JPH07310184A - Post treatment of siox deposited film and device therefor - Google Patents
Post treatment of siox deposited film and device thereforInfo
- Publication number
- JPH07310184A JPH07310184A JP9955694A JP9955694A JPH07310184A JP H07310184 A JPH07310184 A JP H07310184A JP 9955694 A JP9955694 A JP 9955694A JP 9955694 A JP9955694 A JP 9955694A JP H07310184 A JPH07310184 A JP H07310184A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- sio
- vapor
- vapor deposition
- oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、表面にＳｉＯX 皮膜を
蒸着した樹脂フィルムの後処理方法及びその装置に関す
る。The present invention relates to a post-processing method and apparatus of a resin film by depositing SiO X film on the surface.
【０００２】[0002]
【従来の技術】現在のレトルト食品用包装材としては、
内部の食品が見えると共に、例えば電子レンジ等の調理
器具で調理できるようにした樹脂フィルム（ポリエチエ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）が用いられて
いる。該フィルムは、ガスバリア性をもたせる為にその
表面にＳｉＯX （酸化ケイ素系）皮膜を蒸着してなるも
ので、「ＳｉＯX 蒸着フィルム」と称せられており、真
空蒸着法によって製造されている。2. Description of the Related Art Current packaging materials for retort foods are:
A resin film (polyethylene terephthalate (PET) film) that allows food to be seen inside and that can be cooked with a cooking device such as a microwave oven is used. The film is formed by depositing a SiO x (silicon oxide based) film on the surface of the film in order to have a gas barrier property, and is called a “SiO x deposited film”, and is manufactured by a vacuum deposition method.
【０００３】このＳｉＯX 蒸着フィルムの製造方法の概
略を説明する。 （１） バッチ式真空蒸着装置による製造方法 図７は、バッチ式真空蒸着装置の一例を示し、真空槽１
１内には、樹脂フィルム１２を払い出す払出しロール１
３、該フィルム１２にＳｉＯX 蒸気１４を供給するるつ
ぼ１５、ＳｉＯX 蒸着フィルム１６を巻き取る巻取りロ
ール１７が夫々配置されている。上記真空蒸着装置を用
いて、ＳｉＯX 皮膜を蒸着したＳｉＯX 蒸着フィルム１
６を得るには、先ず、真空槽１１内で払出しロール１３
から払い出された樹脂フィルム１２にるつぼ１５から供
給されるＳｉＯX 蒸気１４を供給し、該フィルム１２の
表面にＳｉＯX 皮膜を蒸着させるようにしている。な
お、得られた蒸着フィルム１６はその後、巻取りロール
１７によって巻き取られ、次工程に送られている。An outline of a method of manufacturing this SiO x vapor deposition film will be described. (1) Manufacturing method using batch-type vacuum deposition apparatus FIG. 7 shows an example of a batch-type vacuum deposition apparatus.
A roll 1 for discharging the resin film 12
3, a crucible 15 for supplying the SiO X vapor 14 to the film 12, and a winding roll 17 for winding the SiO X vapor deposition film 16 are arranged. A SiO x vapor deposition film 1 obtained by vapor depositing a SiO x film using the above vacuum vapor deposition device.
In order to obtain No. 6, first, the pay-out roll 13 in the vacuum chamber 11
The SiO x vapor 14 supplied from the crucible 15 is supplied to the resin film 12 discharged from the above, so that the SiO x film is vapor-deposited on the surface of the film 12. The obtained vapor deposition film 16 is then wound up by the winding roll 17 and sent to the next step.
【０００４】（２） 連続真空蒸着装置による製造方法 図８は、連続真空蒸着装置の一例を示し、上記装置とは
異なり真空槽１１の外部に、樹脂フィルム１２を払い出
す払出しロール１３と、ＳｉＯX 蒸着フィルム１６を巻
き取る巻取りロール１７とが夫々配置されている。そし
て、該払出しロール１３から払い出されたフィルム１２
は、シール装置１８により真空槽１１内に導入され、そ
の後るつぼ１５から供給されるＳｉＯX 蒸気１４をその
表面に蒸着しＳｉＯX 皮膜を蒸着したフィルム１６を得
たのち、再びシール装置１８を通過してから真空槽１１
外に導出され、巻取りロール１７に巻き取られ、次工程
に送られている。(2) Manufacturing method by continuous vacuum vapor deposition apparatus FIG. 8 shows an example of a continuous vacuum vapor deposition apparatus. Unlike the above apparatus, a delivery roll 13 for delivering a resin film 12 to the outside of the vacuum chamber 11 and SiO. Winding rolls 17 for winding the X vapor deposition film 16 are arranged respectively. Then, the film 12 dispensed from the dispensing roll 13
Is introduced into the vacuum chamber 11 by the sealing device 18, and then the SiO x vapor 14 supplied from the crucible 15 is vapor-deposited on its surface to obtain a film 16 having a vapor-deposited SiO x film, and then the film passes through the sealing device 18 again. And then vacuum chamber 11
It is led out to the outside, wound on a winding roll 17, and sent to the next step.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ＳｉＯX 蒸
着フィルムは食品の包装用に用いられるため、酸素透過
度が小さいほうが望ましいが、図７，８に示すような真
空蒸着装置の真空槽１１内の圧力が１．３×１０-2Ｐａ
以上であると、ＳｉＯX 蒸着膜が多孔質な皮膜となり、
酸素透過度の小さい皮膜が得られないという問題があ
る。By the way, since the SiO x vapor deposition film is used for packaging foods, it is desirable that the oxygen permeability is small. However, in the vacuum chamber 11 of the vacuum vapor deposition apparatus as shown in FIGS. Pressure is 1.3 × 10 -2 Pa
If it is above, the SiO x vapor deposition film becomes a porous film,
There is a problem that a film with low oxygen permeability cannot be obtained.
【０００６】このため、１．３×１０-2Ｐａ以下で真空
蒸着する必要があるが、フィルムからも吸着ガスが放出
されるため、真空ポンプの排気速度を著しく大きいもの
にしているが、長時間の真空引きを行う必要があり、生
産性が低下するという問題がある。For this reason, it is necessary to perform vacuum deposition at 1.3 × 10 -2 Pa or less, but since the adsorbed gas is also released from the film, the evacuation speed of the vacuum pump is significantly increased, but There is a problem that productivity needs to be reduced because it is necessary to vacuum the time.
【０００７】このようなことから、１．３×１０-2Ｐａ
以上で蒸着した後に、何らかの方法で酸素透過度を小さ
くする方法が望まれているが、従来においては良好なガ
スバリア性を有するＳｉＯX 蒸着フィルムを得ることは
出来なかった。From the above, 1.3 × 10 -2 Pa
Although there is a demand for a method of reducing the oxygen permeability by some method after vapor deposition as described above, a SiO x vapor deposition film having a good gas barrier property could not be obtained in the past.
【０００８】また、一方ＳｉＯX 蒸着フィルムは成膜時
にガスバリア性が不良であっても、空気に触れて時間が
経過すると、ＳｉＯX が酸化してガスバリア性が向上す
ることが判明したが、ＳｉＯX 蒸着フィルムは巻取りロ
ール１７に巻かれることにより該ロール状のままでは空
気に触れることが出来ず、ガスバリア性が向上しないた
めに、ロールから払出し後、直ぐには製品化することが
できないという問題が有る。On the other hand, even if the SiO x vapor-deposited film has a poor gas barrier property at the time of film formation, it has been found that the SiO x is oxidized and the gas barrier property is improved with the passage of time when exposed to air. The X- deposited film cannot be exposed to air by being wound on the take-up roll 17 as it is, and the gas barrier property is not improved, so that it cannot be commercialized immediately after being discharged from the roll. There is.
【０００９】本発明は上記問題に鑑み、ロールから払出
し後、直ちに良好なガスバリア性を有するＳｉＯX 蒸着
フィルムを製造することが出来るＳｉＯX 蒸着フィルム
の後処理方法及びその装置を提供することを目的とす
る。[0009] The present invention has been made in view of the above problems, after payout from the roll, intended to provide a post-processing method and apparatus of the SiO X evaporation film that can be produced a SiO X evaporation film having immediate good gas barrier properties And
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係るＳｉＯX 蒸着フィルムの後処理方法は、樹脂フ
ィルムの表面にＳｉＯX 皮膜（Ｘ＜２）を蒸着形成した
後、該ＳｉＯX 皮膜の表面に酸素を放出する物質を供給
することを特徴とする。ここで、本発明で上記酸素を放
出する物質とは、例えば過酸化水素水、過酸化ジエチ
ル、過酸化ベンジル等の過酸化物を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。Post-processing method for SiO X evaporation film according to the present invention To achieve the object of the present invention is to achieve the object, after depositing form SiO X film (X <2) on the surface of the resin film, the SiO X It is characterized by supplying a substance that releases oxygen to the surface of the film. Here, examples of the substance that releases oxygen in the present invention include, but are not limited to, hydrogen peroxide solution, peroxides such as diethyl peroxide and benzyl peroxide.
【００１１】また、ＳｉＯX 蒸着フィルムの後処理装置
の構成は、樹脂フィルムの表面にＳｉＯX 皮膜を蒸着す
る装置において、樹脂フィルムの表面にＳｉＯX 皮膜
（Ｘ＜２）を蒸着するＳｉＯX 蒸着手段とフィルム巻取
り手段との間に、ＳｉＯX 皮膜の表面に酸素を放出する
物質を供給する供給手段を設けたことを特徴とする。[0011] The configuration of the post-processing apparatus of the SiO X evaporation film, the apparatus for depositing the SiO X film on the surface of the resin film, SiO X evaporation for depositing a SiO X film (X <2) on the surface of the resin film A supply means for supplying a substance that releases oxygen to the surface of the SiO x film is provided between the means and the film winding means.
【００１２】[0012]
【作用】ここで、樹脂フィルムにガスバリア性を持たせ
る為の物質として、酸化シリコン系のものが一般に用い
られるが、該酸化シリコン系の中ではＳｉＯX が最も安
定がよい。しかし、ＳｉＯX （０．７＜Ｘ≦２．０）を
蒸着材料として真空蒸着法で蒸着膜を形成するときに
は、ＳｉＯはＳｉＯ2 ，Ｓｉより蒸気圧が高いので、蒸
着膜は蒸発種ＳｉＯに雰囲気酸素が一部反応した形であ
るＳｉＯX （１≦Ｘ＜２．０）として形成される。この
蒸着膜の蒸着直後の空孔率は蒸着条件のみによって決定
され、Ｘの値に関係ないと考えられる。Here, a silicon oxide-based material is generally used as a substance for imparting a gas barrier property to the resin film. Among the silicon oxide-based materials, SiO X is the most stable. However, when a vapor deposition film is formed by a vacuum vapor deposition method using SiO x (0.7 <X ≦ 2.0) as a vapor deposition material, since the vapor pressure of SiO is higher than that of SiO 2 and Si, the vapor deposition film becomes an evaporation species SiO. It is formed as SiO X (1 ≦ X <2.0), which is a form in which atmospheric oxygen partially reacts. The porosity of the vapor-deposited film immediately after vapor deposition is determined only by the vapor deposition conditions and is considered to be unrelated to the value of X.
【００１３】一方、ＳｉＯX （１≦Ｘ＜２．０）の皮膜
は、酸素と反応し、より安定なＳｉＯ2 に近づくが、そ
のときＳｉＯX 皮膜は表面及び粒界から酸化し、粒界の
空孔を封孔することにより緻密化し、ガスバリア性が向
上すると考えられる。この蒸着後の反応は、ＳｉＯ2 で
はそれ以上酸化されないのに対して、ＳｉＯX のＸ値が
小さい程、酸化の余地を残しているので、ガスバリア性
がより大きく向上するものと思われる。On the other hand, the SiO x (1 ≦ X <2.0) film reacts with oxygen and approaches SiO 2 which is more stable, but at that time, the SiO x film oxidizes from the surface and the grain boundaries to form grain boundaries. It is considered that the gas barrier property is improved by densifying the holes by sealing them. The reaction after the vapor deposition is not further oxidized by SiO 2 , but the smaller the X value of SiO x , the more room for oxidation is left, and therefore the gas barrier property is considered to be further improved.
【００１４】そこで本発明においては、フィルム間に酸
素を放出する物質を供給しつつ巻き取ることにより、Ｓ
ｉＯX 皮膜を酸化させ、この結果、粒界の空孔を封孔
し、ガスバリア性の向上を図ることができる。このとき
供給した物質の酸素がＳｉＯXと反応した後の残留物
は、水、アルコール、安定なガス、或いはフィルムの成
分と同様の有機物質であり、ＳｉＯX 蒸着フィルムに悪
影響はなく、且つ透明性は良好に保持されている。Therefore, in the present invention, S is obtained by winding the film while supplying a substance that releases oxygen between the films.
It is possible to oxidize the iO x film and, as a result, seal the voids at the grain boundaries and improve the gas barrier property. At this time, the residue after the oxygen of the substance supplied reacts with SiO x is water, alcohol, a stable gas, or an organic substance similar to the components of the film, which does not adversely affect the SiO x vapor deposition film and is transparent. The sex is retained well.
【００１５】[0015]
【実施例】以下、本発明に係る好適な実施例を図面を参
照して詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【００１６】図１は、連続真空蒸着装置の一例を示し、
真空槽１１の外部に、樹脂フィルム１２を払い出す払出
しロール１３と、ＳｉＯX 蒸着フィルム１６を巻き取る
巻取りロール１７とが夫々配置されている。そして、該
払出しロール１３から払い出されたフィルム１２は、シ
ール装置１８により真空槽１１内に導入され、その後る
つぼ１５から供給されるＳｉＯX 蒸気１４をその表面に
蒸着しＳｉＯX 皮膜を蒸着したフィルム１６を得たの
ち、再びシール装置１８を通過してから真空槽１１外に
導出され、巻取りロール１７に巻き取られ、次工程に送
られている。FIG. 1 shows an example of a continuous vacuum vapor deposition apparatus,
Outside the vacuum chamber 11, a pay-out roll 13 for paying out the resin film 12 and a take-up roll 17 for winding the SiO X vapor deposition film 16 are respectively arranged. Then, the film 12 delivered from the delivery roll 13 is introduced into the vacuum chamber 11 by the sealing device 18, and then the SiO x vapor 14 supplied from the crucible 15 is vapor-deposited on its surface to deposit a SiO x film. After the film 16 is obtained, the film 16 is passed through the sealing device 18 again, then led out of the vacuum chamber 11, taken up by the take-up roll 17, and sent to the next step.
【００１７】図２は、バッチ式真空蒸着装置の一例を示
し、真空槽１１内には、樹脂フィルム１２を払い出す払
出しロール１３、該フィルム１２にＳｉＯX 蒸気１４を
供給するるつぼ１５、ＳｉＯX 蒸着フィルム１６を巻き
取る巻取りロール１７が夫々配置されている。FIG. 2 shows an example of a batch type vacuum vapor deposition apparatus. In the vacuum chamber 11, a dispensing roll 13 for dispensing a resin film 12, a crucible 15 for supplying SiO X vapor 14 to the film 12, and SiO X. Winding rolls 17 for winding the vapor deposition film 16 are arranged respectively.
【００１８】上記装置において、払出しロール１３から
厚さ２５μｍ、幅３６０ｍｍのポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム１２をライン速度５０ｍ／ｍｉ
ｎで払出し、るつぼ１５の加熱温度１５５０ｋ，真空槽
１１の内圧力６．７×１０-2ＰａでＳｉＯX 蒸気１４を
蒸発させ、厚さ６０ｍｍのＳｉＯX 皮膜を蒸着して、Ｓ
ｉＯX 蒸着フィルム１６を製造した。In the above apparatus, a polyethylene terephthalate (PET) film 12 having a thickness of 25 μm and a width of 360 mm is fed from the pay-out roll 13 at a line speed of 50 m / mi.
Then, the SiO x vapor 14 is evaporated at a heating temperature of 1550 k for the crucible 15 and an internal pressure of 6.7 × 10 -2 Pa in the vacuum chamber 11 to deposit a SiO x film having a thickness of 60 mm.
An iO x vapor deposition film 16 was manufactured.
【００１９】上記製造に際して、フィルムの表面にＳｉ
ＯX 皮膜を蒸着した後で、巻取りロール１７による巻取
り前に、図１，２中、符号Ａで示す部分内において、酸
素を放出する物質を供給する供給手段を設けた。In the above production, Si is formed on the surface of the film.
After the vapor deposition of the O x film and before the winding by the winding roll 17, a supply means for supplying a substance that releases oxygen is provided in the portion indicated by the symbol A in FIGS.
【００２０】また、図３に示すように、巻取りロール１
７に一度巻き取ったＳｉＯX 蒸着フィルム１６を再び払
出しロール１３に巻き戻す際に、図中Ａで示す部分内に
おいて、酸素を放出する物質を供給する供給手段を設け
た。Further, as shown in FIG. 3, the winding roll 1
When the SiO x vapor-deposited film 16 once wound on No. 7 was rewound on the pay-out roll 13 again, a supply means for supplying a substance that releases oxygen was provided in the portion indicated by A in the figure.
【００２１】次に、図４〜図６に酸素を放出する物質を
供給する供給手段の一例を示す。図４に示す供給手段
は、ＳｉＯX 蒸着フィルム１６の表面に酸素を放出する
物質２２を供給する超音波の噴霧器２１を設けたもので
ある。この装置は酸素を放出する物質２２を０．０５ｇ
／ｍ2 〜０．５ｇ／ｍ2 程均一に吹きつけるようにした
ものである。Next, FIGS. 4 to 6 show an example of a supply means for supplying a substance that releases oxygen. The supply means shown in FIG. 4 is provided with an ultrasonic atomizer 21 for supplying a substance 22 that releases oxygen to the surface of the SiO x vapor deposition film 16. This device uses 0.05g of the substance 22 that releases oxygen.
/ M 2 to 0.5 g / m 2 is sprayed uniformly.
【００２２】図５に示す供給手段は、巻取りロール１７
に巻き取られる前に、内部に酸素を放出する物質２２を
充填した塗布槽２３を設け、ＳｉＯX 蒸着フィルム１６
を該塗布槽２３内に潜らせて、表面に酸素を供給するよ
うにしたものである。この装置は酸素を放出する物質２
２を１０／ｍ2 程度その表面に塗布するようにしたもの
である。The supply means shown in FIG.
Before being taken up by the film, a coating tank 23 filled with a substance 22 that releases oxygen is provided inside the SiO x vapor deposition film 16
Is submerged in the coating tank 23 to supply oxygen to the surface. This device is a substance that releases oxygen 2
2 is applied to the surface of about 10 / m 2 .
【００２３】図６に示す供給手段は、巻取りロール１７
に巻き取られる前に、内部に酸素を放出する物質２２を
充填した塗布槽２３を設け、該塗布槽２３内に潜らせた
塗布ロール２４を介してＳｉＯX 蒸着フィルム１６の表
面に酸素を供給するようにしたものである。この装置は
酸素を放出する物質２２を１．２ｇ／ｍ2 程度その表面
に塗布するようにしたものである。The supply means shown in FIG.
Before being wound on the substrate, a coating tank 23 filled with an oxygen-releasing substance 22 is provided, and oxygen is supplied to the surface of the SiO X vapor deposition film 16 via a coating roll 24 submerged in the coating tank 23. It is something that is done. In this device, a substance 22 that releases oxygen is applied to the surface thereof at a rate of 1.2 g / m 2 .
【００２４】本実施例における酸素を放出する物質とし
ては、３５％過酸化水素水溶液、５０％過酸化ジエチル
エタノール溶液、過酸化ベンゾイルエタノール溶液の三
種類のものを用いた。As the oxygen-releasing substance in this embodiment, there were used three kinds of substances of 35% hydrogen peroxide aqueous solution, 50% diethyl peroxide ethanol solution and benzoyl peroxide ethanol solution.
【００２５】以下、図１〜図３における酸素を放出する
物質を供給する位置、図４〜図６に示す供給手段、供給
する三種類の物質２２のそれぞれを組み合わせて、表面
に酸素を供給することを、種々（計２７種）行った。Hereinafter, oxygen is supplied to the surface by combining each of the positions for supplying the substance that releases oxygen in FIGS. 1 to 3, the supply means shown in FIGS. 4 to 6 and the three kinds of substances 22 to be supplied. Various things (27 kinds in total) were performed.
【００２６】以上の２７種類での処理したＳｉＯX 蒸着
フィルム１６を２４〜３０時間後にロールから払出し、
直ちに酸素透過度を「ＪＩＳＫ７１２６」に準拠して測
定した。その結果を「表１」に示す。The SiO x vapor-deposited film 16 treated with the above 27 kinds was discharged from the roll after 24 to 30 hours,
Immediately, the oxygen permeability was measured according to "JISK7126". The results are shown in "Table 1".
【００２７】[0027]
【表１】 [Table 1]
【００２８】表１に示すように、従来では良好なガスバ
リア性を有するＳｉＯX 蒸着フィルムを製造することが
出来なかったが、実施例に示した各種の後処理方法を施
すことで、ＳｉＯX 蒸着フィルムの表面に酸素を放出さ
せ、ＳｉＯX 皮膜との反応により表面を緻密化させるこ
とができ、巻取りロール１７の払出し後、直ちにガスバ
リア性が良好なものとなり、そのまま製品可能なＳｉＯ
X 蒸着フィルムの製造が可能となった。As shown in Table 1, conventionally, it was not possible to produce a SiO x vapor deposition film having a good gas barrier property, but by performing various post-treatment methods shown in the examples, SiO x vapor deposition was performed. Oxygen is released to the surface of the film, and the surface can be densified by the reaction with the SiO x film. Immediately after the winding roll 17 is discharged, the gas barrier property becomes good, and the product can be directly manufactured.
It has become possible to manufacture X- deposited films.
【００２９】本実施例では酸素を放出する物質２２の量
が０．０５ｇ／ｍ2 〜１０ｇ／ｍ2まで何れの場合も有
効であった。尚、巻取りロールが厚くなったり、残留物
が多いなどの点から最もガスバリア性が良好なのは０．
５ｇ／ｍ2 近傍のときであった。The amount of material 22 that releases oxygen was effective in any case up to 0.05g / m 2 ~10g / m 2 in the present embodiment. It should be noted that the gas barrier property is the best because the winding roll becomes thick and there are many residues.
It was around 5 g / m 2 .
【００３０】[0030]
【発明の効果】以上、実施例と共に述べたように、従来
では良好なガスバリア性を有するＳｉＯX 蒸着フィルム
を製造することが出来なかったが、実施例に示した各種
の後処理方法を施すことで、ＳｉＯX 蒸着フィルムの表
面に酸素を放出することで、巻取りロール１７の払出し
後、直ちにガスバリア性が良好なものとなり、そのまま
製品可能なＳｉＯX 蒸着フィルムの製造が可能となっ
た。As described above with reference to the embodiments, the SiO x vapor deposition film having a good gas barrier property could not be conventionally manufactured, but various post-treatment methods shown in the embodiments are applied. Then, by releasing oxygen to the surface of the SiO X vapor deposition film, the gas barrier property was immediately improved after the take-up roll 17 was dispensed, and the SiO X vapor deposition film which can be produced as it was can be manufactured.
【図１】連続真空蒸着装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a continuous vacuum vapor deposition device.
【図２】バッチ式真空蒸着装置の概略図である。FIG. 2 is a schematic view of a batch type vacuum vapor deposition apparatus.
【図３】フィルム巻き戻し装置の概略図である。FIG. 3 is a schematic view of a film rewinding device.
【図４】フィルムに酸素を放出する物質を吹きつける装
置の概略図である。FIG. 4 is a schematic view of an apparatus for blowing an oxygen-releasing substance onto a film.
【図５】フィルムに酸素を放出する物質を吹きつける装
置の概略図である。FIG. 5 is a schematic view of an apparatus for blowing an oxygen-releasing substance onto a film.
【図６】フィルムに酸素を放出する物質を吹きつける装
置の概略図である。FIG. 6 is a schematic view of an apparatus for spraying an oxygen-releasing substance on a film.
【図７】連続真空蒸着装置の概略図である。FIG. 7 is a schematic view of a continuous vacuum vapor deposition device.
【図８】バッチ式真空蒸着装置の概略図である。FIG. 8 is a schematic view of a batch type vacuum evaporation apparatus.
１１ 真空槽 １２ 樹脂フィルム １３ 払出しロール １４ ＳｉＯX 蒸気 １５ るつぼ １６ ＳｉＯX 蒸着フィルム １７ 巻取りロール ２１ 噴霧器 ２２ 酸素を放出する物質 ２３ 塗布槽 ２４ 塗布ロール２４11 Vacuum Tank 12 Resin Film 13 Discharge Roll 14 SiO X Vapor 15 Crucible 16 SiO X Vapor Deposition Film 17 Winding Roll 21 Sprayer 22 Oxygen-releasing Substance 23 Coating Tank 24 Coating Roll 24
フロントページの続き (72)発明者 沖田 肇 広島県広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内Front page continuation (72) Inventor Hajime Okita 4-6-22 Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima City, Hiroshima Prefecture Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Hiroshima Research Center
Claims (2)
＜２）を蒸着形成した後、該ＳｉＯX 皮膜の表面に酸素
を放出する物質を供給することを特徴とするＳｉＯX 蒸
着フィルムの後処理方法。1. A SiO x film (X
<2) after the deposition formation, post-processing method for SiO X evaporation film and supplying the material from which oxygen is released to the surface of the SiO X film.
着する装置において、樹脂フィルムの表面にＳｉＯX 皮
膜（Ｘ＜２）を蒸着するＳｉＯX 蒸着手段とフィルム巻
取り手段との間に、ＳｉＯX 皮膜の表面に酸素を放出す
る物質を供給する供給手段を設けたことを特徴とするＳ
ｉＯX 蒸着フィルムの後処理装置。An apparatus for depositing a SiO X film on the surface of 2. A resin film, between the SiO X evaporation means and the film winding means for depositing the SiO X film (X <2) on the surface of the resin film, SiO The S film is provided with a supply means for supplying a substance that releases oxygen to the surface of the S film.
Post-processing equipment for iO X vapor deposition film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9955694A JPH07310184A (en) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Post treatment of siox deposited film and device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9955694A JPH07310184A (en) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Post treatment of siox deposited film and device therefor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07310184A true JPH07310184A (en) | 1995-11-28 |
Family
ID=14250440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9955694A Withdrawn JPH07310184A (en) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Post treatment of siox deposited film and device therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07310184A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002089253A (en) * | 2000-09-11 | 2002-03-27 | Ibiden Co Ltd | Holding seal material of catalytic converter for exhaust emission control |
| JP2015231948A (en) * | 2010-07-27 | 2015-12-24 | コーニング インコーポレイテッド | Mechanically stable air-tight thin film subjected to self-passivation |
-
1994
- 1994-05-13 JP JP9955694A patent/JPH07310184A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002089253A (en) * | 2000-09-11 | 2002-03-27 | Ibiden Co Ltd | Holding seal material of catalytic converter for exhaust emission control |
| JP2015231948A (en) * | 2010-07-27 | 2015-12-24 | コーニング インコーポレイテッド | Mechanically stable air-tight thin film subjected to self-passivation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Magalhães et al. | Solid softwood coated with plasma-polymer for water repellence | |
| RU2352683C2 (en) | Sputtering method for belt padding of transparent barrier coating from aluminium oxide | |
| JP2002322561A (en) | Sputtering film deposition method | |
| JP4841338B2 (en) | Film forming method and apparatus | |
| JPH11315369A (en) | Preheating method for member and coating device | |
| WO2005059202A1 (en) | Method for forming thin film and base having thin film formed by such method | |
| JP3263142B2 (en) | Apparatus for processing oxide coatings applied on carriers | |
| JPH07310184A (en) | Post treatment of siox deposited film and device therefor | |
| JPH08197676A (en) | Method and equipment for manufacturing plastic film with barrier layer | |
| JP4686956B2 (en) | Method for forming functional body | |
| JP2745584B2 (en) | Method for producing transparent barrier film | |
| JP6903872B2 (en) | Manufacturing method of gas barrier film laminate | |
| JPH0718443A (en) | Post-treatment of vapor-deposited film | |
| JP3396943B2 (en) | Manufacturing method of gas barrier metal vapor deposited film | |
| JP4332921B2 (en) | Method for producing gas barrier material | |
| JP3633276B2 (en) | Method for producing gas barrier material | |
| JP3689932B2 (en) | Gas barrier transparent film | |
| KR101213013B1 (en) | Film-forming method and film-forming apparatus | |
| JP3956627B2 (en) | High water vapor barrier film and method for producing the same | |
| JP2006274390A (en) | SiNxOyCz FILM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD | |
| JPH10160902A (en) | Antireflection film, its forming method and forming device | |
| JP2002212719A (en) | Method and device for depositing compound thin film | |
| JP5430014B2 (en) | Method for forming SiNxCyOz film | |
| JP4360186B2 (en) | Thin film forming apparatus and thin film forming method | |
| JP4110748B2 (en) | Method for producing high gas barrier film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010731 |