JPH07333399A - X-ray transmission window part - Google Patents
X-ray transmission window partInfo
- Publication number
- JPH07333399A JPH07333399A JP6131964A JP13196494A JPH07333399A JP H07333399 A JPH07333399 A JP H07333399A JP 6131964 A JP6131964 A JP 6131964A JP 13196494 A JP13196494 A JP 13196494A JP H07333399 A JPH07333399 A JP H07333399A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray transmission
- transmission window
- ray
- support
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線顕微鏡に用いられ
る試料容器やＸ線が透過する真空隔壁などに用いられる
Ｘ線透過窓部材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray transmission window member used for a sample container used in an X-ray microscope, a vacuum partition through which X-rays pass, and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】医学や生物学の分野では、一般的に光学
顕微鏡により生体試料の観察が行われているが、光学顕
微鏡では観察に可視光を用いているため、高い分解能で
観察をすることができない。一方、高い分解能で観察が
できる電子顕微鏡では、生体試料を直接真空中に置かな
ければならず、生体のままで観察することができなかっ
た。このため、波長が約２〜５ｎｍの軟Ｘ線を用いるＸ
線顕微鏡の利用が進められている。Ｘ線顕微鏡では、Ｘ
線透過窓が設けられた試料容器に、培養液と共に生体試
料を密閉することにより、生体のまま観察することがで
きる。2. Description of the Related Art In the fields of medicine and biology, a biological sample is generally observed with an optical microscope. However, since visible light is used for observation in an optical microscope, it is necessary to perform observation with high resolution. I can't. On the other hand, in an electron microscope capable of observing with high resolution, a biological sample has to be placed directly in a vacuum, and it has not been possible to observe the biological sample as it is. Therefore, X using a soft X-ray having a wavelength of about 2 to 5 nm is used.
The use of line microscopes is being promoted. With an X-ray microscope, X
The biological sample can be observed as it is by sealing the biological sample together with the culture solution in the sample container provided with the linear transmission window.
【０００３】図１１はＸ線顕微鏡の一例を示す概略構成
図である。図１１において、Ｘ線発生器１の出力光軸上
に照明光学系２、試料容器３、拡大光学系４および撮像
装置５が、排気装置６を備えた真空容器７の内部に直列
に配置されている。真空容器７は、空気によるＸ線の吸
収を避けるために、排気装置６により真空に保たれる。
このように構成されたＸ線顕微鏡では、生体試料はＸ線
透過窓が設けられた不図示の試料カプセル内に密閉収納
され、この試料カプセルが試料容器３に収容された後、
真空容器７内が排気装置６で真空排気される。Ｘ線発生
器１から射出された軟Ｘ線ビームは照明光学系２により
集束され、試料容器３に収容された試料カプセル内の試
料を透過し、透過像は拡大光学系４によって拡大され、
この拡大像は撮像装置５に結像される。８は撮影モニタ
ーであり、撮像装置５に結像された拡大像を撮影モニタ
ー８により観察する。FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing an example of an X-ray microscope. In FIG. 11, the illumination optical system 2, the sample container 3, the magnifying optical system 4, and the imaging device 5 are arranged in series inside the vacuum container 7 having the exhaust device 6 on the output optical axis of the X-ray generator 1. ing. The vacuum container 7 is kept vacuum by the exhaust device 6 in order to avoid absorption of X-rays by air.
In the X-ray microscope configured as above, the biological sample is hermetically housed in a sample capsule (not shown) provided with an X-ray transmission window, and after the sample capsule is housed in the sample container 3,
The inside of the vacuum container 7 is evacuated by the exhaust device 6. The soft X-ray beam emitted from the X-ray generator 1 is focused by the illumination optical system 2, passes through the sample in the sample capsule housed in the sample container 3, and the transmitted image is magnified by the magnifying optical system 4.
This magnified image is formed on the image pickup device 5. Reference numeral 8 denotes a photographing monitor, and the magnified image formed on the imaging device 5 is observed by the photographing monitor 8.
【０００４】図１２は、図１１の試料容器３と、これに
収容される試料カプセルの構造を示す断面図である。試
料カプセル９は、スペーサー１２を平板状のチップ１
０，１１で挟んだ構造をしており、スペーサー１２とチ
ップ１０，１１のＸ線透過窓１０ａ，１１ａとの間に試
料室１３が画成される。Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａは、
Ｘ線を透過する物質で構成されている。試料室１３内に
は、生体試料を含んだ培養液が装填される。試料容器３
は、一対のフランジ１４，１５を備える。フランジ１
４，１５の互いに相対する面にはそれぞれ凹部２０，２
１が形成され、試料カプセル９が凹部２０と凹部２１と
の間に挟み付けるように収容される。フランジ１４，１
５がボルト１６で相互に固定されることにより、試料カ
プセル９がＯリング１７，１８の間に挟持され、試料室
１３はＯリング１７，１８，１９により真空から隔離さ
れる。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the structure of the sample container 3 of FIG. 11 and the sample capsule accommodated therein. The sample capsule 9 includes a spacer 12 and a flat chip 1
The sample chamber 13 is sandwiched between 0 and 11, and the sample chamber 13 is defined between the spacer 12 and the X-ray transmission windows 10a and 11a of the chips 10 and 11. The X-ray transmission windows 10a and 11a are
It is composed of a substance that transmits X-rays. A culture solution containing a biological sample is loaded into the sample chamber 13. Sample container 3
Includes a pair of flanges 14 and 15. Flange 1
The concave portions 20 and 2 are provided on the surfaces of the concave portions 4 and 15 facing each other.
1 is formed, and the sample capsule 9 is housed so as to be sandwiched between the recess 20 and the recess 21. Flange 14,1
By fixing 5 to each other with bolts 16, the sample capsule 9 is clamped between the O-rings 17, 18, and the sample chamber 13 is isolated from the vacuum by the O-rings 17, 18, 19.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の試料カ
プセル９においては、観察のために真空容器７内を真空
排気した時に、真空容器７内の圧力と試料室１３内の圧
力との差圧によりＸ線透過窓１０ａ，１１ａが変形した
り、破損したりする等の欠点があった。In the conventional sample capsule 9 described above, when the vacuum container 7 is evacuated for observation, the differential pressure between the pressure in the vacuum container 7 and the pressure in the sample chamber 13 is reduced. Due to this, there is a defect that the X-ray transmission windows 10a and 11a are deformed or damaged.
【０００６】図１３は、Ｘ線透過窓用部材の材料として
用いられるＳｉ3Ｎ4膜の厚さとＸ線透過率との関係を示
す図である。図に示したＸ線の波長は、生物観察用のＸ
線顕微鏡で用いられる「水の窓領域」と呼ばれる波長域
（２．３〜４．３ｎｍ）の中の波長を選んで示した。厚
さ０．０５μｍのＳｉ3Ｎ4膜では、３．０ｎｍのＸ線に
対して８５％の透過率があるが、厚さ０．２μｍでは５
３％と著しく透過率が悪くなる。Ｘ線の透過率を上げる
ためにはできるだけ厚さの小さいＸ線透過窓を使用しな
ければならないことがわかる。FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the thickness of the Si 3 N 4 film used as the material of the X-ray transmission window member and the X-ray transmittance. The X-ray wavelength shown in the figure is the X-ray for biological observation.
A wavelength in a wavelength range (2.3 to 4.3 nm) called a “water window region” used in a line microscope is selected and shown. The 0.05 μm thick Si 3 N 4 film has a transmittance of 85% with respect to 3.0 nm X-rays, but the thickness of 0.2 μm is 5%.
The transmittance is remarkably deteriorated to 3%. It can be seen that in order to increase the X-ray transmittance, it is necessary to use an X-ray transmission window having the smallest possible thickness.
【０００７】一方、図１４は、厚さ０．１μｍのＳｉ3
Ｎ4により形成された１ｍｍ角，０．５ｍｍ角，０．２
ｍｍ角の正方形のＸ線透過窓１０ａ，１１ａが、上述の
差圧により膨らんだ時の最大歪量を示した図であるが、
Ｘ線顕微鏡で観察しているときには、試料カプセル９の
Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａに真空容器内の圧力と大気圧
との圧力差である約１気圧の圧力がかかっている。例え
ば、１．０ｍｍ角の窓では約３９μｍの膨らみとなり、
試料カプセル内でのＸ線の吸収が増加し、Ｘ線顕微鏡に
よる観察が困難になる。また、圧力に耐えきれず破損し
てしまうおそれもある。On the other hand, FIG. 14 shows Si 3 having a thickness of 0.1 μm.
1 mm square, 0.5 mm square, 0.2 formed by N 4
It is a figure showing the maximum amount of strain when the X-ray transmission windows 10a and 11a of a square of mm square swell by the above-mentioned differential pressure.
When observing with an X-ray microscope, a pressure of about 1 atm, which is the pressure difference between the pressure inside the vacuum container and the atmospheric pressure, is applied to the X-ray transmission windows 10a and 11a of the sample capsule 9. For example, a 1.0 mm square window will have a bulge of approximately 39 μm,
The absorption of X-rays in the sample capsule increases, making it difficult to observe with an X-ray microscope. In addition, there is a possibility that the product cannot withstand the pressure and is damaged.
【０００８】従来、この様なＸ線透過窓１０ａ，１１ａ
の変形や破損を避けるために、Ｘ線透過窓１０ａ，１１
ａの面積を小さくしたり、強度を上げるために厚さを大
きくしたりする等の対策が取られていた。しかし、Ｘ線
透過窓１０ａ，１１ａの面積を小さくすると観察領域が
制限され、また、Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａの厚さを大
きくすると、Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａ自体のＸ線吸収
量が増加し、コントラストの低い試料の観察に必要なＸ
線光量が得られないという問題点があった。Conventionally, such X-ray transmission windows 10a and 11a have been used.
In order to avoid the deformation and damage of the X-ray transmission windows 10a, 11
Measures have been taken such as reducing the area of a and increasing the thickness to increase the strength. However, when the area of the X-ray transmission windows 10a and 11a is reduced, the observation area is limited, and when the thickness of the X-ray transmission windows 10a and 11a is increased, the X-ray absorption amount of the X-ray transmission windows 10a and 11a itself is reduced. X required for observing samples with increased and low contrast
There was a problem that the amount of linear light could not be obtained.
【０００９】また、Ｘ線透過窓をＸ線顕微鏡の真空隔壁
として用いた場合、Ｘ線の光路を確保するためにＸ線透
過窓の面積が大きくなり、Ｘ線透過率の良い、薄くて機
械的強度に優れたＸ線透過窓を設けることは困難であっ
た。Further, when the X-ray transmission window is used as a vacuum partition of an X-ray microscope, the area of the X-ray transmission window becomes large in order to secure the optical path of the X-ray, and the X-ray transmission has a good X-ray transmittance and is thin and mechanical. It was difficult to provide an X-ray transmission window excellent in dynamic strength.
【００１０】本発明の目的は、Ｘ線透過窓の面積が大き
くかつＸ線透過窓の厚みが薄くても機械的な強度に優
れ、Ｘ線透過率の良いＸ線透過窓部材を提供することに
ある。An object of the present invention is to provide an X-ray transmission window member having a large X-ray transmission window area and a small X-ray transmission window thickness, excellent mechanical strength, and good X-ray transmittance. It is in.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１に対
応付けて説明すると、請求項１の発明は、Ｘ線を透過さ
せる物質で構成されるＸ線透過窓２３ａと、Ｘ線透過窓
２３ａ上に突設され、このＸ線透過窓２３ａを補強する
サポート２３ｂとを備えるＸ線透過窓部材２３を用いる
ことにより上述の目的を達成する。請求項２の発明で
は、請求項１のＸ線透過窓部材２３において、サポート
２３ｂは格子状に設けられる。図１０に対応付けて説明
すると、請求項３の発明では、Ｘ線透過窓５７ａが環状
に設けられ、サポート５７ｂがＸ線透過窓５７ａに対し
て放射状に並んでいる。請求項４の発明では、請求項１
〜請求項３のいずれかに記載のＸ線透過窓部材２３，５
７において、Ｘ線透過窓２３ａ，５７ａはＳｉ3Ｎ4，Ｓ
ｉＣ，ＳｉＯ2，ＢＮまたはＢｅのうち少なくとも一つ
から形成される。When the invention of claim 1 is described in association with FIG. 1 showing an embodiment, an X-ray transmission window 23a made of a substance that transmits X-rays and an X-ray transmission window are provided. The above-described object is achieved by using the X-ray transmission window member 23 that is provided on the window 23a and has a support 23b that reinforces the X-ray transmission window 23a. In the invention of claim 2, in the X-ray transmission window member 23 of claim 1, the supports 23b are provided in a lattice shape. To explain in association with FIG. 10, in the invention of claim 3, the X-ray transmission window 57a is provided in an annular shape, and the supports 57b are arranged radially with respect to the X-ray transmission window 57a. In the invention of claim 4, claim 1
~ X-ray transmission window member 23, 5 according to any one of claims 3 to
7, the X-ray transmission windows 23a and 57a are made of Si 3 N 4 and S.
It is formed of at least one of iC, SiO 2 , BN, and Be.
【００１２】[0012]
【作用】請求項１の発明では、Ｘ線透過窓２３ａ上にサ
ポート２３ｂを突設することにより、Ｘ線透過窓２３ａ
の機械的強度が向上する。請求項２の発明では、格子状
のサポートによりＸ線透過窓が小さな領域に分割され、
各領域の機械的強度が向上する。請求項３の発明では、
ウォルター型斜入射鏡のようにＸ線発生器から射出され
るＸ線の環状部分を利用する光学系を用いる場合、光学
系に対するＸ線透過窓の面積を必要最小限に済ませるこ
とができる。しかも、サポートによりＸ線透過窓の機械
的強度が向上する。請求項４の発明では、Ｘ線透過窓２
３ａ，５７ａがＳｉ3Ｎ4，ＳｉＣ，ＳｉＯ2，ＢＮまた
はＢｅのうち少なくとも一つから形成されることによ
り、Ｘ線に対する透過率の高いＸ線透過窓を得ることが
できる。According to the first aspect of the present invention, the support 23b is provided so as to project on the X-ray transmission window 23a, so that the X-ray transmission window 23a.
The mechanical strength of is improved. In the invention of claim 2, the X-ray transmission window is divided into small regions by the lattice-shaped support,
The mechanical strength of each region is improved. According to the invention of claim 3,
When an optical system that uses an annular portion of X-rays emitted from an X-ray generator, such as a Walter type oblique incidence mirror, is used, the area of the X-ray transmission window for the optical system can be minimized. Moreover, the support improves the mechanical strength of the X-ray transmission window. In the invention of claim 4, the X-ray transmission window 2
By forming 3a and 57a from at least one of Si 3 N 4 , SiC, SiO 2 , BN and Be, an X-ray transmission window having a high X-ray transmittance can be obtained.
【００１３】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。Incidentally, in the section of means and action for solving the above problems for explaining the constitution of the present invention, the drawings of the embodiments are used for making the present invention easy to understand. It is not limited to.
【００１４】[0014]
【実施例】以下、図１〜図１０を参照して本発明の実施
例を説明する。なお、図１〜図１０において、図１１お
よび図１２との共通部分には同一符号をなし、説明を省
略する。 −第１実施例− 図１は本発明の第１実施例を示す図であり、本発明によ
るＸ線透過窓部材を試料カプセル２２に用いた例であ
る。図１（ａ）は、試料カプセル２２の断面図であり、
図１（ｂ）は図１（ａ）のＡから見た平面図を示す。チ
ップ２３には、Ｓｉ3Ｎ4で形成される１ｍｍ角のＸ線透
過窓２３ａが設けられている。Ｘ線透過窓２３ａの試料
室１３側の面とは反対側の面上には、０．２ｍｍの間隔
でサポート２３ｂが格子状に突設される。サポート２３
ｂは、例えばＳｉ，Ａｕ，Ｃｒ，Ｔｉ等で構成する。ま
た、サポート２３ｂの寸法として、例えば図１では、ｗ
＝７０μｍ、ｔ＝７０μｍとしているが、Ｘ線透過窓２
３ａの面積やサポート２３ｂの機械的強度等により、種
々の寸法ｗ，ｔを選ぶことができる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 10, the same parts as those in FIGS. 11 and 12 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. First Example FIG. 1 is a diagram showing a first example of the present invention, which is an example in which an X-ray transmission window member according to the present invention is used for a sample capsule 22. FIG. 1A is a cross-sectional view of the sample capsule 22,
FIG. 1B shows a plan view seen from A in FIG. The chip 23 is provided with a 1 mm square X-ray transmission window 23a made of Si 3 N 4 . On the surface of the X-ray transmission window 23a opposite to the surface on the sample chamber 13 side, supports 23b are projected in a grid pattern at intervals of 0.2 mm. Support 23
b is made of, for example, Si, Au, Cr, Ti or the like. The size of the support 23b is, for example, w in FIG.
= 70 μm and t = 70 μm, the X-ray transmission window 2
Various dimensions w and t can be selected depending on the area of 3a and the mechanical strength of the support 23b.
【００１５】試料カプセル２２は、試料容器３に収容さ
れた後、真空容器７内にセットされる。真空容器７内が
排気装置６により真空排気されると、試料室１３内の圧
力と真空容器７内の圧力との差圧によりＸ線透過窓２３
ａは試料室１３が膨らむように歪む。しかし、Ｘ線透過
窓２３ａはサポート２３ｂにより支持されているため、
Ｘ線透過窓２３ａと同じ面積を持つ従来のＸ線透過窓に
比べ、歪量は小さく抑えられる。また、同等の歪量で考
えると、従来のＸ線透過窓より大きな面積のＸ線透過窓
２３ａを設けることができ、より広い観察領域を確保す
ることが可能となる。なお、本実施例では、サポート２
３ｂの厚さに制限されないで、スペーサー１２を任意の
厚さに設定することができる。The sample capsule 22 is housed in the sample container 3 and then set in the vacuum container 7. When the inside of the vacuum container 7 is evacuated by the exhaust device 6, the X-ray transmission window 23 is generated due to the pressure difference between the pressure inside the sample chamber 13 and the inside pressure of the vacuum container 7.
a is distorted so that the sample chamber 13 swells. However, since the X-ray transmission window 23a is supported by the support 23b,
The distortion amount can be suppressed to be smaller than that of the conventional X-ray transmission window having the same area as the X-ray transmission window 23a. Further, considering the same amount of distortion, the X-ray transmission window 23a having a larger area than the conventional X-ray transmission window can be provided, and a wider observation area can be secured. In this embodiment, the support 2
The spacer 12 can be set to an arbitrary thickness without being limited to the thickness of 3b.
【００１６】本実施例のＸ線透過窓部材の製作方法を、
図２を参照して説明する。図２（ａ）に示すように、シ
リコンウエハー２５の両面にＸ線透過窓２３ａの材料と
なるＳｉ3Ｎ4膜２６をＬＰ−ＣＶＤ法、スパッタリン
グ、蒸着等により形成した後、片面側のＳｉ3Ｎ4膜２６
上にレジスト２７を塗布する。ついで、図２（ｂ）に示
すように、Ｘ線透過窓２３ａに対応するパターン２８を
持つマスク２９を用いて、Ｘ線透過窓２３ａに相当する
孔３０をフォトリソグラフィー法によりレジスト２７に
形成する。次に、図２（ｃ）に示すように、ウェットエ
ッチング等の異方性エッチングにより、孔３０を通して
シリコンウエハー２５をサポート２３ｂに相当する厚さ
に達するまで除去する。そして、図２（ｄ）に示すよう
に、エッチングされたシリコンウエハー２５および同じ
側のＳｉ3Ｎ4膜２６上にレジスト３１を積層した後、図
２（ｅ）に示すように、サポート２３ｂに対応する格子
状のパターン３２を持つマスク３３を用いて、フォトリ
ソグラフィー法によりサポート２３ｂの隙間部分に相当
する孔３４をレジスト３１に形成する。さらに、図２
（ｆ）に示すように、孔３４を介して異方性エッチング
によりＳｉ3Ｎ4膜２６に達するまでシリコンウエハー２
５を除去する。このようにして、シリコンによる格子状
のサポート２３ｂを設けたＸ線透過窓２３ａが形成され
る。A method of manufacturing the X-ray transmission window member of this embodiment will be described below.
This will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, after a Si 3 N 4 film 26, which is a material of the X-ray transmission window 23a, is formed on both surfaces of the silicon wafer 25 by LP-CVD, sputtering, vapor deposition, etc., Si on one side is formed. 3 N 4 film 26
A resist 27 is applied on top. Then, as shown in FIG. 2B, using a mask 29 having a pattern 28 corresponding to the X-ray transmission window 23a, a hole 30 corresponding to the X-ray transmission window 23a is formed in the resist 27 by photolithography. . Next, as shown in FIG. 2C, the silicon wafer 25 is removed through the hole 30 by anisotropic etching such as wet etching until the thickness corresponding to the support 23b is reached. Then, as shown in FIG. 2D, after a resist 31 is laminated on the etched silicon wafer 25 and the Si 3 N 4 film 26 on the same side, as shown in FIG. Using a mask 33 having a corresponding grid-shaped pattern 32, holes 34 corresponding to the gaps of the support 23b are formed in the resist 31 by photolithography. Furthermore, FIG.
As shown in (f), the silicon wafer 2 is anisotropically etched through the holes 34 until the Si 3 N 4 film 26 is reached.
Remove 5. In this manner, the X-ray transmission window 23a provided with the lattice-shaped support 23b made of silicon is formed.
【００１７】図３は、Ｘ線透過窓部材の第２の製作方法
を示す図である。図３（ａ），３（ｂ）は図２（ａ），
２（ｂ）と同様の手順であり、シリコンウエハー２５の
両面にＳｉ3Ｎ4膜２６を形成し、片面側のＳｉ3Ｎ4膜２
６上にレジスト２７を塗布した後、マスク２９を用いた
フォトリソグラフィー法によりＸ線透過窓２３ａに相当
する孔３０をレジスト２７に形成する。ついで、図３
（ｃ）に示すように、ウェットエッチング等の異方性エ
ッチングにより、孔３０に相当する部分のシリコンウエ
ハー２５をＳｉ3Ｎ4膜２６に達するまで除去する。次
に、図３（ｄ）に示すように、サポート材となるＡｕ，
Ｃｒ，Ｔｉ等の金属３７をスパッタリング，蒸着，メッ
キ等の方法で、Ｓｉ3Ｎ4膜２６の試料室１３側の面とは
反対側の面上に積層し、その面上および同じ側のＳｉ3
Ｎ4膜２６上にレジスト３８を塗布する。そして、図３
（ｅ）では図２（ｅ）と同様に、サポート２３ｂに対応
する格子状のパターン３２を持つマスク３３を用いて、
フォトリソグラフィー法によりサポート２３ｂの隙間部
分に相当する孔３４をレジスト３８に形成する。さら
に、図３（ｆ）に示すように、孔３４を介してドライエ
ッチング，ウェットエッチング等によりＳｉ3Ｎ4膜２６
に達するまで金属３７を除去する。このようにして、金
属による格子状のサポート２３ｂを設けたＸ線透過窓２
３ａが形成される。FIG. 3 is a diagram showing a second manufacturing method of the X-ray transmission window member. 3 (a) and 3 (b) are shown in FIG.
The procedure is the same as that of 2 (b), and the Si 3 N 4 film 26 is formed on both surfaces of the silicon wafer 25, and the Si 3 N 4 film 2 on one side is formed.
After applying the resist 27 on the resist 6, the holes 30 corresponding to the X-ray transmission windows 23a are formed in the resist 27 by the photolithography method using the mask 29. Then, Fig. 3
As shown in (c), the silicon wafer 25 in the portion corresponding to the hole 30 is removed by anisotropic etching such as wet etching until the Si 3 N 4 film 26 is reached. Next, as shown in FIG. 3D, Au, which becomes a support material,
A metal 37 such as Cr or Ti is laminated on the surface of the Si 3 N 4 film 26 opposite to the surface on the sample chamber 13 side by a method such as sputtering, vapor deposition or plating, and Si on the same surface and on the same side. 3
A resist 38 is applied on the N 4 film 26. And FIG.
In (e), as in FIG. 2 (e), using a mask 33 having a grid-shaped pattern 32 corresponding to the support 23b,
A hole 34 corresponding to the gap portion of the support 23b is formed in the resist 38 by the photolithography method. Further, as shown in FIG. 3F, the Si 3 N 4 film 26 is formed through the hole 34 by dry etching, wet etching, or the like.
The metal 37 is removed until In this way, the X-ray transmission window 2 provided with the metal grid-shaped support 23b is provided.
3a is formed.
【００１８】図４は、Ｘ線透過窓部材の第３の製作方法
を示す図である。ここでは、第２の製作方法により図２
（ｃ）に示す段階まで進んだら、サポート２３ｂに相当
する貫通孔４０を持つマスク４１を用いて、スパッタリ
ング，蒸着等によりマスク４１の貫通部分のみに金属を
Ｓｉ3Ｎ4膜２６上に堆積し、サポート２３ｂを形成す
る。FIG. 4 is a diagram showing a third manufacturing method of the X-ray transmission window member. Here, as shown in FIG.
After reaching the stage shown in (c), using a mask 41 having a through hole 40 corresponding to the support 23b, metal is deposited on the Si 3 N 4 film 26 only on the penetrating portion of the mask 41 by sputtering, vapor deposition or the like. , The support 23b is formed.
【００１９】図５は、Ｘ線透過窓部材の第４の製作方法
を示す図である。図５（ａ）では、図２（ａ）と同様に
シリコンウエハー２５の両面にＳｉ3Ｎ4膜２６を形成し
た後、片面側のＳｉ3Ｎ4膜２６上にレジスト２７を塗布
する。次に、図５（ｂ）に示すように、サポート２３ｂ
に対応するパターン３２を持つマスク３３を用いて、フ
ォトリソグラフィー法によりサポート２３ｂの隙間部分
に相当する孔４５をレジスト２７に形成する。さらに、
図５（ｃ）示すように、異方性エッチングによりシリコ
ンウエハー２５を孔４５を通してＳｉ3Ｎ4膜２６に達す
るまで除去する。このようにして、格子状のサポート２
３ｂを設けたＸ線透過窓２３ａが形成される。この製作
方法は第１〜第３の方法に比べて簡便であるが、サポー
ト２３ｂが厚くなり試料観察に影響を与えるという欠点
がある。しかし、機械的強度が大きくなり、大面積のＸ
線透過窓を形成することが可能となる。FIG. 5 is a view showing a fourth manufacturing method of the X-ray transmission window member. In FIG. 5A, similarly to FIG. 2A, after the Si 3 N 4 film 26 is formed on both sides of the silicon wafer 25, the resist 27 is applied on the Si 3 N 4 film 26 on one side. Next, as shown in FIG. 5B, the support 23b
Using the mask 33 having the pattern 32 corresponding to, holes 45 corresponding to the gaps of the support 23b are formed in the resist 27 by the photolithography method. further,
As shown in FIG. 5C, the silicon wafer 25 is removed by anisotropic etching through the hole 45 until the Si 3 N 4 film 26 is reached. In this way, the grid-shaped support 2
The X-ray transmission window 23a provided with 3b is formed. This manufacturing method is simpler than the first to third methods, but has a drawback that the support 23b becomes thick and affects sample observation. However, the mechanical strength increases, and the large area of X
It is possible to form a line transparent window.
【００２０】本実施例ではサポートの形状を格子状とし
ているが、マスクによって自由な形状のサポートを形成
することも可能である。また、サポートの強度が許す限
りＸ線透過窓を大きくすることが可能であり、Ｘ線透過
窓に用いられる物質はＳｉ3Ｎ4に限定されず、使用する
Ｘ線領域でＸ線透過率の高いＳｉＣ，ＳｉＯ2，ＢＮ，
Ｂｅ等の物質も用いられる。本実施例は、以上述べた製
作方法に限定されない。In this embodiment, the support has a lattice shape, but it is also possible to form the support with a free shape by using a mask. Further, the X-ray transmission window can be made as large as the strength of the support allows, and the substance used for the X-ray transmission window is not limited to Si 3 N 4 , and the X-ray transmission rate in the X-ray region used can be increased. High SiC, SiO 2 , BN,
A substance such as Be is also used. This embodiment is not limited to the manufacturing method described above.
【００２１】−第２実施例− 図６は本発明の第２実施例を示す図であり、本発明によ
るＸ線透過窓部材を試料カプセル４３に用いた例であ
る。図６（ａ）は、試料カプセル４４の断面図であり、
図６（ｂ）は図６（ａ）のＢから見た平面図を示す。チ
ップ４４には、Ｓｉ3Ｎ4で形成される１ｍｍ角のＸ線透
過窓４４ａが設けられている。Ｘ線透過窓４４ａの互い
に向い合った面上にはサポート４４ｂが０．２ｍｍの間
隔で格子状に突設される。２つのチップ４４が、互いの
サポート４４ｂを突き合わせて重ねられることにより、
試料室１３が画成される。本実施例では、サポート４４
ｂが第１実施例におけるスペーサー１２の役割も兼ねて
おり、より少ない部品で試料カプセルを構成することが
できる。また、試料室１３がサポート４４ｂによりいく
つかの小さな部屋に分離されているので、広い視野を持
ちながら、かつ試料室１３内で観察試料が動き回れない
という特徴も持っている。Second Embodiment FIG. 6 is a view showing a second embodiment of the present invention, which is an example in which the X-ray transmission window member according to the present invention is used for the sample capsule 43. FIG. 6A is a cross-sectional view of the sample capsule 44,
FIG. 6B shows a plan view seen from B of FIG. 6A. The chip 44 is provided with a 1 mm square X-ray transmission window 44a made of Si 3 N 4 . Supports 44b are projected in a grid pattern at intervals of 0.2 mm on the surfaces of the X-ray transmission windows 44a facing each other. By the two chips 44 being overlapped by butting the supports 44b of each other,
A sample chamber 13 is defined. In this embodiment, the support 44
b also serves as the spacer 12 in the first embodiment, and the sample capsule can be configured with fewer parts. Further, since the sample chamber 13 is divided into several small chambers by the support 44b, it has a feature that it has a wide field of view and that the observation sample cannot move around in the sample chamber 13.
【００２２】第２の実施例におけるＸ線透過窓部材の製
作方法を、図７を参照して説明する。図７（ａ）に示す
ように、シリコンウエハー２５の両面にＸ線透過窓４４
ａの材料となるＳｉ3Ｎ4膜２６をＬＰ−ＣＶＤ法、スパ
ッタリング、蒸着等により形成した後、サポート材とな
るＡｕ，Ｃｒ，Ｔｉ等の金属４６をスパッタリング，蒸
着，メッキ等の方法で片面側のＳｉ3Ｎ4膜２６上に積層
し、金属４６の上にレジスト４７を塗布する。ついで、
図７（ｂ）に示すように、サポート４４ｂに対応する格
子状のパターン３２を持つマスク３３を用いて、レジス
ト４７にサポート４４ｂの隙間部分に相当する孔３４を
フォトリソグラフィー法により形成する。次に、図７
（ｃ）に示すように、ドライエッチング，ウェットエッ
チング等の異方性エッチングにより、孔３４を通して金
属４６をレジスト４７を塗布した側のＳｉ3Ｎ4膜２６に
達するまで除去する。このようにして、格子状のサポー
ト４４ｂが形成される。そして、図７（ｄ）に示すよう
に、サポート４４ｂを形成した面とは反対側のＳｉ3Ｎ4
膜２６上に、レジスト４９を塗布した後、図７（ｅ）に
示すように、Ｘ線透過窓４４ａに対応するパターン２８
を持つマスク２９を用いて、孔５０をフォトリソグラフ
ィー法によりレジスト４９に形成する。さらに、図７
（ｆ）に示すように、孔５０を介して異方性エッチング
によりＸ線透過窓４４ａに相当する部分のシリコンウエ
ハー２５を、サポート４４ｂを形成した側のＳｉ3Ｎ4膜
２６に達するまで除去する。このようにして、格子状の
サポート４４ｂが設けられたＸ線透過窓４４ａが形成さ
れる。A method of manufacturing the X-ray transmission window member in the second embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7A, an X-ray transmission window 44 is formed on both surfaces of the silicon wafer 25.
After forming the Si 3 N 4 film 26 which is a material of a by LP-CVD method, sputtering, vapor deposition, etc., the metal 46 such as Au, Cr, Ti which becomes a support material is sputtered, vapor deposited, plated or the like on one side. It is laminated on the side Si 3 N 4 film 26, and a resist 47 is applied on the metal 46. Then,
As shown in FIG. 7B, using a mask 33 having a grid-shaped pattern 32 corresponding to the support 44b, a hole 34 corresponding to a gap portion of the support 44b is formed in the resist 47 by a photolithography method. Next, FIG.
As shown in (c), the metal 46 is removed through the hole 34 by anisotropic etching such as dry etching or wet etching until the Si 3 N 4 film 26 on the side where the resist 47 is applied is reached. In this way, the lattice-shaped support 44b is formed. Then, as shown in FIG. 7D, Si 3 N 4 on the side opposite to the surface on which the support 44b is formed is formed.
After applying the resist 49 on the film 26, as shown in FIG. 7E, the pattern 28 corresponding to the X-ray transmission window 44a is formed.
The holes 50 are formed in the resist 49 by the photolithography method using the mask 29 having Furthermore, FIG.
As shown in (f), the portion of the silicon wafer 25 corresponding to the X-ray transmission window 44a is removed by anisotropic etching through the hole 50 until it reaches the Si 3 N 4 film 26 on the side where the support 44b is formed. To do. In this way, the X-ray transmission window 44a provided with the lattice-shaped support 44b is formed.
【００２３】−第３実施例− 図８は本発明の第３実施例を示す図で、本発明によるＸ
線透過窓部材を試料カプセル５１に用いた例である。図
８（ａ）は試料カプセル５１の断面図であり、図８
（ｂ）は図８（ａ）のＣから見た平面図を示す。チップ
５２には、Ｓｉ3Ｎ4で形成される１ｍｍ角のＸ線透過窓
５２ａが設けられている。Ｘ線透過窓５２ａの両面に
は、サポート５２ｂがそれぞれ０．２ｍｍの間隔で格子
状に突設される。２つのチップ５２が合わされた時に、
互いに向い合ったサポート５４がスペーサー１２の役割
も兼ねる。本実施例では、Ｘ線透過窓５２ａの両面にサ
ポート５２ａが設けられるため、機械的強度がさらに向
上され、より広い観察領域を持つ試料カプセルが可能と
なる。また、第２の実施例と同様に観察試料が動き回れ
ない。[Third Embodiment] FIG. 8 is a view showing a third embodiment of the present invention.
This is an example in which a line transmission window member is used for the sample capsule 51. FIG. 8A is a sectional view of the sample capsule 51.
8B shows a plan view seen from C in FIG. 8A. The chip 52 is provided with a 1 mm square X-ray transmission window 52a made of Si 3 N 4 . Supports 52b are provided on both surfaces of the X-ray transmission window 52a at intervals of 0.2 mm in a grid pattern. When the two chips 52 are put together,
The supports 54 facing each other also serve as the spacer 12. In this embodiment, since the supports 52a are provided on both sides of the X-ray transmission window 52a, the mechanical strength is further improved, and a sample capsule having a wider observation area becomes possible. Further, the observation sample does not move around as in the second embodiment.
【００２４】−第４実施例− 図９、図１０は本発明の第４実施例を示す図であり、図
９は真空隔壁を用いたＸ線顕微鏡の概略構成図で、図１
０は真空隔壁の詳細図を示す。図９で、真空容器７に対
して真空隔壁５７で隔離された真空容器５５が設けら
れ、その内部にはＸ線発生器１が収納されている。真空
容器５５内は、排気装置５６によって真空排気されてい
る。このような構成では、Ｘ線発生器１が収納される真
空容器５５内は、他に比べて真空度を低くすることが可
能となる。ここで、照明光学系２にウォルター型の斜入
射反射鏡が用いられる場合、Ｘ線発生器１から射出され
たＸ線の内、実際に利用されるＸ線は輪帯状の部分だけ
である。Fourth Embodiment FIGS. 9 and 10 are views showing a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a schematic configuration diagram of an X-ray microscope using a vacuum partition, and FIG.
Reference numeral 0 indicates a detailed view of the vacuum partition. In FIG. 9, a vacuum container 55 isolated from the vacuum container 7 by a vacuum partition 57 is provided, and the X-ray generator 1 is housed inside the vacuum container 55. The inside of the vacuum container 55 is evacuated by the exhaust device 56. With such a configuration, the degree of vacuum inside the vacuum container 55 in which the X-ray generator 1 is housed can be made lower than other vacuum chambers. Here, when a Walter type grazing incidence reflecting mirror is used for the illumination optical system 2, of the X-rays emitted from the X-ray generator 1, the X-rays actually used are only the annular portion.
【００２５】図１０に示すように、真空隔壁５７には、
上述した輪帯状部分のＸ線が通過する部分にＸ線透過窓
が設けられている。図では、真空隔壁位置を通過するＸ
線の輪帯状部５８が点線で示されている。Ｘ線透過窓部
材５９には、八角形の環状をなすようにＸ線透過窓５７
ａが設けられており、Ｘ線透過窓５７ａには８つのサポ
ート５７ｂが放射状に設けられている。本発明の真空隔
壁では、Ｘ線透過窓の面積を必要最小限に抑え、さらに
サポートによって機械的強度を高めているため、Ｘ線透
過窓の膜の厚さを薄くすることができ、耐圧強度が高
く、かつＸ線透過率の高い真空隔壁が可能となる。As shown in FIG. 10, the vacuum partition 57 includes:
An X-ray transmission window is provided in a portion of the above-mentioned annular portion through which X-rays pass. In the figure, X passing through the vacuum partition position
The zonal portion 58 of the line is shown in dotted lines. The X-ray transmission window member 59 has an X-ray transmission window 57 formed in an octagonal ring shape.
a is provided, and eight supports 57b are radially provided on the X-ray transmission window 57a. In the vacuum partition wall of the present invention, since the area of the X-ray transmission window is minimized and the mechanical strength is increased by the support, the thickness of the film of the X-ray transmission window can be reduced, and the pressure resistance strength can be reduced. It is possible to form a vacuum partition wall having high X-ray transmittance and high X-ray transmittance.
【００２６】以上説明した実施例と請求の範囲との関係
において、チップ２３，４４，５２および真空隔壁５７
はＸ線透過窓部材に対応する。In the relationship between the embodiment described above and the scope of the claims, the chips 23, 44 and 52 and the vacuum partition 57 are provided.
Corresponds to the X-ray transmission window member.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Ｘ線透過窓にサポートを設けたので機械的強度が増加し
て、窓の表裏の差圧に対する耐圧強度を向上させること
ができる。そのため、面積を大きくしても、厚さが薄く
Ｘ線透過率の高いＸ線透過窓を得ることができる。As described above, according to the present invention,
Since the X-ray transmission window is provided with the support, the mechanical strength is increased and the pressure resistance against the pressure difference between the front and back of the window can be improved. Therefore, even if the area is increased, an X-ray transmission window having a small thickness and a high X-ray transmittance can be obtained.
【図１】本発明の第１実施例のＸ線透過窓部材が用いら
れる試料カプセルを示す図であり、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。FIG. 1 is a view showing a sample capsule in which an X-ray transmission window member of a first embodiment of the present invention is used, (a) is a sectional view,
(B) is a plan view.
【図２】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第１の製作方法を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a first method of manufacturing an X-ray transmission window member according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第２の製作方法を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a second manufacturing method of the X-ray transmission window member according to the first embodiment of the present invention.
【図４】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第３の製作方法を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a third manufacturing method of the X-ray transmission window member according to the first embodiment of the present invention.
【図５】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第４の製作方法を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a fourth manufacturing method of the X-ray transmission window member according to the first embodiment of the present invention.
【図６】本発明の第２実施例のＸ線透過窓部材が用いら
れる試料カプセルを示す図であり、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。FIG. 6 is a view showing a sample capsule in which the X-ray transmission window member of the second embodiment of the present invention is used, (a) is a sectional view,
(B) is a plan view.
【図７】本発明の第２実施例に係わるＸ線透過窓部材の
製作方法を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a method of manufacturing an X-ray transmission window member according to the second embodiment of the present invention.
【図８】本発明の第３実施例のＸ線透過窓部材が用いら
れる試料カプセルを示す図であり、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。FIG. 8 is a view showing a sample capsule in which an X-ray transmission window member of a third embodiment of the present invention is used, (a) is a sectional view,
(B) is a plan view.
【図９】本発明の第４実施例の真空隔壁を用いたＸ線顕
微鏡の概略構成図。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of an X-ray microscope using a vacuum partition according to a fourth embodiment of the present invention.
【図１０】本発明の第４実施例のＸ線透過窓部材が用い
られる真空隔壁の平面図。FIG. 10 is a plan view of a vacuum partition in which the X-ray transmission window member according to the fourth embodiment of the present invention is used.
【図１１】Ｘ線顕微鏡の概略構成図。FIG. 11 is a schematic configuration diagram of an X-ray microscope.
【図１２】従来のＸ線透過窓部材が用いられている試料
カプセルの断面図。FIG. 12 is a sectional view of a sample capsule in which a conventional X-ray transmission window member is used.
【図１３】Ｓｉ3Ｎ4膜の厚さとＸ線透過率との関係を示
す図。FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the thickness of a Si 3 N 4 film and X-ray transmittance.
【図１４】Ｓｉ3Ｎ4膜の差圧と最大歪量との関係を示す
図。FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the differential pressure of the Si 3 N 4 film and the maximum strain amount.
１ Ｘ線発生器 ２ 照明光学系 ３ 試料容器 ４ 拡大光学系 ５ 撮像装置 ６，５６ 排気装置 ７，５５ 真空容器 ８ 撮影モニター １２ スペーサー １３ 試料室 ２２，４３，５１ 試料カプセル ２３，４４，５２ チップ ２３ａ，４４ａ，５２ａ，５７ａ Ｘ線透過窓 ２３ｂ，４４ｂ，５２ｂ，５７ｂ サポート ５７ 真空隔壁 ５８ 輪帯状部 1 X-ray generator 2 Illumination optical system 3 Sample container 4 Enlarging optical system 5 Imaging device 6,56 Exhaust device 7,55 Vacuum container 8 Imaging monitor 12 Spacer 13 Sample chamber 22, 43, 51 Sample capsule 23, 44, 52 Chip 23a, 44a, 52a, 57a X-ray transmission window 23b, 44b, 52b, 57b Support 57 Vacuum partition 58 Ring-shaped part
Claims (4)
透過窓と、 前記Ｘ線透過窓上に突設されて該Ｘ線透過窓を補強する
サポートとが備えられることを特徴とするＸ線透過窓部
材。1. An X-ray transmission window made of a substance that transmits X-rays, and a support projecting from the X-ray transmission window to reinforce the X-ray transmission window. X-ray transparent window member.
て、 前記サポートは、格子状に設けられることを特徴とする
Ｘ線透過窓部材。2. The X-ray transmission window member according to claim 1, wherein the support is provided in a lattice shape.
て、前記Ｘ線透過窓が環状に設けられ、前記サポートが
前記Ｘ線透過窓に対して放射状に並んでいることを特徴
とするＸ線透過窓部材。3. The X-ray transmission window member according to claim 1, wherein the X-ray transmission window is provided in an annular shape, and the support is arranged radially with respect to the X-ray transmission window. X-ray transparent window member.
Ｘ線透過窓部材において、 前記Ｘ線透過窓は、Ｓｉ3Ｎ4，ＳｉＣ，ＳｉＯ2，ＢＮ
またはＢｅのうち少なくとも一つから形成されることを
特徴とするＸ線透過窓部材。4. The X-ray transmission window member according to claim 1, wherein the X-ray transmission window is Si 3 N 4 , SiC, SiO 2 , BN.
Alternatively, the X-ray transmission window member is formed of at least one of Be.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6131964A JPH07333399A (en) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | X-ray transmission window part |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6131964A JPH07333399A (en) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | X-ray transmission window part |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07333399A true JPH07333399A (en) | 1995-12-22 |
Family
ID=15070344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6131964A Pending JPH07333399A (en) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | X-ray transmission window part |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07333399A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007087997A (en) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Nissin Electric Co Ltd | Method of forming semiconductor microcrystal particle |
| JP2010521656A (en) * | 2007-03-02 | 2010-06-24 | プロトチップス，インコーポレイテッド | Membrane support with reinforcing features |
| CN105914121A (en) * | 2016-04-26 | 2016-08-31 | 苏州原位芯片科技有限责任公司 | Triangle mono-crystalline silicon support beam structure type X-ray silicon nitride window construction and the manufacturing method thereof |
| US9666323B2 (en) | 2014-02-18 | 2017-05-30 | Horiba, Ltd. | Radiolucent window, radiation detector and radiation detection apparatus |
| EP2577705B1 (en) * | 2010-06-03 | 2021-08-11 | Ametek Finland OY | Ultra thin radiation window and method for its manufacturing |
| US11393606B2 (en) | 2020-03-30 | 2022-07-19 | Jeol Ltd. | Radiation transmissive window and radition detector |
-
1994
- 1994-06-14 JP JP6131964A patent/JPH07333399A/en active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007087997A (en) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Nissin Electric Co Ltd | Method of forming semiconductor microcrystal particle |
| JP2010521656A (en) * | 2007-03-02 | 2010-06-24 | プロトチップス，インコーポレイテッド | Membrane support with reinforcing features |
| JP2013228403A (en) * | 2007-03-02 | 2013-11-07 | Protochips Inc | Membrane supports with reinforcement features |
| US9040939B2 (en) | 2007-03-02 | 2015-05-26 | Protochips, Inc. | Membrane supports with reinforcement features |
| EP2577705B1 (en) * | 2010-06-03 | 2021-08-11 | Ametek Finland OY | Ultra thin radiation window and method for its manufacturing |
| US9666323B2 (en) | 2014-02-18 | 2017-05-30 | Horiba, Ltd. | Radiolucent window, radiation detector and radiation detection apparatus |
| US10147511B2 (en) | 2014-02-18 | 2018-12-04 | Horiba, Ltd. | Radiolucent window, radiation detector and radiation detection apparatus |
| CN105914121A (en) * | 2016-04-26 | 2016-08-31 | 苏州原位芯片科技有限责任公司 | Triangle mono-crystalline silicon support beam structure type X-ray silicon nitride window construction and the manufacturing method thereof |
| US11393606B2 (en) | 2020-03-30 | 2022-07-19 | Jeol Ltd. | Radiation transmissive window and radition detector |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5533083A (en) | Vacuum optical system | |
| JPH02138900A (en) | Electron beam transmission window | |
| JPH07333399A (en) | X-ray transmission window part | |
| JP3358097B2 (en) | X-ray projection exposure equipment | |
| US5781608A (en) | X-ray exposure system | |
| Horikawa et al. | Design and fabrication of the Schwarzschild objective for soft x-ray microscopes | |
| JPH03207000A (en) | Holder frame for x-ray optical element | |
| JP3301249B2 (en) | Reflection optical element and method of manufacturing the same | |
| JPH0674879A (en) | Specimen container for x-ray microscope | |
| JP3020460B2 (en) | Vacuum optical system structure | |
| JPH0784100A (en) | Sample container for x-ray microscope | |
| JPH01117252A (en) | X-ray image observation device | |
| JPH01134300A (en) | X-ray microscope | |
| JPH0720011A (en) | Sample capsule for x-ray microscope | |
| JPH03295440A (en) | Sample container for x-ray microscope | |
| JPH06180400A (en) | Sample capsule for x-ray microscope | |
| JPH08146197A (en) | Reflecting mirror fixing method and reflecting mirror holder | |
| JP3668776B2 (en) | X-ray microscope | |
| JPH0829600A (en) | Imaging x-ray microscope | |
| JPH10221500A (en) | Soft x-ray tester | |
| JP3291953B2 (en) | Optical element for reflection | |
| JPH0862399A (en) | Vacuum device | |
| JPH07167994A (en) | X-ray optical system | |
| JPH03197838A (en) | Sample capsule for x-ray microscope | |
| JPH07333119A (en) | Sample holder |