JPH0730017B2 - New production method of β-lactam compound - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、優れた抗菌活性を有するβ−ラクタム化合物
の有用な光学活性合成中間体の製造法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Purpose] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for producing a useful optically active synthetic intermediate of a β-lactam compound having excellent antibacterial activity.

（従来の技術） 従来、化合物（Ｉ）を還元し、医薬品としては、好まし
い光学活性なβ−メチル誘導体を合成する方法として
は、特開昭61−165365号公報記載の方法が知られている
が、β−ラクタムの４位の側鎖が、１−カルボキシエチ
レン誘導体である場合には、選択的が悪い。(Prior Art) Conventionally, a method described in JP-A No. 61-165365 is known as a method for synthesizing an optically active β-methyl derivative which is preferable as a drug by reducing compound (I). However, when the side chain at the 4-position of β-lactam is a 1-carboxyethylene derivative, selectivity is poor.

（当該発明が解決しようとする問題点） 本発明者等は、優れた抗菌活性を有するβ−ラクタム化
合物の合成中間体として、β−ラクタムの４位の側鎖が
１−（ヒドロキシアルキル）エチレン誘導体である化合
物よりも、更に合成中間体として優れている４位の側鎖
が１−カルボキシエチレン誘導体である化合物の選択的
な合成法について、永年に亘り鋭意研究を行なった結
果、本発明の方法により、化合物（III）が優れた立体
選択性かつ高収率で得られること及び用いる触媒が再生
使用可能であること等を見出し、本発明を完成した。(Problems to be Solved by the Invention) The present inventors have found that as a synthetic intermediate for a β-lactam compound having excellent antibacterial activity, the side chain at the 4-position of β-lactam is 1- (hydroxyalkyl) ethylene. As a result of extensive research over a long period of time, a selective synthesis method of a compound in which the 4-position side chain is a 1-carboxyethylene derivative, which is more excellent as a synthetic intermediate than a derivative compound, The present invention has been completed by finding that the compound (III) can be obtained with excellent stereoselectivity and high yield, and that the catalyst used can be regenerated by the method.

［構成］ 本発明の新規なβ−ラクタム化合物の製造法は、 一般式 ［式中、R¹は、水素原子又は水酸基の保護基を示し、R²
は、水素原子又はカルボキシ基の保護基を示し、R³は、
水素原子又はアミノ基の保護基を示し、Ｘは、酸素原子
又は硫黄原子を示す。］で表わされるβ−ラクタム化合
物を、 一般式 ［式中、R⁴、R⁵及びR⁶は、同一又は異なって置換されて
いてもよいアリール基、置換されていてもよい直鎖若し
くは分枝鎖の低級アルキル基又は置換されていてもよい
炭素数３乃至７個のシクロアルキル基を示す。］で表わ
される立体不斉ルテニウム化合物の存在下に、還元する
ことを特徴とする 一般式 ［式中、R¹、R²、R³及びＸは、前記と同意義を示す。］
で表わされる光学活性なβ−ラクタム化合物の製造法で
ある。[Structure] The method for producing the novel β-lactam compound of the present invention has the general formula [In the formula, R ¹ represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and R ²
Represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and R ³ is
A hydrogen atom or an amino-protecting group is shown, and X is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The β-lactam compound represented by [In the formula, R ⁴ , R ⁵ and R ⁶ are the same or different and may be substituted aryl groups, optionally substituted linear or branched lower alkyl groups or optionally substituted. A cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms is shown. ] A general formula characterized by reduction in the presence of a stereoasymmetric ruthenium compound represented by [In the formula, R ¹ , R ² , R ³ and X have the same meanings as described above. ]
Is a method for producing an optically active β-lactam compound.

上記一般式において、 R¹の定義における水酸基の保護基とは、反応における保
護基を示し、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイ
ル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラウロイ
ル、パルミトイル、ステアロイルのようなアルキルカル
ボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン
化アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低
級アルコキシアルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチ
ル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル
基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、α−ナフトイル、
β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブ
ロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲ
ン化アリールカルボニル基、2,4,6−トリメチルベンゾ
イル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリール
カルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ
化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−
ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル
基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低
級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−
フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボ
ニル基等の芳香族アシル基；テトラヒドロピラン−２−
イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−
メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロ
チオピラン−２−イル、４−メトキシテラヒドロチオピ
ラン−４−イルのようなテトラヒドロピラニル又はテト
ラヒドロチオピラニル基；テトラヒドロフラン−２−イ
ル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのようなテトラ
ヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基；トリ
メチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチ
ルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプ
ロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソ
プロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジ
フェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフ
ェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシ
リルのような１乃至２個のアリール基で置換されたトリ
低級アルキルシリル基等のシリル基；メトキシメチル、
1,1−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチ
ル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキ
シメチル、ｔ−ブトキシメチルのような低級アルコキシ
メチル基、２−メトキシエトキシメチルのような低級ア
ルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,2−トリクロ
ロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル
のようなハロゲン化低級アルコキシメチル等のアルコキ
シメチル基;1−エトキシエチル、１−メチル−１−メト
キシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低
級アルコキシ化エチル基、2,2,2−トリクロロエチルの
ようなハロゲン化エチル基、２−（フェニルゼレニル）
エチルのようなアリールゼレニル化エチル基等の置換エ
チル基；ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピ
ル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェ
ニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェ
ニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個
のアリール基で置換された低級アルキル基、４−メチル
ベンジル、２、４、６−トリメチルベンジル、3,4,5−
トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メト
キシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、
４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモ
ベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルフ
ェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、ピ
ペロニルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニト
ロ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃
至３個のアリール基で置換された低級アルキル基等のア
ラルキル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル
のような低級アルコキシカルボニル基、2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキ
シカルボニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシ
リル基で置換された低級アルコキシカルボニル基等のア
ルコキシカルボニル基；ビニルオキシカルボニル、アリ
ルオキシカルボニルのようなアルケニルオキシカルボニ
ル基；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシ
カルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４
−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、１乃至２
個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換さ
れていてもよいアラルキルオキシカルボニル基のような
反応における保護基を挙げることができ、好適には、シ
リル基である。In the above general formula, the protective group for the hydroxyl group in the definition of R ¹ represents a protective group in the reaction, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, lauroyl, palmitoyl, Alkylcarbonyl group such as stearoyl, halogenated alkylcarbonyl group such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, lower alkoxyalkylcarbonyl group such as methoxyacetyl, (E) -2-methyl-2- Aliphatic acyl groups such as unsaturated alkylcarbonyl groups such as butenoyl; benzoyl, α-naphthoyl,
arylcarbonyl group such as β-naphthoyl, halogenated arylcarbonyl group such as 2-bromobenzoyl and 4-chlorobenzoyl, lower alkylated arylcarbonyl group such as 2,4,6-trimethylbenzoyl and 4-toluoyl, Lower alkoxylated arylcarbonyl group such as 4-anisoyl, 4-nitrobenzoyl, 2-
A nitrated arylcarbonyl group such as nitrobenzoyl, a lower alkoxycarbonylated arylcarbonyl group such as 2- (methoxycarbonyl) benzoyl, 4-
Aromatic acyl groups such as arylated arylcarbonyl groups such as phenylbenzoyl; tetrahydropyran-2-
Yl, 3-bromotetrahydropyran-2-yl, 4-
Tetrahydropyranyl or tetrahydrothiopyranyl groups such as methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl, 4-methoxyterahydrothiopyran-4-yl; tetrahydrofuran-2-yl, tetrahydrothiofuran- Tetrahydrofuranyl or tetrahydrothiofuranyl group such as 2-yl; tri-lower alkylsilyl such as trimethylsilyl, triethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, methyldiisopropylsilyl, methyldi-t-butylsilyl, triisopropylsilyl Group, tri-lower alkylsilyl substituted with 1 to 2 aryl groups such as diphenylmethylsilyl, diphenylbutylsilyl, diphenylisopropylsilyl, phenyldiisopropylsilyl Silyl groups such as a methoxy methyl,
Lower alkoxymethyl groups such as 1,1-dimethyl-1-methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl, t-butoxymethyl, lower alkoxylated lower alkoxymethyl such as 2-methoxyethoxymethyl Groups, alkoxymethyl groups such as halogenated lower alkoxymethyl such as 2,2,2-trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) methyl; 1-ethoxyethyl, 1-methyl-1-methoxyethyl, 1- Lower alkoxylated ethyl group such as (isopropoxy) ethyl, halogenated ethyl group such as 2,2,2-trichloroethyl, 2- (phenylzelenyl)
Substituted ethyl groups such as arylzelenylated ethyl groups such as ethyl; benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, α-naphthylmethyl, β-naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, 9-anthryl Lower alkyl group substituted with 1 to 3 aryl groups such as methyl, 4-methylbenzyl, 2,4,6-trimethylbenzyl, 3,4,5-
Trimethylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-methoxyphenyldiphenylmethyl, 2-nitrobenzyl,
Lower alkyl such as 4-nitrobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-bromobenzyl, 4-cyanobenzyl, 4-cyanobenzylphenylmethyl, bis (2-nitrophenyl) methyl, piperonyl, lower alkoxy, nitro, halogen, An aralkyl group such as a lower alkyl group substituted with 1 to 3 aryl groups in which the aryl ring is substituted with a cyano group; a lower alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, Alkoxycarbonyl groups such as halogen, such as 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl and 2-trimethylsilylethoxycarbonyl, or lower alkoxycarbonyl groups substituted with tri-lower alkylsilyl groups; vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl Una alkenyloxycarbonyl group; benzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyl oxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl, 4
1 to 2 such as -nitrobenzyloxycarbonyl
There may be mentioned protecting groups in the reaction such as an aralkyloxycarbonyl group in which the aryl ring may be substituted with one lower alkoxy or nitro group, and a silyl group is preferable.

R²の定義におけるカルボキシ基の保護基とは、反応にお
ける保護基を示し、例えば、後記低級アルキル基;2、
２、２−トリクロロエチル、２−ブロモエチル、２−ク
ロロエチル、２−フルオロエチル、２、２−ジブロモエ
チルのようなハロゲノ低級アルキル基又は前記アラルキ
ル基等の反応における保護基をあげることができ、好適
には低級アルキル基である。The protective group for the carboxy group in the definition of R ^{2 represents} a protective group in the reaction, for example, a lower alkyl group described below; 2,
A protective group in the reaction such as a halogeno lower alkyl group such as 2,2-trichloroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl, 2-fluoroethyl, 2,2-dibromoethyl or the above aralkyl group can be mentioned, and it is preferable. Is a lower alkyl group.

R³の定義におけるアミノ基の保護基とは、通常アミノ基
の保護基として使用するものであれば限定はないが、好
適には、例えば、前記脂肪族アシル基；前記芳香族アシ
ル基；前記アルコキシカルボニル基；前記アルケニルオ
キシカルボニル基；前記「１乃至２個の低級アルコキシ
又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラ
ルキルオキシカルボニル基」；前記シリル基又は後記ア
ルキル基である。The amino-protecting group in the definition of R ³ is not particularly limited as long as it is usually used as an amino-protecting group, but preferably, for example, the above-mentioned aliphatic acyl group; the above-mentioned aromatic acyl group; An alkoxycarbonyl group; the above-mentioned alkenyloxycarbonyl group; the above-mentioned "aralkyloxycarbonyl group in which an aryl ring may be substituted with one or two lower alkoxy or nitro groups"; the above-mentioned silyl group or an alkyl group described later.

R⁴、R₅及びR⁶の定義における「置換されていてもよいア
リール基」とは、アリール基の環上に、１乃至４個の下
記より選択される置換基を有していてもよいアリール基
を示す。アリール基としては、例えばフェニル、ナフチ
ルのような炭素数６乃至10個の芳香族炭化水素基を挙げ
ることができ、好適にはフェニル基である。該環上の置
換基としては、アミノ基；ニトロ基；シアノ基；後記低
級アルキル、後記ハロゲノ低級アルキル又は前記アラル
キルで置換されていてもよいカルボキシ基；カルバモイ
ル基；弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子のよう
なハロゲン原子；後記低級アルキル基；メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブ
トキシのような低級アルコキシ基；後記ハロゲノ低級ア
ルキル基；前記脂肪族アシル基及びメチレンジオキシ、
エチレンジオキシ、プロピレンジオキシのような炭素数
１乃至４個のアルキレンジオキシ基を挙げることがで
き、好適には、ハロゲン原子又はハロゲン化低級アルキ
ル基である。The “optionally substituted aryl group” in the definition of R ⁴ , R ₅ and R ⁶ may have 1 to 4 substituents selected from the following on the ring of the aryl group. Indicates an aryl group. Examples of the aryl group include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable. As the substituents on the ring, an amino group; a nitro group; a cyano group; a lower alkyl described below, a halogeno lower alkyl described below or a carboxy group which may be substituted with the above aralkyl; a carbamoyl group; a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom A halogen atom such as iodine atom; a lower alkyl group described below; a lower alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy and t-butoxy; a halogeno lower alkyl group described below; the aliphatic acyl group and methylenedioxy. ,
Examples thereof include an alkylenedioxy group having 1 to 4 carbon atoms such as ethylenedioxy and propylenedioxy, and a halogen atom or a halogenated lower alkyl group is preferable.

「置換されていてもよいアリール基」としては、好適に
は、フェニル、ナフチルのようなアリール基;2−フルオ
ロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フルオロフェ
ニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−
クロロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモフェ
ニル、４−ブロモフェニル、3,5−ジフルオロフェニ
ル、2,5−ジフルオロフェニル、2,6−ジフルオロフェニ
ル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジブロモフェニ
ル、2,5−ジブロモフェニル、2,6−ジクロロフェニル、
2,4−ジクロロフェニル、2,3,6−トリフルオロフェニ
ル、2,3,4−トリフルオロフェニル、3,4,5−トリフルオ
ロフェニル、2,5,6−トリフルオロフェニル、2,4,6−ト
リフルオロフェニル、2,3,6−トリブロモフェニル、2,
3,4−トリブロモフェニル、3,4,5−トリブロモフェニ
ル、2,5,6−トリクロロフェニル、2,4,6−トリクロロフ
ェニルのようなハロゲン原子で置換されたアリール基;2
−トリフルオロメチルフェニル、３−トリフルオロメチ
ルフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２−ト
リクロロメチルフェニル、３−ジクロロメチルフェニ
ル、４−トリクロロメチルフェニル、２−トリブロモメ
チルフェニル、３−ジブロモメチルフェニル、４−ジブ
ロモメチルフェニル、3,5−ビストリフルオロメチルフ
ェニル、2,5−ビストリフルオロメチルフェニル、2,6−
ビストリフルオロメチルフェニル、2,4−ビストリフル
オロメチルフェニル、3,5−ビストリブロモメチルフェ
ニル、2,5−ビスジブロモメチルフェニル、2,6−ビスジ
クロロメチルメチルフェニル、2,4−ビスジクロロメチ
ルフェニル、2,3,6−トリストリフルオロメチルフェニ
ル、2,3,4−トリストリフルオロメチルフェニル、3,4,5
−トリストリフルオロメチルフェニル、2,5,6−トリス
トリフルオロメチルフェニル、2,4,6−トリストリフル
オロメチルフェニル、2,3,6−トリストリブロモメチル
フェニル、2,3,4−トリスジブロモメチルフェニル、3,
4,5−トリストリブロモメチルフェニル、2,5,6−トリス
ジクロロメチルメチルフェニル、2,4,6−トリスジクロ
ロメチルフェニルのようなハロゲノ低級アルキル基で置
換されたアリール基;2−メチルフェニル、３−メチルフ
ェニル、４−メチルフェニル、２−エチルフェニル、３
−プロピルフェニル、４−エチルフェニル、２−ブチル
フェニル、３−ペンチルフェニル、４−ペンチルフェニ
ル、3,5−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、
2,6−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、3,5
−ジブチルフェニル、2,5−ジペンチルフェニル、2,6−
ジプロピルメチルフェニル、2,4−ジプロピルフェニ
ル、2,3,6−トリメチルフェニル、2,3,4−トリメチルフ
ェニル、3,4,5−トリメチルフェニル、2,5,6−トリメチ
ルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,3,6−トリ
ブチルフェニル、2,3,4−トリペンチルフェニル、3,4,5
−トリブチルフェニル、2,5,6−トリプロピルメチルフ
ェニル、2,4,6−トリプロピルフェニルのような低級ア
ルキル基で置換されたアリール基;2−メトキシフェニ
ル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２
−エトキシフェニル、３−プロポキシフェニル、４−エ
トキシフェニル、２−ブトキシフェニル、３−ペントキ
シフェニル、４−ペントキシフェニル、3,5−ジメトキ
シフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキ
シフェニル、2,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジブトキ
シフェニル、2,5−ジペントキシフェニル、2,6−ジプロ
ポキシメトキシフェニル、2,4−ジプロポキシフェニ
ル、2,3,6−トリメトキシフェニル、2,3,4−トリメトキ
シフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、2,5,6−ト
リメトキシフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニル、
2,3,6−トリブトキシフェニル、2,3,4−トリペントキシ
フェニル、3,4,5−トリブトキシフェニル、2,5,6−トリ
プロポキシフェニル、2,4,6−トリプロポキシフェニル
のような低級アルコキシ基で置換されたアリール基;2−
アミノフェニル、３−アミノフェニル、４−アミノフェ
ニル、3,5−ジアミノフェニル、2,5−ジアミノフェニ
ル、2,6−ジアミノフェニル、2,4−ジアミノフェニルの
ようなアミノ基で置換されたアリール基;2−ニトロフェ
ニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニル、3,5
−ジニトロフェニル、2,5−ジニトロフェニル、2,6−ジ
ニトロフェニル、2,4−ジニトロフェニルのようなニト
ロ基で置換されたアリール基;2−シアノフェニル、３−
シアノフェニル、４−シアノフェニル、3,5−ジシアノ
フェニル、2,5−ジシアノフェニル、2,6−ジシアノフェ
ニル、2,4−ジシアノフェニルのようなシアノ基で置換
されたアリール基;2−アセチルフェニル、３−アセチル
フェニル、４−アセチルフェニル、3,5−ジアセチルフ
ェニル、2,5−ジアセチルフェニル、2,6−ジアセチルフ
ェニル、2,4−ジアセチルフェニル、2,3,6−トリプロピ
オニルフェニルのような脂肪族アシル基で置換されたア
リール基;2−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェ
ニル、４−カルボキシフェニルのようなカルボキシ基で
置換されたアリール基;2−カルバモイルフェニル、３−
カルバモイルフェニル、４−カルバモイルフェニル、3,
5−ジカルバモイルフェニル、2,5−ジカルバモイルフェ
ニル、2,6−ジカルバモイルフェニル、2,4−ジカルバモ
イルフェニルのようなカルバモイル基で置換されたアリ
ール基;3,4−メチレンジオキシフェニルのようなアルキ
レンジオキシ基で置換されたアリール基を挙げることが
できる。The "optionally substituted aryl group" is preferably an aryl group such as phenyl or naphthyl; 2-fluorophenyl, 3-fluorophenyl, 4-fluorophenyl, 2-chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 4 −
Chlorophenyl, 2-bromophenyl, 3-bromophenyl, 4-bromophenyl, 3,5-difluorophenyl, 2,5-difluorophenyl, 2,6-difluorophenyl, 2,4-difluorophenyl, 3,5-dibromo Phenyl, 2,5-dibromophenyl, 2,6-dichlorophenyl,
2,4-dichlorophenyl, 2,3,6-trifluorophenyl, 2,3,4-trifluorophenyl, 3,4,5-trifluorophenyl, 2,5,6-trifluorophenyl, 2,4, 6-trifluorophenyl, 2,3,6-tribromophenyl, 2,
Aryl group substituted with a halogen atom such as 3,4-tribromophenyl, 3,4,5-tribromophenyl, 2,5,6-trichlorophenyl and 2,4,6-trichlorophenyl; 2
-Trifluoromethylphenyl, 3-trifluoromethylphenyl, 4-trifluoromethylphenyl, 2-trichloromethylphenyl, 3-dichloromethylphenyl, 4-trichloromethylphenyl, 2-tribromomethylphenyl, 3-dibromomethylphenyl , 4-dibromomethylphenyl, 3,5-bistrifluoromethylphenyl, 2,5-bistrifluoromethylphenyl, 2,6-
Bistrifluoromethylphenyl, 2,4-bistrifluoromethylphenyl, 3,5-bistribromomethylphenyl, 2,5-bisdibromomethylphenyl, 2,6-bisdichloromethylmethylphenyl, 2,4-bisdichloromethylphenyl , 2,3,6-tristrifluoromethylphenyl, 2,3,4-tristrifluoromethylphenyl, 3,4,5
-Tristrifluoromethylphenyl, 2,5,6-tristrifluoromethylphenyl, 2,4,6-tristrifluoromethylphenyl, 2,3,6-tristribromomethylphenyl, 2,3,4-tris Dibromomethylphenyl, 3,
Aryl group substituted with a halogeno lower alkyl group such as 4,5-tristribromomethylphenyl, 2,5,6-trisdichloromethylmethylphenyl and 2,4,6-trisdichloromethylphenyl; 2-methylphenyl , 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 2-ethylphenyl, 3
-Propylphenyl, 4-ethylphenyl, 2-butylphenyl, 3-pentylphenyl, 4-pentylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl,
2,6-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 3,5
-Dibutylphenyl, 2,5-dipentylphenyl, 2,6-
Dipropylmethylphenyl, 2,4-dipropylphenyl, 2,3,6-trimethylphenyl, 2,3,4-trimethylphenyl, 3,4,5-trimethylphenyl, 2,5,6-trimethylphenyl, 2 , 4,6-Trimethylphenyl, 2,3,6-tributylphenyl, 2,3,4-tripentylphenyl, 3,4,5
-Aryl group substituted with a lower alkyl group such as tributylphenyl, 2,5,6-tripropylmethylphenyl and 2,4,6-tripropylphenyl; 2-methoxyphenyl, 3-methoxyphenyl, 4-methoxy Phenyl, 2
-Ethoxyphenyl, 3-propoxyphenyl, 4-ethoxyphenyl, 2-butoxyphenyl, 3-pentoxyphenyl, 4-pentoxyphenyl, 3,5-dimethoxyphenyl, 2,5-dimethoxyphenyl, 2,6-dimethoxy Phenyl, 2,4-dimethoxyphenyl, 3,5-dibutoxyphenyl, 2,5-dipentoxyphenyl, 2,6-dipropoxymethoxyphenyl, 2,4-dipropoxyphenyl, 2,3,6-tri Methoxyphenyl, 2,3,4-trimethoxyphenyl, 3,4,5-trimethoxyphenyl, 2,5,6-trimethoxyphenyl, 2,4,6-trimethoxyphenyl,
2,3,6-Tributoxyphenyl, 2,3,4-tripentoxyphenyl, 3,4,5-tributoxyphenyl, 2,5,6-tripropoxyphenyl, 2,4,6-tripropoxyphenyl An aryl group substituted with a lower alkoxy group such as;
Aryl substituted with an amino group such as aminophenyl, 3-aminophenyl, 4-aminophenyl, 3,5-diaminophenyl, 2,5-diaminophenyl, 2,6-diaminophenyl, 2,4-diaminophenyl Group; 2-nitrophenyl, 3-nitrophenyl, 4-nitrophenyl, 3,5
An aryl group substituted with a nitro group such as -dinitrophenyl, 2,5-dinitrophenyl, 2,6-dinitrophenyl, 2,4-dinitrophenyl; 2-cyanophenyl, 3-
Aryl group substituted with a cyano group such as cyanophenyl, 4-cyanophenyl, 3,5-dicyanophenyl, 2,5-dicyanophenyl, 2,6-dicyanophenyl, 2,4-dicyanophenyl; 2-acetyl Of phenyl, 3-acetylphenyl, 4-acetylphenyl, 3,5-diacetylphenyl, 2,5-diacetylphenyl, 2,6-diacetylphenyl, 2,4-diacetylphenyl, 2,3,6-tripropionylphenyl An aryl group substituted with an aliphatic acyl group such as; an aryl group substituted with a carboxy group such as 2-carboxyphenyl, 3-carboxyphenyl, 4-carboxyphenyl; 2-carbamoylphenyl, 3-
Carbamoylphenyl, 4-carbamoylphenyl, 3,
An aryl group substituted with a carbamoyl group such as 5-dicarbamoylphenyl, 2,5-dicarbamoylphenyl, 2,6-dicarbamoylphenyl, 2,4-dicarbamoylphenyl; 3,4-methylenedioxyphenyl An aryl group substituted with such an alkylenedioxy group can be mentioned.

R⁴,R⁵及びR⁶の定義における「置換されていてもよい直
鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基」とは、低級アルキ
ル化又はハロゲノ低級アルキル基を示す。低級アルキル
基とは、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−
ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチ
ル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペンチ
ル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３、３
−ジメチルブチル、２、２−ジメチルブチル、１、１−
ジメチルブチル、１、２−ジメチルブチル、１、３−ジ
メチルブチル、２、３−ジメチルブチルのような炭素数
１乃至６個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基を挙げるこ
とができ、好適には、炭素数１乃至４個の直鎖若しくは
分枝鎖アルキル基である。ハロゲノ低級アルキル基とし
ては、例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメチ
ル、トリブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメ
チル、フルオロメチル、クロロメチル、2,2,2−トリフ
ルオロエチル、ｎ−トリフルオロプロピル、２−トリフ
ルオロメチルブチル、４−トリフルオロメチルペンチ
ル、３−トリフルオロメチルペンチル、２−トリフルオ
ロメチルペンチル、３、３−トリフルオロジメチルブチ
ルのような炭素数１乃至６個の直鎖若しくは分枝鎖ハロ
ゲノアルキル基を挙げることができ、好適には炭素数１
乃至４個の直鎖若しくは分枝鎖ハロゲノアルキル基であ
る。尚、基自体として好適には、炭素数１乃至４個のア
ルキル基である。The “optionally substituted linear or branched lower alkyl group” in the definitions of R ⁴ , R ⁵ and R ⁶ is a lower alkylated or halogeno lower alkyl group. The lower alkyl group is, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-
Butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3,3
-Dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-
Examples thereof include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl and 2,3-dimethylbutyl, and preferably , A linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The halogeno lower alkyl group includes, for example, trifluoromethyl, trichloromethyl, tribromomethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, fluoromethyl, chloromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, n-trifluoropropyl, 2- Straight chain or branched chain having 1 to 6 carbon atoms such as trifluoromethylbutyl, 4-trifluoromethylpentyl, 3-trifluoromethylpentyl, 2-trifluoromethylpentyl, 3,3-trifluorodimethylbutyl Examples thereof include a halogenoalkyl group, preferably having 1 carbon atom.
To 4 straight or branched chain halogenoalkyl groups. The group itself is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

R⁴、R⁵及びR⁶の定義における「置換されていてもよい炭
素数３乃至７個のシクロアルキル基」とは、シクロアル
キル基の環上に、前記「置換されていてもよいアリール
基」において記載した置換基より選択される置換基が１
乃至４個有していてもよいシクロアルキル基を示す。シ
クロアルキル基とは、シクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルのよ
うな３乃至７員環状飽和炭化水素基を示し、好適には５
乃至７員環状飽和炭化水素基である。The “optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms” in the definition of R ⁴ , R ⁵ and R ⁶ means the above-mentioned “optionally substituted aryl group” on the ring of the cycloalkyl group. The substituent selected from the substituents described in 1) is 1
To 4 cycloalkyl groups which may be present. The cycloalkyl group means cyclopropyl, cyclobutyl,
It represents a 3- to 7-membered cyclic saturated hydrocarbon group such as cyclopentyl, cyclohexyl and cycloheptyl, preferably 5
To 7-membered cyclic saturated hydrocarbon group.

本発明は、化合物（Ｉ）を溶媒に溶かし、脱気させ、こ
の溶液にルテニウム化合物（II）の脱気溶液を加え、更
にこの溶液を脱気した後、オートクレーブ中で、高圧撹
拌下、接触還元することにより達成される。In the present invention, compound (I) is dissolved in a solvent and degassed, a degassing solution of ruthenium compound (II) is added to this solution, and this solution is degassed, and then contacted in an autoclave under high pressure stirring. It is achieved by reducing.

使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適には、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；エーテル、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類；ジクロロメタン、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類及びこれらの
混合溶媒を挙げることができ、更に好適には、アルコー
ル類又はアルコール類と上記他の溶媒との混合溶媒であ
る。The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but preferably alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ether, Examples thereof include ethers such as dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether and tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, and mixed solvents thereof, and more preferably alcohols or alcohols and the above-mentioned other solvents. It is a mixed solvent with.

使用されるルテニウム化合物としては、前記定義された
化合物であれば特に限定はないが、好適には、一般式
（II）において、 （１） R⁴が、置換されていてもよいアリール基である
化合物 （２） R⁴が、フェニル又はトリルである化合物 （３） R⁵及びR⁶が同一又は異なって、置換されていて
もよい直鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基である化合
物 （４） R⁵及びR⁶が同一又は異なって、ハロゲン原子で
置換されていてもよい直鎖若しくは分枝鎖の炭素数１乃
至４個のアルキル基である化合物 （５） R⁵及びR⁶が同一又は異なって、メチル又はトリ
フルオロメチルである化合物 （６） R⁴が、置換されていてもよいアリール基であ
り、R⁵及びR⁶が同一又は異なって、置換されていてもよ
い直鎖若しくは分枝鎖の低級アルキル基である化合物 （７） R⁴が、置換されていてもよいアリール基であ
り、R⁵及びR⁶が同一又は異なって、ハロゲン原子で置換
されていてもよい直鎖若しくは分枝鎖の炭素数１乃至４
個のアルキル基である化合物 （８） R⁴が、置換されていてもよいアリール基であ
り、R⁵及びR⁶が同一又は異なって、メチル又はトリフル
オロメチルである化合物 （９） R⁴が、フェニル又はトリルであり、R⁵及びR⁶が
同一又は異なって、置換されていてもよい直鎖若しくは
分枝鎖の低級アルキル基である化合物 （10） R⁴が、フェニル又はトリルであり、R⁵及びR⁶が
同一又は異なって、ハロゲン原子で置換されていてもよ
い直鎖若しくは分枝鎖の炭素数１乃至４個のアルキル基
である化合物 （11） R⁴が、フェニル又はトリルであり、R⁵及びR⁶が
同一又は異なって、メチル又はトリフルオロメチルであ
る化合物 を挙げることができる。The ruthenium compound used is not particularly limited as long as it is a compound defined above, but (1) R ⁴ in the general formula (II) is preferably an optionally substituted aryl group. Compound (2) Compound in which R ⁴ is phenyl or tolyl (3) Compound in which R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are optionally substituted linear or branched lower alkyl groups (4) Compounds in which R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom (5) R ⁵ and R ⁶ are the same or (6) R ⁴ is an optionally substituted aryl group, and R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are optionally substituted linear or branched. Compounds that are lower chain alkyl groups ( ) R ⁴ is a aryl group which may be substituted, R ⁵ and R ⁶ are the same or different, a C 1 -C 4 optionally substituted straight or branched chain with a halogen atom
A compound (8) R ⁴ which is an alkyl group, is an optionally substituted aryl group, and R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are methyl or trifluoromethyl (9) R ⁴ is , Phenyl or tolyl, and R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are optionally substituted linear or branched lower alkyl groups (10) R ⁴ is phenyl or tolyl, Compounds in which R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom (11) R ⁴ is phenyl or tolyl And R ⁵ and R ⁶ are the same or different and are methyl or trifluoromethyl.

最も好適には、 及び の化合物である。Most preferably, as well as Is a compound of.

尚、ルテニウム化合物の量は、多量に使用しても問題は
ないが、通常、β−ラクタム化合物（Ｉ）に対して1/10
0〜1/500モルを用いることによって実施される。The ruthenium compound may be used in a large amount, but is usually 1/10 of the amount of the β-lactam compound (I).
It is carried out by using 0 to 1/500 mol.

反応圧力は、通常、４〜120気圧で行なわれるが、好適
には80〜110気圧である。The reaction pressure is usually 4 to 120 atm, preferably 80 to 110 atm.

反応温度は、通常０℃乃至50℃で行なわれるが、好適に
は、10℃乃至40℃である。The reaction temperature is usually 0 ° C to 50 ° C, preferably 10 ° C to 40 ° C.

反応時間は、主に反応圧力、反応温度、原料化合物、及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１時間
乃至４日間である。The reaction time varies depending mainly on the reaction pressure, the reaction temperature, the starting compound, and the kind of the solvent used, but it is usually 1 hour to 4 days.

反応終了後、目的化合物（III）は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和
しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することに
よって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常
法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等に
よって更に精製できる。After completion of the reaction, the target compound (III) is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

本発明の原料化合物（Ｉ）は、公知化合物であり、例え
ば、特開昭61−165365号公報記載の方法に従って製造さ
れる。The starting compound (I) of the present invention is a known compound and is produced, for example, according to the method described in JP-A No. 61-165365.

一方、光学活性なルテニウム化合物（II）は、例えば、
野依ら［ジャーナル オブ オーガニック ケミストリ
ー、51、629、（1986年）及びジャーナル オブ アメ
リカン ケミカル ソサイエティー、108、7117−711
9、（1986年）］の方法に従って、原料として光学活性
なルテニウム化合物を用い、有機酸塩をメタノール、エ
タノール、ｔ−ブタノールのようなアルコール類の溶媒
中で、20〜110℃の温度で３〜15時間反応させた後、溶
媒を留去して、エーテル、テトラヒドロフランのような
エーテル類又はメタノール、エタノール、ｔ−ブタノー
ルのようなアルコール類の溶媒で抽出後、乾個すること
により得ることができ、更に、再結晶することにより、
精製品を得ることができる。On the other hand, the optically active ruthenium compound (II) is, for example,
Noyori et al. [Journal of Organic Chemistry, 51 , 629, (1986) and Journal of American Chemical Society, 108 , 7117-711.
9, (1986)], an optically active ruthenium compound is used as a raw material, and an organic acid salt is mixed in a solvent of alcohols such as methanol, ethanol and t-butanol at a temperature of 20 to 110 ° C. After reacting for ~ 15 hours, the solvent is distilled off, extraction is performed with a solvent of ethers such as ether and tetrahydrofuran, or alcohols such as methanol, ethanol, and t-butanol, followed by drying. Yes, and by recrystallizing,
You can obtain a purified product.

以下に、実施例をあげて本発明を更に具体的に説明す
る。Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

実施例１ （3S,4S）−３−［（1R）−１−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル］−４−（１−カルボキシエチル）−
アゼチジン−２−オン 予め、真空乾燥し、アルゴン置換したシュレンク管に
（3S,4S）−３−［（1R）−１−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル］−４−（１−カルボキシエチレン）
−アゼチジン−２−オン（20mg,0.0669mmol）と脱気メ
タノール（ml）を加えて、３回凍結脱気を行なう。この
気質溶液に、 一般式 を有するルテニウム化合物（0.7mg,8.32x10^-4mmol）の
脱気メタノール溶液（0.1ml）を加えて、２回凍結脱気
する。この薄黄色溶液を、内部にガラス管を有するステ
ンレスオートクレーブに、アルゴン圧を利用して移す。
反応容器内を純度99.9999％の水素で４回置換した後、1
00気圧まで加圧し、26℃で12時間撹拌する。圧力を解放
後、濃黄色の反応溶液を減圧下濃縮し、得られた固体の
270MHzのプロトンNMR分析により、表記化合物を、変換
率が100％、αβ比が13.3:86.7で得ることができた。Example 1 (3S, 4S) -3-[(1R) -1-t-butyldimethylsilyloxyethyl] -4- (1-carboxyethyl)-
Azetidin-2-one (3S, 4S) -3-[(1R) -1-t-butyldimethylsilyloxyethyl] -4- (1-carboxyethylene) was previously vacuum-dried and placed in a Schlenk tube that had been purged with argon.
Add azetidin-2-one (20 mg, 0.0669 mmol) and degassed methanol (ml) and freeze degas three times. In this gaseous solution, the general formula A degassed methanol solution (0.1 ml) of a ruthenium compound (0.7 mg, 8.32x10 ^-4 mmol) having the above is added and freeze degassed twice. The pale yellow solution is transferred to a stainless autoclave with a glass tube inside by using argon pressure.
After replacing the inside of the reaction vessel four times with 99.9999% pure hydrogen,
Pressurize to 00 atm and stir at 26 ° C for 12 hours. After the pressure was released, the dark yellow reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the solid
The title compound could be obtained by proton NMR analysis at 270 MHz with a conversion rate of 100% and an αβ ratio of 13.3: 86.7.

NMRスペクトル270MHz（重メタノール）：δppm ［β体］0.11（s,3H）,0.12（s,3H）,0.92（s,9H）,1.2
1（d,3H,J＝6.3Hz）,1.25（d,3H,J＝7.25Hz）,2.62（qu
intet,1H,J＝7.25Hz）,3.04（dd,1H,J＝2.0,3.0Hz）,3.
84（dd,1H,J＝2.0,7.25Hz）,4.26（2q,1H,J＝3.0,6.3H
z） ［α体］0.12（s,3H）,0.14（s,3H）,0.93（s,9H）,1.2
5（d,3H,J＝7.2Hz）,1.27（d,3H,J＝6.3Hz）,2.60（dq,
1H,J＝7.2,8.9Hz）,2.93（dd,1H,J＝2.0,4.0Hz）,3.80
（dd,1H,J＝2.0,8.9Hz）,4.25（dq,1H,J＝4.0,6.3Hz） 実施例２ （3S,4S）−３−［（1R）−１−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル］−４−（１−カルボキシエチル）ア
ゼチジン−２−オン 上記と同様の方法に従い、触媒として 一般式 を有するルテニウム化合物を使用することにより、表記
β−ラクタム化合物を、変換率が100％、αβ比が15.7:
84.3で得ることができた。NMR spectrum 270 MHz (deuterated methanol): δppm [β-form] 0.11 (s, 3H), 0.12 (s, 3H), 0.92 (s, 9H), 1.2
1 (d, 3H, J = 6.3Hz), 1.25 (d, 3H, J = 7.25Hz), 2.62 (qu
intet, 1H, J = 7.25Hz), 3.04 (dd, 1H, J = 2.0,3.0Hz), 3.
84 (dd, 1H, J = 2.0,7.25Hz), 4.26 (2q, 1H, J = 3.0,6.3H
z) [α] 0.12 (s, 3H), 0.14 (s, 3H), 0.93 (s, 9H), 1.2
5 (d, 3H, J = 7.2Hz), 1.27 (d, 3H, J = 6.3Hz), 2.60 (dq,
1H, J = 7.2,8.9Hz), 2.93 (dd, 1H, J = 2.0,4.0Hz), 3.80
(Dd, 1H, J = 2.0,8.9Hz), 4.25 (dq, 1H, J = 4.0,6.3Hz) Example 2 (3S, 4S) -3-[(1R) -1-t-butyldimethylsilyloxy Ethyl] -4- (1-carboxyethyl) azetidin-2-one According to the same method as the above, the compound represented by the general formula: By using a ruthenium compound having a notation β-lactam compound, the conversion rate is 100%, αβ ratio is 15.7:
Got it with 84.3.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】一般式 ［式中、R¹は、水素原子又は水酸基の保護基を示し、R²
は、水素原子又はカルボキシ基の保護基を示し、R³は、
水素原子又はアミノ基の保護基を示し、Ｘは、酸素原子
又は硫黄原子を示す。］で表わされるβ−ラクタム化合
物を、 一般式 ［式中、R⁴、R⁵及びR⁶は、同一又は異なって置換されて
いてもよいアリール基、置換されていてもよい直鎖若し
くは分枝鎖の低級アルキル基又は置換されていてもよい
炭素数３乃至７個のシクロアルキル基を示す。］で表わ
される立体不斉ルテニウム化合物の存在下に、還元する
ことを特徴とする 一般式 ［式中、R¹、R²、R³及びＸは、前記と同意義を示す。］
で表わされる光学活性β−ラクタム化合物の製造法。1. A general formula [In the formula, R ¹ represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, and R ²
Represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and R ³ is
A hydrogen atom or an amino-protecting group is shown, and X is an oxygen atom or a sulfur atom. ] The β-lactam compound represented by [In the formula, R ⁴ , R ⁵ and R ⁶ are the same or different and may be substituted aryl groups, optionally substituted linear or branched lower alkyl groups or optionally substituted. A cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms is shown. ] A general formula characterized by reduction in the presence of a stereoasymmetric ruthenium compound represented by [In the formula, R ¹ , R ² , R ³ and X have the same meanings as described above. ]
A method for producing an optically active β-lactam compound represented by: