JPH07281582A - Making method and making device for original plate - Google Patents
Making method and making device for original plateInfo
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- JPH07281582A JPH07281582A JP6715194A JP6715194A JPH07281582A JP H07281582 A JPH07281582 A JP H07281582A JP 6715194 A JP6715194 A JP 6715194A JP 6715194 A JP6715194 A JP 6715194A JP H07281582 A JPH07281582 A JP H07281582A
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- diffraction grating
- base material
- embossed
- original plate
- machine
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、回折格子レリーフパタ
ーンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作製
方法および作製装置に関するものである。特に、回折格
子の方向を変えることでコードを記録しておく方式のマ
シンリーダブルホログラム原版の作製方法および作製装
置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for producing a machine-readable hologram original plate using a diffraction grating relief pattern. In particular, the present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a machine-readable hologram original plate in which a code is recorded by changing the direction of a diffraction grating.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、マシンリーダブルレリーフホログ
ラムの原版を作製する方法としては、フォトレジスト上
にホログラム撮影、露光を行う方法が用いられていた。
すなわち、マシンリーダブルマークは、レーザーを用い
た２光束干渉法により順次適切な角度でレリーフ回折格
子を形成し、装飾部分のホログラムは、回折格子が形成
されたフォトレジスト上に通常のホログラム撮影にて２
重露光を行うことによりレリーフホログラムを形成して
いた。2. Description of the Related Art Hitherto, as a method for producing an original plate of a machine-readable double relief hologram, a method of photographing a hologram on a photoresist and exposing it has been used.
That is, the machine-readable mark forms a relief diffraction grating at an appropriate angle in sequence by a two-beam interference method using a laser, and the hologram of the decorative portion is formed on a photoresist on which the diffraction grating is formed by ordinary hologram photography. Two
A relief hologram was formed by performing double exposure.
【０００３】しかし、撮影により原版を作製する方法で
は、レーザーを使用するために撮影のコストが高いとい
う問題があった。例えば、装飾部分ホログラムのデザイ
ンは変えずにマシンリーダブル部分のコードのみを変え
る場合、撮影により原版を作製する方法ではデザイン変
更のない装飾部分ホログラムについても再撮影を行わな
ければならず、コード変更のたびに装飾部分ホログラム
の再撮影コストとして高いコストがかかってしまうとい
う問題があった。However, the method of producing an original plate by photographing has a problem that the cost of photographing is high because a laser is used. For example, when changing only the code of the machine readable part without changing the design of the decorative partial hologram, it is necessary to re-photograph the decorative partial hologram whose design is not changed by the method of producing the original plate by photographing, and the code change There has been a problem that a high cost is required as a re-imaging cost for the decorative partial hologram.
【０００４】また、従来の撮影により原版を作製する方
法では、回折格子の方向が変わる度に露光が必要とな
り、レーザーの安定性を考えると、複数回異なる条件で
露光されたフォトレジストを作製することとなる。これ
を現像処理によりレリーフを形成した場合、露光を行っ
た回数分のレリーフ形状ができてしまい、回折格子の回
折効率がばらついてしまって、マシンリーダブルホログ
ラムとしての機能上、品質がばらついた原版ができてし
まうという問題点があった。Further, in the conventional method of producing an original plate by photographing, exposure is required each time the direction of the diffraction grating is changed. Considering the stability of the laser, a photoresist exposed under a plurality of different conditions is produced. It will be. If a relief is formed by developing this, a relief shape will be created for the number of times of exposure, and the diffraction efficiency of the diffraction grating will vary, resulting in an original plate of varying quality due to its function as a machine-readable hologram. There was a problem that it could be done.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述のよう
に、コード変更の度に装飾部分ホログラムの再撮影コス
トとして高いコストがかかってしまうという問題、及び
品質がばらついてしまうという問題点に鑑みてなされた
ものであり、作製コストが安く、コード変更の度に撮影
を行わずにすむ、品質の安定したマシンリーダブルホロ
グラム原版の作製方法および作製装置を提供することを
目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION As described above, the present invention takes into consideration the problem that a high cost is required as the re-imaging cost of the decorative partial hologram each time the code is changed, and the quality varies. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a machine-readable hologram original plate having a stable quality, which has a low manufacturing cost and does not have to be photographed each time a code is changed.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は前記の課題を解
決するために、第１の発明では、回折格子レリーフパタ
ーンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作製
方法において、被エンボス基材を複製型回折格子と加熱
刻印部分により加熱した刻印で挟む位置に配置し、複製
型回折格子を順次回転させながら、加熱した刻印で被エ
ンボス基材を複製型回折格子に押圧していくことでマシ
ンリーダブルマークの回折格子を被エンボス基材に順次
成型していくことを特徴とする原版作製方法としたもの
である。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for producing a machine-readable double hologram master plate using a diffraction grating relief pattern, in which the embossed substrate is a duplication type. It is placed at a position sandwiched by the heated marking by the diffraction grating and the heating marking part, and while rotating the replication type diffraction grating sequentially, the embossed substrate is pressed against the replication type diffraction grating by the heated marking and the machine readable mark The method for producing an original plate is characterized in that the diffraction grating of (1) is sequentially molded on the substrate to be embossed.
【０００７】また第２の発明では、回折格子レリーフパ
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製方法において、被エンボス基材を複製型回折格子と加
熱刻印部分により加熱した刻印で挟む位置に配置し、複
製型回折格子を順次回転させながら、加熱した刻印で被
エンボス基材を複製型回折格子に押圧していくことでマ
シンリーダブルマークの回折格子を被エンボス基材に順
次成型していく原版作製方法であって、前記加熱刻印部
分には温度調整用機構が設けてあり、これによりエンボ
ス成型開始時には高温状態で押圧し、エンボス成型に必
要な適正時間が経過した後に、圧着状態のまま適正温度
まで冷却することを特徴とする原版作製方法としたもの
である。According to a second aspect of the present invention, in a method of manufacturing a machine-readable hologram master using a diffraction grating relief pattern, the embossed base material is placed at a position sandwiched between the duplication type diffraction grating and the heated marking by the heating marking portion, A master plate manufacturing method in which a machine-readable mark is sequentially molded on the substrate to be embossed by pressing the substrate to be embossed with the heated marking while rotating the replica type diffraction grating in sequence. However, the heating engraved portion is provided with a temperature adjusting mechanism, which allows pressing at a high temperature at the start of embossing molding, and after a proper time required for embossing molding has passed, until a proper temperature is maintained in a crimped state. This is a method for producing an original plate which is characterized by cooling.
【０００８】また第３の発明では、回折格子レリーフパ
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製装置であって、加熱刻印部分と、被エンボス基材を支
持する基材支持台と、基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動さ
せる移動装置と、複製型回折格子を支持する複製型支持
台と、複製型支持台をθ方向に回転させる回転装置とを
有し、加熱刻印部分と基材支持台と複製型支持台が順次
配置されていることを特徴とする原版作製装置としたも
のである。According to a third aspect of the present invention, there is provided a machine readable hologram master manufacturing apparatus utilizing a diffraction grating relief pattern, which comprises a heating marking portion, a base material supporting base for supporting an embossed base material, and a base material supporting base. Has a moving device that moves the X- and Y-directions, a duplication type support base that supports the duplication type diffraction grating, and a rotating device that rotates the duplication type support base in the θ direction. This is an original plate manufacturing apparatus characterized in that a replica type support and a replica type support are sequentially arranged.
【０００９】また第４の発明では、回折格子レリーフパ
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製装置であって、加熱刻印部分と、被エンボス基材を支
持する基材支持台と、基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動さ
せる移動装置と、複製型回折格子を支持する複製型支持
台と、複製型支持台をθ方向に回転させる回転装置とを
有し、加熱刻印部分と基材支持台と複製型支持台が順次
配置されている原版作製装置であって、前記加熱刻印部
分には温度調整用機構が設けてあることを特徴とする原
版作製装置としたものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a machine readable hologram hologram making apparatus using a diffraction grating relief pattern, which comprises a heating marking portion, a base material support base for supporting an embossed base material, and a base material support base. Has a moving device that moves the X- and Y-directions, a duplication type support base that supports the duplication type diffraction grating, and a rotating device that rotates the duplication type support base in the θ direction. An original plate manufacturing apparatus in which a replica type supporting base and a replica type support are sequentially arranged, wherein the heating marking portion is provided with a temperature adjusting mechanism.
【００１０】以下に、本発明の原版作製装置およびそれ
を用いた原版作製方法を詳細に説明する。図１は、本発
明による原版作製装置の一実施例を示す断面図、図２
は、同実施例を示す平面図である。１は加熱刻印部分、
２は被エンボス基材、３は基材支持台、４はＹステー
ジ、５はＸステージ、６は複製型支持台、７はθステー
ジ、８は複製型回折格子である。加熱刻印部分１の機構
としては、通常のアップダウン転写機と同様の機構を持
つものであれば、どの様なものでも良い。被エンボス基
材２としては、熱可塑性樹脂であればどの様なものでも
良いが、後行程で複版する場合に問題のない樹脂を選択
する必要がある。基材支持台３は、被エンボス基材２を
支持する機能を有し、特に被エンボス基材２の厚みが薄
い場合は、被エンボス基材２にシワが入らないようにテ
ンションをかける機構が必要となる。複製型回折格子８
は、レリーフ型回折格子が形成された薄い金属板を用い
るのが望ましく、これは通常のホログラムエンボス版を
作製する方法を用いて作製することができる。すなわ
ち、フォトレジスト上にレーザーを用いた２光束干渉法
によりレリーフ型回折格子を形成した後、導電膜をスパ
ッタ、蒸着法により形成し、金属の電解メッキを行うこ
とで作製することができる。The original plate manufacturing apparatus of the present invention and the original plate manufacturing method using the same will be described in detail below. FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an original plate manufacturing apparatus according to the present invention, and FIG.
[FIG. 3] is a plan view showing the same embodiment. 1 is the heat stamped part,
Reference numeral 2 is an embossed base material, 3 is a base material support base, 4 is a Y stage, 5 is an X stage, 6 is a replication type support base, 7 is a θ stage, and 8 is a replication type diffraction grating. As the mechanism of the heating marking portion 1, any mechanism may be used as long as it has the same mechanism as a normal up-down transfer machine. Any material can be used as the base material 2 to be embossed as long as it is a thermoplastic resin, but it is necessary to select a resin that does not cause a problem in the case of making a multiple plate in the subsequent process. The base material support base 3 has a function of supporting the embossed base material 2, and particularly when the thickness of the embossed base material 2 is thin, a mechanism for applying tension to prevent wrinkles from entering the embossed base material 2 is provided. Will be needed. Replica type diffraction grating 8
It is desirable to use a thin metal plate on which a relief type diffraction grating is formed, and this can be produced by a usual method for producing a hologram embossing plate. That is, it can be manufactured by forming a relief type diffraction grating on a photoresist by a two-beam interference method using a laser, forming a conductive film by a sputtering method or a vapor deposition method, and then electrolytically plating a metal.
【００１１】次に、本発明の原版作製方法を詳細に説明
する。まず、加熱刻印部分１に所望のマシンリーダブル
マーク寸法の刻印１１を取り付け、一定温度まで充分に
加熱しておく。次に、前述の方法により作製した複製型
回折格子８を複製型支持台６に取り付ける。その後、被
エンボス基材２を基材支持台３に固定し、Ｘステージ５
およびＹステージ６にて、マシンリーダブルマークの形
成を所望する任意の位置に移動する。被エンボス基材２
と刻印１１の位置関係を所望の位置に移動した後、複製
型回折格子の格子方向を所望の角度にするため、θステ
ージ７を回転させる。そして、各位置関係を設定した
後、加熱した刻印１１と複製型回折格子８とで被エンボ
ス基材を挟み込み、圧着させてレリーフ型回折格子のエ
ンボス複製を行う。この際、加熱温度、圧着時間、圧着
圧力などの加工条件は、被エンボス基材２の材質によっ
て、適性条件が定められる。エンボス複製に必要な適性
時間だけ圧着させた後、圧着させたままの状態で加熱刻
印部分１に設けた温度調整用機構により、加熱した刻印
１１と基材２を必要な適正温度まで冷却する。適正温度
まで冷却した後に速やかに圧着を解除する。被エンボス
基材２の冷却は、被エンボス基材２の材質を選定するこ
とで、エンボス複製に必要な適性時間だけ圧着させた
後、速やかに圧着を解除し、空気による自然冷却によっ
ても対応することができる。圧着を解除した後、次のマ
ークをエンボス複製するために、再度被エンボス基材２
をＸステージ５およびＹステージ６にて、マシンリーダ
ブルマークの形成を所望する任意の位置に移動し、以下
同様にθステージ７を回転させ、加熱、加圧して被エン
ボス基材２にマークをエンボス複製する。以上のプロセ
スを繰り返すことにより、同一平面上に、目的とするマ
シンリーダブルマーク群が形成された、マシンリーダブ
ルホログラム原版を作製することができる。Next, the method of preparing the original plate of the present invention will be described in detail. First, a marking 11 having a desired machine readable mark size is attached to the heating marking portion 1 and sufficiently heated to a constant temperature. Next, the replica diffraction grating 8 manufactured by the above-described method is attached to the replica support base 6. After that, the embossed base material 2 is fixed to the base material support base 3, and the X stage 5
Then, on the Y stage 6, it is moved to an arbitrary position where formation of the machine readable mark is desired. Embossed substrate 2
After moving the positional relationship of the mark 11 and the mark 11 to a desired position, the θ stage 7 is rotated so that the grating direction of the replica diffraction grating has a desired angle. After setting the respective positional relationships, the embossed base material is sandwiched between the heated marking 11 and the duplicated diffraction grating 8 and pressed to emboss the relief type diffraction grating. At this time, the processing conditions such as the heating temperature, the pressure bonding time, the pressure bonding, and the like are determined as appropriate depending on the material of the embossed base material 2. After crimping for an appropriate time necessary for embossing duplication, the heated marking 11 and the base material 2 are cooled to a necessary proper temperature by the temperature adjusting mechanism provided in the heating marking portion 1 in the state of being crimped. Immediately release the crimp after cooling to the proper temperature. The embossed base material 2 is cooled by selecting the material of the embossed base material 2 so that the embossed base material 2 is crimped for an appropriate time required for embossing duplication, and then the crimping is quickly released and natural cooling by air is also used. be able to. After releasing the pressure bonding, the embossed base material 2 is again embossed to emboss the next mark.
On the X stage 5 and the Y stage 6 to an arbitrary position where formation of a machine-readable mark is desired, and thereafter, similarly, the θ stage 7 is rotated, heated and pressed to emboss the mark on the embossed substrate 2. Duplicate. By repeating the above process, it is possible to produce a machine-readable hologram original plate in which a target machine-readable mark group is formed on the same plane.
【００１２】[0012]
【作用】本発明において、目的とするマシンリーダブル
ホログラム原版を作製する際に、エンボス複製法により
角度の異なる回折格子から成るマシンリーダブルマーク
群を作製する方法を採ることにより、従来の撮影により
作製した原版よりもレリーフ形状のばらつきが少ない、
品質の安定した原版を作製することが可能となる。ま
た、従来の撮影による原版作製行程よりも行程時間を短
縮することができ、簡便に原版を作製することが可能と
なる。According to the present invention, when a desired machine-readable double hologram master plate is produced, a method of producing machine-readable double marks consisting of diffraction gratings having different angles by the emboss duplication method is adopted, and thus the conventional machined double hologram is produced. Less variation in relief shape than the original plate,
It is possible to produce an original plate with stable quality. Further, the process time can be shortened as compared with the conventional process for producing an original plate, and the original plate can be easily produced.
【００１３】[0013]
（実施例１）複製型回折格子８として、表面に空間周波
数が１０００ｌｉｎｅ／ｍｍ、回折格子の深さが約０．
４μｍのレリーフ回折格子が全面に形成されたＮｉ版
（厚さ約２００μｍ、面積２０×２０ｃｍ2）を使用し
た。また、加熱刻印部分１に用いる刻印１１として、Ｓ
ＫＳ合金工具鋼（面積３×３ｍｍ2、高さ５ｍｍ）を使
用した。作製すべきマシンリーダブルコードとしては、
図３に示すような４種類のマシンリーダブルマーク３１
とした。被エンボス基材２は、厚さ２５μｍのポリエス
テルシート基材上にエンボス成型用の樹脂層としてアク
リル樹脂（ダイヤナールＬＲ−２４８、三菱レイヨン社
製）を、厚さ約２μｍとなるように塗工することによっ
て作製した。次に、前述の加熱刻印部分１に取り付けた
刻印１１を１５０℃に加熱した後、被エンボス基材２の
ポリエステルシート側に加熱刻印部分１、樹脂層側に複
製型回折格子８を配置し、条件として圧力５ｋｇ／ｃｍ
2で２秒間圧着することによってエンボス成型を行っ
た。次いで設定時間が経過した後速やかに圧着を解除し
てマシンリーダブルマーク３１を成型し、次のマシンリ
ーダブルマーク３１のエンボス成型に移る。上記の行程
を１サイクルとして、複製型回折格子の格子方向を所望
の角度にするため、θステージ７を回転させることで、
各々のマシンリーダブルマーク３１を成型することがで
きた。さらに、レインボーホログラム３２もエンボス成
型して、図３に示すマシンリーダブルホログラム原版３
３を得た。上記の方法で作製したマシンリーダブルホロ
グラム原版３３をもとに、通常知られているメッキ法に
より、レリーフホログラムの金型（スタンパー）を作製
し、既知のエンボス法により、レリーフホログラムシー
ルを作製したところ、マシンリーダブルホログラムとし
ての機能を満足し、各マーク間の品質が安定しているこ
とが確認できた。(Embodiment 1) As the replica type diffraction grating 8, the spatial frequency is 1000 line / mm and the depth of the diffraction grating is about 0.
A Ni plate (thickness: about 200 μm, area: 20 × 20 cm 2 ) having a 4 μm relief diffraction grating formed on the entire surface was used. Further, as the marking 11 used for the heating marking portion 1, S
KS alloy tool steel (area 3 × 3 mm 2 , height 5 mm) was used. As a machine readable code to be made,
Four types of machine-readable marks 31 as shown in FIG.
And The base material 2 to be embossed is coated with an acrylic resin (Dynar LR-248, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as a resin layer for embossing molding on a polyester sheet base material having a thickness of 25 μm to a thickness of about 2 μm. It was produced by Next, after heating the marking 11 attached to the heating marking portion 1 to 150 ° C., the heating marking portion 1 is arranged on the polyester sheet side of the substrate 2 to be embossed, and the replica diffraction grating 8 is arranged on the resin layer side. Pressure 5kg / cm as condition
It was embossed molded by crimping 2 at 2 seconds. Then, after the set time has elapsed, the pressure bonding is immediately released to form the machine-readable mark 31, and the next machine-readable mark 31 is embossed. By rotating the θ stage 7 in order to set the grating direction of the replication type diffraction grating to a desired angle with the above process as one cycle,
Each machine-readable mark 31 could be molded. Furthermore, the rainbow hologram 32 is also embossed to form the machine-readable double hologram master plate 3 shown in FIG.
Got 3. Based on the machine-readable double hologram master 33 produced by the above method, a relief hologram mold (stamper) was produced by a commonly known plating method, and a relief hologram seal was produced by a known embossing method. It was confirmed that the function as a machine-readable hologram was satisfied and the quality between each mark was stable.
【００１４】（実施例２）複製型回折格子８として、表
面に空間周波数が１０００ｌｉｎｅ／ｍｍ、回折格子の
深さが約０．４μｍのレリーフ回折格子が全面に形成さ
れたＮｉ版（厚さ約２００μｍ、面積２０×２０ｃ
ｍ2）を使用した。また、加熱刻印部分１に用いる刻印
１１として、ＳＫＳ合金工具鋼（面積３×３ｍｍ2、高
さ５ｍｍ）を使用した。作製すべきマシンリーダブルコ
ードとしては、図３に示すような４種類のマシンリーダ
ブルマーク３１とした。被エンボス基材２は、厚さ２５
μｍのポリエステルシート基材上にエンボス成型用の樹
脂層としてアクリル樹脂（ダイヤナールＬＲ−２４８、
三菱レイヨン社製）を、厚さ約２μｍとなるように塗工
することによって作製した。次に、前述の加熱刻印部分
１に取り付けた刻印１１を１２０℃に加熱した後、被エ
ンボス基材２のポリエステルシート側に加熱刻印部分
１、樹脂層側に複製型回折格子８を配置し、条件として
圧力５ｋｇ／ｃｍ2で３０秒間圧着することによってエ
ンボス成型を行った。次いで設定時間が経過した後、加
熱刻印部分１に設けた温度調整用機構により、圧力５ｋ
ｇ／ｃｍ2で圧着したままの状態で、加熱した刻印１１
と被エンボス基材２を８０℃まで冷却し、エンボスされ
たレリーフ形状を定着した。以上の行程がすべて終了し
た後圧着を解除し、次のマシンリーダブルマークのエン
ボス成型に移る。上記の行程を１サイクルとして、複製
型回折格子の格子方向を所望の角度にするため、θステ
ージ７を回転させることで、各々のマシンリーダブルマ
ークを成型することができた。上記の方法で作製したマ
シンリーダブルホログラム原版３３をもとに、通常知ら
れているメッキ法により、レリーフホログラムの金型
（スタンパー）を作製し、既知のエンボス法により、レ
リーフホログラムシールを作製したところ、マシンリー
ダブルとしての機能を満足し、各マーク間の品質が安定
していることが確認できた。(Embodiment 2) As a replica type diffraction grating 8, a Ni plate (thickness: about 10 nm) having a spatial frequency of 1000 line / mm and a diffraction grating depth of about 0.4 μm is formed on the entire surface. 200 μm, area 20 × 20c
m 2 ) was used. Moreover, as the marking 11 used for the heating marking portion 1, SKS alloy tool steel (area 3 × 3 mm 2 , height 5 mm) was used. As machine-readable codes to be produced, four types of machine-readable marks 31 as shown in FIG. 3 were used. The embossed substrate 2 has a thickness of 25.
Acrylic resin (Dialal LR-248,
(Manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) to have a thickness of about 2 μm. Next, after heating the marking 11 attached to the heating marking portion 1 to 120 ° C., the heating marking portion 1 is arranged on the polyester sheet side of the substrate 2 to be embossed, and the replication type diffraction grating 8 is arranged on the resin layer side. As a condition, embossing was performed by pressure bonding for 30 seconds at a pressure of 5 kg / cm 2 . Then, after the set time has elapsed, the pressure of 5 k is set by the temperature adjusting mechanism provided in the heating marking portion 1.
Heated stamp 11 with pressure applied at g / cm 2
The substrate 2 to be embossed was cooled to 80 ° C., and the embossed relief shape was fixed. After all the above steps are completed, the pressure bonding is released and the next machine-readable mark embossing is performed. Each of the machine-readable marks could be molded by rotating the θ stage 7 in order to set the grating direction of the replica diffraction grating to a desired angle with the above process as one cycle. Based on the machine-readable double hologram master 33 produced by the above method, a relief hologram mold (stamper) was produced by a commonly known plating method, and a relief hologram seal was produced by a known embossing method. It was confirmed that the machine readable function was satisfied and the quality between the marks was stable.
【００１５】[0015]
【発明の効果】前述の如く従来は、撮影により原版を作
製する方法を用いているため、コード変更のたびに装飾
部分ホログラムの再撮影コストとして高いコストがかか
っていた。また、従来の撮影により原版を作製する方法
では、マークの数だけレーザー露光を行うため、回折格
子の回折効率がばらついてしまい、マシンリーダブルホ
ログラムとしての機能上、品質がばらついた原版ができ
てしまった。ところが、本発明の作製方法および作製装
置によれば、エンボス複製方式を採ったことにより、行
程時間を短縮することができ、簡便に原版を作製するこ
とが可能となるため、作製コストを下げる効果がある。
また、複製型回折格子に使用する格子が同一であり、レ
リーフ形状にばらつきが少ない、品質の安定したマシン
リーダブルホログラム原版を作製することができるとい
う優れた実用上の効果がある。As described above, conventionally, since the method of manufacturing the original plate by photographing is used, a high cost is required as the re-imaging cost of the decorative partial hologram each time the code is changed. Also, in the conventional method of making an original plate by photographing, since the laser exposure is performed by the number of marks, the diffraction efficiency of the diffraction grating is varied, and an original plate with a varied quality is produced in terms of the function as a machine-readable hologram. It was However, according to the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the present invention, since the embossing duplication method is adopted, the process time can be shortened, and the original plate can be easily manufactured, so that the manufacturing cost can be reduced. There is.
Further, since the gratings used for the duplicated diffraction grating are the same, the relief shape has little variation, and it is possible to manufacture a machine-readable double hologram master plate with stable quality, which is an excellent practical effect.
【図１】本発明による原版作製装置の一実施例を示す断
面で表した説明図である。FIG. 1 is an explanatory view in cross section showing an embodiment of an original plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図２】本発明による原版作製装置の同実施例を示す平
面図である。FIG. 2 is a plan view showing the same embodiment of the original plate manufacturing apparatus according to the present invention.
【図３】本発明による原版作製方法により作製した、マ
シンリーダブルホログラム原版の一実施例を示す平面図
である。FIG. 3 is a plan view showing an example of a machine-readable hologram original plate produced by the original plate producing method according to the present invention.
１‥‥加熱刻印部分 ２‥‥被エンボス基材 ３‥‥基材支持台 ４‥‥Ｙステージ ５‥‥Ｘステージ ６‥‥複製型支持台 ７‥‥θステージ ８‥‥複製型回折格子 １１‥‥刻印 ３１‥‥マシンリーダブルマーク ３２‥‥レインボーホログラム ３３‥‥マシンリーダブルホログラム原版 1 ... Heat-marked portion 2 ... Embossed substrate 3 ... Substrate support 4 ... Y stage 5 ... X stage 6 ... Replica type support 7 ... θ stage 8 ... Replica type diffraction grating 11・ ・ ・ Engraved 31 ・ ・ ・ Machinable double mark 32 ・ ・ ・ Rainbow hologram 33 ・ ・ ・ Machine readable hologram original plate
Claims (4)
ンリーダブルホログラム原版の作製方法において、被エ
ンボス基材を複製型回折格子と加熱刻印部分により加熱
した刻印で挟む位置に配置し、複製型回折格子を順次回
転させながら加熱した刻印で被エンボス基材を複製型回
折格子に押圧していくことで、マシンリーダブルマーク
の回折格子を被エンボス基材に順次成型していくことを
特徴とする原版作製方法。1. A method of manufacturing a machine-readable hologram master using a diffraction grating relief pattern, wherein an embossed base material is placed at a position sandwiched between a duplication type diffraction grating and a marking heated by a heating marking portion, and the duplication type diffraction grating is formed. An original plate manufacturing method characterized in that a machine-readable mark is sequentially molded on the embossed base material by pressing the embossed base material against the duplicated diffraction grating with the stamps that are heated while being sequentially rotated. .
ンリーダブルホログラム原版の作製方法において、被エ
ンボス基材を複製型回折格子と加熱刻印部分により加熱
した刻印で挟む位置に配置し、複製型回折格子を順次回
転させながら、加熱した刻印で被エンボス基材を複製型
回折格子に押圧していくことでマシンリーダブルマーク
の回折格子を被エンボス基材に順次成型していく原版作
製方法であって、前記加熱刻印部分には温度調整用機構
が設けてあり、これにより被エンボス成型開始時には高
温状態で押圧し、エンボス成型に必要な適正時間が経過
した後に、圧着状態のまま適正温度まで冷却することを
特徴とする原版作製方法。2. A method for producing a machine-readable hologram original plate using a diffraction grating relief pattern, wherein an embossed substrate is placed at a position sandwiched between a duplication type diffraction grating and a marking heated by a heating marking portion, and the duplication type diffraction grating is formed. An original plate manufacturing method in which a diffraction grating of a machine-readable mark is sequentially molded on an embossed base material by pressing the embossed base material on a duplicated diffraction grating with a heated engraving while rotating sequentially. A temperature adjustment mechanism is provided on the heat-stamped part, which allows pressing at a high temperature at the start of embossing molding and cooling to the proper temperature in the crimped state after the appropriate time required for embossing molding has elapsed. Characteristic original plate manufacturing method.
ンリーダブルホログラム原版の作製装置であって、加熱
刻印部分と、被エンボス基材を支持する基材支持台と、
基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動させる移動装置と、複製
型回折格子を支持する複製型支持台と、複製型支持台を
θ方向に回転させる回転装置とを有し、加熱刻印部分と
基材支持台と複製型支持台が順次配置されていることを
特徴とする原版作製装置。3. A device for producing a machine-readable double hologram master plate using a relief pattern of a diffraction grating, comprising a heat-marked portion, a base material support base for supporting an embossed base material,
The heating device includes a moving device that moves the substrate support table in the X and Y directions, a replication support table that supports the replication diffraction grating, and a rotating device that rotates the replication support table in the θ direction. An original plate manufacturing apparatus characterized in that a substrate support and a replication type support are sequentially arranged.
ンリーダブルホログラム原版の作製装置であって、加熱
刻印部分と、被エンボス基材を支持する基材支持台と、
基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動させる移動装置と、複製
型回折格子を支持する複製型支持台と、複製型支持台を
θ方向に回転させる回転装置とを有し、加熱刻印部分と
基材支持台と複製型支持台が順次配置されている原版作
製装置であって、前記加熱刻印部分には温度調整用機構
が設けてあることを特徴とする原版作製装置。4. A device for producing a machine-readable hologram original plate using a relief pattern of a diffraction grating, comprising a heat-stamped portion, a base material support base for supporting an embossed base material,
The heating device includes a moving device that moves the substrate support table in the X and Y directions, a replication support table that supports the replication diffraction grating, and a rotating device that rotates the replication support table in the θ direction. An original plate manufacturing apparatus in which a base material support base and a replica type support base are sequentially arranged, wherein the heating marking portion is provided with a temperature adjusting mechanism.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6715194A JPH07281582A (en) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | Making method and making device for original plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6715194A JPH07281582A (en) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | Making method and making device for original plate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07281582A true JPH07281582A (en) | 1995-10-27 |
Family
ID=13336627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6715194A Pending JPH07281582A (en) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | Making method and making device for original plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07281582A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100446914B1 (en) * | 2001-11-14 | 2004-09-01 | 주식회사 엘지에스 | Method and device of producing DOE Lens |
| JP2006047721A (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Image forming method and image forming apparatus |
| JP2010508554A (en) * | 2006-10-31 | 2010-03-18 | オーワイ モディネス エルティディ． | Manufacturing method and manufacturing mechanism of optical product having complicated three-dimensional shape |
-
1994
- 1994-04-05 JP JP6715194A patent/JPH07281582A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100446914B1 (en) * | 2001-11-14 | 2004-09-01 | 주식회사 엘지에스 | Method and device of producing DOE Lens |
| JP2006047721A (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Image forming method and image forming apparatus |
| JP2010508554A (en) * | 2006-10-31 | 2010-03-18 | オーワイ モディネス エルティディ． | Manufacturing method and manufacturing mechanism of optical product having complicated three-dimensional shape |
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