JPH07324079A - Iminothiazoline derivative and use thereof - Google Patents

Iminothiazoline derivative and use thereof

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JPH07324079A
JPH07324079A JP5776295A JP5776295A JPH07324079A JP H07324079 A JPH07324079 A JP H07324079A JP 5776295 A JP5776295 A JP 5776295A JP 5776295 A JP5776295 A JP 5776295A JP H07324079 A JPH07324079 A JP H07324079A
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JP
Japan
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group
halo
compound
alkyl group
atom
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JP5776295A
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Minoru Takano
実 鷹野
Masayuki Enomoto
雅之 榎本
Kazuo Saito
一雄 斉藤
Satoru Kizawa
悟 木澤
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the new compound, having excellent herbicidal effects, excellent in selectivity between weeds of the family Polygonaceae or Portulacaceae and crops such as wheat or rice plant and useful as a herbicide. CONSTITUTION:This compound of formula I [R1 is a 1-6C (halo)alkyl, a 3-6C (halo)alkenyl, etc.; R2 is a 1-6C (halo)alkyl, a 3-7C (halo)cycloalkyl, etc.; R3 is H, a 1-6C (halo)alkyl, etc.; Q is a group of formula II [X is H, Cl or F; A<1> is 0, S, etc.; R4 is a 1-6C (halo)alkyl, a 3-6C (halo)alkenyl, etc.], formula III {Y is Cl, F, Br, NO2 or CN; B is CO2R7 [R7 is H, a 1-10C (halo)alkyl, etc.}, etc.], e.g., a compound of formula IV. The compound of formula I is usually obtained by reacting a compound of the formula Q-NHC(=S)NH-R1 with a compound of the formula D1CH(R3)C(=O)R2 (D1 is Cl, Br or I) in a solvent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の目的】本発明は、イミノチアゾリン誘導体およ
びそれを有効成分とする除草剤に関する。OBJECT OF THE INVENTION The present invention relates to an iminothiazoline derivative and a herbicide containing the same as an active ingredient.

【発明の構成】本発明者等は、優れた除草剤を開発すべ
く種々検討した結果、下記一般式 化５で示されるイミ
ノチアゾリン誘導体が優れた除草効力を有することを見
い出し、本発明に至った。As a result of various studies to develop an excellent herbicide, the present inventors have found that the iminothiazoline derivative represented by the following general formula 5 has an excellent herbicidal effect, and completed the present invention. It was

【０００２】すなわち、本発明は、一般式 化５That is, the present invention has the general formula

【化５】 〔式中、（以下、“（ハロ）”とあるは、“ハロゲン原
子で置換されていてもよい”を意味する。）Ｒ1 はＣ1
〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルケ
ニル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基、Ｃ3 〜Ｃ7
（ハロ）シクロアルキル基、Ｃ3 〜Ｃ7 シクロアルキル
Ｃ1 〜Ｃ3 アルキル基、シアノＣ1 〜Ｃ3アルキル基ま
たはＣ1 〜Ｃ5 （ハロ）アルコキシＣ1 〜Ｃ5 （ハロ）
アルキル基を示し、Ｒ2 はＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル
基、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）シクロアルキル基、Ｃ7 〜Ｃ17
アラルキル基（該アラルキル基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）ア
ルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシ基もしくはハ
ロゲンで置換されていてもよい）、アリール基（該アリ
ール基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ
3 （ハロ）アルコキシ基もしくはハロゲンで置換されて
いてもよい）、ＣＨＯ、ＣＯ2 Ｒ 7 、ＣＯＮＲ8 Ｒ9 ま
たはシアノ基を示し、Ｒ3 は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 （ハ
ロ）アルキル基またはＣＯ2 Ｒ6 を示し、[Chemical 5][In the formula, (hereinafter, "(halo)" means "halogen source"
Means "optionally substituted by children." R1Is C1
~ C6(Halo) alkyl group, C3~ C6(Halo) Arche
Nyl group, C3~ C6(Halo) alkynyl group, C3~ C7
(Halo) cycloalkyl group, C3~ C7Cycloalkyl
C1~ C3Alkyl group, cyano C1~ C3Alkyl group
Or C1~ CFive(Halo) alkoxy C1~ CFive(Halo)
Represents an alkyl group, R2Is C1~ C6(Halo) alkyl
Base, C3~ C7(Halo) cycloalkyl group, C7~ C17
Aralkyl group (wherein the aralkyl group is C1~ C3(Halo) a
Rukiru group, C1~ C3(Halo) alkoxy group or ha
Optionally substituted with a rogen), an aryl group (wherein
Group is C1~ C3(Halo) alkyl group, C1~ C
3Substituted with a (halo) alkoxy group or halogen
), CHO, CO2R 7, CONR8R9Well
Or cyano group, R3Is a hydrogen atom, C1~ C6(C
B) Alkyl group or CO2R6Indicates

【０００３】Ｑ−は一般式 化６Q- is a general formula 6

【化６】 で示される基を示し、Ｘは水素原子、塩素原子またはフ
ッ素原子を示し、Ｙは塩素原子、フッ素原子、臭素原
子、ニトロ基またはシアノ基を示し、Ａ1 は酸素原子、
硫黄原子、ＣＨ2 基またはＮＨ基を示し、Ａ2 は酸素原
子または硫黄原子を示し、Ｒ4 はＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）ア
ルキル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルケニル基、Ｃ 3 〜Ｃ
6 （ハロ）アルキニル基、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）シクロア
ルキル基、シアノＣ1 〜Ｃ3 アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ
3 （ハロ）アルコキシＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基、
（Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル）カルボニル基、（Ｃ1
〜Ｃ6 アルコキシ）カルボニル基、水素原子、または、
一般式 化７[Chemical 6]X represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a fluorine atom.
Represents a fluorine atom, Y is a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom
Child, nitro group or cyano group,1Is an oxygen atom,
Sulfur atom, CH2Group or NH group,2Is oxygen source
Child or sulfur atom, RFourIs C1~ C6(Halo) a
Rukiru group, C3~ C6(Halo) alkenyl group, C 3~ C
6(Halo) alkynyl group, C3~ C7(Halo) cycloa
Rualkyl group, cyano C1~ C3Alkyl group, C1~ C
3(Halo) alkoxy C1~ C3(Halo) alkyl group,
(C1~ C6(Halo) alkyl) carbonyl group, (C1
~ C6Alkoxy) carbonyl group, hydrogen atom, or
General formula

【化７】 で示される基を表わし、Ｒ5 は水素原子、ＣＨ2 Ｏ
Ｒ4 、ＣＯ2 Ｒ7 またはＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基
を示し、Ｒ6 は水素原子またはＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アル
キル基を示し、ＢはＣＯ2 Ｒ7 、ＣＲ6 ＝ＮＯＲ4 、Ｃ
Ｈ＝Ｃ（Ｒ6 ）ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＨＸ1ＣＨＸ2 ＣＯ2 Ｒ
7 、ニトロ基、シアノ基、ＳＲ4 、ＯＲ4 、ＮＨＲ4 、
ＮＨＳＯ2 Ｒ10、ＣＯＲ6 、ＳＯ2 ＯＲ4 、ＳＯ2 Ｃｌ
またはテトラヒドロフタルイミド基を示し、Ｘ1 および
Ｘ2 は同一または相異なり、水素原子、塩素原子または
臭素原子を示し、Ｒ7 は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ10（ハロ）
アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）シクロアルキル基、Ｃ
3 〜Ｃ7 シクロアルケニル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アル
ケニル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基、シアノＣ
1 〜Ｃ3 アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3アルコキシＣ1 〜Ｃ3
アルキル基、（Ｃ1 〜Ｃ5 （ハロ）アルコキシ）カルボ
ニルＣ1 〜Ｃ3 アルキル基、Ｎ＝ＣＲ6 Ｒ6 、ＮＲ6 Ｒ
6 、アリール基（該アリール基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）ア
ルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシ基もしくはハ
ロゲン原子で置換されていてもよい）、ベンジル基、ま
たは、一般式 化８[Chemical 7] Represents a group represented by, R 5 is a hydrogen atom, CH 2 O
R 4, CO 2 R 7 or indicates C 1 -C 6 (halo) alkyl group, R 6 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 3 (halo) alkyl group, B is CO 2 R 7, CR 6 = NOR 4 , C
H = C (R 6 ) CO 2 R 7 , CHX 1 CHX 2 CO 2 R
7 , nitro group, cyano group, SR 4 , OR 4 , NHR 4 ,
NHSO 2 R 10 , COR 6 , SO 2 OR 4 , SO 2 Cl
Or a tetrahydrophthalimide group, X 1 and X 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom, R 7 is a hydrogen atom, C 1 -C 10 (halo)
Alkyl group, C 3 -C 7 (halo) cycloalkyl group, C
3 to C 7 cycloalkenyl group, C 3 to C 6 (halo) alkenyl group, C 3 to C 6 (halo) alkynyl group, cyano C
1 -C 3 alkyl group, C 1 -C 3 alkoxy C 1 -C 3
Alkyl group, (C 1 ~C 5 (halo) alkoxy) carbonyl C 1 -C 3 alkyl group, N = CR 6 R 6, NR 6 R
6 , an aryl group (the aryl group may be substituted with a C 1 to C 3 (halo) alkyl group, a C 1 to C 3 (halo) alkoxy group or a halogen atom), a benzyl group, or a general formula 8

【化８】 で示される基を示し、Ｒ8 およびＲ9 は同一または相異
なり、水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3
〜Ｃ6 （ハロ）アルケニル基またはＣ3 〜Ｃ6 （ハロ）
アルキニル基を示し、Ｒ10はＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキ
ル基、Ｃ3 〜Ｃ8 シクロ（ハロ）アルキル基またはアリ
ール基（該アリール基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル
基、Ｃ1 〜Ｃ3（ハロ）アルコキシ基もしくはハロゲン
原子で置換されていてもよい）を示し、ｎは１〜５の整
数を示す。〕で示されるイミノチアゾリン誘導体（以
下、本発明化合物と記す。）およびそれを有効成分とし
て含有することを特徴とする除草剤を提供する。[Chemical 8] Wherein R 8 and R 9 are the same or different and are a hydrogen atom, a C 1 -C 6 (halo) alkyl group, C 3
To C 6 (halo) alkenyl group or C 3 to C 6 (halo)
An alkynyl group, R 10 is a C 1 -C 6 (halo) alkyl group, a C 3 -C 8 cyclo (halo) alkyl group or an aryl group (the aryl group is a C 1 -C 3 (halo) alkyl group, C 1 to C 3 (halo) alkoxy group or may be substituted with a halogen atom), and n represents an integer of 1 to 5. ] An iminothiazoline derivative represented by the following (hereinafter referred to as the compound of the present invention) and a herbicide containing the same as an active ingredient.

【０００４】本発明化合物において、除草活性の点から
好ましい置換基の１つとして、Ｒ2についてはハロゲン
原子で置換されたＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、ＣＯ2 Ｒ7 、
ＣＯＮＲ8 Ｒ9 またはシアノ基があげられ、特にハロゲ
ン原子で置換されたＣ1 〜Ｃ 3 アルキル基（トリフルオ
ロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基またはペンタフルオロエチル基等）があげられ、
Ｒ1 についてはＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基があげら
れ、特にＣ1 〜Ｃ3 アルキル基（メチル基等）があげら
れ、Ｒ3 については水素原子またはＣＯ2 Ｒ6 があげら
れ、特に水素原子があげられ、ＱについてはＱ−１、Ｑ
−２またはＱ−５があげられる。本発明化合物には不斉
炭素に由来する光学異性体が存在する場合があるが、こ
れらの光学異性体もすべて本発明に含まれることはもち
ろんのことである。From the viewpoint of herbicidal activity of the compound of the present invention
One of the preferred substituents is R2About halogen
C substituted with an atom1~ C6Alkyl group, CO2R7,
CONR8R9Or a cyano group, especially halogen
C substituted with a nitrogen atom1~ C 3Alkyl group (trifluor
Romethyl group, chlorodifluoromethyl group, difluorome
A chill group or a pentafluoroethyl group),
R1For C1~ C6(Halo) alkyl group
Especially C1~ C3Examples include alkyl groups (methyl groups, etc.)
R3For hydrogen atom or CO2R6Give
And particularly hydrogen atom, Q is Q-1, Q
-2 or Q-5. Asymmetric to the compound of the present invention
There may be optical isomers derived from carbon.
All of these optical isomers are also included in the present invention.
Many things.

【０００５】本発明化合物において、Ｒ1 で示される，
Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、 s
ec−ブチル基、ジフルオロメチル基、２−フルオロエチ
ル基、３−フルオロプロピル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ
6 （ハロ）アルケニル基としては、例えば、アリル基、
２−クロロ−２−プロペニル基、１−メチル−２−プロ
ペニル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル
基としては、例えば、プロパルギル基、３−ヨード−２
−プロピニル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）シク
ロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、Ｃ3
〜Ｃ7 シクロアルキルＣ1 〜Ｃ3 アルキル基としては、
例えば、シクロプロピルメチル基等があげられ、シアノ
Ｃ1 〜Ｃ3 アルキル基としては、例えば、シアノメチル
基、２−シアノエチル基等があげられ、Ｃ1 〜Ｃ5 （ハ
ロ）アルコキシＣ1 〜Ｃ5 （ハロ）アルキル基として
は、例えば、メトキシメチル基等があげられる。Ｒ2 で
示される、Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブ
チル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチ
ル基、ジルフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル
基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル
基、２−クロロ−１，１−ジメチルエチル基、２−ブロ
モ−１，１−ジメチルエチル基、１，１，２，２−テト
ラフルオロエチル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル
基、２−クロロシクロプロピル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基等があげられ、Ｃ7 〜Ｃ17アラルキル
基（例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，
α−ジメチルベンジル基等）（該アラルキル基はＣ1 〜
Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい）の
置換基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素
原子、メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロ
メトキシ基等があげられ、アリール基（例えば、フェニ
ル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基等）（該アリー
ル基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハ
ロ）アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換されてい
てもよい）の置換基としては、例えば、塩素原子、臭素
原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基等があげられ、ＣＯ2 Ｒ7 基と
しては、例えばカルボキシル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等があげられ、ＣＯＮＲ8 Ｒ
9 基としては、例えばカルバモイル基、Ｎ−メチルカル
バモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基等があげ
られる。Ｒ3 で示される、Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル
基としては、例えば、メチル基があげられ、ＣＯ2 Ｒ6
としては、例えばエトキシカルボニル基、メトキシカル
ボニル基等があげられる。In the compound of the present invention, represented by R 1 ,
Examples of the C 1 -C 6 (halo) alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, s
ec-butyl group, difluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-fluoropropyl group and the like, and C 3 -C
Examples of the 6 (halo) alkenyl group include an allyl group and
Examples thereof include 2-chloro-2-propenyl group and 1-methyl-2-propenyl group. Examples of the C 3 -C 6 (halo) alkynyl group include propargyl group and 3-iodo-2 group.
- propynyl group and the like, as the C 3 -C 7 (halo) cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and the like, C 3
To C 7 cycloalkyl C 1 to C 3 alkyl group,
Examples thereof include a cyclopropylmethyl group and the like, and examples of the cyano C 1 -C 3 alkyl group include a cyanomethyl group, a 2-cyanoethyl group, etc., and a C 1 -C 5 (halo) alkoxy C 1 -C 5 group. Examples of the (halo) alkyl group include a methoxymethyl group and the like. As the C 1 -C 6 (halo) alkyl group represented by R 2 , for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a trifluoromethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a difluoromethyl group, Pentafluoroethyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloro-1,1-dimethylethyl group, 2-bromo-1,1-dimethylethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoro Examples thereof include ethyl group, C 3 to C 7 (halo)
Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a 2-chlorocyclopropyl group, a cyclopentyl group,
Examples thereof include a cyclohexyl group, a C 7 to C 17 aralkyl group (eg, benzyl group, α-methylbenzyl group, α,
α-dimethylbenzyl group etc.) (wherein the aralkyl group is C 1- ).
Examples of the substituent of C 3 (halo) alkyl group, C 1 -C 3 (halo) alkoxy group or halogen atom) include, for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, methyl group and tri group. Examples thereof include a fluoromethyl group and a trifluoromethoxy group, and an aryl group (for example, a phenyl group, an α-naphthyl group, a β-naphthyl group and the like) (the aryl group is a C 1 to C 3 (halo) alkyl group, C 1 To C 3 (halo) alkoxy group or optionally substituted with a halogen atom) include, for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, methyl group, trifluoromethyl group,
Mentioned a trifluoromethoxy group and the like, as the CO 2 R 7 group, for example a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and the like, CONR 8 R
Examples of the 9 group include a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group and an N, N-dimethylcarbamoyl group. Examples of the C 1 -C 6 (halo) alkyl group represented by R 3 include a methyl group and CO 2 R 6
Examples thereof include an ethoxycarbonyl group and a methoxycarbonyl group.

【０００６】Ｒ4 で示される、Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アル
キル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、 sec−ブチ
ル基、イソブチル基、ｎ−アミル基、イソアミル基、２
−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、３
−フルオロプロピル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハ
ロ）アルケニル基としては、例えば、アリル基、２−ク
ロロ−２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル
基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３，３−ジクロ
ロ−２−プロペニル基、３−メチル−２−ブテニル基、
２−メチル−３−ブテニル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ6
（ハロ）アルキニル基としては、例えば、プロパルギル
基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、
１，１−ジメチル−２−プロピニル基、３−ヨード−２
−プロピニル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）シク
ロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、シア
ノＣ1 〜Ｃ3 アルキル基としては、例えば、シアノメチ
ル基、１−シアノエチル基、２−シアノエチル基等があ
げられ、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシＣ1 〜Ｃ3 （ハ
ロ）アルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、
エトキシメチル基、イソプロピルオキシメチル基、１−
メトキシエチル基等があげられ、（Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）
アルキル）カルボニル基としては、例えば、アセチル
基、プロパノイル基、トリフルオロアセチル基、クロロ
アセチル基、２−メチルプロパノイル基、ジクロロアセ
チル基等があげられる。（Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ）カル
ボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基等があげられる。The C 1 -C 6 (halo) alkyl group represented by R 4 includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group. , N-amyl group, isoamyl group, 2
-Fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 3
—Fluoropropyl group and the like, and examples of the C 3 -C 6 (halo) alkenyl group include allyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 2-butenyl group, 3,3-dichloro-2-propenyl group, 3-methyl-2-butenyl group,
Examples thereof include 2-methyl-3-butenyl group, and C 3 to C 6
Examples of the (halo) alkynyl group include a propargyl group, a 1-methyl-2-propynyl group, a 2-butynyl group,
1,1-dimethyl-2-propynyl group, 3-iodo-2
-Propynyl group and the like, examples of C 3 -C 7 (halo) cycloalkyl group include cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like, and examples of cyano C 1 -C 3 alkyl group include , A cyanomethyl group, a 1-cyanoethyl group, a 2-cyanoethyl group, and the like. Examples of the C 1 -C 3 (halo) alkoxy C 1 -C 3 (halo) alkyl group include a methoxymethyl group,
Ethoxymethyl group, isopropyloxymethyl group, 1-
Methoxyethyl group and the like, (C 1 to C 6 (halo)
Examples of the alkyl) carbonyl group include an acetyl group, a propanoyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a 2-methylpropanoyl group and a dichloroacetyl group. Examples of the (C 1 -C 6 alkoxy) carbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group.

【０００７】Ｒ5 で示される，Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アル
キル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ジブロモメチル基、ブロモメチル基等があげ
られる。Ｒ6 で示される，Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、ジブロモメチル基、ブロモメチル基等があげられ
る。Ｒ7 で示される、Ｃ1 〜Ｃ10（ハロ）アルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、 sec−ブチル基、
tert−ブチル基、ｎ−アミル基、イソアミル基、tert−
アミル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２
−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、３−フ
ルオロプロピル基、２−クロロエチル基、３−クロロプ
ロピル基、２，３−ジクロロプロピル基、２−フルオロ
−１−（フルオロメチル）エチル基、10−クロロデシル
基、８−クロロオクチル基、２−ブロモエチル基、２−
クロロ−１−メチルエチル基、７−ブロモヘプチル基、
８−ブロモオクチル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハ
ロ）シクロアルキル基としては、例えば、シクロロプロ
ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−フ
ルオロシクロヘキシル基、３，３，４，４−テトラフル
オロシクロペンチル基、２，２−ジフルオロシクロプロ
ピル基、２，２−ジクロロシクロプロピル基等があげら
れ、Ｃ3 〜Ｃ7 シクロアルケニル基としては、例えば、
２−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、２
−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基等があ
げられ、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルケニル基としては、例
えば、アリル基、２−クロロ−２−プロペニル基、１−
メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテ
ニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３−メ
チル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基等
があげられ、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基として
は、例えば、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピ
ニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロ
ピニル基、３−ブチニル基、３−ヨード−２−プロピニ
ル基等があげられ、シアノＣ1 〜Ｃ3 アルキル基として
は、例えば、シアノメチル基、１−シアノエチル基、２
−シアノエチル基等があげられ、Ｃ1 〜Ｃ3 アルコキシ
Ｃ1 〜Ｃ3 アルキル基としては、例えば、メトキシメチ
ル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプ
ロピルオキシメチル基、１−メトキシエチル基、２−メ
トキシエチル基、３−メトキシプロピル基等があげら
れ、（Ｃ1 〜Ｃ5 （ハロ）アルコキシ）カルボニルＣ1
〜Ｃ3 アルキル基としては、例えば、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−ブチル
オキシカルボニルメチル基、２−（エトキシカルボニ
ル）エチル基、１−（メトキシカルボニル）エチル基、
１−（エトキシカルボニル）エチル基、１−（プロポキ
シカルボニル）エチル基、１−（２−クロロエチルオキ
シカルボニル）エチル基等があげられる。アリール基
（例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル
基等）（該アリール基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル
基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシ基もしくはハロゲン
原子で置換されていてもよい）の置換基としては、例え
ば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、メチル基、トリ
フルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基等があげら
れる。Examples of the C 1 -C 6 (halo) alkyl group represented by R 5 include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a dibromomethyl group and a bromomethyl group. Examples of the C 1 -C 3 (halo) alkyl group represented by R 6 include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a dibromomethyl group and a bromomethyl group. Examples of the C 1 -C 10 (halo) alkyl group represented by R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group,
tert-butyl group, n-amyl group, isoamyl group, tert-
Amyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2
-Difluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 2,3-dichloropropyl group, 2-fluoro-1- (fluoromethyl) ethyl group, 10 -Chlorodecyl group, 8-chlorooctyl group, 2-bromoethyl group, 2-
Chloro-1-methylethyl group, 7-bromoheptyl group,
8-bromooctyl group and the like, and examples of the C 3 -C 7 (halo) cycloalkyl group include a cycloropropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 4-fluorocyclohexyl group, 3,3,4,4. - tetrafluoro cyclopentyl group, 2,2-difluoro-cyclopropyl group, 2,2-dichloro-cyclopropyl group and the like, as the C 3 -C 7 cycloalkenyl group, for example,
2-cyclopentenyl group, 3-cyclopentenyl group, 2
-Cyclohexenyl group, 3-cyclohexenyl group and the like, and examples of the C 3 -C 6 (halo) alkenyl group include allyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 1-
Methyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 2-butenyl group, 3,3-dichloro-2-propenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 2-methyl-3-butenyl group and the like, Examples of the C 3 to C 6 (halo) alkynyl group include a propargyl group, a 1-methyl-2-propynyl group, a 2-butynyl group, a 1,1-dimethyl-2-propynyl group, a 3-butynyl group and a 3-butynyl group. Examples thereof include an iodo-2-propynyl group, and examples of the cyano C 1 -C 3 alkyl group include a cyanomethyl group, a 1-cyanoethyl group, and 2
—Cyanoethyl group and the like, and examples of C 1 -C 3 alkoxy C 1 -C 3 alkyl group include methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, isopropyloxymethyl group, 1-methoxyethyl group, 2 -Methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group and the like, and (C 1 -C 5 (halo) alkoxy) carbonyl C 1
As the -C 3 alkyl group, for example, a methoxycarbonylmethyl group, an ethoxycarbonylmethyl group, an n-butyloxycarbonylmethyl group, a 2- (ethoxycarbonyl) ethyl group, a 1- (methoxycarbonyl) ethyl group,
Examples thereof include a 1- (ethoxycarbonyl) ethyl group, a 1- (propoxycarbonyl) ethyl group, a 1- (2-chloroethyloxycarbonyl) ethyl group and the like. Aryl group (for example, phenyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, etc.) (wherein the aryl group is substituted with a C 1 to C 3 (halo) alkyl group, a C 1 to C 3 (halo) alkoxy group or a halogen atom. Examples of the substituent (which may be present) include a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group and the like.

【０００８】Ｒ8 およびＲ9 で示される，Ｃ1 〜Ｃ
6 （ハロ）アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、 sec−ブチ
ル基、ジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、３
−フルオロプロピル基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハ
ロ）アルケニル基としては、例えば、アリル基、２−ク
ロロ−２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル
基等があげられ、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基とし
ては、例えば、プロパルギル基、３−ヨード−２−プロ
ピニル基等があげられる。Ｒ10で示される、Ｃ1 〜Ｃ6
（ハロ）アルキル基としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロ
エチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロ
ロエチル基、３−クロロプロピル基等があげられ、Ｃ3
〜Ｃ8 （ハロ）シクロアルキル基としては、例えば、シ
クロプロピル基、２−クロロシクロプロピル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が
あげられ、アリール基（例えば、フェニル基、α−ナフ
チル基、β−ナフチル基等）（該アリール基はＣ1 〜Ｃ
3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシ
基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい）の置
換基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原
子、メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメ
トキシ基等があげられる。C 1 -C represented by R 8 and R 9
6 (halo) alkyl groups include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, sec-butyl group, difluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 3
-Fluoropropyl group and the like, and examples of the C 3 -C 6 (halo) alkenyl group include allyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group and the like, and the 3 -C 6 (halo) alkynyl group, for example, propargyl, 3-iodo-2-propynyl group and the like. C 1 to C 6 represented by R 10.
Examples of the (halo) alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a chloromethyl group, and a bromomethyl group. Group, 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group and the like, and C 3
As C 8 (halo) cycloalkyl group, for example, cyclopropyl group, 2-chlorocyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and the like can be mentioned, and aryl group (eg, phenyl group, α-naphthyl group). Group, β-naphthyl group, etc. (the aryl group is C 1 to C
Examples of the substituent of 3 (halo) alkyl group, C 1 -C 3 (halo) alkoxy group or optionally substituted by halogen atom) include chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, methyl group and trifluoro group. Examples thereof include a methyl group and a trifluoromethoxy group.

【０００９】本発明化合物は、例えば、下記の製造法に
より製造することができる。本発明化合物は、一般式
化９The compound of the present invention can be produced, for example, by the following production method. The compound of the present invention has the general formula
Conversion 9

【化９】Ｑ−ＮＨＣ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ1 〔式中、ＱおよびＲ1 は前記と同じ意味を表わす。〕で
示されるチオウレア誘導体と、一般式 化１０[Image Omitted] Q-NHC (= S) NH-R 1 [In the formula, Q and R 1 have the same meanings as described above. ] And a thiourea derivative represented by the general formula:

【化１０】Ｄ1 ＣＨ（Ｒ3 ）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ2 〔式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記と同じ意味を表わし、Ｄ
1 は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。〕
で示されるケトン誘導体とを反応させることによって製
造することができる。この反応は、通常、溶媒中で行
い、反応温度の範囲は、通常、０〜２００℃、反応時間
の範囲は、通常、瞬時〜４８時間であり、反応に供され
る試剤の量は、式 化９のチオウレア誘導体１モルに対
して式 化１０のケトン誘導体は、通常、 1〜5 モルの
割合である。使用し得る溶媒としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジエチ
レングリコール、グリセリン等のアルコール類、蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエス
テル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化
物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル
類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）、アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン等の硫黄化合物、水等あるいは、そ
れらの混合物があげられる。この反応においては、必要
に応じ、脱ハロゲン化水素剤を式 化９のチオウレア１
モルに対し、触媒量〜過剰量の割合用いることもでき、
使用し得る脱ハロゲン化水素剤としては、酢酸ナトリウ
ム等があげらる。反応終了後の反応液は、水に注加して
飽和重曹水を加えて、有機溶媒抽出および濃縮または、
そのまま反応溶媒を濃縮する等の通常の後処理を行い、
必要ならば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によ
ってさらに精製することにより、目的の本発明化合物を
得ることができる。Embedded image D 1 CH (R 3 ) C (═O) R 2 [wherein R 2 and R 3 have the same meanings as described above, and
1 represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. ]
It can be produced by reacting a ketone derivative represented by This reaction is usually carried out in a solvent, the reaction temperature range is usually 0 to 200 ° C., the reaction time range is usually instantaneous to 48 hours, and the amount of the reagent to be used in the reaction is represented by the formula: The amount of the ketone derivative of the formula 10 is usually 1 to 5 mol per 1 mol of the thiourea derivative of the formula 9. Examples of usable solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene. Halogenated hydrocarbons such as, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropanol, t-butanol , Octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve, alcohols such as diethylene glycol, glycerin, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, Esters such as diethyl, nitroethane, nitro product of nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, formamide, N, N-dimethylformamide (D
MF), acid amides such as acetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water and the like, or a mixture thereof. In this reaction, if necessary, a dehydrohalogenating agent may be added to the thiourea 1 of the formula 9
It is also possible to use a ratio of catalyst amount to excess amount with respect to mol,
Examples of the dehydrohalogenating agent that can be used include sodium acetate and the like. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate is added, followed by extraction with an organic solvent and concentration, or
Perform normal post-treatment such as concentrating the reaction solvent as it is,
If necessary, the desired compound of the present invention can be obtained by further purification by operations such as chromatography and recrystallization.

【００１０】本発明化合物は、前記の反応を段階的に行
うことによっても、即ち、一般式化９で示されるチオウ
レア誘導体と、一般式 化１０で示されるケトン誘導体
とを反応させて、一般式 化１１The compound of the present invention can also be obtained by carrying out the above reaction stepwise, that is, by reacting the thiourea derivative represented by the general formula 9 with the ketone derivative represented by the general formula 10. Chemical 11

【化１１】 で示される化合物を得た（以下、反応１と記す。）の
ち、該化合物を脱水する（以下、反応２と記す。）こと
によっても得ることができる。反応１は、通常、溶媒中
で行い、反応温度の範囲は、通常、０〜１５０℃、反応
時間の範囲は、通常、瞬時〜２４時間であり、反応に供
される試剤の量は、一般式 化９のチオウレア誘導体１
モルに対して一般式 化１０のケトン誘導体は、通常、
1〜5 モルの割合である。使用し得る溶媒としては、ヘ
キサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪
族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジエチ
レングリコール、グリセリン等のアルコール類、ギ酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエス
テル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル
類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ア
セトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン等の硫黄化合物等、あるいはそれらの混合物が
あげられる。反応１には、必要に応じて脱ハロゲン化水
素剤を式 化９のチオウレア１モルに対し、触媒量〜過
剰量の割合加えてもよい。脱ハロゲン化水素剤として
は、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン、酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム等の有機塩
基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基があげられる。反応終了
後、反応液は必要に応じて水に注加し、有機溶媒抽出お
よび濃縮等の通常の後処理を行い、一般式 化１１で示
される化合物を単離するか、あるいは単離せずに反応２
に用いることができる。反応２は無溶媒または溶媒中、
通常、酸の存在下で行い、反応温度の範囲は、通常、０
〜２００℃、反応時間の範囲は、通常、瞬時〜４８時間
であり、反応に供される酸の量は、一般式 化９のチオ
ウレア誘導体１モルに対して触媒量〜過剰量の割合、例
えば0.001 〜100 モルの割合である。用いられる溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化物、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ア
セトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があ
げられる。また、下記等の酸を溶媒として用いることも
できる。用いられる酸としては、ｐ−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等のスルホン酸類、硫酸、塩酸等の鉱酸などがあげられ
る。反応終了後、反応液は必要に応じ水に注加し、有機
溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要なら
ばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに
精製することにより、目的の本発明化合物を得ることが
できる。[Chemical 11] It can also be obtained by obtaining a compound represented by (hereinafter referred to as reaction 1) and then dehydrating the compound (hereinafter referred to as reaction 2). Reaction 1 is usually carried out in a solvent, the reaction temperature range is usually 0 to 150 ° C., the reaction time range is usually from instant to 24 hours, and the amount of reagents to be subjected to the reaction is generally Thiourea Derivative 1 of Formula 9
The ketone derivative of the general formula 10 is usually
It is a ratio of 1 to 5 mol. Examples of the solvent that can be used include hexane, heptane, ligroin, petroleum ether and other aliphatic hydrocarbons, benzene, toluene, xylene and other aromatic hydrocarbons, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like. Halogenated hydrocarbons, diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and other ethers, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone and other ketones, methanol, ethanol, isopropanol, t-butanol, Alcohols such as octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve, diethylene glycol, glycerin, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate , Nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, acid amides such as formamide, N, N-dimethylformamide and acetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, and the like, Alternatively, a mixture thereof can be used. In the reaction 1, if necessary, a dehydrohalogenating agent may be added in a ratio of a catalytic amount to an excess amount with respect to 1 mol of the thiourea of the formula 9. Examples of the dehydrohalogenating agent include organic bases such as pyridine, triethylamine, N, N-diethylaniline, sodium acetate and sodium formate, and inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water as necessary and subjected to usual post-treatments such as extraction with an organic solvent and concentration to isolate the compound represented by the general formula 11 or without isolation. Reaction 2
Can be used for. Reaction 2 is solvent-free or in a solvent,
Usually, it is carried out in the presence of an acid, and the reaction temperature range is usually 0.
The reaction time is usually from an instant to 48 hours, and the amount of the acid used in the reaction is a catalytic amount to an excess amount, for example, 1 mol of the thiourea derivative represented by the general formula (9). It is a ratio of 0.001 to 100 mol. As the solvent used, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, chloroform, carbon tetrachloride,
Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and diethylene glycol dimethyl ether,
Nitrides such as nitroethane and nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, acid amides such as formamide, N, N-dimethylformamide (DMF) and acetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, or their compounds. A mixture can be given. Also, the following acids can be used as a solvent. Examples of the acid used include sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, and mineral acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water as necessary, subjected to usual post-treatments such as organic solvent extraction and concentration, and if necessary, further purified by operations such as chromatography and recrystallization to obtain The compound of the present invention can be obtained.

【００１１】本発明化合物のうち、一般式 化１２Among the compounds of the present invention, a compound represented by the general formula:

【化１２】 〔式中、Ｚ1 はＲ4 またはＳＯ2 Ｒ10を表わし、Ｘ、
Ｙ、Ｒ1 〜Ｒ4 およびＲ10は、前記と同じ意味を表わ
す。〕で示される化合物は、以下の製造ルート化１３ま
たは製造ルート化１４によっても製造することができ
る。[Chemical 12] [In the formula, Z 1 represents R 4 or SO 2 R 10 , X,
Y, R 1 to R 4 and R 10 have the same meanings as described above. The compound represented by the above can also be produced by the following production route 13 or production route 14.

【化１３】 以下、化１３の各反応工程、およびについて説明
する。 例えば、硫酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、クロロ
ホルム、エチレンジクロライド等のハロゲン系有機溶媒
あるいはそれらと水の混合液中、硝酸等のニトロ化剤で
ニトロ化する。 例えば、酢酸等の有機酸、塩酸等の無機酸、クロロ
ホルム、エチレンジクロライド等のハロゲン系溶媒、酢
酸エチル等のエステル系溶媒、メタノール、エタノール
等のアルコール類、あるいはそれらと水の混合液中で、
鉄粉、スズ粉等の金属粉を用い、還元するか、または、
酢酸エチル、炭酸ジエチル等のエステル類、テトラヒド
ロフラン、１，４−ジオキサン酸等のエーテル類、メタ
ノール、エタノール等のアルコール類もしくはそれらの
混合溶媒中、水素雰囲気下において、パラジウム−炭
素、白金−炭素等の触媒を用いることにより還元する。 Ｚ1 がＳＯ2 Ｒ10基を示す場合は、例えば、ピリジ
ン等の有機塩基を溶媒とするか、またはクロロホルム、
ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系炭化水
素類、ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロ化合物、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物中で、ピリ
ジン、トリエチルアミン等の有機塩基、水酸化ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基を塩
基として用い、Ｄ1 −ＳＯ2 Ｒ10（式中、Ｄ1 およびＲ
10は前記と同じ意味を表わす）と反応させる。又、Ｚ1
がＨ、ＳＯ2 Ｒ10以外の場合は、例えば、Ｄ2 −Ｚ
1 〔式中、Ｄ2 は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、Ｃ
1 〜Ｃ4 アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタン
スルホニルオキシ基等）、置換されていてもよい（置換
基としてはＣ1 〜Ｃ4 アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ4 アルコキ
シ基、ハロゲン原子等が挙げられる）ベンゼンスルホニ
ルオキシ基（例えば、ｐ−トルエンスルホニルオキシ
基、ベンゼンスルホニルオキシ基等）を表わす。〕と無
溶媒でそのまま加熱するか、または、上記溶媒および塩
基を用いて加熱し、脱ハロゲン化水素反応を行う。（Ｚ
1 が（Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル）カルボニル基の場
合、酸無水物をＤ2 −Ｚ 1 のかわりに用い、酢酸等の有
機酸等の中で反応させてもよい）[Chemical 13]Hereinafter, each reaction step of Chemical formula 13 and will be described.
To do. For example, inorganic acids such as sulfuric acid, organic acids such as acetic acid, chloro
Halogen-based organic solvents such as form and ethylene dichloride
Alternatively, use a nitrating agent such as nitric acid in a mixture of water with them.
Nitrate. For example, organic acids such as acetic acid, inorganic acids such as hydrochloric acid, chloro
Halogen-based solvents such as form and ethylene dichloride, vinegar
Ester solvents such as ethyl acid, methanol, ethanol
In alcohols such as
Reduce with metal powder such as iron powder, tin powder, or
Esters such as ethyl acetate and diethyl carbonate, tetrahydride
Rofuran, ethers such as 1,4-dioxanic acid, meta
Alcohols such as knoll and ethanol or their
In a mixed solvent under a hydrogen atmosphere, palladium-carbon
Reduction is carried out by using a catalyst such as elemental or platinum-carbon. Z1Is SO2RTenWhen a group is shown, for example, pyridi
Or an organic base such as chloroform, or chloroform,
Halogenated hydrocarbon water such as dichloroethane and chlorobenzene
Nitro compounds such as elementary substances, nitromethane, nitroethane,
Acid amides such as N, N-dimethylformamide, dimethy
In sulfur compounds such as ru sulfoxide and sulfolane,
Organic bases such as gin and triethylamine, sodium hydroxide
Salts with inorganic bases such as aluminum, potassium carbonate and sodium hydride.
Used as a group, D1-SO2RTen(In the formula, D1And R
TenHas the same meaning as above). Also Z1
Is H, SO2RTenOtherwise, for example, D2-Z
1[In the formula, D2Is chlorine atom, bromine atom, iodine atom, C
1~ CFourAlkylsulfonyloxy groups (eg methane
Sulfonyloxy group, etc.), which may be substituted (substitution
C as a group1~ CFourAlkyl group, C1~ CFourArcoki
Si group, halogen atom, etc.) Benzenesulfoni
Ruoxy group (for example, p-toluenesulfonyloxy)
Group, benzenesulfonyloxy group, etc.). ] And nothing
Heat the solvent as is, or use the solvent and salt
The group is heated and the dehydrohalogenation reaction is carried out. (Z
1Is (C1~ C3For (halo) alkyl) carbonyl groups
Acid anhydride2-Z 1Used in place of acetic acid, etc.
(May be reacted in organic acid)

【化１４】 〔式中、Ｘ、ＹおよびＲ1 〜Ｒ3 は前記と同じ意味を表
わし、（Ｐ）は環状イミド（例えば、テトラヒドロフタ
ルイミド、マレイミド等）基、またはＮＨＣＯＲ 6 基を
表わす。〕 以下、化１４の各工程〜’について説明する。 製造ルート化１３に記載のと同様の意味を表わ
す。 製造ルート化１３に記載のと同様の意味を表わ
す。 ’第２０段落の最初の５行に記載の方法と同様の意味
を表わす。 ’第１９段落に記載の方法と同様の意味を表わす。 ’第９段落または第１０段落に記載の方法と同様の意
味を表わす。 ’例えば、原料化合物をメタノール、エタノール等の
アルコール系溶媒に溶解し、ＮａＯＨ、ＫＯＨ等の無機
塩基水溶液（通常1.０当量〜大過剰量）で処理する（必
要ならば加熱し）か、または、抱水ヒドラジン（通常1.
０当量〜大過剰量）で処理する。 製造ルート化１３に記載のと同様の意味を表す。[Chemical 14][Wherein X, Y and R1~ R3Means the same as above
(P) is a cyclic imide (eg, tetrahydrophthalate).
(Limide, maleimide, etc.) group, or NHCOR 6Base
Represent. Hereinafter, each step of Chemical formula 14 to 'will be described. Represents the same meaning as described in Manufacturing Route 13
You Represents the same meaning as described in Manufacturing Route 13
You 'Same meaning as method described in first five lines of paragraph 20
Represents The same meaning as the method described in the paragraph '19. 'Similar meaning to the method described in paragraph 9 or paragraph 10.
Represents the taste. 'For example, a raw material compound such as methanol or ethanol
Insoluble in alcoholic solvent, inorganic such as NaOH, KOH
Treat with an aqueous base solution (usually 1.0 equivalent to large excess) (necessary)
Heat if necessary) or hydrazine hydrate (usually 1.
Treat with 0 equivalent to large excess). It has the same meaning as described in the manufacturing route 13.

【００１２】本発明化合物のうち、一般式 化１５Of the compounds of the present invention, compounds of the general formula

【化１５】 〔式中、Ｘ、ＹおよびＲ1 〜Ｒ4 は、前記と同じ意味を
表わす。〕で示される化合物は以下の製造ルート化１６
によっても製造することができる。[Chemical 15] [In the formula, X, Y and R 1 to R 4 have the same meanings as described above. ] The compound represented by
Can also be manufactured by.

【化１６】 以下、化１６の各反応工程およびについて説明す
る。 例えば、硫酸、塩酸等の無機酸、塩化アルミニウム
等のルイス酸、臭化水素−酢酸溶液等を用いて脱イソプ
ロピル化する。 例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類、アセトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類、ニトロメタン、ニトロエタン等のニト
ロ化合物類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等
の硫黄化合物、水等あるいはそれらの混合物中、塩基と
して、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリ
ウム等の無機塩基、ピリジン、トリエチルアミン等の有
機塩基を用いてＤ1 −Ｚ1 を反応させる。[Chemical 16] Hereinafter, each reaction step of Chemical formula 16 will be described. For example, deisopropylation is performed using an inorganic acid such as sulfuric acid or hydrochloric acid, a Lewis acid such as aluminum chloride, a hydrogen bromide-acetic acid solution or the like. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloroethane and chlorobenzene, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, nitromethane such as nitromethane and nitroethane. Compounds, N, N-dimethylformamide (DMF)
Acid amides such as dimethyl sulfoxide, sulfur compounds such as sulfolane, water and the like or a mixture thereof, as the base, an inorganic base such as sodium hydroxide, potassium carbonate and sodium hydride, an organic base such as pyridine and triethylamine To react D 1 -Z 1 .

【００１３】本発明化合物で、一般式 化１２で示され
る化合物のうち、Ｚ1 が化７に記載の（Ｐ−１）または
（Ｐ−２）である化合物は、対応するアルコールを溶媒
とし、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸、濃硫酸等の
酸等を触媒としてエステル交換するか、または、（Ｐ−
１）、（Ｐ−２）がカルボン酸である場合には、塩化チ
オニル、ホスゲン等の塩素化剤を用い酸クロリドとし、
必要ならばピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基を
用い、対応するアルコール中で反応させることにより得
ることもできる。これと同様の操作により、本発明化合
物のうち、一般式 化１７Among the compounds represented by the general formula (12), the compounds of the present invention in which Z 1 is (P-1) or (P-2) described in the chemical formula 7 are prepared by using the corresponding alcohol as a solvent, Transesterification is carried out using an organic acid such as p-toluenesulfonic acid or the like, an acid such as concentrated sulfuric acid or the like as a catalyst, or (P-
1) When (P-2) is a carboxylic acid, it is converted to an acid chloride by using a chlorinating agent such as thionyl chloride or phosgene,
If necessary, it can be obtained by using an organic base such as pyridine or triethylamine and reacting in a corresponding alcohol. By the same operation as above, among the compounds of the present invention, a compound represented by the general formula:

【化１７】 〔式中、Ｘ、ＹおよびＲ1 〜Ｒ3 は、前記と同じ意味を
表わし、Ｚ2 はＣＯ2 Ｒ'7、−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ6 ）ＣＯ2
Ｒ'7またはＣＨＸ1 −ＣＨＸ2 ＣＯ2 Ｒ'7（ここで、
Ｒ'7は前記Ｒ7 のうち水素原子以外のものを表わす。）
を示す。〕で示される化合物を製造することもできる。[Chemical 17] [In the formula, X, Y, and R 1 to R 3 have the same meanings as described above, Z 2 is CO 2 R ′ 7 , and —CH═C (R 6 ) CO 2
R '7 or CHX 1 -CHX 2 CO 2 R' 7 ( wherein,
R '7 represents other than hydrogen atom of the R 7. )
Indicates. ] The compound shown by these can also be manufactured.

【００１４】本発明化合物のうち、一般式 化１８Among the compounds of the present invention, a compound represented by the general formula:

【化１８】 〔式中、Ｑ、Ｒ1 およびＲ3 は前記と同じ意味を表わ
し、Ｖ1 はＣＯ2 Ｈ、ＣＯＮＲ8 Ｒ9 またはシアノ基を
表わす。〕で示される化合物は、以下の製造ルート化１
９、化２０または化２１によって製造することもでき
る。 （Ｖ1 ＝ＣＯ2 Ｈの場合）[Chemical 18] [In the formula, Q, R 1 and R 3 have the same meanings as described above, and V 1 represents CO 2 H, CONR 8 R 9 or a cyano group. ] The compound represented by
It can also be produced by the following formulas (9), (20) or (21). (When V 1 = CO 2 H)

【化１９】 例えば、ＮａＯＨ、ＫＯＨ等の無機塩基等の水溶液を、
例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、
水、あるいはそれらの混合水溶液中で反応させる。 （Ｖ1 ＝ＣＯＮＲ8 Ｒ9 の場合）[Chemical 19] For example, an aqueous solution of an inorganic base such as NaOH or KOH,
For example, dioxane, ether solvents such as tetrahydrofuran, alcohol solvents such as methanol and ethanol,
The reaction is carried out in water or a mixed aqueous solution thereof. (When V 1 = CONR 8 R 9 )

【化２０】 例えば、カルボジイミダゾール等の脱水縮合剤の存在
下、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル系溶媒中、対応するアミン類を加えるか、または、塩
化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化リン等の塩素化剤で
一旦酸クロリドとし、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等のエーテル系溶媒、イソプロパノール等中で対
応するアミン類を加える。 （Ｖ1 ＝シアノ基の場合）[Chemical 20] For example, in the presence of a dehydrating condensing agent such as carbodiimidazole, the corresponding amines are added in an ether solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran, or once with a chlorinating agent such as thionyl chloride, phosgene or phosphorus oxychloride. The acid chloride is used, and the corresponding amine is added in an ether solvent such as diethyl ether or tetrahydrofuran, or isopropanol. (When V 1 = cyano group)

【化２１】 例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、
ホスゲン、オキシ塩化リン、塩化チオニル、カルボジイ
ミダゾール等で脱水する。[Chemical 21] For example, dicyclohexylcarbodiimide (DCC),
Dehydrate with phosgene, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, carbodiimidazole, etc.

【００１５】本発明化合物のうち、一般式 化２２Of the compounds of the present invention, those of the general formula

【化２２】 〔式中、Ｘ、ＹおよびＲ1 〜Ｒ4 およびＲ6 は、前記と
同じ意味を表わす。〕で示される化合物は、以下の製造
ルート化２３によっても製造することができる。[Chemical formula 22] [In the formula, X, Y and R 1 to R 4 and R 6 have the same meanings as described above. The compound represented by the above can also be produced by the following production route 23.

【化２３】 以下、反応工程、について説明する。 例えば、ヒドロキシアミン塩酸塩をメタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒中（必
要ならば、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基ま
たは炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基を用い
てもよい）で反応させる。 例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類、アセトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類、ニトロメタン、ニトロエタン等のニト
ロ化合物類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミ
ド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合
物、水等あるいはそれらの混合物中、塩基として、水酸
化ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無
機塩基、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基を用
いてＤ 1 −Ｒ4 （Ｒ4 は水素原子を表すことはない）を
反応させる。[Chemical formula 23]Hereinafter, the reaction step will be described. For example, add hydroxyamine hydrochloride to methanol,
In an alcohol solvent such as tanol or isopropanol
If necessary, use organic bases such as triethylamine and pyridine.
Or use an inorganic base such as potassium carbonate or sodium carbonate
May be used). For example, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene
, Chloroform, dichloroethane, chlorobenzene, etc.
Halogenated hydrocarbons, tetrahydrofuran, dioxy
Ethers such as sun, acetone, methyl isobutyl keto
Ketones such as nitrogen, nitrites such as nitromethane and nitroethane
B Compounds, acid amines such as N, N-dimethylformamide
Compounds such as dimethyl sulfoxide, sulfolane, etc.
In water, water, etc.
No sodium hydride, potassium carbonate, sodium hydride, etc.
Use organic bases such as organic bases, pyridine and triethylamine
Wait D 1-RFour(RFourDoes not represent a hydrogen atom)
React.

【００１６】次に、本発明化合物の１態様を下記化２４
に示す。Next, one embodiment of the compound of the present invention will be described below.
Shown in.

【化２４】 で示される化合物[Chemical formula 24] Compound shown by

【００１７】〔式 化２４において、Ｒ'1、Ｒ'2、
Ｒ'3、Ｒ'4、Ｒ'5、Ｒ'6、ＹおよびＢ' は下記のものを
表わす。（尚、略号は、それぞれ以下の意味を表わす。
Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、ｎ−Ｐｒ：ノルマル
プロピル基、ｉ−Ｐｒ：イソプロピル基、ｎ−Ｂｕ：ノ
ルマルブチル基、Ｓ−Ｂｕ：セカンダリーブチル基、ｉ
−Ｂｕ：イソブチル基、ｔ−Ｂｕ：ターシャリーブチル
基、ｎ−Ａｍ：ノルマルアミル基、ｉ−Ａｍ：イソアミ
ル基、ｔ−Ａｍ：ターシャリーアミル基、ｃ−Ｐｒ：シ
クロプロピル基、ｃ−Ｐｅｎ：シクロペンチル基、ｃ−
Ｈｅｘ：シクロヘキシル基、Ｐｈ：フェニル基、Ｂｅ
ｚ：ベンジル基） Ｒ'1＝Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ｉ−Ｐｒ、ｓ−Ｂｕ、ｃ
−Ｐｒ、ｃ−Ｐｅｎ、ｃ−Ｈｅｘ、ＣＨ2 ＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 、ＣＨ2 ＣＣｌ＝ＣＨ2 、ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 、ＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ、ＣＦ3 、ＣＦ2 Ｈ、ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｆ、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＨ2 ＣＮ、ＣＨ2 ＣＨ
2 ＣＮ Ｒ'2＝Ｍｅ、Ｅｔ、ｉ−Ｐｒ、ｔ−Ｂｕ、ｃ−Ｐｒ、ｃ
−Ｐｅｎ、ｃ−Ｈｅｘ、２−クロロシクロプロピル、Ｃ
Ｆ3 、ＣＦ2 Ｈ、ＣＦ2 Ｃｌ、ＣＨ 2 Ｆ、Ｐｈ、ＣＨ2
Ｃｌ、ＣＨ2 Ｂｒ、Ｃ（Ｍｅ）2 ＣＨ2 Ｃｌ、Ｃ（Ｍ
ｅ）2ＣＨ2 Ｂｒ、ＣＦ2 ＣＦ3 、ＣＦ2 ＣＦ2 Ｈ、４
−クロロフェニル、４−フルオロフェニル、４−ブロモ
フェニル、４−メチルフェニル、４−（トリフルオロメ
トキシ）フェニル、２−クロロフェニル、２−フルオロ
フェニル、２−ブロモフェニル、２−メチルフェニル、
２−メトキシフェニル、２，４−ジフルオロフェニル、
４−（トリフルオロメチル）フェニル、２−フルオロ−
４−（トリフルオロメチル）フェニル、３−クロロフェ
ニル、３−ブロモフェニル、３−フルオロフェニル、３
−（トリフルオロメチル）フェニル、３−（トリフルオ
ロメトキシ）フェニル Ｒ'3＝Ｈ、ＣＨ3 、ＣＯ2 Ｅｔ、ＣＯ2 Ｍｅ[In Formula 24, R ′1, R '2,
R '3, R 'Four, R 'Five, R '6, Y and B'are
Represent. (The abbreviations have the following meanings.
Me: methyl group, Et: ethyl group, n-Pr: normal
Propyl group, i-Pr: isopropyl group, n-Bu: no
Rumalbutyl group, S-Bu: Secondary butyl group, i
-Bu: isobutyl group, t-Bu: tertiary butyl
Group, n-Am: normal amyl group, i-Am: isoami
Group, t-Am: tertiary amyl group, c-Pr: shi
Clopropyl group, c-Pen: cyclopentyl group, c-
Hex: cyclohexyl group, Ph: phenyl group, Be
z: benzyl group) R '1= Me, Et, n-Pr, i-Pr, s-Bu, c
-Pr, c-Pen, c-Hex, CH2CH = C
H2, CH2CCl = CH2, CH (CH3) CH = C
H2, CH2C≡CH, CF3, CF2H, CH2CH
2F, CH2CH2CH2F, CH2CN, CH2CH
2CN R '2= Me, Et, i-Pr, t-Bu, c-Pr, c
-Pen, c-Hex, 2-chlorocyclopropyl, C
F3, CF2H, CF2Cl, CH 2F, Ph, CH2
Cl, CH2Br, C (Me)2CH2Cl, C (M
e)2CH2Br, CF2CF3, CF2CF2H, 4
-Chlorophenyl, 4-fluorophenyl, 4-bromo
Phenyl, 4-methylphenyl, 4- (trifluorome
Toxy) phenyl, 2-chlorophenyl, 2-fluoro
Phenyl, 2-bromophenyl, 2-methylphenyl,
2-methoxyphenyl, 2,4-difluorophenyl,
4- (trifluoromethyl) phenyl, 2-fluoro-
4- (trifluoromethyl) phenyl, 3-chlorophen
Nyl, 3-bromophenyl, 3-fluorophenyl, 3
-(Trifluoromethyl) phenyl, 3- (trifluoro)
Romethoxy) phenyl R '3= H, CH3, CO2Et, CO2Me

【００１８】Ｒ'4＝Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ｉ−Ｐ
ｒ、ｎ−Ｂｕ、Ｓ−Ｂｕ、ｉ−Ｂｕ、ｎ−Ａｍ、ｉ−Ａ
ｍ、ｃ−Ｐｒ、ｃ−Ｐｅｎ、ｃ−Ｈｅｘ、ＣＨ2 ＣＨ2
Ｆ、ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＨ2 Ｃ
Ｈ＝ＣＨ2 、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 、ＣＨ2 ＣＨ＝
ＣＨＣＨ3 、ＣＨ2 Ｃ（ＣＨ3 ）Ｃ＝ＣＨ2 、ＣＨ2 Ｃ
Ｃｌ＝ＣＨ2 、ＣＨ2 ＣＨ＝Ｃ（Ｃｌ）2 、ＣＨ2 ＣＨ
＝Ｃ（Ｍｅ）2 、ＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ、ＣＨ（Ｍｅ）Ｃ≡Ｃ
Ｈ、ＣＨ2 Ｃ≡ＣＭｅ、Ｃ（Ｍｅ）2 Ｃ≡ＣＨ、ＣＨ2
ＣＮ、ＣＨ（Ｍｅ）ＣＮ、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、ＣＨ2 Ｏ
Ｍｅ、ＣＨ2 ＯＥｔ、ＣＨ2 Ｏｉ−Ｐｒ、ＣＨ（Ｍｅ）
ＯＭｅ、ＣＯＭｅ、ＣＯＥｔ、ＣＯＣＦ3 、ＣＯＣＨ2
Ｃｌ、ＣＯｉ−Ｐｒ、ＣＯＣＣｌ2 Ｈ、ＣＨ2 ＣＯ2 Ｒ
7 、ＣＨ2 （Ｍｅ）ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＨ2 ＣＯＲ8 Ｒ9 、
ＣＨ（Ｍｅ）ＣＯＲ8 Ｒ9 、式 化２５[0018] R '4 = H, Me, Et, n-Pr, i-P
r, n-Bu, S-Bu, i-Bu, n-Am, i-A
m, c-Pr, c- Pen, c-Hex, CH 2 CH 2
F, CH 2 CHF 2 , CH 2 CH 2 CH 2 F, CH 2 C
H = CH 2 , CH 2 CH 2 CH = CH 2 , CH 2 CH =
CHCH 3 , CH 2 C (CH 3 ) C = CH 2 , CH 2 C
Cl = CH 2 , CH 2 CH = C (Cl) 2 , CH 2 CH
= C (Me) 2 , CH 2 C≡CH, CH (Me) C≡C
H, CH 2 C≡CMe, C ( Me) 2 C≡CH, CH 2
CN, CH (Me) CN, CH 2 CH 2 CN, CH 2 O
Me, CH 2 OEt, CH 2 Oi-Pr, CH (Me)
OMe, COMe, COEt, COCF 3 , COCH 2
Cl, COi-Pr, COCCl 2 H, CH 2 CO 2 R
7 , CH 2 (Me) CO 2 R 7 , CH 2 COR 8 R 9 ,
CH (Me) COR 8 R 9 , Formula 25

【化２５】 で示される基（ここでｎ＝１〜５を表わす） Ｒ'5＝Ｈ、ＣＨ2 ＯＲ4 、ＣＯ2 Ｒ7 Ｒ'6＝Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、ｉ−Ｐｒｏ （但し、Ｒ7 ＝Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ｉ−Ｐｒ、
ｃ−Ｐｒ、ｎ−Ｂｕ、s−Ｂｕ、ｔ−Ｂｕ、ｎ−Ａｍ、
ｉ−Ａｍ、ｔ−Ａｍ、ｃ−Ｐｅｎ、ｃ−Ｈｅｘ、Ｐｈ、
Ｂｅｚ、ＣＨ2 ＣＦ3 、ＣＨ2 ＣＦ2 Ｈ、ＣＨ2 ＣＦＨ
2 、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ2 ＣＨＣｌＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ
（ＣＨ2 Ｆ）2 、ＣＨ2 （ＣＨ2 ）8 ＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ
2 （ＣＨ2 ）6 ＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ2 ＣＨ2 Ｂｒ、ＣＨ
（ＣＨ3 ）ＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ2 （ＣＨ2 ）5 ＣＨ2 Ｂ
ｒ、ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 、ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ3 、Ｃ
Ｈ2 ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ＝ＣＨ2 、ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 、ＣＨ2 Ｃ（Ｃｌ）＝ＣＨ2 、ＣＨ2 ＣＨ＝Ｃ（Ｍ
ｅ）2 、ＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ、ＣＨ（Ｍｅ）Ｃ≡ＣＨ、ＣＨ
2 ＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ、ＣＨ2 Ｃ≡ＣＭｅ、ＣＨ2 ＣＮ、Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 ＣＮ、ＣＨ（Ｍｅ）ＣＮ、ＣＨ2 ＯＭｅ、Ｃ
Ｈ2 ＯＥｔ、ＣＨ2 Ｏｎ−Ｐｒ、ＣＨ2 Ｏｉ−Ｐｒ、Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 ＯＭｅ、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＭｅ、ＣＨ
（Ｍｅ）ＯＭｅ、ＣＨ（Ｍｅ）ＣＯ2 Ｍｅ、ＣＨ（Ｍ
ｅ）ＣＯ2 Ｅｔ、ＣＨ（Ｍｅ）ＣＯ2 ｎ−Ｐｒ、ＣＨ
（Ｍｅ）ＣＯ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃｌ、ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯ2
Ｅｔ、ＣＨ2 ＣＯ2 ｎ−Ｂｕ、ＣＨ2 ＣＯ2 Ｅｔ、ＣＨ
2 ＣＯ2 Ｍｅ、Ｎ＝ＣＲ6 Ｒ6、ＮＲ6 Ｒ6 、２，２−
ジフルオロシクロプロピル、２，２−ジクロロシクロプ
ロピル、４−フルオロシクロヘキシル、３，３，４，４
−テトラフルオロシクロペンチル、２−シクロペンテニ
ル、３−シクロペンテニル、２−シクロヘキセニル、３
−シクロヘキセニル、１−アジリジニル、１−ピロリジ
ニル、１−ピペリジル Ｒ'8、Ｒ'9＝Ｍｅ、Ｅｔ、ｎ−Ｐｒ、ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ
2 、ＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ） Ｙ＝Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、ＮＯ2 、ＣＮ Ｂ' ＝ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＨＯ、ＣＨ＝ＮＯＲ6 、ＣＨ＝Ｃ
Ｒ6 ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＯＲ6 、ＳＯ2 ＯＲ4 、ＳＯ2 Ｃ
ｌ、ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨＸ1 ＣＨＸ2 ＣＯ2Ｒ7 、ＮＨ
ＳＯ2 Ｍｅ、ＮＨＳＯ2 Ｅｔ、ＮＨＳＯ2 ｎ−Ｐｒ、Ｎ
ＨＳＯ2 ｎ−Ｂｕ、ＮＨＳＯ2 ｎ−Ａｍ、ＮＨＳＯ2 ｉ
−Ｐｒｏ、ＮＨｓ−Ｂｕ、ＮＨＳＯ2 ＣＨ2 Ｃｌ、ＮＨ
ＳＯ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃｌ、ＮＨＳＯ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｃｌ、ＮＨＳＯ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃｌ、Ｎ
ＨＳＯ2 ＣＦ3 、ＮＨＳＯ2 ＣＨ2 ＣＦ3（但し、
Ｘ1 、Ｘ2 ＝Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ）〕[Chemical 25] A group represented by (represented here n = 1~5) R '5 = H, CH 2 OR 4, CO 2 R 7 R' 6 = H, Me, Et, i-Pro ( where, R 7 = H , Me, Et, n-Pr, i-Pr,
c-Pr, n-Bu, s-Bu, t-Bu, n-Am,
i-Am, t-Am, c-Pen, c-Hex, Ph,
Bez, CH 2 CF 3 , CH 2 CF 2 H, CH 2 CFH
2 , CH 2 CH 2 CH 2 F, CH 2 CH 2 Cl, CH 2
CH 2 CH 2 Cl, CH 2 CHClCH 2 Cl, CH
(CH 2 F) 2 , CH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 Cl, CH
2 (CH 2 ) 6 CH 2 Cl, CH 2 CH 2 Br, CH
(CH 3 ) CH 2 Cl, CH 2 (CH 2 ) 5 CH 2 B
r, CH 2 CH = CH 2 , CH 2 CH = CHCH 3 , C
H 2 CH (Me) CH = CH 2 , CH (Me) CH = C
H 2 , CH 2 C (Cl) = CH 2 , CH 2 CH = C (M
e) 2 , CH 2 C≡CH, CH (Me) C≡CH, CH
2 CH 2 C≡CH, CH 2 C≡CMe , CH 2 CN, C
H 2 CH 2 CN, CH (Me) CN, CH 2 OMe, C
H 2 OEt, CH 2 On- Pr, CH 2 Oi-Pr, C
H 2 CH 2 OMe, CH 2 CH 2 CH 2 OMe, CH
(Me) OMe, CH (Me) CO 2 Me, CH (M
e) CO 2 Et, CH (Me) CO 2 n-Pr, CH
(Me) CO 2 CH 2 CH 2 Cl, CH 2 CH 2 CO 2
Et, CH 2 CO 2 n-Bu, CH 2 CO 2 Et, CH
2 CO 2 Me, N = CR 6 R 6 , NR 6 R 6 , 2,2-
Difluorocyclopropyl, 2,2-dichlorocyclopropyl, 4-fluorocyclohexyl, 3,3,4,4
-Tetrafluorocyclopentyl, 2-cyclopentenyl, 3-cyclopentenyl, 2-cyclohexenyl, 3
- cyclohexenyl, 1-aziridinyl, 1-pyrrolidinyl, 1-piperidyl R '8, R' 9 = Me, Et, n-Pr, CH 2 CH = CH
2 , CH 2 C≡CH) Y = Cl, F, Br, NO 2 , CN B ′ = CO 2 R 7 , CHO, CH = NOR 6 , CH = C
R 6 CO 2 R 7 , COR 6 , SO 2 OR 4 , SO 2 C
l, CN, NO 2 , CHX 1 CHX 2 CO 2 R 7 , NH
SO 2 Me, NHSO 2 Et, NHSO 2 n-Pr, N
HSO 2 n-Bu, NHSO 2 n-Am, NHSO 2 i
-Pro, NHs-Bu, NHSO 2 CH 2 Cl, NH
SO 2 CH 2 CH 2 Cl, NHSO 2 CH 2 CH 2 CH
2 Cl, NHSO 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Cl, N
HSO 2 CF 3 , NHSO 2 CH 2 CF 3 (however,
X 1 , X 2 = H, Cl, Br)]

【００１９】本発明化合物を製造する際の原料化合物で
ある一般式 化９で示されるチオウレア誘導体は、一般
式 化２６The thiourea derivative represented by the general formula 9 as a starting compound for producing the compound of the present invention is represented by the general formula 26

【化２６】Ｑ−ＮＣＳ 〔式中、Ｑは、前記と同じ意味を表わす。〕で示される
イソチオシアネート誘導体と、一般式 化２７Embedded image In the formula, Q has the same meaning as described above. ] The isothiocyanate derivative represented by

【化２７】Ｒ1 −ＮＨ2 〔式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表わす。〕で示され
るアミン誘導体とを反応させることによって製造する
か、あるいは、一般式 化２８Embedded image R 1 -NH 2 wherein, R 1 is as defined above. ] It is produced by reacting with an amine derivative represented by the following formula:

【化２８】Ｑ−ＮＨ2 〔式中、Ｑは、前記と同じ意味を表わす。〕で示される
アニリン誘導体と、一般式 化２９Embedded image Q-NH 2 wherein, Q is as defined above. ] And an aniline derivative represented by the following general formula:

【化２９】Ｒ1 −ＮＣＳ 〔式中、Ｒ1 は、前記と同じ意味を表わす。〕で示され
るイソチオシアネート化合物とを反応させることによっ
て製造することができる。これら反応は、通常、溶媒中
で行い、反応温度の範囲は、通常、０〜２００℃、反応
時間の範囲は、通常、瞬時〜４８時間であり、反応に供
される試剤の量は、イソチオシアネート誘導体またはイ
ソチオシアネート化合物１モルに対してアミン誘導体ま
たはアニリン誘導体は、各々 1〜3 モルの割合である。
使用し得る溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル類、蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロエタ
ン、ニトロベンゼン等のニトロ化物、アセトニトリル、
イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジン、トリエ
チルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、ホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド
等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
硫黄化合物、水等あるいは、それらの混合物があげられ
る。通常塩基は用いなくてもよいが、場合によっては用
いてもよく、使用し得る塩基としては、例えば、ピリジ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の
有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩
基等があげられる。反応終了後の反応液は、水に注加
し、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、
必要ならば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によ
ってさらに精製することにより、目的の化合物を得るこ
とができる。Embedded image R 1 -NCS wherein, R 1 is as defined above. ] It can manufacture by reacting with the isothiocyanate compound shown by these. These reactions are usually carried out in a solvent, the reaction temperature range is usually 0 to 200 ° C., the reaction time range is usually instantaneous to 48 hours, and the amount of the reagent to be subjected to the reaction is The amount of the amine derivative or the aniline derivative is 1 to 3 mol per 1 mol of the thiocyanate derivative or the isothiocyanate compound.
As the solvent that can be used, for example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether,
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene,
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene,
Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether, ethyl formate, ethyl acetate,
Butyl acetate, diethyl carbonate and other esters, nitroethane, nitrobenzene and other nitrates, acetonitrile,
Nitriles such as isobutyronitrile, pyridine, triethylamine, tertiary amines such as N, N-diethylaniline, tributylamine and N-methylmorpholine, acid amides such as formamide, N, N-dimethylformamide and acetamide, dimethyl Examples thereof include sulfur compounds such as sulfoxide and sulfolane, water and the like, or a mixture thereof. Usually, a base may not be used, but it may be used in some cases, and examples of the base that can be used include pyridine, triethylamine, N, N-diethylaniline and other organic bases, sodium hydroxide, potassium hydroxide, Inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride and the like are listed. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water and subjected to usual post-treatments such as organic solvent extraction and concentration,
If necessary, the desired compound can be obtained by further purification by operations such as chromatography and recrystallization.

【００２０】一般式 化２６で示されるイソチオシアネ
ート誘導体および一般式 化２９で示されるイソチオシ
アネート化合物は、各々対応するアニリンおよびアミン
とチオホスゲンを反応させるか、または、塩基存在下で
二硫化炭素と反応させて対応するジチオカーバメートと
し、その後、クロロギ酸メチル等のハロギ酸エステル類
と反応させることにより製造することができる。一般式
化２８で示されるアニリン誘導体は、例えば、ヨーロ
ッパ特許出願公開明細書ＥＰ−61741 −Ａ、米国特許明
細書ＵＳＰ5,030,760 、ＵＳＰ4,670,046 、ＵＳＰ4,77
0,695 、ＵＳＰ4,709,049 、ＵＳＰ4,640,707 、ＵＳＰ
4,720,297 、ＵＳＰ5,169,431 、ＵＳＰ4,670,042 、特
開平 1-168662 、特開昭 60-78959 等に記載の方法に準
じて製造するか、または、式 化３０The isothiocyanate derivative represented by the general formula (26) and the isothiocyanate compound represented by the general formula (29) respectively react the corresponding aniline and amine with thiophosgene or react with carbon disulfide in the presence of a base. It can be produced by reacting with a corresponding dithiocarbamate and then reacting it with a haloformate such as methyl chloroformate. The aniline derivative represented by the general formula 28 is, for example, European Patent Application Publication Specification EP-61741-A, US Patent Specification USP 5,030,760, USP 4,670,046, USP 4,77.
0,695, USP4,709,049, USP4,640,707, USP
4,720,297, USP 5,169,431, USP 4,670,042, JP-A 1-168662, JP-A 60-78959, etc., or a compound of formula 30

【化３０】 （式中、Ｒ7 は前記と同じ意味を表わし、およびは
第１１段落に記載と同様の意味を表わす。）または、式
化３１[Chemical 30] (In the formula, R 7 has the same meaning as described above, and and have the same meanings as described in the eleventh paragraph.)

【化３１】 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ5 およびＲ6 は前記と同じ意味を表
わす。原料のイミド化合物は国際特許出願公開明細書Ｗ
Ｏ93／14073 に準じて製造することができる。）等に準
じて製造することができる。[Chemical 31] (In the formulae, X, Y, R 5 and R 6 have the same meanings as described above. The starting imide compound is represented by International Patent Application Publication W
It can be manufactured according to O93 / 14073. ) And the like.

【００２１】本発明化合物は、優れた除草効力を有し、
かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。す
なわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理
において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対し
て除草効力を有する。 タデ科雑草 ソバカズラ（Polygonum convolvulus)、サナエタデ（Po
lygonum lapathifolium)、アメリカサナエタデ（Polygo
num pensylvanicum)、ハルタデ（Polygonum persicari
a) 、ナガバギシギシ（Rumex crispus)、エゾノギシギ
シ（Rumex obtusifolius) 、イタドリ（Polygonum cusp
idatum) スベリヒユ科雑草 スベリヒユ（Portulaca oleracea) ナデシコ科雑草 ハコベ（Stellaria media) アカザ科雑草 シロザ（Chenopodium album)、ホウキギ（Kochia scopa
ria) ヒユ科雑草 アオゲイトウ（Amaranthus retroflexus) 、ホナガアオ
ゲイトウ（Amaranthushybridus) アブラナ科雑草 ワイルドラディッシュ（Raphanus raphanistrum)、ノハ
ラガラシ（Sinapis arvensis) 、ナズナ（Capsella bur
sa-pastoris) マメ科雑草 アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata)、エビスグ
サ（Cassia obtusifolia) 、フロリダベガーウィード
（Desmodium tortuosum)、シロツメクサ（Trifolium re
pens) アオイ科雑草 イチビ（Abutilon theophrasti) 、アメリカキンゴジカ
（Sida spinosa) スミレ科雑草 フィールドパンジー（Viola arvensis) 、ワイルドパン
ジー（Viola tricolor) アカネ科雑草 ヤエムグラ（Galium aparine) ヒルガオ科雑草 アメリカアサガオ（Ipomoea hederacea)、マルバアサガ
オ（Ipomoea purpurea) 、マルバアメリカアサガオ（Ip
omoea hederacea var. integriuscula) 、マメアサガオ
（Ipomoea lacunosa) 、セイヨウヒルガオ（Convolvulu
s arvensis) シソ科雑草 ヒメオドリコソウ（Lamium purpureum) 、ホトケノザ
（Lamium amplexicaule) ナス科雑草 シロバナチョウセンアサガオ（Datura stramonium)、イ
ヌホオズキ（Solanumnigrum) ゴマノハグサ科雑草 オオイヌノフグリ（Veronica persica) 、フラサバソウ
（Veronica hederaefolia)The compound of the present invention has an excellent herbicidal effect,
Some also show excellent selectivity between crops and weeds. That is, the compound of the present invention has herbicidal activity against various weeds which cause the following problems in foliage treatment and soil treatment of upland fields. Polygonum convolvulus, Polygonum convolvulus, Pondweed (Po
lygonum lapathifolium), American sandweed (Polygo
num pensylvanicum), Hartade (Polygonum persicari)
a), Rumex crispus, Rumex obtusifolius, Japanese knotweed (Polygonum cusp)
idatum) Portulaca oleracea Portulaca oleracea Stellaria media Stellaria media Stellaria media Weed weeds (Chenopodium album), Hochigi (Kochia scopa)
ria) Amaranthaceae weed Amaranthus retroflexus, stag beetle Amaranthushybridus Brassica weed Wild radish (Raphanus raphanistrum), field bean (Sinapis arvensis), cucumber (Capsella bur)
sa-pastoris Leguminous weeds American hemlock (Sesbania exaltata), Ebisugusa (Cassia obtusifolia), Florida beggerweed (Desmodium tortuosum), White clover (Trifolium re)
pens) Mallow family weed Abutilon theophrasti, Sida spinosa, Violet arvensis, Wild pansy ), Malva morning glory (Ipomoea purpurea), Malva american morning glory (Ip
omoea hederacea var. integriuscula), ground beetle (Ipomoea lacunosa), bindweed (Convolvulu)
s arvensis) Lamiaceae weeds Lamium purpureum, Lamium amplexicaule Solanaceae weeds Datura stramonium, Solanum nigrum

【００２２】キク科雑草 オナモミ（Xanthium pensylvanicum) 、野生ヒマワリ
（Helianthus annuus)、イヌカミツレ（Matricaria per
forata) 、コーンマリーゴールド（Chrysanthemum sege
tum)、オロシャギク（Matricaria matricarioides)、ブ
タクサ（Ambrosiaartemisiifolia)、オオブタクサ（Amb
rosia trifida) 、ヒメムカシヨモギ（Erigeron canade
nsis)、ヨモギ（Artemisia princeps) 、セイタカアワ
ダチソウ（Solidago altissima) ムラサキ科雑草 ワスレナグサ（Myosotis arvensis) ガガイモ科雑草 オオトウワタ（Asclepias syriaca) トウダイグサ科雑草 トウダイグサ（Euphorbia helioscopia)、オオニシキソ
ウ（Euphorbia maculata) イネ科雑草 イヌビエ（Echinochloa crus-galli) 、エノコログサ
（Setaria viridis)、アキノエノコログサ（Setaria fa
beri) 、メヒシバ（Digitaria sanguinalis)、オヒシバ
（Eleusine indica)、スズメノカタビラ（Poa annua)、
ブラックグラス（Alopecurus myosuroides) 、カラスム
ギ（Avena fatua)、セイバンモロコシ（Sorghum halepe
nse)、シバムギ（Agropyron repens) 、ウマノチャヒキ
（Bromus tectorum)、ギョウギシバ（Cynodon dactylo
n) 、オオクサキビ（Panicum dichotomiflorum)、テキ
サスパニカム（Panicum texanum)、シャターケーン（So
rghumvulgare) ツユクサ科雑草 ツユクサ（Commelina communis) トクサ科雑草 スギナ（Equisetum arvense) カヤツリグサ科雑草 コゴメガヤツリ（Cyperus iria) 、ハマスゲ（Cyperus
rotundus) 、キハマスゲ（Cyperus esculentus) しかも、本発明化合物中のあるものは、トウモロコシ
（Zea mays) 、コムギ（Triticum aestivum)、オオムギ
（Hordeum vulgare)、イネ（Oryza sativa) 、ソルガム
（Sorghum bicolor)、ダイズ（Glycine max)、ワタ（Go
ssypium spp.) 、テンサイ（Beta vulgaris)、ピーナッ
ツ（Arachis hypogaea) 、ヒマワリ（Helianthus annuu
s)、ナタネ（Brassica napus) 等の主要作物（特にトウ
モロコシ、コムギ、ダイズ、テンサイ）・花卉・蔬菜等
の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。
また、本発明化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ
等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果
的に除草することができる。しかも、本発明化合物中の
あるものは、作物に対しては問題となるような薬害を示
さない。Weeds Asteraceae (Xanthium pensylvanicum), wild sunflower (Helianthus annuus), dog chamomile (Matricaria per)
forata), corn marigold (Chrysanthemum sege
tum), forsythia (Matricaria matricarioides), ragweed (Ambrosia artemisiifolia), and red ragweed (Amb
rosia trifida), Sagebrush (Erigeron canade)
nsis), Wormwood (Artemisia princeps), Solidago altissima (Echinochloa crus-galli), Echinochloa crus-galli, Setaria viridis,
beri), crabgrass (Digitaria sanguinalis), crabgrass (Eleusine indica), Poa annua,
Blackgrass (Alopecurus myosuroides), oats (Avena fatua), Seymour sorghum (Sorghum halepe)
nse), Shibamugi (Agropyron repens), Bromeus tectorum, Cynodon dactylo
n), giant millet (Panicum dichotomiflorum), Texas Panicum (Panicum texanum), Shatter Cane (So
rghumvulgare) Commelina communis Commelina communis Weeds Equisetum arvense Cyperus iria, Cyperus weed
rotundus), yellow nutsedge (Cyperus esculentus), and some of the compounds of the present invention include corn (Zea mays), wheat (Triticum aestivum), barley (Hordeum vulgare), rice (Oryza sativa), sorghum (Sorghum bicolor), soybean. (Glycine max), cotton (Go
ssypium spp.), sugar beet (Beta vulgaris), peanuts (Arachis hypogaea), sunflower (Helianthus annuu)
s), rapeseed (Brassica napus), and other major crops (especially corn, wheat, soybean, sugar beet), horticultural crops such as flowers, vegetables, etc.
Further, the compound of the present invention can effectively weed out various weeds that are problematic in no-tillage cultivation of soybean, corn, wheat and the like. Moreover, some of the compounds of the present invention do not show harmful phytotoxicity to crops.

【００２３】また、本発明化合物は、水田の湛水処理に
おいて、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して
除草効力を有する。 イネ科雑草 タイヌビエ（Echinochloa oryzicola)、イヌビエ（Echi
nochloa crus-galli) ゴマノハグサ科雑草 アゼナ（Lindernia procumbens) ミソハギ科雑草 キカシグサ（Rotala indica)、ヒメミソハギ（Ammannia
multiflora) ミゾハコベ科雑草 ミゾハコベ（Elatine triandra) カヤツリグサ科雑草 タマガヤツリ（Cyperus difformis)、ホタルイ（Scirpu
s juncoides)、マツバイ（Eleocharis acicularis)、ミ
ズガヤツリ（Cyperus serotinus)、クログワイ（Eleoch
aris kuroguwai) ミズアオイ科雑草 コナギ（Monochoria vaginalis) オモダカ科雑草 ウリカワ（Sagittaria pygmaea) 、オモダカ（Sagittar
ia trifolia)、ヘラオモダカ（Alisma canaliculatum) ヒルムシロ科雑草 ヒルムシロ（Potamogeton distinctus) セリ科雑草 セリ（Oenanthe javanica) しかも、本発明化合物のあるものは、移植水稲または直
播水稲に対して問題となるような薬害を示さない。さら
に、本発明化合物は、樹園地、牧草地、芝生地、林業地
または水路、運河あるいはその他の非農耕地に発生する
広範囲の雑草を除草できる。Further, the compound of the present invention has herbicidal activity against various weeds which cause the following problems in the flooding treatment of paddy fields. Weeds of grasses, Echinochloa oryzicola, Echiochloa oryzicola
nochloa crus-galli) Lindernia procumbens Lindernia procumbens Weeding weed, Rottula indica, Ammannia
multiflora) Weed weed (Elatine triandra) Weed weed (Cyperus difformis), firefly (Scirpu)
s juncoides), pine nuts (Eleocharis acicularis), Cyperus serotinus, Eleoch
aris kuroguwai) Weasel weed (Monochoria vaginalis) Weeping weed Urikawa (Sagittaria pygmaea), Weedfish (Sagittar)
ia trifolia), Heraomodaika (Alisma canaliculatum), Weeds of the family Ophirophyllum (Potamogeton distinctus) Weeds of the family Umbelliferae (Oenanthe javanica) Moreover, some of the compounds of the present invention cause a harmful effect on transplanted rice or direct seeded rice Not shown. Further, the compounds of the present invention can control a wide range of weeds that occur in orchards, meadows, lawns, forestry or waterways, canals or other non-agricultural lands.

【００２４】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤その
他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、
粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤、液剤等に製剤す
る。これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を
重量比で 0.001〜９０％、好ましくは0.01〜８０％含有
する。固体担体としては、カオリンクレー、アッタパル
ジャイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィ
ライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、ク
ルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機物微粉
末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水
酸化珪素の微粉末等が挙げられ、液体担体としては、メ
チルナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等
のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパ
ノール、エチレングリコール、２−エトキシエタノール
等のアルコール類、フタル酸ジアルキルエステル等のエ
ステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等
のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の
植物油、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、水
等が挙げられる。乳化、分散、湿展等のために用いられ
る界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アル
キルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジ
アルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテルリン酸エステル塩等の陰イオン界面
活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられ
る。その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン
酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビア
ガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、ＰＡＰ
（酸性リン酸イソプロピル）等が挙げられる。When the compound of the present invention is used as an active ingredient of a herbicide, it is usually mixed with a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant or other auxiliaries for formulation to prepare an emulsion, a wettable powder, a suspension,
Formulated into granules, concentrated emulsions, wettable granules, liquids, etc. These formulations contain the compound of the present invention as an active ingredient in a weight ratio of 0.001 to 90%, preferably 0.01 to 80%. Solid carriers include kaolin clay, attapulgite clay, bentonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite and other mineral fine powder, walnut shell powder and other organic fine powder, urea and other water-soluble organic fine powder. Powders, fine powders of inorganic salts such as ammonium sulfate and fine powders of synthetic hydrous silicon oxide, and the like.Examples of liquid carriers include aromatic hydrocarbons such as alkylbenzenes such as methylnaphthalene, phenylxylylethane, and xylene, isopropanol, ethylene. Glycols, alcohols such as 2-ethoxyethanol, esters such as dialkyl phthalates, acetones, cyclohexanone, ketones such as isophorone, mineral oils such as machine oils, vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, acetonitril , N- methylpyrrolidone, water and the like. Surfactants used for emulsification, dispersion, wet extension, etc. include alkyl sulfate ester salts, alkyl sulfonates, alkylaryl sulfonates, dialkylsulfosuccinates, polyoxyethylene alkylaryl ether phosphate ester salts, etc. Nonionic surfactants such as anionic surfactants, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylaryl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, and the like. . Other auxiliary agents for formulations include lignin sulfonate, alginate, polyvinyl alcohol, gum arabic, CMC (carboxymethyl cellulose), PAP.
(Acid isopropyl phosphate) and the like.

【００２５】本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出
芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理
する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等が
あり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、
作物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等
がある。また、他の除草剤と混合して用いることによ
り、除草効力の増強が認められる場合がある。さらに、
殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節
剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用いることもでき
る。本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場
合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処
理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草等によっても異
なるが、通常１ヘクタール当たり 0.1ｇ〜5000ｇ、好ま
しくは１ｇ〜1000ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃
厚エマルジョン、顆粒水和剤、液剤等は、通常その所定
量を１ヘクタール当たり１０リットル〜 10000リットル
の（必要ならば展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈
して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤、ある種の液剤等は
なんら希釈することなくそのまま処理する。補助剤とし
ては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂
酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸
塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイル
コンセントレイト（crop oil concentrate) 、大豆油、
コーン油、綿実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられ
る。また、本発明化合物は、ワタの落葉剤・乾燥剤、ジ
ャガイモ（Solanum tuberosum)の乾燥剤等の収穫補助剤
の有効成分として用いることができる。その場合、本発
明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場合と同様
に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独または他の収
穫補助剤と混合して茎葉処理する。The compound of the present invention is usually formulated and subjected to soil treatment, foliar treatment or flooding treatment before or after emergence of weeds. Soil treatment includes soil surface treatment, soil admixture treatment, etc., and foliage treatment includes treatment from above the plant,
There are local treatments that treat only weeds so that they do not adhere to crops. Further, when used in combination with other herbicides, the herbicidal effect may be enhanced. further,
It can also be used as a mixture with insecticides, acaricides, nematicides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers, soil conditioners and the like. When the compound of the present invention is used as an active ingredient of a herbicide, its treatment amount is usually 0.1 g per hectare, although it varies depending on weather conditions, formulation forms, treatment times, treatment methods, soil conditions, target crops, target weeds, etc. ~ 5000g, preferably 1g ~ 1000g, emulsions, wettable powders, suspensions, concentrated emulsions, wettable granules, liquids, etc., usually a predetermined amount of 10 liters to 10,000 liters per hectare (if necessary For example, it is diluted with water (to which an auxiliary agent such as a spreading agent is added) and treated, and granules, certain suspension agents, certain liquid agents and the like are directly treated without being diluted. As the auxiliary agent, in addition to the above-mentioned surfactant, polyoxyethylene resin acid (ester), lignin sulfonate, abietic acid salt, dinaphthylmethane disulfonate, crop oil concentrate (crop oil concentrate), soybean oil,
Vegetable oils such as corn oil, cottonseed oil, sunflower oil and the like can be mentioned. Further, the compound of the present invention can be used as an active ingredient of a harvesting aid such as a cotton defoliant / desiccant and a potato (Solanum tuberosum) desiccant. In that case, the compound of the present invention is usually formulated as in the case of being used as an active ingredient of a herbicide, and foliar treatment is performed alone or in combination with other harvesting aids before harvest of a crop.

【００２６】[0026]

【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例および試験例
等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の製
造例を示す。尚、原料であるチオウレア誘導体は、式
化３２または化３３に示す化合物を用いた。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to production examples, formulation examples and test examples, but the present invention is not limited to these examples. First, production examples of the compound of the present invention will be shown. The raw material thiourea derivative has the formula
The compound shown in Chemical formula 32 or Chemical formula 33 was used.

【化３２】 [Chemical 32]

【化３３】 [Chemical 33]

【００２７】製造例１ トルエン１５０ml中に化合物(1-5) １４ｇと酢酸ナトリ
ウム 4.0ｇを懸濁させた中に３−ブロモ−1,1,1 −トリ
フルオロアセトン 9.6ｇを加え、５０℃で３時間反応さ
せた。反応液を水に注加し、有機層を水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣に濃硫酸７０ml
を加え、１時間攪拌した。反応液を氷に注加し、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に
付し、化合物(402)9.2ｇを得た。 製造例２ トルエン２０ml中に化合物(1-6) １．４ｇと酢酸ナトリ
ウム 0.5ｇを懸濁させた中に３−ブロモ−1,1,1 −トリ
フルオロアセトン 1.0ｇを加え、加熱還流下に反応させ
た。反応終了後、反応液を水に注加し、有機層を水洗し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣に濃
硫酸１０mlを加え攪拌した。反応液を氷に注加し、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し、化合物(609) ０．２ｇを得た。 製造例３ トルエン２０ml中に化合物(1-7) １．４ｇと酢酸ナトリ
ウム 0.5ｇを懸濁させた中に３−ブロモ−1,1,1 −トリ
フルオロアセトン 1.0ｇを加え、加熱還流下に反応させ
た。反応終了後、反応液を水に注加し、有機層を水洗し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣に濃
硫酸１０mlを加え攪拌した。反応液を氷に注加し、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーに付し、化合物(501) １．１ｇを得た。Production Example 1 14 g of the compound (1-5) and 4.0 g of sodium acetate were suspended in 150 ml of toluene, and 9.6 g of 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone was added to the suspension. The reaction was carried out for 3 hours. The reaction solution was poured into water, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated. 70 ml of concentrated sulfuric acid in the residue
Was added and stirred for 1 hour. The reaction solution was poured into ice and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain 9.2 g of compound (402). Preparation Example 2 Compound (1-6) (1.4 g) and sodium acetate (0.5 g) were suspended in toluene (20 ml), and 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone (1.0 g) was added to the suspension. It was made to react. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated. 10 ml of concentrated sulfuric acid was added to the residue and stirred. The reaction solution was poured into ice and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 0.2 g of compound (609). Production Example 3 1.4 g of the compound (1-7) and 0.5 g of sodium acetate were suspended in 20 ml of toluene, and 1.0 g of 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone was added to the suspension. It was made to react. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated. 10 ml of concentrated sulfuric acid was added to the residue and stirred. The reaction solution was poured into ice and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 1.1 g of compound (501).

【００２８】製造例４ 化合物(1-5)0.4ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン0.29ｇをトルエン１５ml中で３時間加熱還流さ
せた。反応液を水に注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エ
チルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に付し、
化合物(402) 0.13ｇを得た。 製造例５ 化合物(1-4)0.4ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン0.29ｇをトルエン１０ml中で２時間加熱還流さ
せた。反応液を水に注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エ
チルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）に付
し、化合物(104) 0.15ｇを得た。 製造例６ 化合物(1-1)1.0ｇとクロロアセトン0.39ｇをトルエン１
５ml中で２時間加熱還流させた。反応液を水に注加し、
飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）に付し、化合物(101) 0.91ｇを得た。 製造例７ 化合物(1-3)0.5ｇとクロロアセトン0.15ｇをトルエン１
０ml中で２時間加熱還流させた。反応液を水に注加し、
飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝２：１）に付し、化合物(301) 0.15ｇを得た。 製造例８ 化合物(1-4)0.4ｇとクロロアセトン0.14ｇをトルエン１
０ml中で２時間加熱還流させた。反応液を水に注加し、
飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝ 3.5：１）に付し、化合物(102) 0.19ｇを得た。 製造例９ 化合物(1-5)0.4ｇとクロロアセトン0.14ｇをトルエン１
０ml中で２時間加熱還流させた。反応液を水に注加し、
飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝ 3.5：１）に付し、化合物(401) 0.16ｇを得た。Production Example 4 0.4 g of the compound (1-5) and 0.29 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were heated under reflux in 15 ml of toluene for 3 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1),
0.13 g of compound (402) was obtained. Production Example 5 0.4 g of compound (1-4) and 0.29 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were heated under reflux in 10 ml of toluene for 2 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 10: 1) to obtain 0.15 g of compound (104). Production Example 6 1.0 g of the compound (1-1) and 0.39 g of chloroacetone were added to toluene 1
Heated to reflux in 5 ml for 2 hours. Pour the reaction solution into water,
Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 0.91 g of compound (101). Production Example 7 0.5 g of compound (1-3) and 0.15 g of chloroacetone were added to toluene 1
Heated to reflux in 0 ml for 2 hours. Pour the reaction solution into water,
Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1) to obtain 0.15 g of compound (301). Production Example 8 Toluene 1 was added with 0.4 g of compound (1-4) and 0.14 g of chloroacetone.
Heated to reflux in 0 ml for 2 hours. Pour the reaction solution into water,
Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3.5: 1) to obtain 0.19 g of compound (102). Production Example 9 Toluene 1 was added with 0.4 g of the compound (1-5) and 0.14 g of chloroacetone.
Heated to reflux in 0 ml for 2 hours. Pour the reaction solution into water,
Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3.5: 1) to obtain 0.16 g of compound (401).

【００２９】製造例１０ 化合物(1-1)1.0ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン0.67ｇをトルエン１５ml中で２時間加熱還流さ
せた。反応液を水に注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エ
チルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）に付
し、化合物(103) 0.35ｇを得た。 製造例１１ 化合物(1-3)0.5ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン0.31ｇをトルエン１０ml中で２時間加熱還流さ
せた。反応液を水に注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エ
チルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した
後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、
化合物(302) 0.15ｇを得た。 製造例１２ 化合物(1-3)0.5ｇと 1,1,1−トリメチル−３−ブロモア
セトン0.36ｇをトルエン１０ml中で３時間加熱還流させ
た。反応液を水に注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、
濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に付し、化合物
(303) 0.31ｇを得た。 製造例１３ 化合物(1-4)0.4ｇ、 1,1,1−トリメチル−３−ブロモア
セトン0.23ｇおよび酢酸ナトリウム 0.1ｇをイソプロパ
ノール１０ml中で３時間加熱還流させた。反応液を水に
注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）に付し、化合物(105) 0.23ｇを得
た。 製造例１４ 化合物(1-5)0.4ｇ、 1,1,1−トリメチル−３−ブロモア
セトン0.25ｇおよび酢酸ナトリウム0.12ｇをイソプロパ
ノール１０ml中で３時間加熱還流させた。反応液を水に
注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）に付し、化合物(403) 0.15ｇを得
た。 製造例１５ 化合物(1-2)0.5ｇとクロロアセトン0.18ｇをトルエン１
０ml中で２時間加熱還流させた。反応液を水に注加し、
飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝３：１）に付し、化合物(106) 0.23ｇを得た。 製造例１６ 化合物(1-2)0.5ｇと 1,1,1−トリメチル−３−ブロモア
セトン0.36ｇをトルエン１０ml中で２時間加熱還流させ
た。反応液を水に注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、
濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）に付し、化合物
(107) 0.54ｇを得た。Production Example 10 1.0 g of the compound (1-1) and 0.67 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were heated under reflux in 15 ml of toluene for 2 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 10: 1) to obtain 0.35 g of compound (103). Production Example 11 0.5 g of compound (1-3) and 0.31 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were heated to reflux in 10 ml of toluene for 2 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 4: 1),
0.15 g of compound (302) was obtained. Production Example 12 0.5 g of the compound (1-3) and 0.36 g of 1,1,1-trimethyl-3-bromoacetone were heated to reflux in 10 ml of toluene for 3 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was dried over magnesium sulfate,
Concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) to give the compound
(303) 0.31 g was obtained. Production Example 13 0.4 g of compound (1-4), 0.23 g of 1,1,1-trimethyl-3-bromoacetone and 0.1 g of sodium acetate were heated under reflux in 10 ml of isopropanol for 3 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
Ethyl acetate = 4: 1) to give 0.23 g of compound (105). Production Example 14 0.4 g of the compound (1-5), 0.25 g of 1,1,1-trimethyl-3-bromoacetone and 0.12 g of sodium acetate were heated to reflux in 10 ml of isopropanol for 3 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
Ethyl acetate = 4: 1) to give the compound (403) 0.15 g. Production Example 15 0.5 g of compound (1-2) and 0.18 g of chloroacetone were added to toluene 1
Heated to reflux in 0 ml for 2 hours. Pour the reaction solution into water,
Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain 0.23 g of compound (106). Production Example 16 0.5 g of the compound (1-2) and 0.36 g of 1,1,1-trimethyl-3-bromoacetone were heated under reflux in 10 ml of toluene for 2 hours. The reaction mixture was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was dried over magnesium sulfate,
Concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give the compound
(107) 0.54 g was obtained.

【００３０】製造例１７ 化合物(108)6.0ｇを硫酸５０mlに室温で加え、２時間攪
拌した。反応液を氷に注加し、ジエチルエーテルで抽出
した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮して、化合物(109) 3.82ｇを得た。Production Example 17 6.0 g of the compound (108) was added to 50 ml of sulfuric acid at room temperature and stirred for 2 hours. The reaction solution was poured into ice and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated to give compound (109) 3.82 g.

【００３１】製造例１８ ＤＭＦ５ml中に化合物(109) 〔製造例１７で製造〕 0.5
ｇと炭酸カリウム 0.3ｇを加えて１５分攪拌した後、ク
ロロ酢酸メチル 0.2ｇを加え、４０〜５０℃で１時間攪
拌した。反応液を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出
した。有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、
化合物(111)0.42ｇを得た。 製造例１９ ＤＭＦ５ml中に化合物(109)0.5ｇと炭酸カリウム 0.3ｇ
を加えて１５分攪拌した後、２−ブロモプロピオン酸エ
チル0.33ｇを加え、４０〜５０℃で１時間攪拌した。反
応液を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。有機
層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に付し、化合物(110)
0.5 ｇを得た。 製造例２０ ＤＭＦ５ml中に化合物(109)0.5ｇと炭酸カリウム 0.3ｇ
を加えて１５分攪拌した後、２，３−ジクロロ−１−プ
ロペン 0.2ｇを加え、４０〜５０℃で１時間攪拌した。
反応液を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。有
機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に付し、化合物(112)
0.4ｇを得た。 製造例２１ ＤＭＦ５ml中に化合物(109)0.5ｇと炭酸カリウム 0.3ｇ
を加えて１５分攪拌した後、アリルブロマイド0.22ｇを
加え、４０〜５０℃で１時間攪拌した。反応液を水に注
加し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗した
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸
エチル＝４：１）に付し、化合物(113) 0.48ｇを得た。 製造例２２ ＤＭＦ５ml中に化合物(109)0.5ｇと炭酸カリウム 0.3ｇ
を加えて１５分攪拌した後、ブロモアセトニトリル0.22
ｇを加え、４０〜５０℃で１時間攪拌した。反応液を水
に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水洗
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝６：１）に付し、化合物(114) 0.21ｇを得
た。 製造例２３ ＤＭＦ５ml中に化合物(109)0.5ｇと炭酸カリウム 0.3ｇ
を加えて１５分攪拌した後、プロパルギルブロマイド0.
22ｇを加え、１時間攪拌した。反応液を水に注加し、ジ
エチルエーテルで抽出した。有機層を水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
６：１）に付し、化合物(115) 0.41ｇを得た。Production Example 18 Compound (109) in 5 ml of DMF [prepared in Production Example 17] 0.5
g and 0.3 g of potassium carbonate were added and stirred for 15 minutes, 0.2 g of methyl chloroacetate was added, and the mixture was stirred at 40 to 50 ° C. for 1 hour. The reaction solution was poured into water and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 4: 1),
0.42 g of compound (111) was obtained. Production Example 19 0.5 g of compound (109) and 0.3 g of potassium carbonate in 5 ml of DMF.
Was added and stirred for 15 minutes, 0.33 g of ethyl 2-bromopropionate was added, and the mixture was stirred at 40 to 50 ° C. for 1 hour. The reaction solution was poured into water and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue is subjected to silica gel chromatography (developing solvent;
Hexane: ethyl acetate = 5: 1) to give compound (110)
0.5 g was obtained. Production Example 20 0.5 g of compound (109) and 0.3 g of potassium carbonate in 5 ml of DMF.
Was added and stirred for 15 minutes, 0.2 g of 2,3-dichloro-1-propene was added, and the mixture was stirred at 40 to 50 ° C. for 1 hour.
The reaction solution was poured into water and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue is subjected to silica gel chromatography (developing solvent;
Hexane: ethyl acetate = 5: 1) to give compound (112)
0.4 g was obtained. Production Example 21 0.5 g of compound (109) and 0.3 g of potassium carbonate in 5 ml of DMF.
Was added and stirred for 15 minutes, 0.22 g of allyl bromide was added, and the mixture was stirred at 40 to 50 ° C. for 1 hour. The reaction solution was poured into water and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 0.48 g of compound (113). Production Example 22 0.5 g of compound (109) and 0.3 g of potassium carbonate in 5 ml of DMF.
Was added and stirred for 15 minutes, then bromoacetonitrile 0.22
g was added, and the mixture was stirred at 40 to 50 ° C. for 1 hour. The reaction solution was poured into water and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
Ethyl acetate = 6: 1) was added to obtain 0.21 g of the compound (114). Production Example 23 0.5 g of compound (109) and 0.3 g of potassium carbonate in 5 ml of DMF.
After adding and stirring for 15 minutes, propargyl bromide 0.
22 g was added and stirred for 1 hour. The reaction solution was poured into water and extracted with diethyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane: ethyl acetate =
6: 1) to obtain 0.41 g of compound (115).

【００３２】製造例２４ ２−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−イミノ−
３−メチル−４−トリフルオロメチルチアゾリン１０ｇ
を氷冷中の濃硫酸５０mlに加えた後、発煙硝酸2.１ｇを
加えた。室温で１時間攪拌後、反応液を氷にあけ、水酸
化ナトリウム水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出し、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１）に付し、化合物（122) 3.2ｇを得
た。 製造例２５ 後記参考例１で得られた化合物（ａ−３）１９ｇと 1,
1,1−トリフルオロ−３−ブロモアセトン１０ｇをトル
エン 200ml中で１時間加熱還流後、濃縮した。得られた
残渣に濃硫酸 150mlを加え、３時間攪拌した。反応液を
氷にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝６：
１）に付し、化合物（247)２１ｇを得た。 製造例２６ 製造例２５で得た化合物(247) ２１ｇをエタノール 150
mlに溶解し、これに抱水ヒドラジン 2.5ｇを加え、２時
間加熱還流した。その後、室温まで冷却し、反応液をセ
ライトろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）に付し、化合物(211) 13.3ｇを得た。 製造例２７ 製造例２６で得た化合物(211)1.0ｇとクロロスルホニル
オキシ酢酸メチル0.72ｇおよび炭酸カリウム 0.7ｇをク
ロロホルム２０ml中室温で４時間攪拌した。その後反応
液を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）に付し、化合物(142)0.4ｇを得た。Production Example 24 2- (4-chloro-2-fluorophenyl) -imino-
10 g of 3-methyl-4-trifluoromethylthiazoline
Was added to 50 ml of concentrated sulfuric acid under ice cooling, and then 2.1 g of fuming nitric acid was added. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was poured into ice, neutralized with an aqueous solution of sodium hydroxide, extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 10: 1) to obtain 3.2 g of compound (122). Production Example 25 19 g of the compound (a-3) obtained in Reference Example 1 below and 1,
10 g of 1,1-trifluoro-3-bromoacetone was heated under reflux in 200 ml of toluene for 1 hour and then concentrated. To the obtained residue, 150 ml of concentrated sulfuric acid was added and stirred for 3 hours. The reaction solution was poured into ice and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 6:
Then, the compound (247) (21 g) was obtained. Production Example 26 21 g of the compound (247) obtained in Production Example 25 was added to ethanol 150
2.5 g of hydrazine hydrate was added thereto, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. Then, it cooled to room temperature, filtered the reaction solution through Celite, and concentrated the filtrate. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane: ethyl acetate =
5: 1) to give 13.3 g of compound (211). Production Example 27 1.0 g of the compound (211) obtained in Production Example 26, 0.72 g of methyl chlorosulfonyloxyacetate and 0.7 g of potassium carbonate were stirred in 20 ml of chloroform at room temperature for 4 hours. After that, the reaction solution is poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer is dried over magnesium sulfate and then concentrated, and the residue is subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate =).
5: 1) to obtain 0.4 g of compound (142).

【００３３】製造例２８ 化合物(211)1.7ｇ、２−クロロスルホニルオキシプロピ
オン酸エチル 1.1ｇおよび炭酸カリウム 1.0ｇをクロロ
ホルム３０ml中室温で４時間攪拌した。その後反応液を
水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１）に付し、化合物(146) 0.31ｇを得た。 製造例２９ 化合物(211)0.5ｇとメタンスルホニルクロリド0.18ｇを
ピリジン４ml中室温で１時間攪拌した。その後反応液を
水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、有機層を希塩酸
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、化合物
(147) 0.48ｇを得た。 製造例３０ 化合物(211)0.5ｇと 2,2,2−トリフルオロエタンスルホ
ニルクロリド0.28ｇをピリジン４ml中、製造例２９と同
様に反応、処理して、化合物(149) 0.43ｇを得た。 製造例３１ 化合物(211)1.3ｇとクロロメタンスルホニルクロリド0.
62ｇをピリジン１０ml中、製造例２９と同様に反応、処
理して、化合物(150) 0.93ｇを得た。 製造例３２ 後記参考例２で得た化合物（ａ−５)2.9ｇと 1,1,1−ト
リフルオロ−３−ブロモアセトン 1.5ｇを製造例２５と
同様に反応、処理して、化合物(248) を得た。続いて、
該化合物(248) を製造例２６と同様に反応、処理して、
化合物(249)2.0ｇを得た。 製造例３３ 化合物(249)1.0ｇ、２−クロロスルホニルオキシプロピ
オン酸エチル0.85ｇおよび炭酸カリウム0.75ｇをクロロ
ホルム２０ml中製造例２８と同様に反応、処理して、化
合物(191)0.5ｇを得た。Production Example 28 1.7 g of compound (211), 1.1 g of ethyl 2-chlorosulfonyloxypropionate and 1.0 g of potassium carbonate were stirred in 30 ml of chloroform at room temperature for 4 hours. After that, the reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5:
Then, the compound (146) (0.31 g) was obtained. Production Example 29 0.5 g of compound (211) and 0.18 g of methanesulfonyl chloride were stirred in 4 ml of pyridine at room temperature for 1 hour. After that, the reaction solution was poured into water, extracted with diethyl ether, the organic layer was washed with diluted hydrochloric acid, dried over magnesium sulfate, and then concentrated to give a compound.
(147) 0.48 g was obtained. Production Example 30 0.5 g of the compound (211) and 0.28 g of 2,2,2-trifluoroethanesulfonyl chloride were reacted and treated in the same manner as in Production Example 29 in 4 ml of pyridine to obtain 0.43 g of the compound (149). Production Example 31 1.3 g of compound (211) and chloromethanesulfonyl chloride.
62 g of the compound was reacted and treated in 10 ml of pyridine in the same manner as in Production Example 29 to obtain 0.93 g of the compound (150). Production Example 32 2.9 g of the compound (a-5) obtained in Reference Example 2 below and 1.5 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were reacted and treated in the same manner as in Production Example 25 to give the compound (248 ) Got continue,
The compound (248) was reacted and treated in the same manner as in Production Example 26,
2.0 g of compound (249) was obtained. Production Example 33 1.0 g of compound (249), 0.85 g of ethyl 2-chlorosulfonyloxypropionate and 0.75 g of potassium carbonate were reacted and treated in 20 ml of chloroform in the same manner as in Production Example 28 to obtain 0.5 g of compound (191). .

【００３４】製造例３４ 化合物(249)0.5ｇとメタンスルホニルクロリド0.19ｇを
ピリジン５ml中、製造例２９と同様に反応、処理して、
化合物(192) 0.42ｇを得た。 製造例３５ 化合物(249)0.5ｇとクロロメタンスルホニルクロリド0.
24ｇをピリジン５ml中、製造例２９と同様に反応、処理
して、化合物(194) 0.51ｇを得た。 製造例３６ 製造例２６で得た化合物(211)0.3ｇと無水酢酸 0.1ｇを
酢酸５ml中室温で２時間攪拌した。反応液を水にあけ、
ジエチルエーテルで抽出し、有機層を飽和重曹水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、化合物(212)
0.27ｇを得た。 製造例３７ 化合物(211)0.3ｇと無水クロロ酢酸0.17ｇを酢酸５ml
中、製造例３６と同様に反応、処理して、化合物(213)
0.25ｇを得た。 製造例３８ 化合物(211)0.3ｇと無水トリフルオロ酢酸 0.2ｇを酢酸
５ml中、製造例３６と同様に反応、処理して、化合物(2
14) 0.21ｇを得た。Production Example 34 0.5 g of compound (249) and 0.19 g of methanesulfonyl chloride were reacted and treated in 5 ml of pyridine in the same manner as in Production Example 29,
0.42 g of compound (192) was obtained. Production Example 35 0.5 g of compound (249) and chloromethanesulfonyl chloride.
24 g of the compound was reacted and treated in the same manner as in Production Example 29 in 5 ml of pyridine to obtain 0.51 g of the compound (194). Production Example 36 0.3 g of the compound (211) obtained in Production Example 26 and 0.1 g of acetic anhydride were stirred in 5 ml of acetic acid at room temperature for 2 hours. Pour the reaction solution into water,
Extract with diethyl ether, wash the organic layer with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dry over magnesium sulfate, and concentrate to give compound (212).
0.27 g was obtained. Production Example 37 Compound (211) 0.3 g and chloroacetic anhydride 0.17 g were added to acetic acid 5 ml.
Inside, by reacting and treating in the same manner as in Production Example 36, the compound (213)
0.25 g was obtained. Production Example 38 0.3 g of compound (211) and 0.2 g of trifluoroacetic anhydride were reacted and treated in 5 ml of acetic acid in the same manner as in Production Example 36 to give compound (2
14) 0.21 g was obtained.

【００３５】製造例３９ 化合物(1-8)5.0ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン 3.8ｇをトルエン 100ml中で１時間加熱還流さ
せた。その後反応液を水にあけ、飽和重曹水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、その残渣を硫酸５
０mlに溶解し２時間攪拌した。反応終了後、反応役を氷
水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和重曹水で
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル５：１）に付し、化合物(228)4.1ｇを得た。 製造例４０ 製造例３９で得た化合物(228)7.0ｇをエタノール 100ml
に溶解した後、ヒドロキシルアミン塩酸塩 2.2ｇとトリ
エチルアミン 2.2ｇを加え、２時間加熱還流した。反応
終了後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、化合物(229) 4.05
ｇを得た。 製造例４１ 製造例４０で得た化合物(229)1.0ｇとクロロ酢酸メチル
0.32ｇをジメチルホルムアミド中、炭酸カリウム 0.6ｇ
を加え、５０℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応液
を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝５：１）に付し、化合物(232) 0.45ｇを得
た。 製造例４２ 化合物(1-9)5.2ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン 4.1ｇを製造例３９と同様に反応、処理して、
化合物(240)4.4ｇを得た。 製造例４３ 製造例４２で得た化合物(240)4.0ｇとヒドロキシルアミ
ン塩酸塩1.28ｇおよびトリエチルアミン 1.6ｇを製造例
４０と同様に反応、処理して、化合物(241) 4.05ｇを得
た。 製造例４４ 製造例４３で得た化合物(241)2.0ｇとクロロ酢酸メチル
0.6ｇを製造例４１と同様に反応、処理して、化合物(2
43) 1.62ｇを得た。Production Example 39 5.0 g of compound (1-8) and 3.8 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were heated to reflux in 100 ml of toluene for 1 hour. After that, the reaction solution is poured into water and washed with saturated sodium bicarbonate water,
After drying over magnesium sulphate and concentrating, the residue is treated with sulfuric acid 5
It was dissolved in 0 ml and stirred for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dried over magnesium sulfate and concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
It was attached to ethyl acetate 5: 1) to obtain 4.1 g of the compound (228). Production Example 40 7.0 g of the compound (228) obtained in Production Example 39 was added to 100 ml of ethanol.
Then, 2.2 g of hydroxylamine hydrochloride and 2.2 g of triethylamine were added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After completion of the reaction, pour into water, extract with ethyl acetate, wash with water,
After drying over magnesium sulfate and concentration, compound (229) 4.05
g was obtained. Production Example 41 1.0 g of the compound (229) obtained in Production Example 40 and methyl chloroacetate
0.62 g of potassium carbonate in 0.32 g of dimethylformamide
Was added and stirred at 50 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with diethyl ether, washed with water,
The extract was dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1) to obtain 0.45 g of compound (232). Production Example 42 5.2 g of compound (1-9) and 4.1 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were reacted and treated in the same manner as in Production Example 39,
4.4 g of compound (240) was obtained. Production Example 43 4.0 g of the compound (240) obtained in Production Example 42, 1.28 g of hydroxylamine hydrochloride and 1.6 g of triethylamine were reacted and treated in the same manner as in Production Example 40 to obtain 4.05 g of the compound (241). Production Example 44 2.0 g of the compound (241) obtained in Production Example 43 and methyl chloroacetate
0.6 g was reacted and treated in the same manner as in Production Example 41 to give compound (2
43) 1.62 g was obtained.

【００３６】製造例４５ 化合物(1-11) 2.0ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロ
モアセトン２mlをトルエン３０ml中４時間加熱還流し
た。反応終了後水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層
を飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃
縮して得られた残渣に濃硫酸２０mlを加え、室温で３０
分間攪拌した。反応終了後、水にあけ、酢酸エチルで抽
出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝６：１）に付し、化合物(118)1.8ｇを
得た。 製造例４６ 製造例４５で得た化合物(118)1.1ｇを 1,4−ジオキサン
７mlと水２mlの混合溶媒に溶解し、これに水酸化カリウ
ム 0.2ｇを加え、室温で１４時間攪拌した。反応終了
後、氷冷下で、濃塩酸５mlを加え、酢酸エチルで抽出
し、有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
濃縮して、化合物(117)1.0ｇを得た。 製造例４７ 製造例４６で得た化合物(117) 0.45ｇを塩化チオニル５
mlに溶解し、２時間加熱還流した。反応終了後、そのま
ま濃縮し、その粗生成物をクロロホルム５mlに溶解し、
これにピリジン１mlおよびエタノール 0.5mlを加え室温
で３時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢
酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮後、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）に付し、化合物(22
3) 0.31ｇを得た。 製造例４８ 化合物(117) 0.45ｇを、エタノールにかえてイソプロピ
ルアルコールを用いる以外は製造例４７と同様に反応、
処理して、化合物(119) 0.21ｇを得た。Production Example 45 2.0 g of the compound (1-11) and 2 ml of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were heated to reflux in 30 ml of toluene for 4 hours. After completion of the reaction, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dried over magnesium sulfate, and concentrated to give a residue.
Stir for minutes. After completion of the reaction, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated, and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 6: 1) to give the compound ( 118) 1.8 g was obtained. Production Example 46 1.1 g of the compound (118) obtained in Production Example 45 was dissolved in a mixed solvent of 7 ml of 1,4-dioxane and 2 ml of water, 0.2 g of potassium hydroxide was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 14 hours. After the reaction was completed, 5 ml of concentrated hydrochloric acid was added under ice cooling, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate,
Concentration gave 1.0 g of compound (117). Production Example 47 0.45 g of the compound (117) obtained in Production Example 46 was treated with thionyl chloride 5
It was dissolved in ml and heated under reflux for 2 hours. After the reaction was completed, the reaction mixture was concentrated and the crude product was dissolved in 5 ml of chloroform.
To this, 1 ml of pyridine and 0.5 ml of ethanol were added and stirred at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with ethyl acetate, the organic layer is dried over magnesium sulfate, concentrated, and then subjected to preparative thin layer chromatography (developing solvent;
Hexane: ethyl acetate = 10: 1) to give the compound (22
3) 0.31 g was obtained. Production Example 48 A reaction was conducted in the same manner as in Production Example 47 except that 0.45 g of compound (117) was used in place of ethanol and isopropyl alcohol was used,
Treatment gave 0.21 g of compound (119).

【００３７】製造例４９ 化合物(1-7)4.0ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン 2.8ｇを製造例３９と同様に反応、処理して、
化合物(501)3.8ｇを得た。 製造例５０ 化合物(1-6)1.4ｇと 1,1,1−トリフルオロ−３−ブロモ
アセトン 1.0mlを製造例３９と同様に反応、処理して、
化合物(609)0.2ｇを得た。 製造例５１ 化合物(1-5)0.8ｇと 1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−４−
ブロモ−３−ブタノン0.76ｇを製造例３９と同様に反
応、処理して、化合物(434) 0.25ｇを得た。 製造例５２ 化合物(1-3)0.9ｇと 1,1,1,2,2−ペンタフルオロ−４−
ブロモ−３−ブタノン0.7ｇを製造例３９と同様に反
応、処理して、化合物(330) 0.89ｇを得た。 製造例５３ 化合物(1-3) 2.25ｇと２，４−ジクロロ−４，４−ジフ
ルオロアセト酢酸エチル 1.7ｇをイソプロパノール３０
ml中で２時間加熱還流させた。その後濃縮し、８０％硫
酸３０mlを加え、１０時間加熱還流した。反応終了後、
氷にあけ、反応液を希NaOH水で中和し、酢酸エチルで抽
出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝５：１）に付し、化合物(332) 0.25ｇを得た。Production Example 49 4.0 g of the compound (1-7) and 2.8 g of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were reacted and treated in the same manner as in Production Example 39,
3.8 g of compound (501) was obtained. Production Example 50 1.4 g of compound (1-6) and 1.0 ml of 1,1,1-trifluoro-3-bromoacetone were reacted and treated in the same manner as in Production Example 39,
0.2 g of compound (609) was obtained. Production Example 51 Compound (1-5) 0.8 g and 1,1,1,2,2-pentafluoro-4-
Bromo-3-butanone (0.76 g) was reacted and treated in the same manner as in Production Example 39 to obtain 0.25 g of compound (434). Production Example 52 Compound (1-3) 0.9 g and 1,1,1,2,2-pentafluoro-4-
0.79 g of bromo-3-butanone was reacted and treated in the same manner as in Production Example 39 to obtain 0.89 g of compound (330). Production Example 53 2.25 g of the compound (1-3) and 1.7 g of ethyl 2,4-dichloro-4,4-difluoroacetoacetate were added to 30 parts of isopropanol.
Heated to reflux in ml for 2 hours. Thereafter, the mixture was concentrated, 30 ml of 80% sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 10 hours. After the reaction,
Pour on ice, neutralize the reaction solution with diluted NaOH water, extract with ethyl acetate, dry the organic layer over magnesium sulfate and concentrate, and subject the residue to silica gel chromatography (hexane: ethyl acetate = 5: 1). Then, 0.25 g of the compound (332) was obtained.

【００３８】製造例５４ 化合物(1-12) 4.1ｇと３−ブロモ−１，１，１−トリフ
ルオロアセトン 3.2ｇをトルエン 100ml中に加え、加熱
還流下に２時間反応させた。反応終了後、反応液を水に
注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝３：１）に付し、化合物(424) 1.47ｇを得
た。 製造例５５ 化合物(1-13) 2.1ｇと３−ブロモ−１，１，１−トリフ
ルオロアセトン 1.5ｇをトルエン５０ml中に加え、加熱
還流下に２時間反応させた。反応終了後、反応液を水に
注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝３：１）に付し、化合物(425) 0.92ｇを得
た。 製造例５６ 化合物(1-14) 1.9ｇと３−ブロモ−１，１，１−トリフ
ルオロアセトン 1.4ｇをトルエン５０ml中に加え、加熱
還流下に２時間反応させた。反応終了後、反応液を水に
注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝３：１）に付し、化合物(412) 0.34ｇを得
た。 製造例５７ 化合物(1-5)3.0ｇとα−クロロアセトフェノン 1.7ｇを
トルエン５０ml中に加え、加熱還流下に３時間反応させ
た。反応終了後、反応液を水に注加し、飽和重曹水を加
えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）に
付し、化合物(437)2.6ｇを得た。 製造例５８ 化合物(1-5)4.0ｇとブロモピルビン酸エチル 3.2ｇをト
ルエン 200ml中に加え、加熱還流下に２時間反応させ
た。反応終了後、反応液を水に注加し、飽和重曹水を加
えて酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥した後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）に
付し、化合物(438)2.7ｇを得た。 製造例５９ 製造例５８で得た化合物(438)2.7ｇと水酸化ナトリウム
0.50ｇを水／１，４−ジオキサン（１／１)100ml中に加
え、室温で２時間反応させた。１Ｎ塩酸で中和した後、
反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、化合物(439)
1.7ｇを得た。Production Example 54 4.1 g of the compound (1-12) and 3.2 g of 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone were added to 100 ml of toluene, and the mixture was reacted with heating under reflux for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
It was attached to ethyl acetate = 3: 1) to obtain 1.47 g of compound (424). Production Example 55 2.1 g of the compound (1-13) and 1.5 g of 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone were added to 50 ml of toluene, and the mixture was reacted under heating under reflux for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
It was attached to ethyl acetate = 3: 1) to obtain 0.92 g of the compound (425). Production Example 56 1.9 g of compound (1-14) and 1.4 g of 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone were added to 50 ml of toluene, and the mixture was reacted for 2 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
It was attached to ethyl acetate = 3: 1) to obtain 0.34 g of compound (412). Production Example 57 3.0 g of the compound (1-5) and 1.7 g of α-chloroacetophenone were added to 50 ml of toluene and reacted under heating under reflux for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain 2.6 g of compound (437). Production Example 58 4.0 g of the compound (1-5) and 3.2 g of ethyl bromopyruvate were added to 200 ml of toluene, and the mixture was reacted under heating under reflux for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then concentrated. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 3: 1) to obtain 2.7 g of compound (438). Production Example 59 2.7 g of the compound (438) obtained in Production Example 58 and sodium hydroxide
0.50 g was added to 100 ml of water / 1,4-dioxane (1/1) and reacted at room temperature for 2 hours. After neutralizing with 1N hydrochloric acid,
The reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then concentrated to give compound (439).
1.7 g was obtained.

【００３９】製造例６０ 製造例５９で得た化合物(439) 0.50ｇに塩化チオニル１
０mlを加えて、５０℃で２時間反応させた。濃縮した
後、残渣をイソプロパノールに懸濁させ、これに室温中
でアンモニアガスを吹き込んで反応させた。反応液を水
に注加し、酢酸エチルで抽出した後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濃縮し、化合物(440)0.40ｇを得
た。 製造例６１ 製造例６０で得た化合物(440) 0.50ｇと塩化チオニル0.
50ｇをＤＭＦ１５ml中に加え、室温で３時間反応させ
た。反応終了後、反応液を氷中に注加し、酢酸エチルで
抽出した後、飽和重曹水で洗浄し、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濃縮し、化合物(441) 0.15ｇを得た。 製造例６２ 化合物(104) 0.50ｇをエタノール３０ml中に溶解し、こ
れにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて加熱還流下
に８時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(250) 0.15ｇ
を得た。 製造例６３ 化合物(104) 0.50ｇをｎ−プロパノール３０ml中に溶解
し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて加熱
還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮
し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(251)
0.25ｇを得た。 製造例６４ 化合物(104) 0.50ｇをイソプロパノール３０ml中に溶解
し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて加熱
還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮
し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(252)
0.15ｇを得た。 製造例６５ 化合物(104) 0.50ｇをベンジルアルコール１０ml中に溶
解し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて加
熱還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液をそ
のままシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキ
サン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(253) 0.30
ｇを得た。Production Example 60 0.50 g of the compound (439) obtained in Production Example 59 was mixed with 1 part of thionyl chloride.
0 ml was added and reacted at 50 ° C. for 2 hours. After concentrating, the residue was suspended in isopropanol and ammonia gas was blown into this at room temperature to react. The reaction mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and concentrated to give compound (440) 0.40 g. Production Example 61 0.50 g of the compound (440) obtained in Production Example 60 and thionyl chloride were added.
50 g was added to 15 ml of DMF and reacted at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice, extracted with ethyl acetate, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, the organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated to give compound (441) 0.15 g. Production Example 62 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of ethanol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated, and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give compound (250) 0.15 g.
Got Production Example 63 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of n-propanol, a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added thereto, and the mixture was reacted under heating and reflux for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent;
Hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give compound (251)
0.25 g was obtained. Production Example 64 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of isopropanol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent;
Hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give compound (252)
0.15 g was obtained. Production Example 65 0.50 g of compound (104) was dissolved in 10 ml of benzyl alcohol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was directly subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give compound (253) 0.30.
g was obtained.

【００４０】製造例６６ 化合物(104) 0.50ｇをアリルアルコール３０ml中に溶解
し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて加熱
還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮
し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(255)
0.25ｇを得た。 製造例６７ 化合物(104) 0.50ｇを３−ブテン−１−オル３０ml中に
溶解し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて
加熱還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液を
濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(2
56) 0.40ｇを得た。 製造例６８ 化合物(104) 0.50ｇを２−メトキシエタノール３０ml中
に溶解し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加え
て加熱還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液
を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物
(257) 0.35ｇを得た。 製造例６９ 化合物(104) 0.50ｇをシクロペンタノール３０ml中に溶
解し、これにｐ−トルエンスルホン酸を触媒量加えて加
熱還流下に８時間反応させた。反応終了後、反応液を濃
縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物(2
58) 0.40ｇを得た。 製造例７０ 化合物(1-15) 5.7ｇと３−ブロモ−１，１，１−トリフ
ルオロアセトン 3.8ｇをトルエン 100ml中に加え、加熱
還流下に２時間反応させた。反応終了後、反応液を水に
注加し、飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル３：１）に付し、化合物(116)6.3ｇを得た。Production Example 66 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of allyl alcohol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent;
Hexane: ethyl acetate = 9: 1), and the compound (255)
0.25 g was obtained. Production Example 67 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of 3-butene-1-ol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give the compound (2
56) 0.40 g was obtained. Production Example 68 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of 2-methoxyethanol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated, and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give the compound.
(257) 0.35 g was obtained. Production Example 69 0.50 g of compound (104) was dissolved in 30 ml of cyclopentanol, and a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added to the solution, and the mixture was reacted for 8 hours while heating under reflux. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give the compound (2
58) 0.40 g was obtained. Production Example 70 5.7 g of the compound (1-15) and 3.8 g of 3-bromo-1,1,1-trifluoroacetone were added to 100 ml of toluene, and the mixture was reacted under heating and reflux for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, the organic layer was dried over magnesium sulfate, and then concentrated. Silica gel chromatography of the residue (developing solvent; hexane:
It was attached to ethyl acetate 3: 1) to obtain 6.3 g of compound (116).

【００４１】本発明化合物の例のいくつかを化合物番号
とともに表１〜表１７に示す。Some examples of the compounds of the present invention are shown in Tables 1 to 17 together with the compound numbers.

【表１】 [Table 1]

【００４２】[0042]

【表２】 [Table 2]

【００４３】[0043]

【表３】 [Table 3]

【００４４】[0044]

【表４】 [Table 4]

【００４５】[0045]

【表５】 [Table 5]

【００４６】[0046]

【表６】 [Table 6]

【００４７】[0047]

【表７】 [Table 7]

【００４８】[0048]

【表８】 [Table 8]

【００４９】[0049]

【表９】 [Table 9]

【００５０】[0050]

【表１０】 [Table 10]

【００５１】[0051]

【表１１】 [Table 11]

【００５２】[0052]

【表１２】 [Table 12]

【００５３】[0053]

【表１３】 [Table 13]

【００５４】[0054]

【表１４】 [Table 14]

【００５５】[0055]

【表１５】 [Table 15]

【００５６】[0056]

【表１６】 [Table 16]

【００５７】[0057]

【表１７】 [Table 17]

【００５８】表１〜表１７に示した化合物のいくつかに
ついて融点または 1Ｈ−ＮＭＲ（特に表示のない限りCD
Cl3 ,60MHz, δ(ppm))データを示す。 化合物 101 融点 94.9℃ 化合物 102 1Ｈ−ＮＭＲ 2.15(s,3H)、3.40(s,3
H)、3.64(s,2H)、3.68(s,3H)、5.51(s,1H)、7.14(d,1H,
J=10Hz) 、7.24(d,1H,J=8Hz) 化合物 103 融点 100.7℃ 化合物 104 1Ｈ−ＮＭＲ 3.50(s,3H)、3.60(s,2
H)、3.67(s,3H)、6.57(s,1H)、7.18(d,1H,J=11Hz) 、7.
20(d,1H,J=9Hz) 化合物 105 1Ｈ−ＮＭＲ 1.38(s,9H)、3.63(s,3
H)、3.68(s,5H)、5.66(s,1H)、7.16(d,1H,J=10Hz) 、7.
23(d,1H,J=8Hz) 化合物 106 1Ｈ−ＮＭＲ 1.32(d,6H,J=6Hz)、2.05
(3H,s)、3.39(3H,s)、4.42(1H,sp,J=6Hz) 、5.57(1H,
s)、6.77(1H,d,J=8Hz)、7.08(1H,d,J=10Hz) 化合物 107 1Ｈ−ＮＭＲ 1.31(6H,d,J=6Hz)、1.33
(9H,s)、3.58(3H,s)、4.41(1H,sp,J=6Hz) 、5.60(s,1
H)、6.78(1H,d,J=8Hz)、7.11(1H,d,J=10Hz) 化合物 108 融点 60.9℃ 化合物 109 融点 119.4℃（分解） 化合物 110 1 Ｈ−ＮＭＲ 1.25(3H,t,J=7Hz)、1.
65(3H,d,J=7Hz)、3.52(3H,s)、4.20(2H,q,J=7Hz)、4.63
(1H,q,J=7Hz)、6.54(1H,s)、6.62(1H,d,J=8Hz)、7.14(1
H,d,J=8Hz) 化合物 111 融点 118.7℃ 化合物 112 融点 88.2 ℃ 化合物 113 1Ｈ−ＮＭＲ 3.55(3H,s)、4.56(2H,d,
J=5Hz)、5.38〜6.40(3H,m)、6.56(1H,s)、6.64(1H,d,J=
7Hz)、7.16(1H,d,J=10Hz) 化合物 114 融点 85.6 ℃ 化合物 115 融点 91.5 ℃ 化合物 116 1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ,300MHz,δ(ppm))
1.51(d,3H,J=7.11Hz)、3.55(s,3H)、3.67(s,3H)、3.8
5(q,1H,J=7.11Hz) 、6.57(s,1H)、7.23(d,1H,J=9.99Hz)
、7.29(d,1H,J=8.53Hz) 化合物 117 融点149.4 ℃ 化合物 118 1Ｈ−ＮＭＲ〔300MHz, CDCl3 〕 3.55
(s,3H)、3.90(s,3H)、6.57(s,1H)、7.23(d,1H,J=10Hz)
、7.67(d,1H,J=8.7Hz) 化合物 119 1Ｈ−ＮＭＲ〔300MHz, CDCl3 〕 1.35
(d,3H,J=6.2Hz)、1.37(d,3H,J=6.2Hz)、3.56(s,3H)、4.
78(hp,0.5H,J=6.2Hz) 、5.25(hp,0.5H,J=6.2Hz)、6.58
(s,1H)、7.22(d,1H,J=10.1Hz) 、7.59(d,1H,J=8.8Hz) 化合物 122 1Ｈ−ＮＭＲ 3.57(s,3H)、6.61(s,1
H)、7.25(d,1H,J=10Hz) 、7.72(d,1H,J=8Hz) 化合物 142 融点128.7 ℃ 化合物 146 1Ｈ−ＮＭＲ 1.23(t,3H,J=7Hz)、1.49
(d,3H,J=7Hz)、3.49(s,3H)、 3.9〜4.82(complex,4H)、
6.25(d,1H,J=8Hz)、6.49(s,1H)、7.14(d,1H,J=10Hz) 化合物 147 融点159.7 ℃ 化合物 149 融点123.6 ℃ 化合物 150 融点121.8 ℃ 化合物 191 融点 72.1 ℃ 化合物 192 1Ｈ−ＮＭＲ 3.00(s,3H)、3.53(s,3
H)、6.51(s,1H)、6.21(dd,1H,J=3.8Hz) 、7.00(d,1H,J=
3Hz)、7.31(d,1H,J=8Hz)、7.49(bs, 1H) 化合物 194 融点141.4 ℃For some of the compounds shown in Tables 1 to 17, melting points or 1 H-NMR (CD
Cl 3 , 60MHz, δ (ppm)) data is shown. Compound 101 Melting point 94.9 ° C. Compound 102 1 H-NMR 2.15 (s, 3H), 3.40 (s, 3
H), 3.64 (s, 2H), 3.68 (s, 3H), 5.51 (s, 1H), 7.14 (d, 1H,
J = 10Hz), 7.24 (d, 1H, J = 8Hz) Compound 103 Melting point 100.7 ° C Compound 104 1 H-NMR 3.50 (s, 3H), 3.60 (s, 2
H), 3.67 (s, 3H), 6.57 (s, 1H), 7.18 (d, 1H, J = 11Hz), 7.
20 (d, 1H, J = 9Hz) Compound 105 1 H-NMR 1.38 (s, 9H), 3.63 (s, 3
H), 3.68 (s, 5H), 5.66 (s, 1H), 7.16 (d, 1H, J = 10Hz), 7.
23 (d, 1H, J = 8Hz) Compound 106 1 H-NMR 1.32 (d, 6H, J = 6Hz), 2.05
(3H, s), 3.39 (3H, s), 4.42 (1H, sp, J = 6Hz), 5.57 (1H, s
s), 6.77 (1H, d, J = 8Hz), 7.08 (1H, d, J = 10Hz) Compound 107 1 H-NMR 1.31 (6H, d, J = 6Hz), 1.33
(9H, s), 3.58 (3H, s), 4.41 (1H, sp, J = 6Hz), 5.60 (s, 1
H), 6.78 (1H, d, J = 8Hz), 7.11 (1H, d, J = 10Hz) Compound 108 Melting point 60.9 ° C Compound 109 Melting point 119.4 ° C (decomposition) Compound 110 1 H-NMR 1.25 (3H, t, J = 7Hz), 1.
65 (3H, d, J = 7Hz), 3.52 (3H, s), 4.20 (2H, q, J = 7Hz), 4.63
(1H, q, J = 7Hz), 6.54 (1H, s), 6.62 (1H, d, J = 8Hz), 7.14 (1
H, d, J = 8Hz) Compound 111 Melting point 118.7 ° C Compound 112 Melting point 88.2 ° C Compound 113 1 H-NMR 3.55 (3H, s), 4.56 (2H, d,
J = 5Hz), 5.38-6.40 (3H, m), 6.56 (1H, s), 6.64 (1H, d, J =
7Hz), 7.16 (1H, d, J = 10Hz) Compound 114 Melting point 85.6 ° C Compound 115 Melting point 91.5 ° C Compound 116 1 H-NMR (CDCl 3 , 300MHz, δ (ppm))
1.51 (d, 3H, J = 7.11Hz), 3.55 (s, 3H), 3.67 (s, 3H), 3.8
5 (q, 1H, J = 7.11Hz), 6.57 (s, 1H), 7.23 (d, 1H, J = 9.99Hz)
, 7.29 (d, 1H, J = 8.53Hz) Compound 117 Melting point 149.4 ° C Compound 118 1 H-NMR [300MHz, CDCl 3 ] 3.55
(s, 3H), 3.90 (s, 3H), 6.57 (s, 1H), 7.23 (d, 1H, J = 10Hz)
, 7.67 (d, 1H, J = 8.7Hz) Compound 119 1 H-NMR [300MHz, CDCl 3 ] 1.35
(d, 3H, J = 6.2Hz), 1.37 (d, 3H, J = 6.2Hz), 3.56 (s, 3H), 4.
78 (hp, 0.5H, J = 6.2Hz), 5.25 (hp, 0.5H, J = 6.2Hz), 6.58
(s, 1H), 7.22 (d, 1H, J = 10.1Hz), 7.59 (d, 1H, J = 8.8Hz) Compound 122 1 H-NMR 3.57 (s, 3H), 6.61 (s, 1
H), 7.25 (d, 1H, J = 10Hz), 7.72 (d, 1H, J = 8Hz) Compound 142 Melting point 128.7 ° C Compound 146 1 H-NMR 1.23 (t, 3H, J = 7Hz), 1.49
(d, 3H, J = 7Hz), 3.49 (s, 3H), 3.9 ~ 4.82 (complex, 4H),
6.25 (d, 1H, J = 8Hz), 6.49 (s, 1H), 7.14 (d, 1H, J = 10Hz) Compound 147 Melting point 159.7 ° C Compound 149 Melting point 123.6 ° C Compound 150 Melting point 121.8 ° C Compound 191 Melting point 72.1 ° C Compound 192 1 H-NMR 3.00 (s, 3H), 3.53 (s, 3H)
H), 6.51 (s, 1H), 6.21 (dd, 1H, J = 3.8Hz), 7.00 (d, 1H, J =
3Hz), 7.31 (d, 1H, J = 8Hz), 7.49 (bs, 1H) Compound 194 Melting point 141.4 ° C

【００５９】化合物 211 1Ｈ−ＮＭＲ 3.50(s,3
H)、3.62〜4.03(br,2H) 、6.42(d,1H,J=8Hz)、6.49(s,1
H)、7.02(d,1H,J=10Hz) 化合物 212 融点176.8 ℃ 化合物 213 融点151.4 ℃ 化合物 214 融点108.1 ℃ 化合物 223 1Ｈ−ＮＭＲ〔300MHz, CDCl3 〕 1.39
(t,3H,J=7.1Hz)、3.55(s,3H)、4.37(q,2H,J=7.1Hz)、6.
57(s,1H)、7.22(d,1H,J=10.1Hz) 、7.64(d,1H,J=8.8Hz) 化合物 228 融点 63.4 ℃ 化合物 229 融点123.1 ℃ 化合物 232 1Ｈ−ＮＭＲ 2.28(s,3H)、3.50(s,3
H)、3.75(s,3H)、4.70(s,2H)、6.54(s,1H)、7.00(d,1H,
J=7Hz)、7.18(d,1H,J=9Hz) 化合物 240 1Ｈ−ＮＭＲ 2.21(s,3H)、3.51(s,3
H)、6.52(s,1H)、7.02(dd,1H,J=3.8Hz) 、7.22(d,1H,J=
3Hz)、7.38(d,1H,J=8Hz) 化合物 241 融点116.2 ℃ 化合物 243 1Ｈ−ＮＭＲ 2.17(s,1.05H) 、2.29
(s,1.95H) 、3.49(s,3H)、3.73(s,3H)、4.53(s,0.7H)、
4.70(s,1.3H)、6.50(s,1H)、6.80〜7.14(complex,2H)、
7.32(d,1H,J=9Hz)Compound 211 1 H-NMR 3.50 (s, 3
H), 3.62 to 4.03 (br, 2H), 6.42 (d, 1H, J = 8Hz), 6.49 (s, 1
H), 7.02 (d, 1H, J = 10Hz) Compound 212 Melting point 176.8 ° C Compound 213 Melting point 151.4 ° C Compound 214 Melting point 108.1 ° C Compound 223 1 H-NMR [300MHz, CDCl 3 ] 1.39
(t, 3H, J = 7.1Hz), 3.55 (s, 3H), 4.37 (q, 2H, J = 7.1Hz), 6.
57 (s, 1H), 7.22 (d, 1H, J = 10.1Hz), 7.64 (d, 1H, J = 8.8Hz) Compound 228 Melting point 63.4 ° C Compound 229 Melting point 123.1 ° C Compound 232 1 H-NMR 2.28 (s, 3H), 3.50 (s, 3
H), 3.75 (s, 3H), 4.70 (s, 2H), 6.54 (s, 1H), 7.00 (d, 1H,
J = 7Hz), 7.18 (d, 1H, J = 9Hz) Compound 240 1 H-NMR 2.21 (s, 3H), 3.51 (s, 3
H), 6.52 (s, 1H), 7.02 (dd, 1H, J = 3.8Hz), 7.22 (d, 1H, J =
3Hz), 7.38 (d, 1H, J = 8Hz) Compound 241 Melting point 116.2 ° C Compound 243 1 H-NMR 2.17 (s, 1.05H), 2.29
(s, 1.95H), 3.49 (s, 3H), 3.73 (s, 3H), 4.53 (s, 0.7H),
4.70 (s, 1.3H), 6.50 (s, 1H), 6.80 ~ 7.14 (complex, 2H),
7.32 (d, 1H, J = 9Hz)

【００６０】化合物 247 融点159.2 ℃ 化合物 250 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 300MHz, δ(pp
m)) 1.23(3H,t,J=7.15Hz) 、3.54(3H,s)、3.62(2H,
s)、4.16(2H,q,J=7.15Hz) 、6.57(1H,s)、7.21(1H,d,J=
8.33Hz) 、7.21(1H,d,J=9.96Hz) 化合物 251 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 250MHz, δ(pp
m)) 0.91(3H,t,J=7.40Hz) 、 1.57 〜1.71(2H,m)、3.5
5(3H,s)、3.65(2H,s)、4.07(2H,t,J=6.09Hz) 、6.58(1
H,s)、7.22(1H,d,J=9.04Hz) 、7.22(1H,d,J=9.04Hz) 化合物 252 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 250MHz, δ(pp
m)) 1.21(6H,d,J=6.25Hz) 、 3.54(3H,s) 、3.61(2H,
s)、5.00(1H,qq,J=6.25Hz)、6.58(1H,s)、7.20(1H,d,J=
10.1Hz) 、7.21(1H,d,J=8.18Hz) 化合物 253 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 250MHz, δ(pp
m)) 3.53(3H,s)、3.67(2H,s)、5.13(2H,s)、6.52(1H,
s)、7.13〜7.42(7H,m) 化合物 255 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 300MHz, δ(pp
m)) 3.54(3H,s)、3.65(2H,s)、4.59(2H,d,J=4.81Hz)
、5.16〜5.32(2H,m)、5.79〜5.99(1H,m)、6.56(1H,
s)、7.20(1H,d,J=9.95Hz) 、7.22(1H,d,J=8.34Hz) 化合物 256 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 300MHz, δ(pp
m)) 2.35(2H,td,J=6.78,6.78Hz) 、3.54(3H,s)、3.63
(2H,s)、4.15(2H,t,J=6.78Hz) 、5.02〜5.11(2H,m)、5.
66〜5.79(1H,m)、6.56(1H,s)、7.20(1H,d,J=8.7Hz)、7.
20(1H,d,J=9.64Hz) 化合物 257 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 300MHz, δ(pp
m)) 3.35(3H,s)、3.54(3H,s)、3.56(2H,t,J=4.74Hz)
、3.67(2H,s)、4.25(2H,t,J=4.74Hz) 、6.57(1H,s)、
7.20(1H,d,J=9.94Hz) 、7.22(1H,d,J=8.34Hz) 化合物 258 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 300MHz, δ(pp
m)) 1.53〜1.82(8H,m)、3.54(3H,s)、3.59(2H,s)、5.1
5〜5.19(1H,m)、6.57(1H,s)、7.19(1H,d,J=8.87Hz) 、
7.20(1H,d,J=9.61Hz)Compound 247 Melting point 159.2 ° C. Compound 250 1 H-NMR (CDCl 3 , 300 MHz, δ (pp
m)) 1.23 (3H, t, J = 7.15Hz), 3.54 (3H, s), 3.62 (2H,
s), 4.16 (2H, q, J = 7.15Hz), 6.57 (1H, s), 7.21 (1H, d, J =
8.33Hz), 7.21 (1H, d, J = 9.96Hz) Compound 251 1 H-NMR (CDCl 3 , 250MHz, δ (pp
m)) 0.91 (3H, t, J = 7.40Hz), 1.57 to 1.71 (2H, m), 3.5
5 (3H, s), 3.65 (2H, s), 4.07 (2H, t, J = 6.09Hz), 6.58 (1
H, s), 7.22 (1H, d, J = 9.04Hz), 7.22 (1H, d, J = 9.04Hz) Compound 252 1 H-NMR (CDCl 3 , 250MHz, δ (pp
m)) 1.21 (6H, d, J = 6.25Hz), 3.54 (3H, s), 3.61 (2H,
s), 5.00 (1H, qq, J = 6.25Hz), 6.58 (1H, s), 7.20 (1H, d, J =
10.1Hz), 7.21 (1H, d, J = 8.18Hz) Compound 253 1 H-NMR (CDCl 3 , 250MHz, δ (pp
m)) 3.53 (3H, s), 3.67 (2H, s), 5.13 (2H, s), 6.52 (1H, s)
s), 7.13 to 7.42 (7H, m) compound 255 1 H-NMR (CDCl 3 , 300 MHz, δ (pp
m)) 3.54 (3H, s), 3.65 (2H, s), 4.59 (2H, d, J = 4.81Hz)
, 5.16 to 5.32 (2H, m), 5.79 to 5.99 (1H, m), 6.56 (1H, m)
s), 7.20 (1H, d, J = 9.95Hz), 7.22 (1H, d, J = 8.34Hz) Compound 256 1 H-NMR (CDCl 3 , 300MHz, δ (pp
m)) 2.35 (2H, td, J = 6.78,6.78Hz), 3.54 (3H, s), 3.63
(2H, s), 4.15 (2H, t, J = 6.78Hz), 5.02-5.11 (2H, m), 5.
66 to 5.79 (1H, m), 6.56 (1H, s), 7.20 (1H, d, J = 8.7Hz), 7.
20 (1H, d, J = 9.64Hz) Compound 257 1 H-NMR (CDCl 3 , 300MHz, δ (pp
m)) 3.35 (3H, s), 3.54 (3H, s), 3.56 (2H, t, J = 4.74Hz)
, 3.67 (2H, s), 4.25 (2H, t, J = 4.74Hz), 6.57 (1H, s),
7.20 (1H, d, J = 9.94Hz), 7.22 (1H, d, J = 8.34Hz) Compound 258 1 H-NMR (CDCl 3 , 300MHz, δ (pp
m)) 1.53 to 1.82 (8H, m), 3.54 (3H, s), 3.59 (2H, s), 5.1
5 to 5.19 (1H, m), 6.57 (1H, s), 7.19 (1H, d, J = 8.87Hz),
7.20 (1H, d, J = 9.61Hz)

【００６１】化合物 301 融点 158.9℃ 化合物 302 1Ｈ−ＮＭＲ 0.87(t,3H,J=7Hz)、1.55
(d,3H,J=7Hz)、1.58〜2.35(m,2H)、3.57(s,3H)、4.47
(m,1H)、6.57(s,1H)、6.90(d,1H,J=7Hz)、7.17(d,1H,J=
10Hz) 化合物 303 1Ｈ−ＮＭＲ 0.86(t,3H,J=7Hz)、1.33
(s,9H)、1.50(d,3H,J=7Hz)、1.55〜2.30(m,2H)、3.63
(s,3H)、4.20〜4.80(m,1H)、5.64(s,1H)、7.0(d,1H,J=8
Hz) 、7.14(d,1H,J=10Hz) 化合物 330 1Ｈ−ＮＭＲ 0.87(t,3H,J=7Hz)、1.44
〜2.40(complex,5H)、3.57(s,3H)、4.50(sextet,1H,J=7
Hz) 、6.55(s,1H)、6.88(d,1H,J=7Hz)、7.12(d,1H,J=10
Hz) 化合物 332 1Ｈ−ＮＭＲ 0.89(t,3H,J=7Hz)、1.48
〜2.45(complex,5H)、3.66(s,3H)、4.56(sextet,1H,J=7
Hz) 、6.58(s,1H)、6.94(d,1H,J=7Hz)、7.20(d,1H,J=10
Hz) 化合物 401 融点 179.2℃ 化合物 402 融点 119.5℃ 化合物 403 融点 148.7℃ 化合物 412 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 250MHz, δ(pp
m)) 3.56(3H,s) 、4,68(2H,s)、4.79(2H,s)、6.58(1
H,s)、6.76(1H,d,J=7.42Hz) 、6.88(1H,d,J=10.3Hz) 化合物 416 1Ｈ−ＮＭＲ 1.20(t,3H,J=7Hz) 、1.
62(d,3H,J=7Hz)、3.51(s,3H)、4,18(q,2H,J=7Hz)、4.57
(s,2H)、5.27(q,1H,J=7Hz)、6.52(d,1H,J=7Hz)、6.58
(s,1H)、6.81(d,1H,J=10Hz) 化合物 424 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 250MHz, δ(pp
m)) 2.27(1H,t,J=2.38Hz)、3.53(3H,s)、4,63(2H,
s)、4.66(2H,d,J=2.38Hz) 、6.51(1H,s)、6.71(1H,dd,J
=8.48,2.34Hz) 、6.88(1H,d,J=2.34Hz) 、6.98(1H,d,J=
8.48Hz) 化合物 431 1Ｈ−ＮＭＲ 0.59〜2.09(complex,9
H)、1.62(d,3H,J=7Hz)、3.54(s,3H)、4.12(t,2H,J=8H
z)、4.59(s,2H)、5.34(q,1H,J=7Hz)、6.52(d,1H,J=7H
z)、6.59(s,1H)、6.72(d,1H,J=11Hz) 化合物 434 1Ｈ−ＮＭＲ 2.27(t,1H,J=2Hz)、3.
56(s,3H)、4.59(s,4H)、6.50(s,1H)、6.77(d,1H,J=10H
z) 、6.85(d,1H,J=7Hz)Compound 301 Melting point 158.9 ° C. Compound 302 1 H-NMR 0.87 (t, 3H, J = 7 Hz), 1.55
(d, 3H, J = 7Hz), 1.58 to 2.35 (m, 2H), 3.57 (s, 3H), 4.47
(m, 1H), 6.57 (s, 1H), 6.90 (d, 1H, J = 7Hz), 7.17 (d, 1H, J =
10Hz) Compound 303 1 H-NMR 0.86 (t, 3H, J = 7Hz), 1.33
(s, 9H), 1.50 (d, 3H, J = 7Hz), 1.55 ~ 2.30 (m, 2H), 3.63
(s, 3H), 4.20 ~ 4.80 (m, 1H), 5.64 (s, 1H), 7.0 (d, 1H, J = 8
Hz), 7.14 (d, 1H, J = 10Hz) Compound 330 1 H-NMR 0.87 (t, 3H, J = 7Hz), 1.44
~ 2.40 (complex, 5H), 3.57 (s, 3H), 4.50 (sextet, 1H, J = 7
Hz), 6.55 (s, 1H), 6.88 (d, 1H, J = 7Hz), 7.12 (d, 1H, J = 10
Hz) Compound 332 1 H-NMR 0.89 (t, 3H, J = 7Hz), 1.48
~ 2.45 (complex, 5H), 3.66 (s, 3H), 4.56 (sextet, 1H, J = 7
Hz), 6.58 (s, 1H), 6.94 (d, 1H, J = 7Hz), 7.20 (d, 1H, J = 10
Hz) Compound 401 Melting point 179.2 ° C Compound 402 Melting point 119.5 ° C Compound 403 Melting point 148.7 ° C Compound 412 1 H-NMR (CDCl 3 , 250MHz, δ (pp
m)) 3.56 (3H, s), 4,68 (2H, s), 4.79 (2H, s), 6.58 (1
H, s), 6.76 (1H, d, J = 7.42Hz), 6.88 (1H, d, J = 10.3Hz) Compound 416 1 H-NMR 1.20 (t, 3H, J = 7Hz), 1.
62 (d, 3H, J = 7Hz), 3.51 (s, 3H), 4,18 (q, 2H, J = 7Hz), 4.57
(s, 2H), 5.27 (q, 1H, J = 7Hz), 6.52 (d, 1H, J = 7Hz), 6.58
(s, 1H), 6.81 (d, 1H, J = 10Hz) Compound 424 1 H-NMR (CDCl 3 , 250MHz, δ (pp
m)) 2.27 (1H, t, J = 2.38Hz), 3.53 (3H, s), 4,63 (2H,
s), 4.66 (2H, d, J = 2.38Hz), 6.51 (1H, s), 6.71 (1H, dd, J
= 8.48,2.34Hz), 6.88 (1H, d, J = 2.34Hz), 6.98 (1H, d, J =
8.48 Hz) Compound 431 1 H-NMR 0.59 to 2.09 (complex, 9
H), 1.62 (d, 3H, J = 7Hz), 3.54 (s, 3H), 4.12 (t, 2H, J = 8H
z), 4.59 (s, 2H), 5.34 (q, 1H, J = 7Hz), 6.52 (d, 1H, J = 7H
z), 6.59 (s, 1H), 6.72 (d, 1H, J = 11Hz) Compound 434 1 H-NMR 2.27 (t, 1H, J = 2Hz), 3.
56 (s, 3H), 4.59 (s, 4H), 6.50 (s, 1H), 6.77 (d, 1H, J = 10H
z), 6.85 (d, 1H, J = 7Hz)

【００６２】化合物 437 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 25
0MHz, δ(ppm)) 2.28(1H,t,J=2.43Hz)、3.40(3H,s)、
4,64(2H,s)、4.66(2H,d,J=2.43Hz) 、5.86(1H,s)、6.83
(1H,d,J=10.5Hz) 、7.01(1H,d,J=7.78Hz) 、7.37〜7.48
(5H,m) 化合物 438 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 300MHz, δ(pp
m)) 1.37(3H,t,J=7.16Hz)、2.25(1H,t,J=2.51Hz) 、
3.77(3H,s)、4,33(2H,q,J=7.16Hz) 、4.63(2H,s)、4.64
(2H,d,J=2.51Hz) 、6.81(1H,d,J=10.4Hz) 、6.90(1H,d,
J=7.75Hz) 、7.00(1H,s) 化合物 439 1Ｈ−ＮＭＲ (DMSO-d6, 250MHz,δ(pp
m)) 3.27(1H,t,J=2.36Hz)、3.63(3H,s)、4.71(4H,
s)、6.95(1H,d,J=8.08Hz) 、7.05(1H,d,J=10.9Hz) 、7.
27(1H,s) 化合物 441 1Ｈ−ＮＭＲ (CDCl3 , 250MHz, δ(pp
m)) 2.27(1H,t,J=2.42Hz)、3.58(3H,s)、4.64(4H,
s)、6.83(1H,d,J=11.57Hz)、6.87(1H,d,J=7.64Hz) 、7.
26(1H,s) 化合物 501 1Ｈ−ＮＭＲ 2.41(s,3H) 、3.53(s,3
H)、6.38(s,1H)、6.53(s,1H)、7.02(d,1H,J=11Hz) 化合物 609 1Ｈ−ＮＭＲ 1.85(3H,s) 、3.55(s,3
H)、3.50〜4.00(m,4H)、6.50(s,1H)、7.00(d,1H,J=10H
z)Compound 437 1 H-NMR (CDCl 3 , 25
0MHz, δ (ppm)) 2.28 (1H, t, J = 2.43Hz), 3.40 (3H, s),
4,64 (2H, s), 4.66 (2H, d, J = 2.43Hz), 5.86 (1H, s), 6.83
(1H, d, J = 10.5Hz), 7.01 (1H, d, J = 7.78Hz), 7.37 to 7.48
(5H, m) Compound 438 1 H-NMR (CDCl 3 , 300MHz, δ (pp
m)) 1.37 (3H, t, J = 7.16Hz), 2.25 (1H, t, J = 2.51Hz),
3.77 (3H, s), 4,33 (2H, q, J = 7.16Hz), 4.63 (2H, s), 4.64
(2H, d, J = 2.51Hz), 6.81 (1H, d, J = 10.4Hz), 6.90 (1H, d,
J = 7.75Hz), 7.00 (1H, s) Compound 439 1 H-NMR (DMSO-d6, 250MHz, δ (pp
m)) 3.27 (1H, t, J = 2.36Hz), 3.63 (3H, s), 4.71 (4H,
s), 6.95 (1H, d, J = 8.08Hz), 7.05 (1H, d, J = 10.9Hz), 7.
27 (1H, s) Compound 441 1 H-NMR (CDCl 3 , 250MHz, δ (pp
m)) 2.27 (1H, t, J = 2.42Hz), 3.58 (3H, s), 4.64 (4H,
s), 6.83 (1H, d, J = 11.57Hz), 6.87 (1H, d, J = 7.64Hz), 7.
26 (1H, s) Compound 501 1 H-NMR 2.41 (s, 3H), 3.53 (s, 3
H), 6.38 (s, 1H), 6.53 (s, 1H), 7.02 (d, 1H, J = 11Hz) Compound 609 1 H-NMR 1.85 (3H, s), 3.55 (s, 3
H), 3.50 to 4.00 (m, 4H), 6.50 (s, 1H), 7.00 (d, 1H, J = 10H
z)

【００６３】次に、本発明化合物を製造する際の中間体
の製造例を示す。 参考例１ （ｉ）Next, production examples of intermediates in producing the compound of the present invention will be shown. Reference example 1 (i)

【化３４】 特開昭54-19965号公報に記載の方法により得られた化合
物（ａ−１）３８ｇを硫酸 250mlに溶解させ、氷冷下で
発煙硝酸 9.0ｇを滴下した。２時間後、反応液を氷水に
あけ、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄し、炭酸カリウム
水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、５
−ニトロ体を含むその有機層を５％Ｐｄ−Ｃ触媒を用い
ることにより、水素添加した。反応終了後、触媒をろ別
し、有機層を濃縮し、その残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）
に付し、化合物（ａ−２）３１ｇを得た。 （ｉｉ）[Chemical 34] 38 g of the compound (a-1) obtained by the method described in JP-A-54-19965 was dissolved in 250 ml of sulfuric acid, and 9.0 g of fuming nitric acid was added dropwise under ice cooling. After 2 hours, the reaction solution was poured into ice water, extracted with ethyl acetate, washed with water, neutralized with an aqueous potassium carbonate solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then dried.
The organic layer containing the -nitro form was hydrogenated by using a 5% Pd-C catalyst. After completion of the reaction, the catalyst was filtered off, the organic layer was concentrated, and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1).
Then, 31 g of the compound (a-2) was obtained. (Ii)

【化３５】 化合物（ａ−２）２０ｇをトルエン 300mlに溶解し、チ
オホスゲン 9.3ｇを加え、２時間加熱還流した後、減圧
下に濃縮し、その残渣をクロロホルム 200mlに溶解し、
メチルアミン（４０％メタノール溶液） 8.0ｇを加え、
２時間、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を水にあ
け、希塩酸水で中和し、水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に
付し、化合物（ａ−３）１９ｇを得た。 参考例２[Chemical 35] 20 g of the compound (a-2) was dissolved in 300 ml of toluene, 9.3 g of thiophosgene was added, the mixture was heated under reflux for 2 hours, concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved in 200 ml of chloroform.
Add 8.0 g of methylamine (40% methanol solution),
Stir for 2 hours at room temperature. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, neutralized with dilute hydrochloric acid water, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and the residue is subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1). Compound (a-3) (19 g) was obtained. Reference example 2

【化３６】 化合物（ａ−４）から化合物（ａ−５）へ、参考例１と
同様の操作により導いた。[Chemical 36] The compound (a-4) was converted to the compound (a-5) by the same operation as in Reference Example 1.

【００６４】次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は
表１〜表１７の化合物番号で示す。部は重量部である。 製剤例１ 本発明化合物 101〜261, 301〜338, 401〜441, 501〜52
3 および 601〜628 の各々５０部、リグニンスルホン酸
カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合
成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して各々水和剤を
得る。 製剤例２ 本発明化合物 101〜261, 301〜338, 401〜441, 501〜52
3 および 601〜628 の各々１０部、ポリオキシエチレン
スチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンス
ルホン酸カルシウム６部、キシレン３５部およびシクロ
ヘキサノン３５部をよく混合して各々乳剤を得る。 製剤例３ 本発明化合物 101〜261, 301〜338, 401〜441, 501〜52
3 および 601〜628 の各々２部、合成含水酸化珪素２
部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト
３０部およびカオリンクレー６４部をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して各々粒剤を
得る。 製剤例４ 本発明化合物 101, 103, 301または 401〜403 の各々２
５部、ポリビニルアルコール１０％水溶液５０部、水２
５部を混合し、平均粒径が５マイクロメートル以下にな
るまで湿式粉砕して各々懸濁剤を得る。Formulation examples are shown below. The compounds of the present invention are shown by the compound numbers in Table 1 to Table 17. Parts are parts by weight. Formulation Example 1 Compound of the present invention 101-261, 301-338, 401-441, 501-52
50 parts of 3 and 601-628, 3 parts of calcium ligninsulfonate, 2 parts of sodium lauryl sulfate and 45 parts of synthetic hydrous silicon oxide are well pulverized and mixed to obtain wettable powders. Formulation Example 2 Compound of the present invention 101-261, 301-338, 401-441, 501-52
10 parts of 3 and 601-628, 14 parts of polyoxyethylene styryl phenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzene sulfonate, 35 parts of xylene and 35 parts of cyclohexanone are well mixed to obtain emulsions. Formulation Example 3 Compound of the present invention 101-261, 301-338, 401-441, 501-52
3 and 2 parts of 601-628, synthetic hydrous silicon oxide 2
Parts, 2 parts of calcium lignin sulfonate, 30 parts of bentonite and 64 parts of kaolin clay are well pulverized and mixed,
After adding water and kneading well, it is granulated and dried to obtain granules. Formulation Example 4 Each of compounds 101, 103, 301 or 401 to 403 of the present invention 2
5 parts, polyvinyl alcohol 10% aqueous solution 50 parts, water 2
5 parts are mixed and wet pulverized until the average particle diameter becomes 5 μm or less to obtain a suspension agent.

【００６５】次に、本発明化合物が除草剤の有効成分と
して有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合
物は、表１〜表１７の化合物番号で示す。除草効力およ
び作物に対する薬害の評価は、調査時の供試植物の出芽
または生育の状態が無処理のそれと比較して全くないし
ほとんど違いがないものを「０」とし、供試植物が完全
枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されているも
のを「５」として、０〜５の６段階に区分し、０、１、
２、３、４、５で示す。除草効力の評価「４」および
「５」は優れた除草効力を意味し、評価「３」以下は不
十分な除草効力を意味する。作物薬害の評価「０」およ
び「１」は薬害が実用上問題とならないことを意味し、
評価「２」以上は薬害が許容されないことを意味する。 試験例１ 畑地土壌表面処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、イチビを播種した。製剤例２に準じて供試
化合物(104) 、(150) 、(402) および(434) の各々を乳
剤にし、その所定量を水で希釈し、その希釈液を１ヘク
タールあたり1000リットル相当の量で、噴霧器を用いて
土壌表面全面に均一に散布した。その時の供試化合物の
有効成分処理量は１ヘクタールあたり５００グラムとし
た。散布後、１９日間温室内で育成し、除草効力を調査
した。その結果、全ての供試化合物ともイチビに対して
最も高い除草効力「５」を与えた。Next, it is shown in Test Examples that the compound of the present invention is useful as an active ingredient of a herbicide. In addition, this invention compound is shown by the compound number of Table 1-Table 17. For the evaluation of herbicidal efficacy and phytotoxicity against crops, "0" was given when the germination or growth state of the test plant at the time of the survey was almost the same as that of the untreated plant, and the test plant was completely killed or The one whose budding or growth is completely suppressed is defined as "5", and is divided into 6 stages of 0 to 5, 0, 1,
Shown by 2, 3, 4, and 5. Evaluation of herbicidal efficacy "4" and "5" means excellent herbicidal efficacy, and evaluation of "3" or less means insufficient herbicidal efficacy. Evaluation of crop phytotoxicity "0" and "1" means that phytotoxicity is not a practical problem,
A rating of "2" or higher means that no chemical damage is allowed. Test Example 1 Field soil surface treatment test A cylindrical plastic pot having a diameter of 10 cm and a depth of 10 cm was filled with soil and seeded with velvetleaf. According to Formulation Example 2, each of the test compounds (104), (150), (402) and (434) was made into an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water, and the diluted solution was equivalent to 1000 liters per hectare. The amount was applied evenly over the soil surface using a sprayer. The amount of the active ingredient treated of the test compound at that time was 500 g per hectare. After spraying, the plants were grown in a greenhouse for 19 days, and the herbicidal effect was investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy, “5”, against velvetleaf.

【００６６】試験例２ 畑地茎葉処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
土壌を詰め、イチビを播種し、温室内で育成し、子葉〜
1.5葉期の植物体を準備した。その後、製剤例２に準じ
て供試化合物(101),(103),(104),(105),(106),(108),(1
17),(118),(119),(146),(147),(149),(150),(223),(22
8),(232),(241),(243),(260),(302),(330),(332),(40
2),(403),(412),(416),(431),(434),(438),(439),(44
0),(441) および(609) の各々を乳剤にし、その所定量
を展着剤を含む水で希釈し、その希釈液を１ヘクタール
あたり1000リットル相当の量で噴霧器を用いて植物体の
上方から茎葉部全面に均一に散布した。その時の供試化
合物の有効成分処理量はすべて１ヘクタールあたり５０
０グラムとした。(441) および(609) 以外の化合物を処
理したイチビは散布後１９日間温室内で育成し、除草効
力を調査した。(441),(609) を処理したイチビは散布後
１６日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果、供試化合物はすべてイチビに対して最も高い除草効
力「５」を与えた。Test Example 2 Field and foliage treatment test: Soil was packed in a cylindrical plastic pot having a diameter of 10 cm and a depth of 10 cm, seeds were sown and grown in a greenhouse.
A 1.5 leaf stage plant was prepared. Thereafter, the test compounds (101), (103), (104), (105), (106), (108), (1
17), (118), (119), (146), (147), (149), (150), (223), (22
8), (232), (241), (243), (260), (302), (330), (332), (40
2), (403), (412), (416), (431), (434), (438), (439), (44
Each of (0), (441) and (609) was made into an emulsion, and a predetermined amount of the emulsion was diluted with water containing a spreading agent, and the diluted solution was used in an amount of 1000 liters per hectare to spray a plant with The foliage was evenly sprayed over the entire surface from above. At that time, the amount of active ingredient treated in the test compound was 50 per hectare.
It was set to 0 gram. Abutilon treated with compounds other than (441) and (609) was grown in a greenhouse for 19 days after spraying, and the herbicidal effect was investigated. Abutilon treated with (441) and (609) was grown in a greenhouse for 16 days after spraying, and the herbicidal effect was investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy "5" against Abutilon.

【００６７】試験例３ 水田湛水処理試験 直径９cm、深さ１１cmの円筒型プラスチックポットに土
壌を詰め、タイヌビエを播種した。湛水して水田状態に
した後、温室内で育成し、 0.8〜１葉期の植物体とし
た。その後、製剤例２に準じて供試化合物(103),(104),
(108),(110),(111),(112),(113),(114),(115),(116),(1
18),(119),(146),(149),(150),(223),(232),(252),(26
1),(302),(330),(332),(401),(402),(412),(416),(42
4),(425),(431),(434),(441),(501) および(609) の各
々を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、その希釈液を
１ヘクタールあたり5000リットル相当の水で水面に注射
器を用いて処理した。その時の供試化合物の有効成分処
理量はすべて１ヘクタールあたり２５０グラムとした。
(441) および(609) 以外の化合物を処理したタイヌビエ
は処理後１９日間、(441) を処理したタイヌビエは処理
後２２日間、(609) を処理したタイヌビエは処理後１６
日間、各々温室内で育成させ、除草効力を調査した。そ
の結果、供試化合物はすべてタイヌビエに対して最も高
い除草効力「５」を与えた。Test Example 3 Paddy Water Submersion Treatment Test Soil was filled in a cylindrical plastic pot having a diameter of 9 cm and a depth of 11 cm, and seeds of the rice barley were sown. After being flooded to form a paddy field, it was grown in a greenhouse to give a plant of 0.8 to 1 leaf stage. Thereafter, the test compounds (103), (104),
(108), (110), (111), (112), (113), (114), (115), (116), (1
18), (119), (146), (149), (150), (223), (232), (252), (26
1), (302), (330), (332), (401), (402), (412), (416), (42
4), (425), (431), (434), (441), (501) and (609) are each made into an emulsion, and the prescribed amount is diluted with water, and the diluted solution is 5000 liters per hectare. The surface of the water was treated with a syringe using the appropriate amount of water. At that time, the amount of the active ingredient of the test compound treated was 250 g per hectare.
Tainubie treated with compounds other than (441) and (609) was treated for 19 days, (441) was treated for 22 days, and (609) was treated for 16 days after treatment.
Each day, the plants were grown in a greenhouse and the herbicidal efficacy was investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy of "5" against Echinochloa.

【００６８】試験例４ 畑地土壌処理試験 面積３２×２２cm2 、深さ８cmの箱型プラスチックポッ
トに土壌を詰め、サナエタデ、イチビ、アキノエノコロ
およびトウモロコシを播種した。製剤例２に準じて供試
化合物 (103), (119) および(302) の各々を乳剤にし、
その所定量を水で希釈し、その希釈液を１ヘクタール当
り1050リットル相当の量で噴霧器を用いて土壌表面全面
に均一に散布した。その時の供試化合物の有効成分処理
量は１ヘクタール当り 500グラムとした。散布後、２５
日間温室内で育成させ、除草効力およびトウモロコシに
対する薬害を調査した。その結果、全ての供試化合物は
サナエタデ、イチビおよびアキノエノコロに対して最も
高い除草効力「５」を与え、かつトウモロコシに対して
最も軽微な薬害「０」を与えた。Test Example 4 Upland Field Soil Treatment Test Soil was packed in a box-shaped plastic pot having an area of 32 × 22 cm 2 and a depth of 8 cm, and seeds such as Sanae-eda, hibiscus, Aquinoenocho and corn were sown. Emulsify each of the test compounds (103), (119) and (302) according to Formulation Example 2,
The predetermined amount was diluted with water, and the diluted solution was uniformly sprayed on the entire surface of the soil using a sprayer in an amount of 1050 liters per hectare. The amount of the active ingredient treated of the test compound at that time was 500 g per hectare. 25 after spraying
The plants were grown in a greenhouse for one day, and herbicidal efficacy and phytotoxicity to corn were investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy of "5" to Sanadeta, Abutilon and Aquinoenocor, and the mildest phytotoxicity of "0" to corn.

【００６９】試験例５ 畑地茎葉処理試験 土壌を詰めた面積２７×１９cm2 、深さ７cmの箱型プラ
スチックポットにアメリカアサガオおよびオナモミを播
種し、温室内で育成させ、 1.2〜５葉期の植物体を準備
した。製剤例２に準じて供試化合物(104),(110),(111),
(114),(115),(116),(146),(223),(250),(251),(252),(2
53),(255),(256),(257),(258),(302),(402) および(42
5) の各々を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、その
希釈液を１ヘクタール当り1050リットル相当の量で噴霧
器を用いて植物体の上方から茎葉部全体に均一に散布し
た。その時の供試化合物の有効成分処理量は全て１ヘク
タール当り 250グラムとした。散布後、２２日間温室内
で育成させ、除草効力を調査した。その結果、全ての供
試化合物はアメリカアサガオおよびオナモミに対して最
も高い除草効力「５」を与えた。Test Example 5 Field Stem / Leaf Treatment Test A box-shaped plastic pot having an area of 27 × 19 cm 2 and a depth of 7 cm filled with soil was sown with morning glory and Shrimp fir and cultivated in a greenhouse to grow plants of 1.2 to 5 leaf stage. I prepared my body. Test compounds (104), (110), (111), according to Formulation Example 2
(114), (115), (116), (146), (223), (250), (251), (252), (2
53), (255), (256), (257), (258), (302), (402) and (42
Each of 5) was made into an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water, and the diluted solution was uniformly sprayed on the whole foliage from above the plant using a sprayer in an amount equivalent to 1050 liters per hectare. At that time, the amount of the active ingredient of the test compound treated was 250 g per hectare. After spraying, the plants were grown in a greenhouse for 22 days and the herbicidal effect was investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy of "5" against the morning glory and the southern fir tree.

【００７０】試験例６ 畑地茎葉処理試験 土壌を詰めた面積１７×１２cm2 、深さ７cmの箱型プラ
スチックポットにヤエムグラおよびテンサイを播種し、
温室内で育成させ、 1.5〜４葉期の植物体を準備した。
製剤例２に準じて供試化合物(232),(260) および(434)
の各々を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、その希釈
液を１ヘクタール当り1050リットル相当の量で噴霧器を
用いて植物体の上方から茎葉部全体に均一に散布した。
その時の供試化合物の有効成分処理量は (260)を１ヘク
タール当り 250グラム、(232) および(434) を１ヘクタ
ール当り６３グラムとした。(232) または(260) を処理
した植物体は散布後２２日間温室内で育成させ、ヤエム
グラに対する除草効力およびテンサイに対する薬害を調
査した。 (434)を処理した植物体は散布後２１日間温室
内で育成させ、ヤエムグラに対する除草効力およびテン
サイに対する薬害を調査した。その結果、全ての供試化
合物はヤエムグラに対して最も高い除草効力「５」を与
え、かつテンサイに対して最も軽微な薬害「０」を与え
た。Test Example 6 Field and foliage treatment test Yaemgra and sugar beet were sown in a box-shaped plastic pot having an area of 17 × 12 cm 2 and a depth of 7 cm filled with soil,
The plants were grown in a greenhouse and 1.5 to 4 leaf stage plants were prepared.
Test compounds (232), (260) and (434) according to Preparation Example 2
Each of them was made into an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water, and the diluted solution was uniformly sprayed on the entire foliage from above the plant using a sprayer in an amount equivalent to 1050 liters per hectare.
The amount of the active ingredient treated of the test compound at that time was 250 grams per hectare (260) and 63 grams per hectare (232) and (434). Plants treated with (232) or (260) were grown in a greenhouse for 22 days after spraying, and the herbicidal effect against Yaemgra and the phytotoxicity against sugar beet were investigated. Plants treated with (434) were grown in a greenhouse for 21 days after spraying, and the herbicidal efficacy against Yaemgra and the phytotoxicity against sugar beet were investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy of "5" to Yaemgra and the mildest phytotoxicity of "0" to sugar beet.

【００７１】試験例７ 畑地茎葉処理試験 土壌を詰めた面積１７×１２cm2 、深さ７cmの箱型プラ
スチックポットにヤエムグラおよびコムギを播種し、温
室内で育成させ、 1.5〜 2.5葉期の植物体を準備した。
製剤例２に準じて供試化合物(332),(434) および(501)
の各々を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、その希釈
液を１ヘクタール当り1050リットル相当の量で噴霧器を
用いて植物体の上方から茎葉部全体に均一に散布した。
その時の供試化合物の有効成分処理量は (501)を１ヘク
タール当り 125グラム、(332) および(434) を１ヘクタ
ール当り６３グラムとした。散布後、２１日間温室内で
育成させ、ヤエムグラに対する除草効力およびコムギに
対する薬害を調査した。その結果、全ての供試化合物は
ヤエムグラに対して最も高い除草効力「５」を与え、コ
ムギに対して最も軽微な薬害「０」を与えた。Test Example 7 Field and foliage treatment test Yamgra and wheat were sown in a box-shaped plastic pot having an area of 17 × 12 cm 2 and a depth of 7 cm filled with soil, and the plants were grown in a greenhouse and grown at a leaf stage of 1.5 to 2.5. Prepared.
Compounds to be tested (332), (434) and (501) according to Formulation Example 2
Each of them was made into an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water, and the diluted solution was uniformly sprayed on the entire foliage from above the plant using a sprayer in an amount equivalent to 1050 liters per hectare.
The amount of the active ingredient treated of the test compound at that time was 125 grams per hectare for (501) and 63 grams per hectare for (332) and (434). After spraying, the plants were grown in a greenhouse for 21 days, and herbicidal efficacy against Yaemgra and phytotoxicity against wheat were investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal efficacy of "5" to Yaemgra and the mildest phytotoxicity of "0" to wheat.

【００７２】試験例８ 水田湛水処理試験 直径９cm、深さ１１cmの円筒型プラスチックポットに土
壌を詰め、タイヌビエを播種し、その後イネの乳苗を移
植した。湛水して温室内で育成させ、２〜 3.1葉期の植
物体とした。製剤例２に準じて供試化合物(103),(223)
および(412) の各々を乳剤にし、その所定量を水で希釈
し、その希釈液を１ヘクタール当り5000リットル相当の
量で注射器を用いて水面に処理した。その時の供試化合
物の有効成分処理量は全て１ヘクタール当り 250グラム
とした。(103) を処理した植物体は２０日間、(223) を
処理した植物体は２４日間、(412) を処理した植物体は
２１日間、それぞれ温室内で育成させ、各々の化合物の
タイヌビエに対する除草効力およびイネに対する薬害を
調査した。その結果、全ての供試化合物はタイヌビエに
対して最も高い除草効力「５」を与え、かつイネに対し
て最も軽微な薬害「０」を与えた。Test Example 8 Paddy Water Submersion Treatment Test Soil was filled in a cylindrical plastic pot having a diameter of 9 cm and a depth of 11 cm, seeds were sown, and then rice seedlings were transplanted. The plants were flooded and grown in a greenhouse to give plants at the 2 to 3.1 leaf stage. Compounds to be tested according to Formulation Example 2 (103), (223)
Each of (412) and (412) was made into an emulsion, a predetermined amount thereof was diluted with water, and the diluted solution was treated on the water surface with a syringe in an amount corresponding to 5000 liters per hectare. At that time, the amount of the active ingredient of the test compound treated was 250 g per hectare. The plants treated with (103) were cultivated in the greenhouse for 20 days, the plants treated with (223) were cultivated for 24 days, and the plants treated with (412) were cultivated in the greenhouse for 21 days. The efficacy and phytotoxicity to rice were investigated. As a result, all of the tested compounds gave the highest herbicidal efficacy of "5" to Taenia cinerea and the mildest phytotoxicity of "0" to rice.

【００７３】試験例９ 畑地土壌処理試験 面積３２×２２cm2 、深さ８cmの箱型プラスチックポッ
トに土壌を詰め、アオゲイトウ、シロザ、イヌホオズ
キ、メヒシバおよびダイズを播種した。製剤例２に準じ
て供試化合物(115) および(402) の各々を乳剤にし、そ
の所定量を水で希釈し、その希釈液を１ヘクタール当り
775リットル相当の量で噴霧器を用いて土壌表面全面に
均一に散布した。その時の供試化合物の有効成分処理量
は１ヘクタール当り 300グラムとした。散布後、２８日
間温室内で育成させ、除草効力およびダイズに対する薬
害を調査した。その結果、全ての供試化合物はアオゲイ
トウ、シロザ、イヌホオズキおよびメヒシバに対して最
も高い除草効力「５」を与え、かつダイズに対して最も
軽微な薬害「０」を与えた。Test Example 9 Upland Soil Treatment Test Soil was packed in a box-shaped plastic pot having an area of 32 × 22 cm 2 and a depth of 8 cm, and Aogateto, Shiroza, physalis sycamore, crabgrass and soybean were sown. According to Formulation Example 2, each of test compounds (115) and (402) was made into an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water, and the diluted solution was added per hectare.
An amount equivalent to 775 liters was sprayed uniformly over the soil surface using a sprayer. The amount of the active ingredient treated of the test compound at that time was 300 g per hectare. After spraying, the plants were grown in a greenhouse for 28 days, and herbicidal efficacy and soybean phytotoxicity were investigated. As a result, all of the test compounds gave the highest herbicidal activity "5" against Amaranthus communis, Shiroza, Acacia catechu and Crabgrass, and the slightest phytotoxicity "0" against soybean.

【００７４】試験例１０ 畑地茎葉処理試験 土壌を詰めた直径２４cm、深さ２１cmの円筒型プラスチ
ックポットにアメリカアサガオ、マルバアサガオ、イチ
ビ、ダイズおよびトウモロコシを播種し、屋外で育成さ
せ、２〜４葉期の植物体を準備した。製剤例２に準じて
供試化合物(104),(253) および(255) の各々を乳剤に
し、その所定量を展着剤を含む水で希釈し、その希釈液
を１ヘクタール当り 600リットル相当の量で噴霧器を用
いて植物体の上方から茎葉部全体に均一に散布した。ま
た、比較対照化合物としてフォメサフェン (商品名：リ
フレックス）の２３％乳剤（市販製剤品）を用い、その
所定量を供試化合物と同様に展着剤を含む水に希釈し、
噴霧器を用いて植物体の上方から茎葉部全体に均一に散
布した。その時の供試化合物の有効成分処理量は比較対
照剤も含め全て１ヘクタール当り 100グラムとした。散
布後、引き続き植物体を３２日間屋外で育成させ、アメ
リカアサガオ、マルバアサガオ、イチビに対する除草効
力およびダイズ、トウモロコシに対する薬害を調査し
た。その結果を表１８に示す。Test Example 10 Field and foliage treatment test Acetone morning glory, Malaba morning glory, velvetleaf, soybean and corn were sown in a cylindrical plastic pot having a diameter of 24 cm and a depth of 21 cm filled with soil, cultivated outdoors, and then grown to 2 to 4 leaves. The plant of the stage was prepared. According to Formulation Example 2, each of the test compounds (104), (253) and (255) was made into an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water containing a spreading agent, and the diluted solution was equivalent to 600 liters per hectare. Was sprayed uniformly from above the plant body over the entire foliage using a sprayer. In addition, a 23% emulsion (commercial preparation) of fomesafen (trade name: reflex) was used as a comparative control compound, and a predetermined amount thereof was diluted with water containing a spreading agent in the same manner as the test compound,
Using a sprayer, the foliage was sprayed uniformly from above the plant. The amount of the active ingredient of the test compound treated at that time was 100 g per hectare including the comparative control agent. After spraying, the plants were continuously grown for 32 days in the open air, and the herbicidal efficacy against morning glory, Malaga morning glory and velvetleaf and phytotoxicity against soybean and corn were investigated. The results are shown in Table 18.

【表１８】 [Table 18]

【００７５】[0075]

【発明の効果】本発明化合物は、優れた除草活性を示
す。The compound of the present invention exhibits excellent herbicidal activity.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 417/12 ２０９ ２１５ ２３５ ２４１ ２６３ ２６５ ２７９ ３０７ ３３３ //(Ｃ０７Ｄ 417/12 265:36 277:42） (Ｃ０７Ｄ 417/12 277:42 307:78） (72)発明者 木澤 悟 兵庫県加西市岸呂町塩の山636−２ 住友 化学工業株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location C07D 417/12 209 215 235 241 263 265 279 307 333 // (C07D 417/12 265: 36 277: 42) (C07D 417/12 277: 42 307: 78) (72) Inventor Satoru Kizawa 636-2 Shionoyama Shishiro-cho, Kasai City, Hyogo Sumitomo Chemical Co., Ltd.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 【化１】 〔式中、（以下、“（ハロ）”とあるは、“ハロゲン原
子で置換されていてもよい”を意味する。）Ｒ1 はＣ1
〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルケ
ニル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基、Ｃ3 〜Ｃ7
（ハロ）シクロアルキル基、Ｃ3 〜Ｃ7 シクロアルキル
Ｃ1 〜Ｃ3 アルキル基、シアノＣ1 〜Ｃ3アルキル基ま
たはＣ1 〜Ｃ5 （ハロ）アルコキシＣ1 〜Ｃ5 （ハロ）
アルキル基を示し、 Ｒ2 はＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ7 （ハ
ロ）シクロアルキル基、Ｃ7 〜Ｃ17アラルキル基（該ア
ラルキル基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ
3 （ハロ）アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換さ
れていてもよい）、アリール基（該アリール基はＣ1 〜
Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい）、
ＣＨＯ、ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＯＮＲ8 Ｒ9 またはシアノ基を
示し、 Ｒ3 は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基または
ＣＯ2 Ｒ6 を示し、 Ｑ−は一般式 化２ 【化２】 で示される基を示し、 Ｘは水素原子、塩素原子またはフッ素原子を示し、 Ｙは塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ニトロ基または
シアノ基を示し、 Ａ1 は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ2 基またはＮＨ基を示
し、 Ａ2 は酸素原子または硫黄原子を示し、 Ｒ4 はＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハ
ロ）アルケニル基、Ｃ 3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基、
Ｃ3 〜Ｃ7 （ハロ）シクロアルキル基、シアノＣ1 〜Ｃ
3 アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシＣ1 〜Ｃ
3 （ハロ）アルキル基、（Ｃ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキ
ル）カルボニル基、（Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ）カルボニ
ル基、水素原子、または、一般式 化３ 【化３】 で示される基を表わし、 Ｒ5 は水素原子、ＣＨ2 ＯＲ4 、ＣＯ2 Ｒ7 またはＣ1
〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基を示し、 Ｒ6 は水素原子またはＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基を
示し、 ＢはＣＯ2 Ｒ7 、ＣＲ6 ＝ＮＯＲ4 、ＣＨ＝Ｃ（Ｒ6 ）
ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＨＸ1ＣＨＸ2 ＣＯ2 Ｒ7 、ニトロ基、
シアノ基、ＳＲ4 、ＯＲ4 、ＮＨＲ4 、ＮＨＳＯ
2 Ｒ10、ＣＯＲ6 、ＳＯ2 ＯＲ4 、ＳＯ2 Ｃｌまたはテ
トラヒドロフタルイミド基を示し、 Ｘ1 およびＸ2 は同一または相異なり、水素原子、塩素
原子または臭素原子を示し、 Ｒ7 は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ10（ハロ）アルキル基、Ｃ3
〜Ｃ7 （ハロ）シクロアルキル基、Ｃ3 〜Ｃ7 シクロア
ルケニル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルケニル基、Ｃ3 〜
Ｃ6 （ハロ）アルキニル基、シアノＣ1 〜Ｃ3 アルキル
基、Ｃ1 〜Ｃ3アルコキシＣ1 〜Ｃ3 アルキル基、（Ｃ
1 〜Ｃ5 （ハロ）アルコキシ）カルボニルＣ1 〜Ｃ3 ア
ルキル基、Ｎ＝ＣＲ6 Ｒ6 、ＮＲ6 Ｒ6 、アリール基
（該アリール基はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1
〜Ｃ3 （ハロ）アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置
換されていてもよい）、ベンジル基、または、一般式
化４ 【化４】 で示される基を示し、 Ｒ8 およびＲ9 は同一または相異なり、水素原子、Ｃ1
〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルケ
ニル基またはＣ3 〜Ｃ6 （ハロ）アルキニル基を示し、 Ｒ10はＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基、Ｃ3 〜Ｃ8 シク
ロ（ハロ）アルキル基またはアリール基（該アリール基
はＣ1 〜Ｃ3 （ハロ）アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ3（ハロ）
アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換されていても
よい）を示し、ｎは１〜５の整数を示す。〕で示される
イミノチアゾリン誘導体。Claims:[In the formula, (hereinafter, "(halo)" means "halogen source"
Means "optionally substituted by children." R1Is C1
~ C6(Halo) alkyl group, C3~ C6(Halo) Arche
Nyl group, C3~ C6(Halo) alkynyl group, C3~ C7
(Halo) cycloalkyl group, C3~ C7Cycloalkyl
C1~ C3Alkyl group, cyano C1~ C3Alkyl group
Or C1~ CFive(Halo) alkoxy C1~ CFive(Halo)
Represents an alkyl group, R2Is C1~ C6(Halo) alkyl group, C3~ C7(C
B) cycloalkyl group, C7~ C17Aralkyl group
Ralalkyl group is C1~ C3(Halo) alkyl group, C1~ C
3Substituted with a (halo) alkoxy group or halogen atom
Optionally), an aryl group (wherein the aryl group is C1~
C3(Halo) alkyl group, C1~ C3(Halo) Alkoki
Si group or halogen atom may be substituted),
CHO, CO2R7, CONR8R9Or a cyano group
Show, R3Is a hydrogen atom, C1~ C6(Halo) alkyl group or
CO2R6And Q- is a general formula:Represents a group represented by, X represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a fluorine atom, Y represents a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, a nitro group or
Represents a cyano group, A1Is an oxygen atom, a sulfur atom, CH2Group or NH group
A2Represents an oxygen atom or a sulfur atom, RFourIs C1~ C6(Halo) alkyl group, C3~ C6(C
B) Alkenyl group, C 3~ C6(Halo) alkynyl group,
C3~ C7(Halo) cycloalkyl group, cyano C1~ C
3Alkyl group, C1~ C3(Halo) alkoxy C1~ C
3(Halo) alkyl group, (C1~ C6(Halo) Archi
) Carbonyl group, (C1~ C6Alkoxy) carboni
Group, hydrogen atom, or the general formula:Represents a group represented byFiveIs a hydrogen atom, CH2ORFour, CO2R7Or C1
~ C6Represents a (halo) alkyl group, R6Is a hydrogen atom or C1~ C3A (halo) alkyl group
, B is CO2R7, CR6= NORFour, CH = C (R6)
CO2R7, CHX1CHX2CO2R7, Nitro group,
Cyano group, SRFour, ORFour, NHRFour, NHSO
2RTen, COR6, SO2ORFour, SO2Cl or TE
Represents a trahydrophthalimide group, X1And X2Are the same or different, hydrogen atom, chlorine
An atom or a bromine atom, R7Is a hydrogen atom, C1~ CTen(Halo) alkyl group, C3
~ C7(Halo) cycloalkyl group, C3~ C7Cycloa
Lucenyl group, C3~ C6(Halo) alkenyl group, C3~
C6(Halo) alkynyl group, cyano C1~ C3Alkyl
Base, C1~ C3Alkoxy C1~ C3Alkyl group, (C
1~ CFive(Halo) alkoxy) carbonyl C1~ C3A
Rukiru group, N = CR6R6, NR6R6, Aryl group
(The aryl group is C1~ C3(Halo) alkyl group, C1
~ C3(Halo) alkoxy group or halogen atom
May be substituted), a benzyl group, or a general formula
Chemical formula 4Represents a group represented by8And R9Are the same or different and are hydrogen atom, C1
~ C6(Halo) alkyl group, C3~ C6(Halo) Arche
Nyl group or C3~ C6Represents a (halo) alkynyl group, RTenIs C1~ C6(Halo) alkyl group, C3~ C8Shiku
A (halo) alkyl group or aryl group (the aryl group
Is C1~ C3(Halo) alkyl group, C1~ C3(Halo)
Even if it is substituted with an alkoxy group or a halogen atom
Good), and n represents an integer of 1 to 5. ]
Iminothiazoline derivative. 【請求項２】Ｒ2 がハロゲン原子で置換されたＣ1 〜Ｃ
6 アルキル基、ＣＯ2 Ｒ7 、ＣＯＮＲ8 Ｒ9 またはシア
ノ基である請求項１記載のイミノチアゾリン誘導体。2. C 1 -C wherein R 2 is substituted with a halogen atom.
The iminothiazoline derivative according to claim 1, which is a 6 alkyl group, CO 2 R 7 , CONR 8 R 9 or a cyano group. 【請求項３】Ｒ2 がハロゲン原子で置換されたＣ1 〜Ｃ
3 アルキル基である請求項１記載のイミノチアゾリン誘
導体。3. C 1 -C wherein R 2 is substituted with a halogen atom
The iminothiazoline derivative according to claim 1, which is a 3- alkyl group. 【請求項４】Ｒ2 がトリフルオロメチル基、クロロジフ
ルオロメチル基、ジフルオロメチル基またはペンタフル
オロエチル基である請求項１記載のイミノチアゾリン誘
導体。4. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 2 is a trifluoromethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a difluoromethyl group or a pentafluoroethyl group. 【請求項５】Ｒ2 がトリフルオロメチル基である請求項
１記載のイミノチアゾリン誘導体。5. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 2 is a trifluoromethyl group. 【請求項６】Ｒ1 がＣ1 〜Ｃ6 （ハロ）アルキル基であ
る請求項１記載のイミノチアゾリン誘導体。6. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 1 is a C 1 -C 6 (halo) alkyl group. 【請求項７】Ｒ1 がＣ1 〜Ｃ3 アルキル基である請求項
１記載のイミノチアゾリン誘導体。7. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 1 is a C 1 -C 3 alkyl group. 【請求項８】Ｒ1 がメチル基である請求項１記載のイミ
ノチアゾリン誘導体。8. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 1 is a methyl group. 【請求項９】Ｒ3 が水素原子またはＣＯ2 Ｒ6 である請
求項１記載のイミノチアゾリン誘導体。9. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 3 is a hydrogen atom or CO 2 R 6 . 【請求項１０】Ｒ3 が水素原子である請求項１記載のイ
ミノチアゾリン誘導体。10. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein R 3 is a hydrogen atom. 【請求項１１】ＱがＱ−１、Ｑ−２またはＱ−５である
請求項１記載のイミノチアゾリン誘導体。11. The iminothiazoline derivative according to claim 1, wherein Q is Q-1, Q-2 or Q-5. 【請求項１２】式〔１〕 で示される化合物。12. A formula [1] The compound represented by. 【請求項１３】式〔II〕 で示される化合物。13. Formula [II] The compound represented by. 【請求項１４】式〔III 〕 で示される化合物。14. A formula [III] The compound represented by. 【請求項１５】請求項１記載のイミノチアゾリン誘導体
を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。15. A herbicide containing the iminothiazoline derivative according to claim 1 as an active ingredient.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006257093A (en) * 1999-07-22 2006-09-28 Soc De Conseils De Recherches & D'applications Scientifiques (Scras) 2-arylimino-2,3-dihydrothiazoles, and use thereof as somatostatin receptor ligands
JP2011526251A (en) * 2008-07-03 2011-10-06 ニューラクソン，インコーポレーテッド Benzoxazines, benzothiazines and related compounds having NOS inhibitory activity

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