板間に、該
超薄ガラス板の１枚の厚さ以上の厚さを有する、少なく
とも１層の接着性透光性樹脂層を含む板状体層が介在さ
れる。特に、ガラスは比重が大きいので、前記超薄ガラ
ス板の厚さを、０．２５ｍｍ未満にすることによって、
従来のガラス基板より薄型軽量の表示装置用基板を作成
することができる。また、前記表示装置用基板は、両面
に超薄ガラス板を備えるので、プラスチック基板に比較
して基板表面が傷付きにくく、同時に基板を介して空気
が透過することを防止することができる。したがって、
基板間に封入される液晶層中に気泡が発生することを防
止することができる。また、表示装置用基板は、両面に
超薄ガラス板を備えるので、耐熱性および耐薬品性に優
れる。このため、ガラス基板を使用した表示装置用の製
造プロセスで表示装置を製造することができ、製造コス
トを低く抑えることができる。同時に基板の熱膨張を低
く抑えることができるので、熱処理などの表示装置の製
造プロセスにおいて、基板上に形成されたＩＴＯ膜など
から成る電極にクラックを生じたり、断線が生じること
を防止することができる。
用基板は、透光性を有する一対の超薄ガラス板間に、該
超薄ガラス板の１枚の厚さ以上の厚さを有する、少なく
とも１層の接着性透光性樹脂層を含む板状体層が介在さ
れる。特に、ガラスは比重が大きいので、前記超薄ガラ
ス板の厚さを、０．２５ｍｍ未満にすることによって、
従来のガラス基板より薄型軽量の表示装置用基板を作成
することができる。また、前記表示装置用基板は、両面
に超薄ガラス板を備えるので、プラスチック基板に比較
して基板表面が傷付きにくく、同時に基板を介して空気
が透過することを防止することができる。したがって、
基板間に封入される液晶層中に気泡が発生することを防
止することができる。また、表示装置用基板は、両面に
超薄ガラス板を備えるので、耐熱性および耐薬品性に優
れる。このため、ガラス基板を使用した表示装置用の製
造プロセスで表示装置を製造することができ、製造コス
トを低く抑えることができる。同時に基板の熱膨張を低
く抑えることができるので、熱処理などの表示装置の製
造プロセスにおいて、基板上に形成されたＩＴＯ膜など
から成る電極にクラックを生じたり、断線が生じること
を防止することができる。
【０１０１】またさらに、基板両面に超薄ガラス板を備
えることによって、基板の強度を向上することができる
ので、基板間に封入される液晶セルのセル厚を均一に保
つことができる。したがって、液晶セルのセル厚が不均
一なために生じる色調むらなどの表示むらを防止するこ
とができ、表示装置の表示品位を向上することができ
る。また表示装置用基板は、表面がガラスであるので、
基板上に反射防止膜などを成膜する場合に、基板と膜と
の密着性に優れる。
えることによって、基板の強度を向上することができる
ので、基板間に封入される液晶セルのセル厚を均一に保
つことができる。したがって、液晶セルのセル厚が不均
一なために生じる色調むらなどの表示むらを防止するこ
とができ、表示装置の表示品位を向上することができ
る。また表示装置用基板は、表面がガラスであるので、
基板上に反射防止膜などを成膜する場合に、基板と膜と
の密着性に優れる。
【０１０２】また本発明によれば、表示装置用基板の両
面に設けられる一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも
一方の超薄ガラス板の外方表面には研磨が施される。し
たがって、一対の前記表示装置用基板を前記研磨面が対
向するように配置し、液晶を封入することによって、液
晶セルのセル厚を均一にすることができ、表示むらのな
い液晶表示装置を形成することができる。
面に設けられる一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも
一方の超薄ガラス板の外方表面には研磨が施される。し
たがって、一対の前記表示装置用基板を前記研磨面が対
向するように配置し、液晶を封入することによって、液
晶セルのセル厚を均一にすることができ、表示むらのな
い液晶表示装置を形成することができる。
【０１０３】また、本発明によれば、表示装置用基板の
前記一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄
ガラス板の基板外方表面となる面には、凹凸が施されて
いる。したがって、前記表示装置用基板の凹凸面が、前
記表示装置用基板が備えられる装置、たとえば表示装置
に積層されるタブレットなどの表面に配置されることに
よって、前記表示装置の反射光によるちらつきを防止す
るとともに、ペン入力の書き味を向上することができ
る。
前記一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄
ガラス板の基板外方表面となる面には、凹凸が施されて
いる。したがって、前記表示装置用基板の凹凸面が、前
記表示装置用基板が備えられる装置、たとえば表示装置
に積層されるタブレットなどの表面に配置されることに
よって、前記表示装置の反射光によるちらつきを防止す
るとともに、ペン入力の書き味を向上することができ
る。
【０１０４】また本発明によれば、表示装置用基板の一
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面には、反射防止処理が施され
ている。したがって前記反射防止処理面が、前記表示装
置用基板が備えられる表示装置の表示面側となるように
配置されることによって、反射光による表示面のちらつ
きを防止することができる。
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面には、反射防止処理が施され
ている。したがって前記反射防止処理面が、前記表示装
置用基板が備えられる表示装置の表示面側となるように
配置されることによって、反射光による表示面のちらつ
きを防止することができる。
【０１０５】また本発明によれば、表示装置用基板の板
状体層は、光学部材を含む。したがって、前記光学部材
によって前記表示装置用基板が備えられる表示装置の表
示品位を向上することができる。
状体層は、光学部材を含む。したがって、前記光学部材
によって前記表示装置用基板が備えられる表示装置の表
示品位を向上することができる。
【０１０６】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、偏光板である。したがって、前記表示装
置用基板は、偏光板を用いる液晶表示装置などの表示装
置に好適に使用することができる。
記光学部材は、偏光板である。したがって、前記表示装
置用基板は、偏光板を用いる液晶表示装置などの表示装
置に好適に使用することができる。
【０１０７】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、位相差板である。したがって前記表示装
置用基板は、位相差板を用いる液晶表示装置などの表示
装置に好適に使用することができる。
記光学部材は、位相差板である。したがって前記表示装
置用基板は、位相差板を用いる液晶表示装置などの表示
装置に好適に使用することができる。
【０１０８】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、反射板である。したがって前記表示装置
用基板は、反射板を用いる表示装置に好適に使用するこ
とができる。
記光学部材は、反射板である。したがって前記表示装置
用基板は、反射板を用いる表示装置に好適に使用するこ
とができる。
【０１０９】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、半透過反射板である。したがって前記表
示装置用基板は、半透過反射板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
記光学部材は、半透過反射板である。したがって前記表
示装置用基板は、半透過反射板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
【０１１０】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、複数の位相差板である。したがって前記
表示装置用基板は、複数の位相差板を用いる表示装置に
好適に使用することができる。
記光学部材は、複数の位相差板である。したがって前記
表示装置用基板は、複数の位相差板を用いる表示装置に
好適に使用することができる。
【０１１１】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、捩れ位相差板である。したがって前記表
示装置用基板は、捩れ位相差板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
記光学部材は、捩れ位相差板である。したがって前記表
示装置用基板は、捩れ位相差板を用いる表示装置に好適
に使用することができる。
【図１】本発明の一実施例である表示装置用基板２１の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図２】図１に示す基板２１を用いた白黒表示反射型位
相差板ＳＴＮ液晶セル２８の構成を示す断面図である。
相差板ＳＴＮ液晶セル２８の構成を示す断面図である。
【図３】本発明の他の実施例である表示装置用基板３０
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の他の実施例である表示装置用基板３０
ａを示す断面図である。
ａを示す断面図である。
【図５】図４に示す基板３０ａを用いた反射型カラー表
示ゲストホストＴＦＴ液晶セル４０の構成を示す断面図
である。
示ゲストホストＴＦＴ液晶セル４０の構成を示す断面図
である。
【図６】本発明の他の実施例である表示装置用基板３０
ｂを示す断面図である。
ｂを示す断面図である。
【図７】本発明の他の実施例である表示装置用基板４５
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図８】本発明の他の実施例である表示装置用基板４８
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図９】本発明のさらに他の実施例である表示装置用基
板４８ａの構成を示す断面図である。
板４８ａの構成を示す断面図である。
【図１０】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板５１の構成を示す断面図である。
基板５１の構成を示す断面図である。
【図１１】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板５２の構成を示す断面図である。
基板５２の構成を示す断面図である。
【図１２】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板５５の構成を示す断面図である。
基板５５の構成を示す断面図である。
【図１３】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板５７の構成を示す断面図である。
基板５７の構成を示す断面図である。
【図１４】従来例である表示装置用基板５の構成を示す
断面図である。
断面図である。
【図１５】従来例である偏光板一体型基板１６の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
２１，３０，３０ａ，３０ｂ，４５，４８，４８ａ，５
１，５２，５５，５７表示装置用基板 ２２ 超薄板ガラス ２３ 透明接着性樹脂層 ２９ 透明樹脂層 ４４，４７ 偏光板 ４６ 位相差板 ５０ 捩れ位相差板 ５３ 反射層 ５６ 半透過反射層
１，５２，５５，５７表示装置用基板 ２２ 超薄板ガラス ２３ 透明接着性樹脂層 ２９ 透明樹脂層 ４４，４７ 偏光板 ４６ 位相差板 ５０ 捩れ位相差板 ５３ 反射層 ５６ 半透過反射層
Claims (12)
- 【請求項１】 透光性を有する一対の超薄ガラス板間
に、該超薄ガラス板の１枚の厚さ以上の厚さを有する、
少なくとも１層の接着性透光性樹脂層を含む板状体層が
介在されることを特徴とする表示装置用基板。 - 【請求項２】 前記超薄ガラス板は、厚さが０．００１
５ｍｍ以上、０．２５ｍｍ未満であることを特徴とする
請求項１記載の表示装置用基板。 - 【請求項３】 前記一対の超薄ガラス板のうち、少なく
とも一方の超薄ガラス板の基板外方表面となる面は、研
磨が施されていることを特徴とする請求項１記載の表示
装置用基板。 - 【請求項４】 前記一対の超薄ガラス板のうち、少なく
とも一方の超薄ガラス板の基板外方表面となる面には、
凹凸が施されていることを特徴とする請求項１記載の表
示装置用基板。 - 【請求項５】 前記一対の超薄ガラス板のうち、少なく
とも一方の超薄ガラス板の基板外方表面となる面には、
反射防止処理が施されていることを特徴とする請求項１
記載の表示装置用基板。 - 【請求項６】 前記板状体層は、光学部材を含むことを
特徴とする請求項１記載の表示装置用基板。 - 【請求項７】 前記光学部材は、偏光板であることを特
徴とする請求項６記載の表示装置用基板。 - 【請求項８】 前記光学部材は、位相差板であることを
特徴とする請求項６記載の表示装置用基板。 - 【請求項９】 前記光学部材は、反射板であることを特
徴とする請求項６記載の表示装置用基板。 - 【請求項１０】 前記光学部材は、半透過反射板である
ことを特徴とする請求項６記載の表示装置用基板。 - 【請求項１１】 前記光学部材は、複数の位相差板であ
ることを特徴とする請求項６記載の表示装置用基板。 - 【請求項１２】 前記光学部材は、捩れ位相差板である
ことを特徴とする請求項６記載の表示装置用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5190571A JP3059866B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 表示装置用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5190571A JP3059866B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 表示装置用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0743696A true JPH0743696A (ja) | 1995-02-14 |
| JP3059866B2 JP3059866B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=16260282
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5190571A Expired - Fee Related JP3059866B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 表示装置用基板 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3059866B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999047967A1 (fr) * | 1998-03-19 | 1999-09-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Corps constitue de resine et de cristaux liquides, dispositif a cristaux liquides, affichage a cristaux liquides comportant ledit dispositif et procedes de fabrication |
| JP2005521193A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-07-14 | デュポン テイジン フィルムズ ユー．エス．リミテッド パートナーシップ | 可撓性電子および光電子素子用の熱安定化されたポリ（エチレンナフタレート）フィルム |
| JP2006024530A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Sharp Corp | 表示装置およびその製造方法 |
| JP2007299770A (ja) * | 1998-04-02 | 2007-11-15 | Cambridge Display Technol Ltd | 有機デバイスのための可撓性基体、有機デバイスおよびその製造方法 |
| JP2007310417A (ja) * | 2007-08-06 | 2007-11-29 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
| JP2008026910A (ja) * | 2007-08-06 | 2008-02-07 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置 |
| KR100827086B1 (ko) * | 2001-10-18 | 2008-05-02 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 표시 소자용 기판 및 그것을 이용한 표시 소자 |
| JP4773617B2 (ja) * | 1997-10-24 | 2011-09-14 | 奇美電子股▲ふん▼有限公司 | ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法 |
| US20120128952A1 (en) * | 2010-06-02 | 2012-05-24 | Yoshiharu Miwa | Glass film laminate |
| WO2012157610A1 (ja) | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 日本電気硝子株式会社 | 積層体、積層体の切断方法および積層体の加工方法、並びに、脆性板状物の切断装置および切断方法 |
| JP2012254625A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 積層体 |
| JP2014012373A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス樹脂積層体 |
| WO2014035942A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Corning Incorporated | Strengthened thin glass-polymer laminates |
| WO2017119294A1 (ja) * | 2016-01-07 | 2017-07-13 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルム |
| EP2698691A3 (en) * | 2012-08-15 | 2017-10-04 | Tpk Holding Co., Ltd | Touch panel and touch display panel |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4104489B2 (ja) | 2002-05-17 | 2008-06-18 | 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP5190571A patent/JP3059866B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4773617B2 (ja) * | 1997-10-24 | 2011-09-14 | 奇美電子股▲ふん▼有限公司 | ガラス積層体を基質とする半導体装置の製造方法 |
| WO1999047967A1 (fr) * | 1998-03-19 | 1999-09-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Corps constitue de resine et de cristaux liquides, dispositif a cristaux liquides, affichage a cristaux liquides comportant ledit dispositif et procedes de fabrication |
| JP2007299770A (ja) * | 1998-04-02 | 2007-11-15 | Cambridge Display Technol Ltd | 有機デバイスのための可撓性基体、有機デバイスおよびその製造方法 |
| JP4577852B2 (ja) * | 1998-04-02 | 2010-11-10 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 有機デバイスのための可撓性基体、有機デバイスおよびその製造方法 |
| JP2005521193A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-07-14 | デュポン テイジン フィルムズ ユー．エス．リミテッド パートナーシップ | 可撓性電子および光電子素子用の熱安定化されたポリ（エチレンナフタレート）フィルム |
| KR100827086B1 (ko) * | 2001-10-18 | 2008-05-02 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 표시 소자용 기판 및 그것을 이용한 표시 소자 |
| JP2006024530A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Sharp Corp | 表示装置およびその製造方法 |
| JP2007310417A (ja) * | 2007-08-06 | 2007-11-29 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
| JP2008026910A (ja) * | 2007-08-06 | 2008-02-07 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置 |
| JP4550871B2 (ja) * | 2007-08-06 | 2010-09-22 | 株式会社東芝 | アクティブマトリクス型表示装置 |
| JP4621713B2 (ja) * | 2007-08-06 | 2011-01-26 | 株式会社東芝 | アクティブマトリクス型表示装置 |
| US20120128952A1 (en) * | 2010-06-02 | 2012-05-24 | Yoshiharu Miwa | Glass film laminate |
| KR20140010125A (ko) | 2011-05-13 | 2014-01-23 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 적층체, 적층체의 절단 방법, 적층체의 가공 방법, 및 취성 판상물의 절단 장치 및 절단 방법 |
| US10279568B2 (en) | 2011-05-13 | 2019-05-07 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object |
| WO2012157610A1 (ja) | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 日本電気硝子株式会社 | 積層体、積層体の切断方法および積層体の加工方法、並びに、脆性板状物の切断装置および切断方法 |
| JP2012254625A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 積層体 |
| EP3006205A1 (en) | 2011-05-13 | 2016-04-13 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object |
| US9446566B2 (en) | 2011-05-13 | 2016-09-20 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate, method for cutting laminate, method for processing laminate, and device and method for cutting brittle plate-like object |
| KR20190115097A (ko) | 2011-05-13 | 2019-10-10 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 적층체, 적층체의 절단 방법, 적층체의 가공 방법, 및 취성 판상물의 절단 장치 및 절단 방법 |
| KR20190113999A (ko) | 2011-05-13 | 2019-10-08 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 적층체, 적층체의 절단 방법, 적층체의 가공 방법, 및 취성 판상물의 절단 장치 및 절단 방법 |
| KR20180057730A (ko) | 2011-05-13 | 2018-05-30 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 적층체, 적층체의 절단 방법, 적층체의 가공 방법, 및 취성 판상물의 절단 장치 및 절단 방법 |
| EP3421232A1 (en) | 2011-05-13 | 2019-01-02 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Method for processing a laminate |
| JP2014012373A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス樹脂積層体 |
| EP2698691A3 (en) * | 2012-08-15 | 2017-10-04 | Tpk Holding Co., Ltd | Touch panel and touch display panel |
| WO2014035942A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Corning Incorporated | Strengthened thin glass-polymer laminates |
| US10953633B2 (en) | 2012-08-31 | 2021-03-23 | Corning Incorporated | Strengthened thin glass-polymer laminates |
| JP2017121745A (ja) * | 2016-01-07 | 2017-07-13 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルム |
| WO2017119294A1 (ja) * | 2016-01-07 | 2017-07-13 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルム |
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