JPH07302828A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
- Publication number
- JPH07302828A JPH07302828A JP7098445A JP9844595A JPH07302828A JP H07302828 A JPH07302828 A JP H07302828A JP 7098445 A JP7098445 A JP 7098445A JP 9844595 A JP9844595 A JP 9844595A JP H07302828 A JPH07302828 A JP H07302828A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- substrate
- holding member
- center
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- Pending
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ウエハの損傷、発塵等なしに基板の位置決めを
行うことができる基板搬送装置を提供する。 【構成】ウエハ２の搬送中にアーム８でウエハ２を保持
したままウエハ２の位置を検出し、アーム８からセンタ
ーテーブル７へウエハ２を渡す際、センターテーブル７
の所定位置にウエハ２が渡されるように、その検出結果
に基づきアーム８とセンターテーブル７とを相対移動さ
せる。
行うことができる基板搬送装置を提供する。 【構成】ウエハ２の搬送中にアーム８でウエハ２を保持
したままウエハ２の位置を検出し、アーム８からセンタ
ーテーブル７へウエハ２を渡す際、センターテーブル７
の所定位置にウエハ２が渡されるように、その検出結果
に基づきアーム８とセンターテーブル７とを相対移動さ
せる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置または測
定検査装置におけるウエハ等の基板搬送装置に係り、特
に基板の位置決めに関するものである。
定検査装置におけるウエハ等の基板搬送装置に係り、特
に基板の位置決めに関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来の基板搬送装置におけるウエハ位置決
め方式は、ＯＦ（オリエンテーションフラット）検出用
回転テーブルの中心付近に、ウエハを設置し、回転テー
ブルを回転させＯＦの位置を検出した後に図２に示すよ
うに、ローラピンＢ２にてウエハを滑らせて、ウエハの
ＯＦ部に２個、円周部に１個設けられた基準ローラピン
Ｂ１にウエハを押し当てて位置決めを完了する方式が多
く用いられている。
め方式は、ＯＦ（オリエンテーションフラット）検出用
回転テーブルの中心付近に、ウエハを設置し、回転テー
ブルを回転させＯＦの位置を検出した後に図２に示すよ
うに、ローラピンＢ２にてウエハを滑らせて、ウエハの
ＯＦ部に２個、円周部に１個設けられた基準ローラピン
Ｂ１にウエハを押し当てて位置決めを完了する方式が多
く用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来の方式によ
ると、ウエハ下面を滑らせていることや、ローラピンを
押し当てていることなどによりウエハ損傷の恐れがあ
り、またゴミを発するなどの不具合点がある。そこで本
発明においては、ウエハ損傷、発塵等なしにウエハを位
置決めすることのできる基板搬送装置を開発することを
目的とする。
ると、ウエハ下面を滑らせていることや、ローラピンを
押し当てていることなどによりウエハ損傷の恐れがあ
り、またゴミを発するなどの不具合点がある。そこで本
発明においては、ウエハ損傷、発塵等なしにウエハを位
置決めすることのできる基板搬送装置を開発することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決の為に
本発明の基板搬送装置は、基板を保持する保持部材を有
し、該保持部材を移動することで該保持部材に保持され
た基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段から基板を受
け取って、支持するテーブルと、前記搬送手段の基板搬
送路途中の所定位置に設けられ、前記保持部材に基板を
保持した状態で該基板の位置を検出する検出手段と、前
記搬送手段から前記テーブルへ基板を渡す際に、前記テ
ーブルの所定位置に基板が渡されるよう前記検出手段の
検出結果に基づいて前記テーブルと前記保持部材とを相
対的に移動させる移動手段と、を具備するものである。
本発明の基板搬送装置は、基板を保持する保持部材を有
し、該保持部材を移動することで該保持部材に保持され
た基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段から基板を受
け取って、支持するテーブルと、前記搬送手段の基板搬
送路途中の所定位置に設けられ、前記保持部材に基板を
保持した状態で該基板の位置を検出する検出手段と、前
記搬送手段から前記テーブルへ基板を渡す際に、前記テ
ーブルの所定位置に基板が渡されるよう前記検出手段の
検出結果に基づいて前記テーブルと前記保持部材とを相
対的に移動させる移動手段と、を具備するものである。
【０００５】
【作用】本発明の基板搬送装置は、ウエハ等の基板の搬
送中に保持部材に保持したまま基板の位置を検出し、そ
の保持部材からテーブルへ基板を渡す際に、その検出結
果に基づき保持部材とテーブルとを相対移動させてテー
ブルの所定位置に基板が渡されるように構成されている
ので、基板の損傷や発塵等なしに基板の位置決めを行う
ことができる。
送中に保持部材に保持したまま基板の位置を検出し、そ
の保持部材からテーブルへ基板を渡す際に、その検出結
果に基づき保持部材とテーブルとを相対移動させてテー
ブルの所定位置に基板が渡されるように構成されている
ので、基板の損傷や発塵等なしに基板の位置決めを行う
ことができる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の実施例による非接触ウエハ位
置決め装置の斜視図、図３（イ）、（ロ）、（ハ）は図
１のＡ矢視図であり、ウエハの移動過程（（イ）から
（ハ）へ進む）をＸＹ座標と共に示している。また、図
５は図１と共に用いられる制御装置の例である。
置決め装置の斜視図、図３（イ）、（ロ）、（ハ）は図
１のＡ矢視図であり、ウエハの移動過程（（イ）から
（ハ）へ進む）をＸＹ座標と共に示している。また、図
５は図１と共に用いられる制御装置の例である。
【０００７】キャリア１内にあるウエハ２が理想中心Ｃ
３にある場合においては、ＸＹ方向の補正なしで理想中
心Ｃ４に搬送される。しかしながらキャリヤの設置や、
キャリヤ１内のウエハの位置にはばらつきがあるので実
際にはＣ３に対してΔＸ、ΔＹ偏心したＣ１のような位
置にウエハ中心がある。この場合Ｃ３よりＣ１までの偏
心量ΔＸ、ΔＹを測定し、Ｃ１からＣ２へ搬送されたウ
エハをＣ４へ補正移動させる。Ｃ４へ送られたウエハは
偏心することなくＣ４を回転中心として回転しＯＦ検出
光学系９、１０によりＯＦの方向が決定されるので、ウ
エハ表面、外周に非接触にてウエハの位置決めが完了す
る。
３にある場合においては、ＸＹ方向の補正なしで理想中
心Ｃ４に搬送される。しかしながらキャリヤの設置や、
キャリヤ１内のウエハの位置にはばらつきがあるので実
際にはＣ３に対してΔＸ、ΔＹ偏心したＣ１のような位
置にウエハ中心がある。この場合Ｃ３よりＣ１までの偏
心量ΔＸ、ΔＹを測定し、Ｃ１からＣ２へ搬送されたウ
エハをＣ４へ補正移動させる。Ｃ４へ送られたウエハは
偏心することなくＣ４を回転中心として回転しＯＦ検出
光学系９、１０によりＯＦの方向が決定されるので、ウ
エハ表面、外周に非接触にてウエハの位置決めが完了す
る。
【０００８】以下に本発明における実施例の詳細な説明
をする。ＸＹ方向に可動でＸＹ方向の移動量を不図示の
座標検出器にてモニターされているアーム８は不図示の
駆動装置によって駆動され、上下動テーブル３上のウエ
ハキャリヤ１内に進入し、ウエハを真空吸着し、Ｃ１位
置よりＣ２位置へウエハを搬送する。この途中には位置
ずれ量検出用の１対のフォトカプラー４Ａ・４Ｂ、５Ａ
・５Ｂの光軸６Ａ、６Ｂがウエハの搬送方向（Ｙ方向）
に直交するよう並設されていて、ウエハのエッジが光軸
６Ａ、６Ｂを遮ると、その時のアーム８のＹ座標がフォ
トカプラーの受光器４Ｂ、５Ｂからの信号に応答して記
憶される。なお、フォトカプラー４Ａ・４Ｂ、５Ａ・５
Ｂの光学系は、光を遮る位置を安定させる為、投光器４
Ａ、５Ａにより発せられた光束がウエハ２の通過する付
近で集光され、受光器４Ｂ、５Ｂで検出できる構成とな
っている。
をする。ＸＹ方向に可動でＸＹ方向の移動量を不図示の
座標検出器にてモニターされているアーム８は不図示の
駆動装置によって駆動され、上下動テーブル３上のウエ
ハキャリヤ１内に進入し、ウエハを真空吸着し、Ｃ１位
置よりＣ２位置へウエハを搬送する。この途中には位置
ずれ量検出用の１対のフォトカプラー４Ａ・４Ｂ、５Ａ
・５Ｂの光軸６Ａ、６Ｂがウエハの搬送方向（Ｙ方向）
に直交するよう並設されていて、ウエハのエッジが光軸
６Ａ、６Ｂを遮ると、その時のアーム８のＹ座標がフォ
トカプラーの受光器４Ｂ、５Ｂからの信号に応答して記
憶される。なお、フォトカプラー４Ａ・４Ｂ、５Ａ・５
Ｂの光学系は、光を遮る位置を安定させる為、投光器４
Ａ、５Ａにより発せられた光束がウエハ２の通過する付
近で集光され、受光器４Ｂ、５Ｂで検出できる構成とな
っている。
【０００９】２つの光軸６Ａ、６ＢのＸ方向の距離は予
め測定されているので、６Ａ−６Ｂの方向をＸ軸、Ｃ３
−Ｃ４の方向をＹ軸とした座標系でウエハの外径に相当
する座標Ａ１〜Ａ４が決定される。この座標Ａ１〜Ａ４
から後述する方法によりウエハの中心位置が計算され補
正量（ずれ量ΔＸ、ΔＹ）が算出される。図１図示のウ
エハの受渡し位置において、アーム８を、上で求めた補
正量だけ移動することにより、ウエハ中心位置をＣ２か
らＣ４へ補正する。
め測定されているので、６Ａ−６Ｂの方向をＸ軸、Ｃ３
−Ｃ４の方向をＹ軸とした座標系でウエハの外径に相当
する座標Ａ１〜Ａ４が決定される。この座標Ａ１〜Ａ４
から後述する方法によりウエハの中心位置が計算され補
正量（ずれ量ΔＸ、ΔＹ）が算出される。図１図示のウ
エハの受渡し位置において、アーム８を、上で求めた補
正量だけ移動することにより、ウエハ中心位置をＣ２か
らＣ４へ補正する。
【００１０】センターテーブル７は上下方向に可動で、
さらにＣ４を中心として回転できる構造と成っている。
ウエハ２をＣ４位置に補正移動するようにアーム８を移
動した後、センターテーブル７を上昇させ、センターテ
ーブル７の中心とウエハ２の中心が一致した状態で、ウ
エハ２を受け取り吸着させる。次にセンターテーブル７
を回転させ、ＯＦ検出を投光器９、受光器１０を持つ光
学系１１により行なわせ、ウエハ２のＯＦ方向を正確に
合致させる。このような手順によりウエハ２のＸＹ方向
および回転方向が非接触にて位置合わせできる。
さらにＣ４を中心として回転できる構造と成っている。
ウエハ２をＣ４位置に補正移動するようにアーム８を移
動した後、センターテーブル７を上昇させ、センターテ
ーブル７の中心とウエハ２の中心が一致した状態で、ウ
エハ２を受け取り吸着させる。次にセンターテーブル７
を回転させ、ＯＦ検出を投光器９、受光器１０を持つ光
学系１１により行なわせ、ウエハ２のＯＦ方向を正確に
合致させる。このような手順によりウエハ２のＸＹ方向
および回転方向が非接触にて位置合わせできる。
【００１１】次に、図１の装置の制御装置を図５によっ
て説明する。フォトカプラー４Ａ・４Ｂ、５Ａ・５Ｂの
光軸をウエハ２が通過することにより、受光器４Ｂ、５
Ｂの出力信号が変化すると、その変化時点で検出部材５
０、５１がパルスを発生し、このパルスはマイクロコン
ピュータ等により構成される演算手段６０に入力され
る。一方、アーム８のＹ座標をモニタしているＹ方向座
標検出器５６からのＹ座標も演算手段６０に入力されて
おり、検出部材５０から１つ目のパルスが入力されると
Ｙ方向座標検出器５６のＹ座標を内部メモリ５２に記憶
させる。この値をＹ1 とする。また、２つ目のパルスが
検出部材５１から入力されると、Ｙ方向座標検出器５６
のＹ座標を内部メモリ５３に記憶させる。この値をＹ2
とする。また、検出部材５１からパルスが１つ入力され
ると、Ｙ座標検出器５６のＹ座標を内部メモリ５４に記
憶させる。この値をＹ3 とする。また、２つ目のパルス
が検出部材５１から入力されると、Ｙ座標検出器５６の
Ｙ座標を内部メモリ５５に記憶させる。この値をＹ4 と
する。演算手段６０は、内部メモリ５２〜５５のＹ座標
Ｙ1 〜Ｙ4 と、メモリ６１のデータとから、後述の如く
中心位置のずれ量ΔＸ、ΔＹを演算し、これらの値Δ
Ｘ、ΔＹを、アーム８のＸ方向移動手段６２と、Ｙ方向
移動手段６３に入力する。その結果、センターテーブル
７の中心にウエハ２の中心が一致するように位置合わせ
が行われる。
て説明する。フォトカプラー４Ａ・４Ｂ、５Ａ・５Ｂの
光軸をウエハ２が通過することにより、受光器４Ｂ、５
Ｂの出力信号が変化すると、その変化時点で検出部材５
０、５１がパルスを発生し、このパルスはマイクロコン
ピュータ等により構成される演算手段６０に入力され
る。一方、アーム８のＹ座標をモニタしているＹ方向座
標検出器５６からのＹ座標も演算手段６０に入力されて
おり、検出部材５０から１つ目のパルスが入力されると
Ｙ方向座標検出器５６のＹ座標を内部メモリ５２に記憶
させる。この値をＹ1 とする。また、２つ目のパルスが
検出部材５１から入力されると、Ｙ方向座標検出器５６
のＹ座標を内部メモリ５３に記憶させる。この値をＹ2
とする。また、検出部材５１からパルスが１つ入力され
ると、Ｙ座標検出器５６のＹ座標を内部メモリ５４に記
憶させる。この値をＹ3 とする。また、２つ目のパルス
が検出部材５１から入力されると、Ｙ座標検出器５６の
Ｙ座標を内部メモリ５５に記憶させる。この値をＹ4 と
する。演算手段６０は、内部メモリ５２〜５５のＹ座標
Ｙ1 〜Ｙ4 と、メモリ６１のデータとから、後述の如く
中心位置のずれ量ΔＸ、ΔＹを演算し、これらの値Δ
Ｘ、ΔＹを、アーム８のＸ方向移動手段６２と、Ｙ方向
移動手段６３に入力する。その結果、センターテーブル
７の中心にウエハ２の中心が一致するように位置合わせ
が行われる。
【００１２】なお、アーム８をＸＹ方向にモニターする
かわりに、アーム８をＹ方向のみモニターし、センター
テーブル７をＸ方向に可動でモニター可能とした構造で
も、ずれ量ΔＸ、ΔＹの補正を行うことができる。次
に、演算手段６０によるウエハ中心の計算方法の実施例
について説明する。図４は図３におけるＸＹ座標とウエ
ハを走査した時に読み取った座標Ｙ１〜Ｙ４を示してい
る。ウエハのＯＦ部がＹ１〜Ｙ４のどれにも含まれない
場合は、Ｙ１〜Ｙ４の４点の中から３点を選出しその３
点を円の方程式に代入することによりウエハの中心Ｏ′
は求められる。
かわりに、アーム８をＹ方向のみモニターし、センター
テーブル７をＸ方向に可動でモニター可能とした構造で
も、ずれ量ΔＸ、ΔＹの補正を行うことができる。次
に、演算手段６０によるウエハ中心の計算方法の実施例
について説明する。図４は図３におけるＸＹ座標とウエ
ハを走査した時に読み取った座標Ｙ１〜Ｙ４を示してい
る。ウエハのＯＦ部がＹ１〜Ｙ４のどれにも含まれない
場合は、Ｙ１〜Ｙ４の４点の中から３点を選出しその３
点を円の方程式に代入することによりウエハの中心Ｏ′
は求められる。
【００１３】すなわち、３点（ｘ1 、ｙ1 ）（ｘ1 、ｙ
2 ）（ｘ3 、ｙ3 ）を通る円の方程式は、
2 ）（ｘ3 、ｙ3 ）を通る円の方程式は、
【００１４】
【数１】であるから、これらをａ、ｂ、ｒについて解く
と、
と、
【００１５】
【数２】となる。従って、４点より３点を選択する組合
わせを上記の式に代入し、半径ｒが最大値となる時の
（ａ、ｂ）をウエハの中心とする。またウエハのＯＦ部
が検出光軸上に存在して、図４の点Ｙ５のようて４点の
内１点がウエハの円周上に存在しなくなった場合につい
て考える。
わせを上記の式に代入し、半径ｒが最大値となる時の
（ａ、ｂ）をウエハの中心とする。またウエハのＯＦ部
が検出光軸上に存在して、図４の点Ｙ５のようて４点の
内１点がウエハの円周上に存在しなくなった場合につい
て考える。
【００１６】この場合は、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ５の４
点より３点を選択する組合わせより４組の組合せ作る。
各組のそれぞれの３点の座標を円の方程式に代入し円の
半径、中心座標を計算する。ここで４つの円の内３つは
Ｙ５が含まれるので円の半径は小さくなる。よって４つ
の円より半径が最大である円を選び出せば、その中心座
標はウエハの中心座標Ｏ′となるわけである。
点より３点を選択する組合わせより４組の組合せ作る。
各組のそれぞれの３点の座標を円の方程式に代入し円の
半径、中心座標を計算する。ここで４つの円の内３つは
Ｙ５が含まれるので円の半径は小さくなる。よって４つ
の円より半径が最大である円を選び出せば、その中心座
標はウエハの中心座標Ｏ′となるわけである。
【００１７】なお、以上の説明では２つのフォトカプラ
ーをウエハの搬送方向（Ｙ方向）に直交すうＸ方向に設
けたが、２つのフォトカプラーはその光軸がウエハの搬
送方向に並設されなければよい。また、フォトカプラー
は２つ以上設けることでウエハに複数の切欠きのある場
合にも対応させることができる。
ーをウエハの搬送方向（Ｙ方向）に直交すうＸ方向に設
けたが、２つのフォトカプラーはその光軸がウエハの搬
送方向に並設されなければよい。また、フォトカプラー
は２つ以上設けることでウエハに複数の切欠きのある場
合にも対応させることができる。
【００１８】
【発明の効果】このように本発明によると、基板の損傷
や発塵等なしに、テーブル上の所定位置に基板を位置決
めすることができる。
や発塵等なしに、テーブル上の所定位置に基板を位置決
めすることができる。
【図１】本発明におけるウエハ位置決め装置の斜視図で
ある。
ある。
【図２】従来の機械的ウエハ位置決め装置の要部概略図
である。
である。
【図３】図１の実施例の動作を説明するためにウエハの
移動過程を(イ) 、(ロ) 、(ハ) で示した図１のＡ矢視図に
相当する図である。
移動過程を(イ) 、(ロ) 、(ハ) で示した図１のＡ矢視図に
相当する図である。
【図４】ずれ量測定の一例を説明するための図である。
【図５】図１の実施例と共に用いる制御装置のブロック
図である。
図である。
２ ウエハ ４Ａ、５Ａ 発光器 ４Ｂ、５Ｂ 受光器 ６Ａ、６Ｂ 光軸 ８ アーム ５０、５１ 検出部材 ５２、５３、５４、５５ 内部メモリ ５６ Ｙ方向座標検出器 ６０ 演算手段 ６１ メモリ
Claims (3)
- 【請求項１】基板を保持する保持部材を有し、該保持部
材を移動することで該保持部材に保持された基板を搬送
する搬送手段と、 該搬送手段から基板を受け取って、支持するテーブル
と、 前記搬送手段の基板搬送路途中の所定位置に設けられ、
前記保持部材に基板を保持した状態で該基板の位置を検
出する検出手段と、 前記搬送手段から前記テーブルへ基板を渡す際に、前記
テーブルの所定位置に基板が渡されるよう前記検出手段
の検出結果に基づいて前記テーブルと前記保持部材とを
相対的に移動させる移動手段と、 を具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 【請求項２】前記検出手段は、前記保持部材に保持され
た基板のエッジを光電的に検出する光電検出手段と、前
記保持部材の移動位置を計測する計測手段と、を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。 - 【請求項３】前記テーブルは回転テーブルであって、 前記移動手段は、前記保持部材に保持された基板の中心
と前記回転テーブルの回転中心が一致するように前記保
持部材と前記回転テーブルとを相対移動させることを特
徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7098445A JPH07302828A (ja) | 1995-04-24 | 1995-04-24 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7098445A JPH07302828A (ja) | 1995-04-24 | 1995-04-24 | 基板搬送装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21469487A Division JP2611251B2 (ja) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | 基板搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07302828A true JPH07302828A (ja) | 1995-11-14 |
Family
ID=14219949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7098445A Pending JPH07302828A (ja) | 1995-04-24 | 1995-04-24 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07302828A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001210698A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-08-03 | Lam Res Corp | 最適化技術を使用して基板のオフセットを決定する方法および装置 |
| JP2012119370A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2017087401A (ja) * | 2015-11-17 | 2017-05-25 | Ntn株式会社 | ローディング機構及び工作機械システム |
| CN112703590A (zh) * | 2018-09-14 | 2021-04-23 | 朗姆研究公司 | 基准部过滤自动晶片居中工艺和相关*** |
-
1995
- 1995-04-24 JP JP7098445A patent/JPH07302828A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001210698A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-08-03 | Lam Res Corp | 最適化技術を使用して基板のオフセットを決定する方法および装置 |
| JP2001230302A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-08-24 | Lam Res Corp | 基板をダイナミックアライメントする方法および装置 |
| JP2012119370A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| KR101485216B1 (ko) * | 2010-11-29 | 2015-01-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 |
| JP2017087401A (ja) * | 2015-11-17 | 2017-05-25 | Ntn株式会社 | ローディング機構及び工作機械システム |
| WO2017086119A1 (ja) * | 2015-11-17 | 2017-05-26 | Ntn株式会社 | ローディング機構及び工作機械システム |
| CN108290261A (zh) * | 2015-11-17 | 2018-07-17 | Ntn株式会社 | 装载机构和机床*** |
| CN108290261B (zh) * | 2015-11-17 | 2020-02-28 | Ntn株式会社 | 装载机构和机床*** |
| CN112703590A (zh) * | 2018-09-14 | 2021-04-23 | 朗姆研究公司 | 基准部过滤自动晶片居中工艺和相关*** |
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