JPH07292470A - 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 - Google Patents
真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置Info
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- JPH07292470A JPH07292470A JP8629594A JP8629594A JPH07292470A JP H07292470 A JPH07292470 A JP H07292470A JP 8629594 A JP8629594 A JP 8629594A JP 8629594 A JP8629594 A JP 8629594A JP H07292470 A JPH07292470 A JP H07292470A
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Abstract
ができる真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置
の提供を目的としている。 【構成】 電磁石13,14,15を備えたディスク保
持部材1,6,20と、下側に鍔部10bを有し、中心
部にディスクの中心穴に嵌合する嵌合部10aを備え、
かつ該嵌合部10a内に上下方向に着磁された磁石12
を有する駒10とを備え、前記駒10にディスクを嵌合
支持させてディスクの上又は下方向からディスク保持部
材1により該駒10を吸引しディスクを保持するように
した。
Description
法又はその装置に係り、詳しくは真空装置等にディスク
を供給したり排出したり、あるいは真空装置内でディス
クを搬送する際にディスクを保持する方法又はその装置
に関する。
を製造する際に、透明ディスクにアルミニウム反射膜を
形成させるためにスパッタリング装置が用いられてい
る。スパッタリング装置としては、連続的にディスクを
1枚ずつ供給・排出するタイプが一般的である。この装
置の構成は、大まかには、ロード・ロック室と呼ばれ
る大気圧から数Pa〜数十Paまで真空排気する系と、
アルミニウムを成膜する系(スパッタ室)、これら
2つの系に連通し、ディスクを搬送する空間の系から構
成されている。これらとの系は共に0.1Pa以下
に真空排気されていることから、単にロード・ロック室
と高真空室の構成とみることもできる。
れのメーカーのどのタイプも略同じ構成で、図4に示す
ように、アーム1を有しており、アーム1の下側にはゴ
ム等で形成された吸着パッド2が設けられていて、ディ
スクDはこれにより真空吸着されて保持されるようにな
っている。アーム1の動きは、アルミニウムの成膜され
ていないディスクDを吸着してロード・ロック室3の開
口部4の上方にディスクDを下方向になるように移動
し、次いでアーム1は下降してロード・ロック室3の開
口部4に蓋をする。
除してディスクDをアーム1から脱離させ、ロード・ロ
ック室3の下側開口部5に押し付けられているプレート
部6上にディスクDを移載する。このとき、ディスクD
の離脱をより確実にするために、この吸着パッド2の真
空解除のとき、吸着パッド2内に大気圧より高い圧力を
瞬間的に与えることが通常おこなわれている。
ド・ロック室3を真空ポンプ9で数Pa〜数十Paまで
真空排気する。現在の装置では、この真空排気に要する
時間を極力短くするため、すなわち仕事時間を短くする
ために、ロード・ロック室3の系内の空間容積を極力小
さくしている。
空排気された後、ロード・ロック室3の下側開口部5を
押し付けていたプレート部6がディスクDを載せたまま
下降し、真空ポンプ10によって高真空に排気された空
間を通ってスパッタ室7に移動する。勿論、このスパッ
タ室7も高真空に排気されている。そして、スパッタの
終了したディスクDはプレート部6に載せられて再びロ
ード・ロック室3の下側開口部5の下方位置に戻され
る。次に、プレート部6が上昇してロード・ロック室3
の下側開口部5を押し付け、アーム1とで蓋のされた一
つの閉じた系内にディスクDは位置することになる。
ド・ロック室3に空気を導入し、ロード・ロック室3が
大気圧に戻った後、アーム1の吸着パッド2でディスク
Dを再び真空吸着し、アーム1をロード・ロック室3の
開口部4から上昇させ、ディスクDを供給・排出装置に
よって交換する動作を繰り返す。
してロード・ロック室3が大気圧に戻った後にアーム1
の吸着パッド2でディスクDを再び真空吸着する時間
は、吸着パッド2でディスクDを再び真空吸着するのと
同時にロード・ロック室3に空気を導入しても吸着パッ
ド2にディスクDを吸着できないので、それぞれの動作
をこの順序で一連におこなわなければならず、この工程
で時間を短くすることは極めて困難である。
空解除に対して大気圧よりも高い圧力を瞬間的に与える
と、この系内には実質上真空排気すべき気体が増えるた
め真空排気に要する時間が長くなってしまうという問題
もある。この場合に、この吸着パッド2の真空解除を大
気圧でおこなったとしても、ロード・ロック室3の空間
容積はこの吸着パッド2の真空解除をおこなうバルブま
での容積分多くなるため、ロード・ロック室3の系内の
実質的な空間容積を小さくするのには、やはり限界があ
る。また、ディスクの吸着においては、ゴム製の吸着パ
ッドを用いているために、そのパッドの疲労による破損
等がしばしば吸着ミスを起こし、長期に渡っての安定動
作にも問題があった。このように、スパッタの工程での
ディスクDの保持・解除に要する時間に制約されるた
め、ディスクDを製造する場合において、他の工程との
時間的連繋がとりにくく、全体としての製造時間を短縮
することが困難であった。
縮させることができる真空装置でのディスクの保持方法
及び保持装置の提供を目的としている。
のディスクの保持方法は、下側に鍔部を有し、中心部に
ディスクの中心穴に嵌合する嵌合部を備え、かつ該嵌合
部内に上下方向に着磁された磁石を有する駒を用い、該
駒の嵌合部をディスクの中心穴に嵌め込でディスク支持
するとともに、ディスクの上又は下方向から電磁石を備
えたディスク保持部材により前記駒を吸引してディスク
を保持するようにしたことを特徴としている。
の保持装置は、電磁石を備えたディスク保持部材と、下
側に鍔部を有し、中心部にディスクの中心穴に嵌合する
嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下方向に着磁された
磁石を有する駒とを備え、前記駒にディスクを嵌合支持
させてディスクの上又は下方向からディスク保持部材に
より該駒を吸引しディスクを保持するようにしたことを
特徴としている。この場合に、前記駒の嵌合部は、先端
部が先端に向かって細くなるテーパ状に形成した円柱状
として、前記鍔は円盤状に形成することが望ましく、ま
た前記ディスク保持部材の電磁石は、前記駒を吸引ある
いは反発のいずれにも駆動できるように構成することが
望ましい。
ディスクを保持する際には、駒にディスクを載せて、保
持部材のより駒を電磁吸着してディスクを保持するよう
にする。この装置を、系内が真空にされた真空装置、例
えばスパッタリング装置等に用いると、ディスクの吸着
や解除に真空引きや圧縮空気を送る必要がなくなるの
で、ロード・ロック室内の排気時間が短縮できて全体と
しての仕事時間の短縮をおこなうことが可能となる。ま
た、保持部材の電磁石が駒を吸引あるいは反発のいずれ
にも駆動できるように構成した場合は、駒の上下に保持
部材が対向する状態になると、一方の保持部材で吸引を
おこない、他方の保持部材で反発を行なわせることによ
り、一方の保持部材に対する駒の吸着を確実におこなう
ことが可能となる。
る。なお、従来の技術の項で説明したものと同一または
相当する部分には同一符号を付す。図1(a)には、本
発明に係る真空装置でのディスクの保持方法及び保持装
置を実施したスパッタリング装置が示されている。図に
示すように、アルミニウムのスパッタされたディスク
と、アルミニウムが成膜されていないディスクを供給・
排出装置によって交換するのであるが、このディスクD
の下に駒10を配置する。
レンからなり、図1(b)に示すように、ディスクDの
中心穴に嵌合させるための円柱状の嵌合部10aを有
し、底部にはディスクDの中心穴より直径の大きな円盤
状の鍔部10bを備えている。嵌合部10aの先端部
は、ディスクDが挿入し易いように、先端に向かって細
くなるテーパ状に形成されているとともに、また嵌合部
10aの内部には上下の方向に着磁された磁石12が配
置されている。
て交換する位置に配置されたディスク交換台20の内部
には電磁石13が配置されており、供給・排出装置がデ
ィスクDを交換する際に、この電磁石13に駒10の内
部の磁石12と吸引しあうように電流を流してディスク
D交換時に駒10を保持するようになっている。
10aが嵌め込まれるような凹部1aが設けられてお
り、その凹部1aの上側には電磁石14が配置されてい
る。ディスク交換台20において、ディスクDの交換が
終了した後、アーム1が下降して駒10を吸引するよう
に電磁石14に電流が流される。同時に、ディスク交換
台20の電磁石13には駒10の磁石12と反発するよ
うに電流が流され、駒10はディスクDとともにアーム
1に吸着保持される。
口部4の上方にディスクDを下向きにして移動し、次い
でアーム1がロード・ロック室3の開口部4に蓋をする
形で下降する。開口部4に接した瞬間に、今度はアーム
1に内蔵した電磁石14に駒10の磁石12と反発する
ように電流を流す。同時に、ロード・ロック室3の下側
開口部5を押し付けているプレート部6に内蔵されてい
る電磁石15に駒10の磁石12と吸引し合うように電
流を流して、駒10及びディスクDをアーム1から離脱
させる。
10の磁石12と吸引しあうように電流を流したまま、
従来例と同様にプレート部6はスパッタ室7に移動し、
ディスクDのスパッタが終了した後、再びプレート部6
はロード・ロック室3の下側に戻り、上昇して開口部5
を塞ぐ。次に、空気を導入してロード・ロック室3を大
気圧に戻すと同時にアーム1の電磁石14に駒10の磁
石12と吸引し合うように電流を流す。更に同時に、プ
レート部6の電磁石15には駒10の磁石12と反発し
合うように電流を流してディスクDを再びアーム1に吸
着保持させる。なお、上述したアーム1,プレート部6
及びディスク交換台20は、本発明にいうディスク保持
部材に相当するものである。
ず最初に、図2(a)に示すように、ディスク交換台2
0の上には、駒10が配置されており、ディスク供給・
排出装置のアーム30が1枚目の透明ディスクDを真空
吸着してきて、駒10にディスクDを嵌め込み供給す
る。次に、図2(b)に示すように、回転軸25が下降
して、アーム1がディスクDと一緒に駒10を吸着す
る。このとき、このアーム1と対になっている他方のア
ーム1はスパッタリング装置内の駒10のみを吸着す
る。
25が180度旋回して、アーム1が透明ディスクDを
駒10とともにスパッタリング装置の上まで移動させる
とともに、他方のアーム1は駒10を吸着してディスク
交換台20の上に持ってくる。この位置で、回転軸25
が下降して、図3(a)に示すように、一方のアーム1
がロード・ロック室3の蓋をし、他方のアーム1は駒1
0をディスク交換台20上に降ろす。スパッタリング装
置内のディスクDがスパッタが終了してディスクDがロ
ード・ロック室3に戻って、真空が解除されたときに、
図3(b)に示すように、一度回転軸25が上昇し、デ
ィスク供給・排出装置のアーム30によって2枚目の透
明ディスクDがディスク交換台20上の空の駒10に供
給される。
が2枚目の透明ディスクDを吸着するとともに、他方の
アーム1はスパッタリング装置でスパッタされたディス
クDを吸着する。次いで、回転軸25は上昇するととも
に、180度旋回して、図3(c)に示すように、スパ
ッタの終了したディスクDをディスク交換台20の上に
持ってくるとともに、透明ディスクDをスパッタリング
装置のロード・ロック室3の上に持ってくる。更に、回
転軸25は下降して、アーム1の電磁力を解除し、2枚
目の透明ディスクDをスパッタリング装置に供給すると
ともに、スパッタの終了したディスクDをディスク交換
台20の上に降ろす。この降ろされたディスクDは、デ
ィスク供給・排出装置のアーム30によって吸着されて
排出され、新たに残った駒10には3枚目の透明ディス
クDが供給される。
10を使用することで、ディスクの保持・解除が簡単か
つ確実にできるとともに、ロード・ロック室3から真空
排気する空間容積はディスクDの入る分までの極限まで
小さくすることができ、アーム1にディスクDを保持・
解除するのと同時にロード・ロック室3の真空排気・空
気導入ができ、装置全体の仕事時間を短縮することがで
きる。
装置内でのディスクの保持方法及び保持装置によれば、
ディスクの保持・解除を確実におこなうことができ、か
つ真空排気する時間を短縮することができるため、装置
全体の仕事時間を短縮することができる。
法及び保持装置を実施したスパッタリング装置の断面図
である。
法及び保持装置の度さを示す図である。
の保持方法及び保持装置の度さを示す図で、図2の続き
である。
の保持方法を説明する図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 下側に鍔部を有し、中心部にディスクの
中心穴に嵌合する嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下
方向に着磁された磁石を有する駒を用い、該駒の嵌合部
をディスクの中心穴に嵌め込でディスク支持するととも
に、ディスクの上又は下方向から電磁石を備えたディス
ク保持部材により前記駒を吸引してディスクを保持する
ようにしたことを特徴とする真空装置でのディスクの保
持方法。 - 【請求項2】 電磁石を備えたディスク保持部材と、 下側に鍔部を有し、中心部にディスクの中心穴に嵌合す
る嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下方向に着磁され
た磁石を有する駒とを備え、 前記駒にディスクを嵌合支持させてディスクの上又は下
方向からディスク保持部材により該駒を吸引しディスク
を保持するようにしたことを特徴とする真空装置でのデ
ィスクの保持装置。 - 【請求項3】 前記駒の嵌合部は、先端部が先端に向か
って細くなるテーパ状に形成された円柱部材からなり、
前記鍔は円盤状に形成されていることを特徴とする請求
項2記載の真空装置でのディスクの保持装置。 - 【請求項4】 前記ディスク保持部材の電磁石は、前記
駒を吸引あるいは反発のいずれにも駆動できるように構
成したことを特徴とする請求項2記載の真空装置でのデ
ィスクの保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08629594A JP3873100B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08629594A JP3873100B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07292470A true JPH07292470A (ja) | 1995-11-07 |
JP3873100B2 JP3873100B2 (ja) | 2007-01-24 |
Family
ID=13882850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08629594A Expired - Fee Related JP3873100B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3873100B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1015690C2 (nl) * | 2000-07-12 | 2002-01-15 | Otb Group Bv | Sluis voor vacu³mkamer. |
-
1994
- 1994-04-25 JP JP08629594A patent/JP3873100B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1015690C2 (nl) * | 2000-07-12 | 2002-01-15 | Otb Group Bv | Sluis voor vacu³mkamer. |
EP1172456A1 (en) * | 2000-07-12 | 2002-01-16 | OTB Group B.V. | Lock for vacuum chamber |
WO2002004697A1 (en) * | 2000-07-12 | 2002-01-17 | Otb Group B.V. | Apparatus for performing at least one process on a substrate |
US6615547B2 (en) | 2000-07-12 | 2003-09-09 | O.T.B. Group B.V. | Lock for vacuum chamber |
JP2004502869A (ja) * | 2000-07-12 | 2004-01-29 | オーテーベー、グループ、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基材に少なくとも一つのプロセスを実施するための装置 |
US7198678B2 (en) * | 2000-07-12 | 2007-04-03 | Otb Group B.V. | Apparatus for performing at least one process on a substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3873100B2 (ja) | 2007-01-24 |
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