JPH0737849A - 洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

洗浄方法及び洗浄装置

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JPH0737849A
JPH0737849A JP17904593A JP17904593A JPH0737849A JP H0737849 A JPH0737849 A JP H0737849A JP 17904593 A JP17904593 A JP 17904593A JP 17904593 A JP17904593 A JP 17904593A JP H0737849 A JPH0737849 A JP H0737849A
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cleaning
liquid
chemical
rinse
opening
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JP17904593A
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Shigeyuki Sugino
林志 杉野
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 薬液表面に浮遊している微粒子が被洗浄基板
引き上げ時に再付着することを防止し、洗浄効果を高め
る洗浄方法及び洗浄装置を提供する。 【構成】 上部に開口を有する洗浄槽に充たされた薬液
もしくはリンス液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄槽底部か
ら薬液もしくはリンス液を連続的に供給し、上部開口か
ら薬液もしくはリンス液を溢れさせて洗浄を行う洗浄方
法において、薬液もしくはリンス液表面に浮遊している
微粒子を表面近傍の薬液もしくはリンス液と共に強制的
に取り除く浮遊微粒子除去工程を含む。開口面に沿って
移動して開口面よりも盛り上がった部分の薬液もしくは
リンス液を洗浄層の外に掃き出すための、薬液もしくは
リンス液表面に接触するように配置され、その長さが少
なくとも開口の一つの辺の長さよりも長い、開口面に沿
って移動可能な掃出し板を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハの洗浄方
法及び洗浄装置に関し、特に、半導体ウエハ、マスク、
レチクルまたは液晶ディスプレイ用基板等極めて高い清
浄度が要求される基板表面に対して、酸、アルカリ、純
水、有機溶剤等の液体中に被洗浄基板を浸漬させて洗浄
を行う洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図5を参照して、従来例による精密洗浄
方法について説明する。図5(A)は、被洗浄基板を薬
液中で処理する工程を示す。洗浄槽50に酸またはアル
カリ等の薬液51が充たされている。キャリアホルダ5
2に収納した被洗浄基板53を薬液51の中に浸漬し、
被洗浄基板53の表面槽、表面に付着した微粒子や基板
内に侵入すると悪影響を及ぼす元素を含む不純物等を薬
液51中に溶出させる。その後、被洗浄基板53をキャ
リアホルダ52と共に薬液51中から引き上げる。
【0003】図5(B)は、被洗浄基板のリンス工程を
示す。洗浄槽54に純水55が充たされている。純水は
洗浄槽54の底部から常時供給されており、下方から上
方への流れを形成し、上部から溢れている。
【0004】薬液51から引き上げた被洗浄基板53を
キャリアホルダ52と共に純水55の中に浸漬する。被
洗浄基板53の表面に付着した酸、アルカリは純水55
の流れにより除去され、清浄な表面を得ることができ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図5(C)は、被洗浄
基板を薬液中から引き上げる工程における薬液表面の断
面を示す。被洗浄基板53とそれを保持するキャリアホ
ルダとの接触部分から発生する微粒子、または被洗浄基
板53表面に付着している微粒子は、多くの場合薬液5
1の表面に浮遊している。従って、被洗浄基板53を薬
液51から引き上げる時、浮遊している微粒子56が被
洗浄基板53の表面に再付着する。
【0006】また、リンス工程において、純水を洗浄槽
54の上部から溢れさせていても、直径1μm以下の微
粒子は純水表面に浮遊したままである。従って、被洗浄
基板53を純水中から引き出す際に、浮遊している微粒
子が被洗浄基板53の表面に再付着する。
【0007】このように、従来方法による洗浄方法で
は、薬液または純水から被洗浄基板を引き出すときに、
薬液表面に浮遊している微粒子が再付着するため、洗浄
効果を高めることが困難である。
【0008】本発明の目的は、薬液表面に浮遊している
微粒子が被洗浄基板引き上げ時に再付着することを防止
し、洗浄効果を高めることができる洗浄方法及び洗浄装
置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、上
部に開口を有する洗浄槽に充たされた薬液もしくはリン
ス液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄槽底部から薬液もしく
はリンス液を連続的に供給し、上部開口から薬液もしく
はリンス液を溢れさせて洗浄を行う洗浄方法において、
薬液もしくはリンス液表面に浮遊している微粒子を表面
近傍の薬液もしくはリンス液と共に強制的に取り除く浮
遊微粒子除去工程を含む。
【0010】以下、薬液とは、酸、アルカリ、有機溶
剤、純水等、もしくはそれらをリンスするための純水等
のリンス液をあらわす。本発明の他の洗浄方法は、上部
に開口を有する洗浄槽に充たされた薬液に被洗浄基板を
浸漬し洗浄を行う洗浄方法において、薬液表面に浮遊し
ている微粒子を、薬液表面の特定の部分に収集する工程
を含む。
【0011】本発明の洗浄装置は、上部に開口を有する
洗浄槽に充たされた薬液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄槽
底部から薬液を連続的に供給し、上部開口から薬液を溢
れさせて洗浄を行う洗浄装置において、開口面に沿って
移動して開口面よりも盛り上がった部分の薬液を洗浄層
の外に掃き出すための、薬液表面に接触するように配置
され、その長さが少なくとも開口の一つの辺の長さより
も長い、開口面に沿って移動可能な掃出し部材を含む。
【0012】本発明の他の洗浄装置は、上部に開口を有
する洗浄槽に充たされた薬液に被洗浄基板を浸漬し洗浄
を行う洗浄装置において、前記開口の互いに対向する一
組の辺に跨がり、薬液表面に接触するように配置され、
その辺に沿って平行移動可能な仕切り板を含む。
【0013】
【作用】薬液表面に浮遊する微粒子を取り除くことによ
り、被洗浄基板を薬液中から引き上げる時に、微粒子が
被洗浄基板に再付着することを防止することができる。
このため、被洗浄基板の洗浄効果を高めることが可能と
なる。
【0014】
【実施例】薬液または純水の表面に浮遊している微粒子
を取り除けば、被洗浄基板表面への微粒子の再付着を防
止することができる。以下に、微粒子を取り除くための
方法について説明する。
【0015】図1(A)、図1(B)は、それぞれ本発
明の第1の実施例を示す。薬液2を洗浄槽1から溢れさ
せながら洗浄またはリンスする場合、薬液表面は洗浄槽
の開口面よりも盛り上がっている。薬液の流量を増やせ
ば、洗浄槽の開口面から約40mm盛り上がることもあ
る。
【0016】長方形の開口部を有する洗浄槽1の開口面
から盛り上がった薬液表面に接触するように、その長さ
が開口部の一辺と同程度またはそれよりも長い長方形の
掃出し板3が設けられている。掃出し板3は洗浄槽1の
開口部の一辺から対向する辺に向かって平行移動するこ
とができる。
【0017】掃出し板3を移動することにより、洗浄槽
1の開口面から盛り上がった部分の薬液を掃き出し、洗
浄槽1から排除することができる。同時に、薬液表面に
浮遊している微粒子も排除される。
【0018】掃出し板3が薬液2の盛り上がった部分に
接触している深さが、0.5mmから20mmであれ
ば、微粒子を十分取り除くことができる。掃出し板3の
移動速度は、10mm/分から6000mm/分が好ま
しい。さらに、薬液の粘度によって可変とすることが好
ましい。
【0019】図1(C)、図1(D)は、それぞれ本発
明の第2の実施例を示す。掃出し板6の一端が支持棒7
によって支持されており、支持棒7を中心にして水平面
内で回転することができる。掃出し板6の高さは、回転
する時に洗浄槽4の開口面から盛り上がっている薬液5
の表面に接触するように調整されている。接触する深さ
は、第1の実施例と同様に0.5mmから20mmが好
ましい。
【0020】支持棒7を、洗浄槽4の長方形の開口部の
一つの頂点部分に配置した場合には、開口部の対角線の
長さよりも長い掃出し板6を約90°回転することによ
り、薬液5の表面部分を掃き出すことができる。第2の
実施例では、掃出し板の駆動部が一点のみであるため、
第1の実施例に比べて駆動機構を単純化することができ
る。
【0021】図2(A)は、本発明の第3の実施例を示
す。本実施例は、第1の実施例における掃出し板3の断
面を三角形にしたものである。三角形の断面の一つの辺
が薬液の表面に平行になるように配置されている。掃出
し板10の薬液を掃き出す面の法線方向は上方を向いて
いるため、掃出し板10を平行移動した時、薬液9の表
面層が掃出し板10の下部へ回り込むことを抑制するこ
とができる。従って、表面に浮遊している微粒子11を
効率よく掃き出し、除去することができる。
【0022】本実施例では、掃出し板10の断面が三角
形の例について説明したが、三角形に限らない。断面が
三角形以外でも、薬液を掃き出す面の法線方向が上方を
向いていれば同様の効果を得ることができる。掃出し板
の下部のみがこのような形状となっていてもよい。
【0023】図2(B)は、本発明の第4の実施例を示
す。本実施例は、第1の実施例の掃出し板3の代わりに
直線状の噴出口を有するノズル15を設け、ノズル15
から清浄な気体を薬液表面に吹き付けて薬液表面層を除
去する方法である。ノズル15は、薬液13の表面に接
触しないように、薬液表面から僅かに上方に配置されて
いる。
【0024】ノズルの横方向(図の紙面に垂直な方向)
の長さは、洗浄槽12の開口部の一つの辺の長さにほぼ
等しいかまたはそれよりも長い。従って、薬液表面の一
端から他端まで直線状に同時に気体を吹き付けることが
できる。また、清浄な気体を吹き出す方向は、薬液表面
とのなす角が25°以上65°以下となるように調整す
ることが好ましい。
【0025】ノズル15の直線状の吹き出し口から清浄
な気体を吹き出しながら、薬液表面に沿って気体を吹き
出す方向に移動する。薬液13の表面層は浮遊している
微粒子14とともに掃き出され、除去される。本実施例
においては、ノズル15が直接薬液に接触しないため、
ノズルに微粒子14が付着することを抑制することがで
きる。
【0026】図2(C)は、本発明の第5の実施例を示
す。本実施例は、第4の実施例のノズル15の代わりに
薬液を吸い込むためのノズル20を設け、ノズル20か
ら微粒子19と共に薬液18を吸い込む。ノズル20の
横方向(図の紙面に垂直な方向)の長さは、洗浄槽12
の開口部の一つの辺の長さにほぼ等しいかまたはそれよ
りも長い。また、薬液を吸い込む方向と薬液表面とのな
す角が25°以上65°以下となるように調整すること
が好ましい。
【0027】このように配置されたノズル20の先端を
薬液表面に接触させ、薬液表面を削り取るように、薬液
表面に沿って移動する。薬液18の表面層は浮遊してい
る微粒子19とともに吸い込まれ、除去される。本実施
例においては、表面の薬液を積極的に吸い込むため、表
面に浮遊している微粒子が表面からもぐり込んで掃き出
し残りが生ずることを防止できる。
【0028】上記第1から第5の実施例において、薬液
表面を掃き出し、微粒子を除去する動作は、被洗浄基板
を薬液中に浸漬している間に行うのが好ましい。被洗浄
基板を薬液から引き出す直前に微粒子を除去すればさら
に良い。被洗浄基板が薬液中に浸漬され、洗浄されるこ
とで、被洗浄基板表面に付着していた微粒子が除去され
薬液表面に浮遊するからである。
【0029】また、第1から第5の実施例で使用される
掃出し板及びノズルの材質は、洗浄槽と同じ材質か、ま
たは洗浄に使用される薬液のしみ込み、薬液による変
質、薬液中への溶出、若しくは薬液による膨潤が無い材
料が好ましい。例えば、石英、テフロン、塩化ビニル等
がよい。
【0030】第1〜第5の実施例では、掃出し板等で薬
液の表面層の掃き出しを行うと、掃出し板自体に微粒子
が付着する。そのため、繰り返し掃き出しを行うと掃き
出し効果が減少する。掃き出し効果を持続するために
は、掃出し板自体を洗浄する必要がある。以下に、掃出
し板の洗浄方法について図3を参照して説明する。
【0031】図3(A)は、本発明の第6の実施例を示
す。掃出し板によって掃き出し動作を行っていない間
に、掃出し板22に対してアンモニア−過酸化水素溶液
等のアルカリや酸、純水、有機溶剤等を、洗浄槽21の
外で洗浄液噴出口23からシャワー状に注液する。これ
により、掃出し板22に付着した微粒子を除去し、常に
掃出し板を清浄な状態に維持することができる。
【0032】図3(A)は、断面が三角形の掃出し板に
ついて示しているが、それ以外の掃出し板またはノズル
であっても同様の構成で洗浄可能である。図3(B)
は、本発明の第7の実施例を示す。第6の実施例は、掃
き出し動作を行っていない時に掃出し板の洗浄を行う方
法であるが、本実施例は、掃き出し動作中に同時に掃出
し板の洗浄も行う方法である。
【0033】掃出し板25の薬液を掃き出す面が薬液表
面に接触する部分よりやや上方に、注液口26が設けら
れている。掃き出し中に注液口26から洗浄液を注液す
ることにより、掃出し板25に付着する微粒子を洗い流
すことができる。この場合の洗浄液は、被洗浄基板を洗
浄する薬液24と同一組成のものが好ましい。
【0034】図3(C)は、本発明の第8の実施例を示
す。第7の実施例においては、注液口が掃出し板自身に
設けられているが、本実施例では、注液口が掃出し板と
は別に配置されている。掃出し板28の薬液を掃き出す
面と薬液27の表面が接する位置の上方に注液口29が
配置されている。
【0035】掃き出し中に注液口29から洗浄液を注液
することにより、掃出し板28に付着する微粒子を洗い
流すことができる。この場合の洗浄液は、第7の実施例
と同様被洗浄基板を洗浄する薬液27と同一組成のもの
が好ましい。
【0036】図3(B)〜(C)は、断面が三角形の掃
出し板について示しているが、それ以外の掃出し板であ
っても同様の構成で洗浄可能である。また、注液口2
6、29から洗浄液を注液する方向は、掃出し板25、
28の前面から薬液24、27を排除する方向が好まし
い。
【0037】上記第1〜第8の実施例は、表面の薬液と
共に浮遊している微粒子を洗浄槽の外に排除する方法で
ある。以下に示す第9の実施例は、浮遊する微粒子を薬
液表面の一箇所に集め、清浄な薬液表面を得る方法であ
る。
【0038】図4は、本発明の第9の実施例を示す。洗
浄槽30の開口部の一組の対向する辺に跨がるように仕
切り板31が設けられている。仕切り板31は、薬液3
3の表面に接触しており、その表面を二つの領域34
a、34bに分割している。また、仕切り板31の両端
は、蛇腹等の伸縮自在な材料32a、32bで保持され
ており、洗浄槽30の開口面内で平行移動することがで
きる。
【0039】たとえば、蛇腹32aが縮み、蛇腹32b
が伸びると薬液表面34aは縮小し、薬液表面34bは
拡大する。例えば、薬液表面34aの面積をほぼ0に
し、洗浄槽30の開口面をほぼ薬液表面34bのみと
し、被洗浄基板を浸漬する。このとき、被洗浄基板表面
等に付着していた微粒子は除去され、薬液表面34bに
浮遊する。
【0040】被洗浄基板を引き上げる前に、仕切り板3
1を移動して、薬液表面34bを縮小する。薬液表面3
4bに浮遊している微粒子は、薬液表面の一箇所に集め
られ、薬液表面34aが拡大して清浄な薬液表面を得る
ことができる。このようにして、被洗浄基板を引き上げ
ることにより、微粒子が被洗浄基板表面に再付着するこ
とを防止することができる。
【0041】前記第1〜第8の実施例は、薬液を溢れさ
せないで洗浄を行う場合には適用が困難であるが、本方
法は、薬液33を溢れさせないで洗浄を行う場合にも容
易に適用することができる。もちろん、薬液33を洗浄
槽30から溢れさせて洗浄を行う場合にも適用すること
ができる。
【0042】第3の実施例のように、仕切り板31の断
面を三角形にしてもよい。また、第5の実施例のように
仕切り板31の代わりに吸い込み口を設けてもよい。さ
らに、第7または第8の実施例のように、仕切り板31
の表面に、または仕切り板31と薬液33の表面が接し
ている部分の上方に注液口を配置し、仕切り板31に付
着した微粒子を洗い流すようにしてもよい。
【0043】本発明の第1の実施例によって洗浄した場
合の効果について以下に説明する。6インチシリコンウ
エハ25枚を石英製のキャリアホルダに収納して、5%
弗酸溶液に3分間浸漬した。その後、純水を溢れさせな
がら10分間リンスを行った場合の洗浄効果を従来例と
比較した。
【0044】従来例による洗浄方法で洗浄した場合に
は、シリコンウエハ上の粒径0.2μm以上の微粒子が
500個であったが、本発明の第1の実施例による洗浄
方法で洗浄した場合には、5個であった。実験結果から
明らかなように、洗浄後のウエハ表面の微粒子数が従来
例に比べて2桁減少しており、顕著な効果が得られた。
【0045】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被洗浄基板表面に微粒子が再付着するのを抑制すること
ができ、洗浄効果を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1及び第2の実施例による洗浄装置
の断面図、斜視図、平面図である。
【図2】本発明の第3〜第5の実施例による洗浄装置の
断面図である。
【図3】本発明の第6〜第8の実施例による洗浄装置の
断面図である。
【図4】本発明の第9の実施例による洗浄装置の斜視図
及び断面図である。
【図5】従来例による洗浄装置の斜視図及び断面図であ
る。
【符号の説明】
1、4、8、12、17、21、30、50、54
洗浄槽 2、5、9、13、18、24、27、33、51
薬液 3、6、10、22、25、28 掃出し板 7 支持棒 11、14、19 微粒子 15、20 ノズル 16 清浄な気体 23 洗浄液噴出口 26、29 注液口 31 仕切り板 32a、32b 蛇腹 34a、34b 薬液表面 52 キャリアホルダ 53 被洗浄基板 55 純水 56 微粒子

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上部に開口を有する洗浄槽(1、4)に
    充たされた薬液もしくはリンス液(2、5)に被洗浄基
    板を浸漬し、洗浄槽底部から薬液もしくはリンス液を連
    続的に供給し、上部開口から薬液もしくはリンス液を溢
    れさせて洗浄を行う洗浄方法において、 薬液もしくはリンス液表面に浮遊している微粒子を表面
    近傍の薬液もしくはリンス液と共に強制的に取り除く浮
    遊微粒子除去工程を含む洗浄方法。
  2. 【請求項2】 前記浮遊微粒子除去工程は、洗浄槽の開
    口面から盛り上がった部分の薬液もしくはリンス液を浮
    遊微粒子と共に洗浄槽の外に強制的に掃き出すことを特
    徴とする請求項1記載の洗浄方法。
  3. 【請求項3】 前記浮遊微粒子除去工程は、洗浄槽の開
    口面から盛り上がった部分の薬液もしくはリンス液を浮
    遊微粒子と共に吸い込むことを特徴とする請求項1記載
    の洗浄方法。
  4. 【請求項4】 上部に開口を有する洗浄槽(1、4)に
    充たされた薬液もしくはリンス液(2、5)に被洗浄基
    板を浸漬し洗浄を行う洗浄方法において、 薬液もしくはリンス液表面に浮遊している微粒子を、薬
    液もしくはリンス液表面の特定の部分に収集する工程を
    含む洗浄方法。
  5. 【請求項5】 上部に開口を有する洗浄槽(1、4)に
    充たされた薬液もしくはリンス液(2、5)に被洗浄基
    板を浸漬し、洗浄槽底部から薬液もしくはリンス液を連
    続的に供給し、上部開口から薬液もしくはリンス液を溢
    れさせて洗浄を行う洗浄装置において、 開口面に沿って移動して開口面よりも盛り上がった部分
    の薬液もしくはリンス液を洗浄層の外に掃き出すため
    の、薬液もしくはリンス液表面に接触するように配置さ
    れ、その長さが少なくとも開口の一つの辺の長さよりも
    長い、開口面に沿って移動可能な掃出し部材(3、6)
    を含む洗浄装置。
  6. 【請求項6】 さらに、前記洗浄槽外部に配置され、清
    浄な薬液もしくはリンス液をシャワー状に噴出して前記
    掃出し部材を洗浄するための注液口を含む請求項5記載
    の洗浄装置。
  7. 【請求項7】 さらに、前記掃出し部材の薬液もしくは
    リンス液を掃き出す面と薬液もしくはリンス液表面とが
    接する部分に薬液もしくはリンス液を噴出し、前記掃出
    し部材を洗浄するための、前記掃出し部材と共に移動可
    能な他の注液口を含む請求項5記載の洗浄装置。
  8. 【請求項8】 前記掃出し部材には、薬液もしくはリン
    ス液を掃き出す面と薬液もしくはリンス液表面とが接す
    る部分に向けて薬液もしくはリンス液を噴出するための
    注液口が設けられていることを特徴とする請求項5記載
    の洗浄装置。
  9. 【請求項9】 前記掃出し部材は、前記開口面に沿って
    平行移動可能である請求項5〜8のいずれかに記載の洗
    浄装置。
  10. 【請求項10】 前記掃出し部材は、その一端を中心と
    して前記開口面に沿って回転可能である請求項5〜8の
    いずれかに記載の洗浄装置。
  11. 【請求項11】 前記掃出し部材の薬液もしくはリンス
    液を掃き出す面の法線の向きが水平よりも上方を向いて
    いることを特徴とする請求項5〜10のいずれかに記載
    の洗浄装置。
  12. 【請求項12】 上部に開口を有する洗浄槽に充たされ
    た薬液もしくはリンス液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄槽
    底部から薬液もしくはリンス液を連続的に供給し、上部
    開口から薬液もしくはリンス液を溢れさせて洗浄を行う
    洗浄装置において、 開口面に沿って移動して開口面よりも盛り上がった部分
    の薬液もしくはリンス液を洗浄槽の外に吹き出すため
    の、洗浄槽の開口に接近して配置され、その長さが少な
    くとも開口の一つの辺よりも長い直線状の吹き出し口を
    有し、薬液もしくはリンス液表面に清浄な気体を吹き付
    けることができ、開口面に沿って移動可能なノズルを含
    む洗浄装置。
  13. 【請求項13】 前記ノズルが清浄な気体を吹き出す方
    向と、薬液もしくはリンス液表面とのなす角度が25°
    以上65°以下であることを特徴とする請求項12記載
    の洗浄装置。
  14. 【請求項14】 上部に開口を有する洗浄槽に充たされ
    た薬液もしくはリンス液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄槽
    底部から薬液もしくはリンス液を連続的に供給し、上部
    開口から薬液もしくはリンス液を溢れさせて洗浄を行う
    洗浄装置において、 開口面に沿って移動して開口面よりも盛り上がった部分
    の薬液もしくはリンス液を吸い込むための、薬液もしく
    はリンス液表面に接触するように配置され、その長さが
    少なくとも開口の一つの辺よりも長い直線状の吸い込み
    口を有し、表面の薬液もしくはリンス液を吸い込むこと
    ができ、開口面に沿って移動可能なノズルを含む洗浄装
    置。
  15. 【請求項15】 前記ノズルが薬液もしくはリンス液を
    吸い込む方向と、薬液もしくはリンス液表面とのなす角
    度が25°以上65°以下であることを特徴とする請求
    項14記載の洗浄装置。
  16. 【請求項16】 上部に開口を有する洗浄槽(30)に
    充たされた薬液もしくはリンス液(33)に被洗浄基板
    を浸漬し洗浄を行う洗浄装置において、 前記洗浄槽の開口の互いに対向する一組の辺に跨がり、
    薬液もしくはリンス液表面に接触して薬液もしくはリン
    ス液表面を分割するように配置され、その辺に沿って平
    行移動可能な仕切り板(31)を含む洗浄装置。
  17. 【請求項17】 さらに、前記仕切り板が薬液もしくは
    リンス液表面と接触する部分に薬液もしくはリンス液を
    噴出し、前記仕切り板を洗浄するための、前記仕切り板
    と共に移動可能な注液口を含む請求項16記載の洗浄装
    置。
  18. 【請求項18】 前記仕切り板には、薬液もしくはリン
    ス液表面と接する部分に向けて薬液もしくはリンス液を
    噴出するための注液口が設けられていることを特徴とす
    る請求項16記載の洗浄装置。
  19. 【請求項19】 前記仕切り板の薬液もしくはリンス液
    と接触する面の法線の向きが水平よりも上方を向いてい
    ることを特徴とする請求項16〜18のいずれかに記載
    の洗浄装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014011463A (ja) * 2012-06-29 2014-01-20 Taiwan Uyemura Co Ltd 微細気泡式処理装置

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