JPH07292470A - 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 - Google Patents
真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置Info
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- JPH07292470A JPH07292470A JP8629594A JP8629594A JPH07292470A JP H07292470 A JPH07292470 A JP H07292470A JP 8629594 A JP8629594 A JP 8629594A JP 8629594 A JP8629594 A JP 8629594A JP H07292470 A JPH07292470 A JP H07292470A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ディスクの製造工程の時間を短縮させること
ができる真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置
の提供を目的としている。 【構成】 電磁石１３，１４，１５を備えたディスク保
持部材１，６，２０と、下側に鍔部１０ｂを有し、中心
部にディスクの中心穴に嵌合する嵌合部１０ａを備え、
かつ該嵌合部１０ａ内に上下方向に着磁された磁石１２
を有する駒１０とを備え、前記駒１０にディスクを嵌合
支持させてディスクの上又は下方向からディスク保持部
材１により該駒１０を吸引しディスクを保持するように
した。
ができる真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置
の提供を目的としている。 【構成】 電磁石１３，１４，１５を備えたディスク保
持部材１，６，２０と、下側に鍔部１０ｂを有し、中心
部にディスクの中心穴に嵌合する嵌合部１０ａを備え、
かつ該嵌合部１０ａ内に上下方向に着磁された磁石１２
を有する駒１０とを備え、前記駒１０にディスクを嵌合
支持させてディスクの上又は下方向からディスク保持部
材１により該駒１０を吸引しディスクを保持するように
した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスクを保持する方
法又はその装置に係り、詳しくは真空装置等にディスク
を供給したり排出したり、あるいは真空装置内でディス
クを搬送する際にディスクを保持する方法又はその装置
に関する。
法又はその装置に係り、詳しくは真空装置等にディスク
を供給したり排出したり、あるいは真空装置内でディス
クを搬送する際にディスクを保持する方法又はその装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、コンパクトディスク等のディスク
を製造する際に、透明ディスクにアルミニウム反射膜を
形成させるためにスパッタリング装置が用いられてい
る。スパッタリング装置としては、連続的にディスクを
１枚ずつ供給・排出するタイプが一般的である。この装
置の構成は、大まかには、ロード・ロック室と呼ばれ
る大気圧から数Ｐａ〜数十Ｐａまで真空排気する系と、
アルミニウムを成膜する系（スパッタ室）、これら
２つの系に連通し、ディスクを搬送する空間の系から構
成されている。これらとの系は共に０．１Ｐａ以下
に真空排気されていることから、単にロード・ロック室
と高真空室の構成とみることもできる。
を製造する際に、透明ディスクにアルミニウム反射膜を
形成させるためにスパッタリング装置が用いられてい
る。スパッタリング装置としては、連続的にディスクを
１枚ずつ供給・排出するタイプが一般的である。この装
置の構成は、大まかには、ロード・ロック室と呼ばれ
る大気圧から数Ｐａ〜数十Ｐａまで真空排気する系と、
アルミニウムを成膜する系（スパッタ室）、これら
２つの系に連通し、ディスクを搬送する空間の系から構
成されている。これらとの系は共に０．１Ｐａ以下
に真空排気されていることから、単にロード・ロック室
と高真空室の構成とみることもできる。
【０００３】このロード・ロック室の基本構造は、いず
れのメーカーのどのタイプも略同じ構成で、図４に示す
ように、アーム１を有しており、アーム１の下側にはゴ
ム等で形成された吸着パッド２が設けられていて、ディ
スクＤはこれにより真空吸着されて保持されるようにな
っている。アーム１の動きは、アルミニウムの成膜され
ていないディスクＤを吸着してロード・ロック室３の開
口部４の上方にディスクＤを下方向になるように移動
し、次いでアーム１は下降してロード・ロック室３の開
口部４に蓋をする。
れのメーカーのどのタイプも略同じ構成で、図４に示す
ように、アーム１を有しており、アーム１の下側にはゴ
ム等で形成された吸着パッド２が設けられていて、ディ
スクＤはこれにより真空吸着されて保持されるようにな
っている。アーム１の動きは、アルミニウムの成膜され
ていないディスクＤを吸着してロード・ロック室３の開
口部４の上方にディスクＤを下方向になるように移動
し、次いでアーム１は下降してロード・ロック室３の開
口部４に蓋をする。
【０００４】次に、アーム１の吸着パッド２の真空を解
除してディスクＤをアーム１から脱離させ、ロード・ロ
ック室３の下側開口部５に押し付けられているプレート
部６上にディスクＤを移載する。このとき、ディスクＤ
の離脱をより確実にするために、この吸着パッド２の真
空解除のとき、吸着パッド２内に大気圧より高い圧力を
瞬間的に与えることが通常おこなわれている。
除してディスクＤをアーム１から脱離させ、ロード・ロ
ック室３の下側開口部５に押し付けられているプレート
部６上にディスクＤを移載する。このとき、ディスクＤ
の離脱をより確実にするために、この吸着パッド２の真
空解除のとき、吸着パッド２内に大気圧より高い圧力を
瞬間的に与えることが通常おこなわれている。
【０００５】この後、アーム１によって蓋のされたロー
ド・ロック室３を真空ポンプ９で数Ｐａ〜数十Ｐａまで
真空排気する。現在の装置では、この真空排気に要する
時間を極力短くするため、すなわち仕事時間を短くする
ために、ロード・ロック室３の系内の空間容積を極力小
さくしている。
ド・ロック室３を真空ポンプ９で数Ｐａ〜数十Ｐａまで
真空排気する。現在の装置では、この真空排気に要する
時間を極力短くするため、すなわち仕事時間を短くする
ために、ロード・ロック室３の系内の空間容積を極力小
さくしている。
【０００６】このようにして、ロード・ロック室３が真
空排気された後、ロード・ロック室３の下側開口部５を
押し付けていたプレート部６がディスクＤを載せたまま
下降し、真空ポンプ１０によって高真空に排気された空
間を通ってスパッタ室７に移動する。勿論、このスパッ
タ室７も高真空に排気されている。そして、スパッタの
終了したディスクＤはプレート部６に載せられて再びロ
ード・ロック室３の下側開口部５の下方位置に戻され
る。次に、プレート部６が上昇してロード・ロック室３
の下側開口部５を押し付け、アーム１とで蓋のされた一
つの閉じた系内にディスクＤは位置することになる。
空排気された後、ロード・ロック室３の下側開口部５を
押し付けていたプレート部６がディスクＤを載せたまま
下降し、真空ポンプ１０によって高真空に排気された空
間を通ってスパッタ室７に移動する。勿論、このスパッ
タ室７も高真空に排気されている。そして、スパッタの
終了したディスクＤはプレート部６に載せられて再びロ
ード・ロック室３の下側開口部５の下方位置に戻され
る。次に、プレート部６が上昇してロード・ロック室３
の下側開口部５を押し付け、アーム１とで蓋のされた一
つの閉じた系内にディスクＤは位置することになる。
【０００７】次に、リーク・バルブ８を作動させてロー
ド・ロック室３に空気を導入し、ロード・ロック室３が
大気圧に戻った後、アーム１の吸着パッド２でディスク
Ｄを再び真空吸着し、アーム１をロード・ロック室３の
開口部４から上昇させ、ディスクＤを供給・排出装置に
よって交換する動作を繰り返す。
ド・ロック室３に空気を導入し、ロード・ロック室３が
大気圧に戻った後、アーム１の吸着パッド２でディスク
Ｄを再び真空吸着し、アーム１をロード・ロック室３の
開口部４から上昇させ、ディスクＤを供給・排出装置に
よって交換する動作を繰り返す。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、空気を導入
してロード・ロック室３が大気圧に戻った後にアーム１
の吸着パッド２でディスクＤを再び真空吸着する時間
は、吸着パッド２でディスクＤを再び真空吸着するのと
同時にロード・ロック室３に空気を導入しても吸着パッ
ド２にディスクＤを吸着できないので、それぞれの動作
をこの順序で一連におこなわなければならず、この工程
で時間を短くすることは極めて困難である。
してロード・ロック室３が大気圧に戻った後にアーム１
の吸着パッド２でディスクＤを再び真空吸着する時間
は、吸着パッド２でディスクＤを再び真空吸着するのと
同時にロード・ロック室３に空気を導入しても吸着パッ
ド２にディスクＤを吸着できないので、それぞれの動作
をこの順序で一連におこなわなければならず、この工程
で時間を短くすることは極めて困難である。
【０００９】また、上述したように、吸着パッド２の真
空解除に対して大気圧よりも高い圧力を瞬間的に与える
と、この系内には実質上真空排気すべき気体が増えるた
め真空排気に要する時間が長くなってしまうという問題
もある。この場合に、この吸着パッド２の真空解除を大
気圧でおこなったとしても、ロード・ロック室３の空間
容積はこの吸着パッド２の真空解除をおこなうバルブま
での容積分多くなるため、ロード・ロック室３の系内の
実質的な空間容積を小さくするのには、やはり限界があ
る。また、ディスクの吸着においては、ゴム製の吸着パ
ッドを用いているために、そのパッドの疲労による破損
等がしばしば吸着ミスを起こし、長期に渡っての安定動
作にも問題があった。このように、スパッタの工程での
ディスクＤの保持・解除に要する時間に制約されるた
め、ディスクＤを製造する場合において、他の工程との
時間的連繋がとりにくく、全体としての製造時間を短縮
することが困難であった。
空解除に対して大気圧よりも高い圧力を瞬間的に与える
と、この系内には実質上真空排気すべき気体が増えるた
め真空排気に要する時間が長くなってしまうという問題
もある。この場合に、この吸着パッド２の真空解除を大
気圧でおこなったとしても、ロード・ロック室３の空間
容積はこの吸着パッド２の真空解除をおこなうバルブま
での容積分多くなるため、ロード・ロック室３の系内の
実質的な空間容積を小さくするのには、やはり限界があ
る。また、ディスクの吸着においては、ゴム製の吸着パ
ッドを用いているために、そのパッドの疲労による破損
等がしばしば吸着ミスを起こし、長期に渡っての安定動
作にも問題があった。このように、スパッタの工程での
ディスクＤの保持・解除に要する時間に制約されるた
め、ディスクＤを製造する場合において、他の工程との
時間的連繋がとりにくく、全体としての製造時間を短縮
することが困難であった。
【００１０】本発明は、ディスクの製造工程の時間を短
縮させることができる真空装置でのディスクの保持方法
及び保持装置の提供を目的としている。
縮させることができる真空装置でのディスクの保持方法
及び保持装置の提供を目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明に係る真空装置で
のディスクの保持方法は、下側に鍔部を有し、中心部に
ディスクの中心穴に嵌合する嵌合部を備え、かつ該嵌合
部内に上下方向に着磁された磁石を有する駒を用い、該
駒の嵌合部をディスクの中心穴に嵌め込でディスク支持
するとともに、ディスクの上又は下方向から電磁石を備
えたディスク保持部材により前記駒を吸引してディスク
を保持するようにしたことを特徴としている。
のディスクの保持方法は、下側に鍔部を有し、中心部に
ディスクの中心穴に嵌合する嵌合部を備え、かつ該嵌合
部内に上下方向に着磁された磁石を有する駒を用い、該
駒の嵌合部をディスクの中心穴に嵌め込でディスク支持
するとともに、ディスクの上又は下方向から電磁石を備
えたディスク保持部材により前記駒を吸引してディスク
を保持するようにしたことを特徴としている。
【００１２】また、本発明に係る真空装置でのディスク
の保持装置は、電磁石を備えたディスク保持部材と、下
側に鍔部を有し、中心部にディスクの中心穴に嵌合する
嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下方向に着磁された
磁石を有する駒とを備え、前記駒にディスクを嵌合支持
させてディスクの上又は下方向からディスク保持部材に
より該駒を吸引しディスクを保持するようにしたことを
特徴としている。この場合に、前記駒の嵌合部は、先端
部が先端に向かって細くなるテーパ状に形成した円柱状
として、前記鍔は円盤状に形成することが望ましく、ま
た前記ディスク保持部材の電磁石は、前記駒を吸引ある
いは反発のいずれにも駆動できるように構成することが
望ましい。
の保持装置は、電磁石を備えたディスク保持部材と、下
側に鍔部を有し、中心部にディスクの中心穴に嵌合する
嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下方向に着磁された
磁石を有する駒とを備え、前記駒にディスクを嵌合支持
させてディスクの上又は下方向からディスク保持部材に
より該駒を吸引しディスクを保持するようにしたことを
特徴としている。この場合に、前記駒の嵌合部は、先端
部が先端に向かって細くなるテーパ状に形成した円柱状
として、前記鍔は円盤状に形成することが望ましく、ま
た前記ディスク保持部材の電磁石は、前記駒を吸引ある
いは反発のいずれにも駆動できるように構成することが
望ましい。
【００１３】
【作用】本発明は、上述のように構成されているので、
ディスクを保持する際には、駒にディスクを載せて、保
持部材のより駒を電磁吸着してディスクを保持するよう
にする。この装置を、系内が真空にされた真空装置、例
えばスパッタリング装置等に用いると、ディスクの吸着
や解除に真空引きや圧縮空気を送る必要がなくなるの
で、ロード・ロック室内の排気時間が短縮できて全体と
しての仕事時間の短縮をおこなうことが可能となる。ま
た、保持部材の電磁石が駒を吸引あるいは反発のいずれ
にも駆動できるように構成した場合は、駒の上下に保持
部材が対向する状態になると、一方の保持部材で吸引を
おこない、他方の保持部材で反発を行なわせることによ
り、一方の保持部材に対する駒の吸着を確実におこなう
ことが可能となる。
ディスクを保持する際には、駒にディスクを載せて、保
持部材のより駒を電磁吸着してディスクを保持するよう
にする。この装置を、系内が真空にされた真空装置、例
えばスパッタリング装置等に用いると、ディスクの吸着
や解除に真空引きや圧縮空気を送る必要がなくなるの
で、ロード・ロック室内の排気時間が短縮できて全体と
しての仕事時間の短縮をおこなうことが可能となる。ま
た、保持部材の電磁石が駒を吸引あるいは反発のいずれ
にも駆動できるように構成した場合は、駒の上下に保持
部材が対向する状態になると、一方の保持部材で吸引を
おこない、他方の保持部材で反発を行なわせることによ
り、一方の保持部材に対する駒の吸着を確実におこなう
ことが可能となる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。なお、従来の技術の項で説明したものと同一または
相当する部分には同一符号を付す。図１（ａ）には、本
発明に係る真空装置でのディスクの保持方法及び保持装
置を実施したスパッタリング装置が示されている。図に
示すように、アルミニウムのスパッタされたディスク
と、アルミニウムが成膜されていないディスクを供給・
排出装置によって交換するのであるが、このディスクＤ
の下に駒１０を配置する。
る。なお、従来の技術の項で説明したものと同一または
相当する部分には同一符号を付す。図１（ａ）には、本
発明に係る真空装置でのディスクの保持方法及び保持装
置を実施したスパッタリング装置が示されている。図に
示すように、アルミニウムのスパッタされたディスク
と、アルミニウムが成膜されていないディスクを供給・
排出装置によって交換するのであるが、このディスクＤ
の下に駒１０を配置する。
【００１５】該駒１０は、テフロンあるいはポリプロピ
レンからなり、図１（ｂ）に示すように、ディスクＤの
中心穴に嵌合させるための円柱状の嵌合部１０ａを有
し、底部にはディスクＤの中心穴より直径の大きな円盤
状の鍔部１０ｂを備えている。嵌合部１０ａの先端部
は、ディスクＤが挿入し易いように、先端に向かって細
くなるテーパ状に形成されているとともに、また嵌合部
１０ａの内部には上下の方向に着磁された磁石１２が配
置されている。
レンからなり、図１（ｂ）に示すように、ディスクＤの
中心穴に嵌合させるための円柱状の嵌合部１０ａを有
し、底部にはディスクＤの中心穴より直径の大きな円盤
状の鍔部１０ｂを備えている。嵌合部１０ａの先端部
は、ディスクＤが挿入し易いように、先端に向かって細
くなるテーパ状に形成されているとともに、また嵌合部
１０ａの内部には上下の方向に着磁された磁石１２が配
置されている。
【００１６】また、ディスクＤを供給・排出装置によっ
て交換する位置に配置されたディスク交換台２０の内部
には電磁石１３が配置されており、供給・排出装置がデ
ィスクＤを交換する際に、この電磁石１３に駒１０の内
部の磁石１２と吸引しあうように電流を流してディスク
Ｄ交換時に駒１０を保持するようになっている。
て交換する位置に配置されたディスク交換台２０の内部
には電磁石１３が配置されており、供給・排出装置がデ
ィスクＤを交換する際に、この電磁石１３に駒１０の内
部の磁石１２と吸引しあうように電流を流してディスク
Ｄ交換時に駒１０を保持するようになっている。
【００１７】また、アーム１の底面は、駒１０の嵌合部
１０ａが嵌め込まれるような凹部１ａが設けられてお
り、その凹部１ａの上側には電磁石１４が配置されてい
る。ディスク交換台２０において、ディスクＤの交換が
終了した後、アーム１が下降して駒１０を吸引するよう
に電磁石１４に電流が流される。同時に、ディスク交換
台２０の電磁石１３には駒１０の磁石１２と反発するよ
うに電流が流され、駒１０はディスクＤとともにアーム
１に吸着保持される。
１０ａが嵌め込まれるような凹部１ａが設けられてお
り、その凹部１ａの上側には電磁石１４が配置されてい
る。ディスク交換台２０において、ディスクＤの交換が
終了した後、アーム１が下降して駒１０を吸引するよう
に電磁石１４に電流が流される。同時に、ディスク交換
台２０の電磁石１３には駒１０の磁石１２と反発するよ
うに電流が流され、駒１０はディスクＤとともにアーム
１に吸着保持される。
【００１８】次に、アーム１がロード・ロック室３の開
口部４の上方にディスクＤを下向きにして移動し、次い
でアーム１がロード・ロック室３の開口部４に蓋をする
形で下降する。開口部４に接した瞬間に、今度はアーム
１に内蔵した電磁石１４に駒１０の磁石１２と反発する
ように電流を流す。同時に、ロード・ロック室３の下側
開口部５を押し付けているプレート部６に内蔵されてい
る電磁石１５に駒１０の磁石１２と吸引し合うように電
流を流して、駒１０及びディスクＤをアーム１から離脱
させる。
口部４の上方にディスクＤを下向きにして移動し、次い
でアーム１がロード・ロック室３の開口部４に蓋をする
形で下降する。開口部４に接した瞬間に、今度はアーム
１に内蔵した電磁石１４に駒１０の磁石１２と反発する
ように電流を流す。同時に、ロード・ロック室３の下側
開口部５を押し付けているプレート部６に内蔵されてい
る電磁石１５に駒１０の磁石１２と吸引し合うように電
流を流して、駒１０及びディスクＤをアーム１から離脱
させる。
【００１９】プレート部６に内蔵された電磁石１５に駒
１０の磁石１２と吸引しあうように電流を流したまま、
従来例と同様にプレート部６はスパッタ室７に移動し、
ディスクＤのスパッタが終了した後、再びプレート部６
はロード・ロック室３の下側に戻り、上昇して開口部５
を塞ぐ。次に、空気を導入してロード・ロック室３を大
気圧に戻すと同時にアーム１の電磁石１４に駒１０の磁
石１２と吸引し合うように電流を流す。更に同時に、プ
レート部６の電磁石１５には駒１０の磁石１２と反発し
合うように電流を流してディスクＤを再びアーム１に吸
着保持させる。なお、上述したアーム１，プレート部６
及びディスク交換台２０は、本発明にいうディスク保持
部材に相当するものである。
１０の磁石１２と吸引しあうように電流を流したまま、
従来例と同様にプレート部６はスパッタ室７に移動し、
ディスクＤのスパッタが終了した後、再びプレート部６
はロード・ロック室３の下側に戻り、上昇して開口部５
を塞ぐ。次に、空気を導入してロード・ロック室３を大
気圧に戻すと同時にアーム１の電磁石１４に駒１０の磁
石１２と吸引し合うように電流を流す。更に同時に、プ
レート部６の電磁石１５には駒１０の磁石１２と反発し
合うように電流を流してディスクＤを再びアーム１に吸
着保持させる。なお、上述したアーム１，プレート部６
及びディスク交換台２０は、本発明にいうディスク保持
部材に相当するものである。
【００２０】なお、これらの動作を更に説明すると、先
ず最初に、図２（ａ）に示すように、ディスク交換台２
０の上には、駒１０が配置されており、ディスク供給・
排出装置のアーム３０が１枚目の透明ディスクＤを真空
吸着してきて、駒１０にディスクＤを嵌め込み供給す
る。次に、図２（ｂ）に示すように、回転軸２５が下降
して、アーム１がディスクＤと一緒に駒１０を吸着す
る。このとき、このアーム１と対になっている他方のア
ーム１はスパッタリング装置内の駒１０のみを吸着す
る。
ず最初に、図２（ａ）に示すように、ディスク交換台２
０の上には、駒１０が配置されており、ディスク供給・
排出装置のアーム３０が１枚目の透明ディスクＤを真空
吸着してきて、駒１０にディスクＤを嵌め込み供給す
る。次に、図２（ｂ）に示すように、回転軸２５が下降
して、アーム１がディスクＤと一緒に駒１０を吸着す
る。このとき、このアーム１と対になっている他方のア
ーム１はスパッタリング装置内の駒１０のみを吸着す
る。
【００２１】次いで、図２（ｃ）に示すように、回転軸
２５が１８０度旋回して、アーム１が透明ディスクＤを
駒１０とともにスパッタリング装置の上まで移動させる
とともに、他方のアーム１は駒１０を吸着してディスク
交換台２０の上に持ってくる。この位置で、回転軸２５
が下降して、図３（ａ）に示すように、一方のアーム１
がロード・ロック室３の蓋をし、他方のアーム１は駒１
０をディスク交換台２０上に降ろす。スパッタリング装
置内のディスクＤがスパッタが終了してディスクＤがロ
ード・ロック室３に戻って、真空が解除されたときに、
図３（ｂ）に示すように、一度回転軸２５が上昇し、デ
ィスク供給・排出装置のアーム３０によって２枚目の透
明ディスクＤがディスク交換台２０上の空の駒１０に供
給される。
２５が１８０度旋回して、アーム１が透明ディスクＤを
駒１０とともにスパッタリング装置の上まで移動させる
とともに、他方のアーム１は駒１０を吸着してディスク
交換台２０の上に持ってくる。この位置で、回転軸２５
が下降して、図３（ａ）に示すように、一方のアーム１
がロード・ロック室３の蓋をし、他方のアーム１は駒１
０をディスク交換台２０上に降ろす。スパッタリング装
置内のディスクＤがスパッタが終了してディスクＤがロ
ード・ロック室３に戻って、真空が解除されたときに、
図３（ｂ）に示すように、一度回転軸２５が上昇し、デ
ィスク供給・排出装置のアーム３０によって２枚目の透
明ディスクＤがディスク交換台２０上の空の駒１０に供
給される。
【００２２】続いて、回転軸２５が下降して、アーム１
が２枚目の透明ディスクＤを吸着するとともに、他方の
アーム１はスパッタリング装置でスパッタされたディス
クＤを吸着する。次いで、回転軸２５は上昇するととも
に、１８０度旋回して、図３（ｃ）に示すように、スパ
ッタの終了したディスクＤをディスク交換台２０の上に
持ってくるとともに、透明ディスクＤをスパッタリング
装置のロード・ロック室３の上に持ってくる。更に、回
転軸２５は下降して、アーム１の電磁力を解除し、２枚
目の透明ディスクＤをスパッタリング装置に供給すると
ともに、スパッタの終了したディスクＤをディスク交換
台２０の上に降ろす。この降ろされたディスクＤは、デ
ィスク供給・排出装置のアーム３０によって吸着されて
排出され、新たに残った駒１０には３枚目の透明ディス
クＤが供給される。
が２枚目の透明ディスクＤを吸着するとともに、他方の
アーム１はスパッタリング装置でスパッタされたディス
クＤを吸着する。次いで、回転軸２５は上昇するととも
に、１８０度旋回して、図３（ｃ）に示すように、スパ
ッタの終了したディスクＤをディスク交換台２０の上に
持ってくるとともに、透明ディスクＤをスパッタリング
装置のロード・ロック室３の上に持ってくる。更に、回
転軸２５は下降して、アーム１の電磁力を解除し、２枚
目の透明ディスクＤをスパッタリング装置に供給すると
ともに、スパッタの終了したディスクＤをディスク交換
台２０の上に降ろす。この降ろされたディスクＤは、デ
ィスク供給・排出装置のアーム３０によって吸着されて
排出され、新たに残った駒１０には３枚目の透明ディス
クＤが供給される。
【００２３】このように、磁石１２を内蔵した２個の駒
１０を使用することで、ディスクの保持・解除が簡単か
つ確実にできるとともに、ロード・ロック室３から真空
排気する空間容積はディスクＤの入る分までの極限まで
小さくすることができ、アーム１にディスクＤを保持・
解除するのと同時にロード・ロック室３の真空排気・空
気導入ができ、装置全体の仕事時間を短縮することがで
きる。
１０を使用することで、ディスクの保持・解除が簡単か
つ確実にできるとともに、ロード・ロック室３から真空
排気する空間容積はディスクＤの入る分までの極限まで
小さくすることができ、アーム１にディスクＤを保持・
解除するのと同時にロード・ロック室３の真空排気・空
気導入ができ、装置全体の仕事時間を短縮することがで
きる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による真空
装置内でのディスクの保持方法及び保持装置によれば、
ディスクの保持・解除を確実におこなうことができ、か
つ真空排気する時間を短縮することができるため、装置
全体の仕事時間を短縮することができる。
装置内でのディスクの保持方法及び保持装置によれば、
ディスクの保持・解除を確実におこなうことができ、か
つ真空排気する時間を短縮することができるため、装置
全体の仕事時間を短縮することができる。
【図１】本発明実施例の真空装置でのディスクの保持方
法及び保持装置を実施したスパッタリング装置の断面図
である。
法及び保持装置を実施したスパッタリング装置の断面図
である。
【図２】本発明実施例の真空装置でのディスクの保持方
法及び保持装置の度さを示す図である。
法及び保持装置の度さを示す図である。
【図３】同じく、本発明実施例の真空装置でのディスク
の保持方法及び保持装置の度さを示す図で、図２の続き
である。
の保持方法及び保持装置の度さを示す図で、図２の続き
である。
【図４】従来の、スパッタリング装置におけるディスク
の保持方法を説明する図である。
の保持方法を説明する図である。
１ アーム ２ 吸着パッド ３ ロード・ロック室 ４ 上側開口部 ５ 下側開口部 ６ プレート部 ７ スパッタ室 ８ リークバルブ ９ 真空ポンプ １３ 電磁石 １４ 電磁石 １５ 電磁石 ２０ ディスク交換台 ２５ 回転軸 ３０ ディスク供給・排出装置のアーム
Claims (4)
- 【請求項１】 下側に鍔部を有し、中心部にディスクの
中心穴に嵌合する嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下
方向に着磁された磁石を有する駒を用い、該駒の嵌合部
をディスクの中心穴に嵌め込でディスク支持するととも
に、ディスクの上又は下方向から電磁石を備えたディス
ク保持部材により前記駒を吸引してディスクを保持する
ようにしたことを特徴とする真空装置でのディスクの保
持方法。 - 【請求項２】 電磁石を備えたディスク保持部材と、 下側に鍔部を有し、中心部にディスクの中心穴に嵌合す
る嵌合部を備え、かつ該嵌合部内に上下方向に着磁され
た磁石を有する駒とを備え、 前記駒にディスクを嵌合支持させてディスクの上又は下
方向からディスク保持部材により該駒を吸引しディスク
を保持するようにしたことを特徴とする真空装置でのデ
ィスクの保持装置。 - 【請求項３】 前記駒の嵌合部は、先端部が先端に向か
って細くなるテーパ状に形成された円柱部材からなり、
前記鍔は円盤状に形成されていることを特徴とする請求
項２記載の真空装置でのディスクの保持装置。 - 【請求項４】 前記ディスク保持部材の電磁石は、前記
駒を吸引あるいは反発のいずれにも駆動できるように構
成したことを特徴とする請求項２記載の真空装置でのデ
ィスクの保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08629594A JP3873100B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08629594A JP3873100B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07292470A true JPH07292470A (ja) | 1995-11-07 |
| JP3873100B2 JP3873100B2 (ja) | 2007-01-24 |
Family
ID=13882850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08629594A Expired - Fee Related JP3873100B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | 真空装置でのディスクの保持方法及び保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3873100B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1015690C2 (nl) * | 2000-07-12 | 2002-01-15 | Otb Group Bv | Sluis voor vacu³mkamer. |
-
1994
- 1994-04-25 JP JP08629594A patent/JP3873100B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1015690C2 (nl) * | 2000-07-12 | 2002-01-15 | Otb Group Bv | Sluis voor vacu³mkamer. |
| EP1172456A1 (en) * | 2000-07-12 | 2002-01-16 | OTB Group B.V. | Lock for vacuum chamber |
| WO2002004697A1 (en) * | 2000-07-12 | 2002-01-17 | Otb Group B.V. | Apparatus for performing at least one process on a substrate |
| US6615547B2 (en) | 2000-07-12 | 2003-09-09 | O.T.B. Group B.V. | Lock for vacuum chamber |
| JP2004502869A (ja) * | 2000-07-12 | 2004-01-29 | オーテーベー、グループ、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基材に少なくとも一つのプロセスを実施するための装置 |
| US7198678B2 (en) * | 2000-07-12 | 2007-04-03 | Otb Group B.V. | Apparatus for performing at least one process on a substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3873100B2 (ja) | 2007-01-24 |
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