JPH0725734B2 - ３―シアノ―４―フエニル―ピロール - Google Patents
３―シアノ―４―フエニル―ピロールInfo
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- JPH0725734B2 JPH0725734B2 JP63277592A JP27759288A JPH0725734B2 JP H0725734 B2 JPH0725734 B2 JP H0725734B2 JP 63277592 A JP63277592 A JP 63277592A JP 27759288 A JP27759288 A JP 27759288A JP H0725734 B2 JPH0725734 B2 JP H0725734B2
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- A01N43/36—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom five-membered rings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は新規な３−シアノ−４−フエニル−ピロール、
その製造方法、その有害生物防除剤（pe-sticide）とし
ての使用及び新規な中間体に関するものである。
その製造方法、その有害生物防除剤（pe-sticide）とし
ての使用及び新規な中間体に関するものである。
ある３−シアノ−４−フエニル−ピロール例えば化合物
３−シアノ−４−（2,3−ジクロロフェニル）−ピロー
ルが殺菌・殺カビ活性（fungici-dal activity）を持つ
ことが開示されている（例えばヨーロッパ特許第236,27
2号参照）。
３−シアノ−４−（2,3−ジクロロフェニル）−ピロー
ルが殺菌・殺カビ活性（fungici-dal activity）を持つ
ことが開示されている（例えばヨーロッパ特許第236,27
2号参照）。
しかしながら、これら従来公知の化合物の活性はすべて
の施用分野において、殊に低施用割合及び濃度で完全に
満足できるものではない。
の施用分野において、殊に低施用割合及び濃度で完全に
満足できるものではない。
一般式（Ｉ） 式中、Ｒはハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の新規な３−シアノ−４−フエニル−ピロールが見い出
された。
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の新規な３−シアノ−４−フエニル−ピロールが見い出
された。
更に一般式（Ｉ） 式中、Ｒはハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の新規な３−シアノ−４−フエニル−ピロールが式（I
I） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを塩基の存在下
及び適当ならば希釈剤の存在下で式（III） R1−SO2−CH2−NC （III） 式中、R1はアルキルまたは随時置換されていてもよいア
リールを表わす、 のスルホニルメチルイソシアナイドと反応させる場合に
得られることが見い出された。
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の新規な３−シアノ−４−フエニル−ピロールが式（I
I） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを塩基の存在下
及び適当ならば希釈剤の存在下で式（III） R1−SO2−CH2−NC （III） 式中、R1はアルキルまたは随時置換されていてもよいア
リールを表わす、 のスルホニルメチルイソシアナイドと反応させる場合に
得られることが見い出された。
最後に、一般式（Ｉ）の新規な３−シアノ−４−フエニ
ル−ピロールが有害生物（pest）に対する良好な作用を
持つことが見い出された。
ル−ピロールが有害生物（pest）に対する良好な作用を
持つことが見い出された。
驚くべきことに、本発明による一般式（Ｉ）の３−シア
ノ−４−フエニル−ピロールは例えば類似した作用のタ
イプの化学的に類似の化合物である３−シアノ−４−フ
エニル−ピロール例えば３−シアノ−４−（2,3−ジク
ロロフェニル）−ピロールよりかなり良好な殺菌・殺カ
ビ活性を示す。
ノ−４−フエニル−ピロールは例えば類似した作用のタ
イプの化学的に類似の化合物である３−シアノ−４−フ
エニル−ピロール例えば３−シアノ−４−（2,3−ジク
ロロフェニル）−ピロールよりかなり良好な殺菌・殺カ
ビ活性を示す。
式（Ｉ）は本発明による３−シアノ−４−フエニル−ピ
ロールの一般的定義を与える。好適な式（Ｉ）の化合物
はＲがフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、各々の場合に直鎖
状もしくは分枝鎖状の各々炭素原子１〜４個を有する、
アルキル、アルコキシまたはアルキルチオ、或いは各々
の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状の各々炭素原子１〜４
個及び同一もしくは相異なるハロゲン原子１〜９個を有
するハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハロ
ゲノアルキルチオを表わすものである。
ロールの一般的定義を与える。好適な式（Ｉ）の化合物
はＲがフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、各々の場合に直鎖
状もしくは分枝鎖状の各々炭素原子１〜４個を有する、
アルキル、アルコキシまたはアルキルチオ、或いは各々
の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状の各々炭素原子１〜４
個及び同一もしくは相異なるハロゲン原子１〜９個を有
するハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハロ
ゲノアルキルチオを表わすものである。
殊に好適な式（Ｉ）の化合物はＲがフッ素、塩素、臭
素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチ
オ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシまたは
トリフルオロメチルチオを表わすものである。
素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチ
オ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシまたは
トリフルオロメチルチオを表わすものである。
極めて殊に好適な式（Ｉ）の化合物はＲがフッ素、塩
素、メチル、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメ
トキシを表わすものである。
素、メチル、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメ
トキシを表わすものである。
製造実施例に挙げられる化合物に加えて、次の一般式
（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを個々に
挙げ得る： 例えば出発物質として３−クロロ−２−フルオロシンナ
モニトリルを用い、そして塩基として水素化ナトリウム
を用いる場合、本発明による方法の反応の経路は次式に
より表わし得る： 式（II）は本発明による方法を行う際に出発物質として
必要とされる置換されたフルオロシンナモニトリルに対
する一般的定義を与える。この式（II）において、Ｒは
好ましくはこの置換基に対して好適なものとして本発明
による式（Ｉ）の物質の記載に関連して既に挙げられた
ものの基を表わす。
（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを個々に
挙げ得る： 例えば出発物質として３−クロロ−２−フルオロシンナ
モニトリルを用い、そして塩基として水素化ナトリウム
を用いる場合、本発明による方法の反応の経路は次式に
より表わし得る： 式（II）は本発明による方法を行う際に出発物質として
必要とされる置換されたフルオロシンナモニトリルに対
する一般的定義を与える。この式（II）において、Ｒは
好ましくはこの置換基に対して好適なものとして本発明
による式（Ｉ）の物質の記載に関連して既に挙げられた
ものの基を表わす。
式（II）の置換されたフルオロシンナモニトリルは新規
である。しかしながら、これらのものは公知の方法（例
えばドイツ国特許出願第2,927,480号参照）と同様に例
えば ａ）式（IV） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロアニリンを最初に第一工程でジアゾ化に対し
て通常の条件下で、例えば亜硝酸ナトリウム及び塩酸の
存在下、適当な金属塩触媒例えば塩化銅（II）または酸
化銅（II）の存在下、並びに適当ならば適当な希釈剤例
えばアセトンまたは水の存在下にて−20乃至50℃間の温
度でアクリロニトリル反応させ［「ミアワイン・アリー
レーション（Meerwein arylation）」；これに関しては
オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions）1
1、189（1960）；オーガニック・リアクションズ24、22
5（1976）またはC.フェリ（Ferri）「有機合成の反応
（Reactions of Organic Synthesis）」319頁、チーメ
・ベルラグ・シュワッツガルト（Thi-eme Verlag Stutt
gart）1978も参照］、次に第二工程でかくて得られる式
（Ｖ） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたα−クロロ−β−フェニル−プロピオニト
リルを常法において０乃至50℃間の温度で適当ならば希
釈剤例えばテトラヒドロフランの存在下にて塩基例えば
トリエチルアミンまたはジアザビシクロウンデセンを用
いて脱水ハロゲン化するか（製造実施例も参照）、或い
はまた ｂ）式（VI） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロベンズアルデヒド及び式（VII） NC−CH2−COOH （VII） のシアノ酢酸を常法において50乃至120℃間の温度で塩
基例えばピペリジンまたはピリジンの存在下及び適当な
らば適当な希釈剤の例えばピリジンの存在下にて同時に
脱カルボキシル化しながら縮合反応させる［例えば「オ
ルガニクム（Org-anicum）」、571/572頁；第15版;VEB
ドイチェル・ベルラグ・デル・ビッセンシャフテン・ベ
ルリン（Deutscher Verlag der Wis-senschaften Berli
n）1981、及び製造実施例参照］場合に得られる。
である。しかしながら、これらのものは公知の方法（例
えばドイツ国特許出願第2,927,480号参照）と同様に例
えば ａ）式（IV） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロアニリンを最初に第一工程でジアゾ化に対し
て通常の条件下で、例えば亜硝酸ナトリウム及び塩酸の
存在下、適当な金属塩触媒例えば塩化銅（II）または酸
化銅（II）の存在下、並びに適当ならば適当な希釈剤例
えばアセトンまたは水の存在下にて−20乃至50℃間の温
度でアクリロニトリル反応させ［「ミアワイン・アリー
レーション（Meerwein arylation）」；これに関しては
オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions）1
1、189（1960）；オーガニック・リアクションズ24、22
5（1976）またはC.フェリ（Ferri）「有機合成の反応
（Reactions of Organic Synthesis）」319頁、チーメ
・ベルラグ・シュワッツガルト（Thi-eme Verlag Stutt
gart）1978も参照］、次に第二工程でかくて得られる式
（Ｖ） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたα−クロロ−β−フェニル−プロピオニト
リルを常法において０乃至50℃間の温度で適当ならば希
釈剤例えばテトラヒドロフランの存在下にて塩基例えば
トリエチルアミンまたはジアザビシクロウンデセンを用
いて脱水ハロゲン化するか（製造実施例も参照）、或い
はまた ｂ）式（VI） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロベンズアルデヒド及び式（VII） NC−CH2−COOH （VII） のシアノ酢酸を常法において50乃至120℃間の温度で塩
基例えばピペリジンまたはピリジンの存在下及び適当な
らば適当な希釈剤の例えばピリジンの存在下にて同時に
脱カルボキシル化しながら縮合反応させる［例えば「オ
ルガニクム（Org-anicum）」、571/572頁；第15版;VEB
ドイチェル・ベルラグ・デル・ビッセンシャフテン・ベ
ルリン（Deutscher Verlag der Wis-senschaften Berli
n）1981、及び製造実施例参照］場合に得られる。
式（IV）のフルオロアニリンのあるものは公知である
［例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリ
ー（J.Org.Chem.）39、1758〜1761（1974）;J.med.Che
m.12、195〜196（1969）または米国特許第3,900,519号
参照］か、または公知の方法と同様に得ることができ
る。
［例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリ
ー（J.Org.Chem.）39、1758〜1761（1974）;J.med.Che
m.12、195〜196（1969）または米国特許第3,900,519号
参照］か、または公知の方法と同様に得ることができ
る。
式（IVa） の新規な化合物は例えばＸが酸素または硫黄を表わすも
のである。
のである。
これらのものは本分野に属さない本出願の別の特許出願
の目的物質である（1978年11月９日付け、ドイツ国特許
出願第P3,737,985号参照）。
の目的物質である（1978年11月９日付け、ドイツ国特許
出願第P3,737,985号参照）。
好適な式（IVa）の化合物は２−フルオロ−５−アミノ
−フルオロメチルチオ−ベンゼン、２−フルオロ−４−
アミノ−フルオロメトキシ−ベンゼン、３−アミノ−４
−フルオロトリフルオロメトキシ−ベンゼン、２−アミ
ノ−４−フルオロ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン及
び２−アミノ−５−フルオロ−トリフルオロメトキシ−
ベンゼンである。
−フルオロメチルチオ−ベンゼン、２−フルオロ−４−
アミノ−フルオロメトキシ−ベンゼン、３−アミノ−４
−フルオロトリフルオロメトキシ−ベンゼン、２−アミ
ノ−４−フルオロ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン及
び２−アミノ−５−フルオロ−トリフルオロメトキシ−
ベンゼンである。
式（IVa） 式中、Ｘは酸素または硫黄を表わす、 の化合物の製造に対する一般に適応し得る方法は式（VI
II） 式中、Ｘは式（IVa）に対して与えられる意味を有す
る、 の化合物をニトロ化し、そしてかくて得られるニトロ化
合物を還元することを特徴とする。
II） 式中、Ｘは式（IVa）に対して与えられる意味を有す
る、 の化合物をニトロ化し、そしてかくて得られるニトロ化
合物を還元することを特徴とする。
本法に用いる含フッ素トリフルオロメトキシ−及びトリ
フルオロメチルチオベンゼンは公知である（ジャーナル
・オブ・オーガニック・ケミストリー29、１、1964）。
フルオロメチルチオベンゼンは公知である（ジャーナル
・オブ・オーガニック・ケミストリー29、１、1964）。
ニトロ化は通常のニトロ化剤例えば硝酸及び硫酸の混合
物を用いて行い得る。この方法において、温度は０〜80
℃、好ましくは20〜50℃の範囲である得る。ニトロ化剤
は出発化合物１モル当り例えば0.8〜1.5モルのニトロ化
剤が反応混合物中に生じる量で使用し得る。好ましく
は、出発化合物１モル当り１〜1.1モルのニトロ化剤が
生じる量を選ぶ。適当ならば、ニトロ化は不活性有機溶
媒の存在下で行う。適当な溶媒は例えばジクロロメタン
である。
物を用いて行い得る。この方法において、温度は０〜80
℃、好ましくは20〜50℃の範囲である得る。ニトロ化剤
は出発化合物１モル当り例えば0.8〜1.5モルのニトロ化
剤が反応混合物中に生じる量で使用し得る。好ましく
は、出発化合物１モル当り１〜1.1モルのニトロ化剤が
生じる量を選ぶ。適当ならば、ニトロ化は不活性有機溶
媒の存在下で行う。適当な溶媒は例えばジクロロメタン
である。
続いての還元は化学的に、即ち例えば還元作用を有する
金属または金属塩を用いて行い得る。適当な金属及び金
属塩には例えば鉄、亜鉛、スズ、塩化スズ（II）及び塩
化チタン（III）がある。かかる還元剤は好ましくは化
学量論的に必要とされる量で用いる。かかる還元におい
て、ニトロ化合物はこれらのものがニトロ化工程で得ら
れるか、またはその後に単離される状態で使用し得る。
また、還元は水素を用いて接触的に行うことができ、そ
の際に例えば金属を含むか、または金属からなる触媒を
用いることができる。適当な金属には例えば元素の周期
表の第VIII亜族の金属、殊にパラジウム、白金及びニッ
ケルがある。金属は元素状または化合物の状態、及びま
た殊に活性状態、例えばラネー金属の状態で存在する
か、または担体物質上での金属または金属化合物として
用いることができる。ラネー・ニッケル、炭素担持パラ
ジウム及び酸化アルミニウムが好ましい。
金属または金属塩を用いて行い得る。適当な金属及び金
属塩には例えば鉄、亜鉛、スズ、塩化スズ（II）及び塩
化チタン（III）がある。かかる還元剤は好ましくは化
学量論的に必要とされる量で用いる。かかる還元におい
て、ニトロ化合物はこれらのものがニトロ化工程で得ら
れるか、またはその後に単離される状態で使用し得る。
また、還元は水素を用いて接触的に行うことができ、そ
の際に例えば金属を含むか、または金属からなる触媒を
用いることができる。適当な金属には例えば元素の周期
表の第VIII亜族の金属、殊にパラジウム、白金及びニッ
ケルがある。金属は元素状または化合物の状態、及びま
た殊に活性状態、例えばラネー金属の状態で存在する
か、または担体物質上での金属または金属化合物として
用いることができる。ラネー・ニッケル、炭素担持パラ
ジウム及び酸化アルミニウムが好ましい。
接触還元は好ましくは溶媒の存在下で行う。適当な溶媒
には例えばアルコール及びエーテル例えばメタノール、
エタノール及びテトラヒドロフランがある。接触還元は
例えば製造実施例に示される温度及び１〜100バールの
範囲の水素圧力で行い得る。過剰な水素は一般に臨界的
ではない。
には例えばアルコール及びエーテル例えばメタノール、
エタノール及びテトラヒドロフランがある。接触還元は
例えば製造実施例に示される温度及び１〜100バールの
範囲の水素圧力で行い得る。過剰な水素は一般に臨界的
ではない。
好ましくは、酸を含まぬニトロ化合物を接触還元に用い
る。必要に応じて、後者からは従来って例えば水で洗浄
するか、または塩基で中和して酸を除去すべきであり得
る。
る。必要に応じて、後者からは従来って例えば水で洗浄
するか、または塩基で中和して酸を除去すべきであり得
る。
例えば、化学的還元または接触水素化後の反応混合物の
処理はすべての固体成分を最初に別し、そして液を
適当ならば水で洗浄後に蒸留するように行い得る。反応
生成物として異性体混合物が得られる場合、混合物は精
密蒸留により分離し得る。
処理はすべての固体成分を最初に別し、そして液を
適当ならば水で洗浄後に蒸留するように行い得る。反応
生成物として異性体混合物が得られる場合、混合物は精
密蒸留により分離し得る。
またアミノ基に対してｏ−またはｐ−位置にフッ素を有
する式（IVa）の化合物は式（IX） 式中、Ｘは酸素または硫黄を表わし、記号Ｙ及びＺの少
なくとも１つは塩素を表わし、そして他のものは水素を
表わす、 の化合物を極性の非プロトン性溶媒例えばテトラメチレ
ンスルホンの存在下でフッ素化剤例えばフッ化カリウム
と反応させることにより製造することができ、反応に際
して存在するすべての塩素はフッ素で置換され、そして
続いてニトロ基をアミノ基に転化する還元が行われる。
する式（IVa）の化合物は式（IX） 式中、Ｘは酸素または硫黄を表わし、記号Ｙ及びＺの少
なくとも１つは塩素を表わし、そして他のものは水素を
表わす、 の化合物を極性の非プロトン性溶媒例えばテトラメチレ
ンスルホンの存在下でフッ素化剤例えばフッ化カリウム
と反応させることにより製造することができ、反応に際
して存在するすべての塩素はフッ素で置換され、そして
続いてニトロ基をアミノ基に転化する還元が行われる。
式（IX）の化合物は公知である［ホーベン・ウェイル
（Houben Weyl）、有機化学の方法（Meth-oden der org
anischen Chemie）E4、633頁以下参照］。
（Houben Weyl）、有機化学の方法（Meth-oden der org
anischen Chemie）E4、633頁以下参照］。
テトラメチレンスルホンは溶媒として作用し、そして好
ましくは少なくとも容易に攪拌し得る反応混合物が存在
するような量で用いる。反応は多量のテトラメチレンス
ルホンにより妨害されない。
ましくは少なくとも容易に攪拌し得る反応混合物が存在
するような量で用いる。反応は多量のテトラメチレンス
ルホンにより妨害されない。
テトラメチレンスルホン中でのフッ化カリウムとの反応
に適する温度は例えば160〜230℃の範囲である。180〜2
10℃の温度が好ましい。反応は好ましくはできる限り水
を含まぬ環境中で行う。これは例えば最後の成分として
式（IX）の化合物を注意して乾燥した状態で用い、そし
て前に加えた他の成分から少量のテトラメチレンスルホ
ンを存在するいずれかの水と一緒に蒸留して除去するこ
とにより達成し得る。
に適する温度は例えば160〜230℃の範囲である。180〜2
10℃の温度が好ましい。反応は好ましくはできる限り水
を含まぬ環境中で行う。これは例えば最後の成分として
式（IX）の化合物を注意して乾燥した状態で用い、そし
て前に加えた他の成分から少量のテトラメチレンスルホ
ンを存在するいずれかの水と一緒に蒸留して除去するこ
とにより達成し得る。
反応が完了した場合、反応混合物中に存在する固体及び
適当ならば全部または一部のテトラメチレンスルホンを
除去し得る。
適当ならば全部または一部のテトラメチレンスルホンを
除去し得る。
アミノ基を生成させる続いてのニトロ基の還元及び次に
存在する反応混合物の処理はこれらの化合物の製造方法
に一般的に適用し得る通りに上記により行い得る。
存在する反応混合物の処理はこれらの化合物の製造方法
に一般的に適用し得る通りに上記により行い得る。
また、Ｘ＝酸素である式（IVa）の化合物は式（Ｘ） の化合物をフッ化水素の存在下で四塩化炭素と反応させ
ることにより製造することができ、その際の反応により
OH基はCF3O基に転化される。
ることにより製造することができ、その際の反応により
OH基はCF3O基に転化される。
式（Ｘ）の化合物は公知である（フランス国特許第2,44
6,805号参照）。
6,805号参照）。
例えば、式（Ｘ）の反応性化合物１モル当り１〜10モル
の四塩化炭素及び５〜30モルのフッ化水素を用いること
ができる。同様に、比較的大過剰量の四塩化炭素及びフ
ッ化水素は一般に本工程を妨害しない。適当な反応温度
は100〜150℃の範囲である。この工程は好ましくはある
圧力以上のみで例えば生じる塩化水素ガスが放出される
圧力下で行う。例えば、これは18〜60バールの圧力であ
り得る。適当ならば、圧力は追加として不活性ガス例え
ば窒素１〜20バールを用いて上昇させ得る。反応中に十
分攪拌することが有利である。
の四塩化炭素及び５〜30モルのフッ化水素を用いること
ができる。同様に、比較的大過剰量の四塩化炭素及びフ
ッ化水素は一般に本工程を妨害しない。適当な反応温度
は100〜150℃の範囲である。この工程は好ましくはある
圧力以上のみで例えば生じる塩化水素ガスが放出される
圧力下で行う。例えば、これは18〜60バールの圧力であ
り得る。適当ならば、圧力は追加として不活性ガス例え
ば窒素１〜20バールを用いて上昇させ得る。反応中に十
分攪拌することが有利である。
反応混合物の処理は例えば反応混合物を室温に冷却し、
過剰のフッ化水素及び過剰の四塩化炭素例えば80℃まで
の温度で留去し、残渣を氷水中に注ぎ、混合物を水酸化
ナトリウムでアルカリ性にし、有機相をジクロロメタン
で抽出し、そしてこのものを乾燥後に精密蒸留すること
により行い得る。
過剰のフッ化水素及び過剰の四塩化炭素例えば80℃まで
の温度で留去し、残渣を氷水中に注ぎ、混合物を水酸化
ナトリウムでアルカリ性にし、有機相をジクロロメタン
で抽出し、そしてこのものを乾燥後に精密蒸留すること
により行い得る。
更に式（IVb） の新規な化合物はトリフルオロメチル基が１−位置にあ
り、そしてアミノ基がａ）２−位置にあり、且つフッ素
原子が６−位置にあるか、またはアミノ基がｂ）３−位
置にあり、且つフッ素原子が２−位置にあるものであ
る。
り、そしてアミノ基がａ）２−位置にあり、且つフッ素
原子が６−位置にあるか、またはアミノ基がｂ）３−位
置にあり、且つフッ素原子が２−位置にあるものであ
る。
これらのものは本分野の部分ではない本出願者の出願の
目的物である（1987年11月９日付け、ドイツ国特許出願
第P3,737,986号参照）。
目的物である（1987年11月９日付け、ドイツ国特許出願
第P3,737,986号参照）。
トリフルオロメチル基が１−位置にあり、そしてアミノ
基がａ）２−位置にあり、且つフッ素原子が６−位置に
あるか、またはアミノ基がｂ）３−位置にあり、且つフ
ッ素原子が２−位置にある含フッ素トリフルオロメチル
アミノベンゼンの好適な製造方法は対応する含フッ素ト
リフルオロメチルベンゼンをニトロ化反応に付し、そし
て生じる含フッ素トリフルオロメチルニトロベンゼンを
還元することを特徴とする。
基がａ）２−位置にあり、且つフッ素原子が６−位置に
あるか、またはアミノ基がｂ）３−位置にあり、且つフ
ッ素原子が２−位置にある含フッ素トリフルオロメチル
アミノベンゼンの好適な製造方法は対応する含フッ素ト
リフルオロメチルベンゼンをニトロ化反応に付し、そし
て生じる含フッ素トリフルオロメチルニトロベンゼンを
還元することを特徴とする。
フッ素は含むがアミノ基は含まない本発明の方法に用い
るトリフルオロメチルベンゼンは公知である。ニトロ
化、続いての還元及び処理は式（IVa）の化合物の製造
において示された条件下で行う。
るトリフルオロメチルベンゼンは公知である。ニトロ
化、続いての還元及び処理は式（IVa）の化合物の製造
において示された条件下で行う。
更に特に、トリフルオロメチル基が１−位置にあり、そ
してアミノ基がａ′）２−位置にあり、且つフッ素原子
が６−位置にあるか、またはアミノ基がｂ′）４−位置
にあり、且つフッ素原子が２−位置にある含フッ素トリ
フルオロメチルアミノベンゼンの製造方法は対応する含
フッ素２−及び／または４−ハロゲノトリフルオロメチ
ルベンゼンを昇圧下及び有機溶媒の存在下でアンモニア
と反応させることを特徴とする。
してアミノ基がａ′）２−位置にあり、且つフッ素原子
が６−位置にあるか、またはアミノ基がｂ′）４−位置
にあり、且つフッ素原子が２−位置にある含フッ素トリ
フルオロメチルアミノベンゼンの製造方法は対応する含
フッ素２−及び／または４−ハロゲノトリフルオロメチ
ルベンゼンを昇圧下及び有機溶媒の存在下でアンモニア
と反応させることを特徴とする。
この方法で用いる２−及び／または４−ハロゲノトリフ
ルオロメチルベンゼンは公知である。
ルオロメチルベンゼンは公知である。
アンモニアは液またはガス状として、例えば物質（ガス
または液体）または水溶液として加えることができる。
例えばNH2基により置換される２−及び／または４−位
置にあるハロゲン原子１モル当り１〜10モルのアンモニ
アを用いることができる。この量は好ましくは３〜８モ
ルである。この反応に適する温度は80〜160℃の範囲、
好ましくは100〜130℃の範囲である。反応は閉鎖容器中
の反応温度で見られるアンモニアの固有圧力下で行うこ
とができ、その際に圧力は例えば10〜20バールの範囲内
であり得る。また高圧例えば100バールまでの圧力を用
いることができる。
または液体）または水溶液として加えることができる。
例えばNH2基により置換される２−及び／または４−位
置にあるハロゲン原子１モル当り１〜10モルのアンモニ
アを用いることができる。この量は好ましくは３〜８モ
ルである。この反応に適する温度は80〜160℃の範囲、
好ましくは100〜130℃の範囲である。反応は閉鎖容器中
の反応温度で見られるアンモニアの固有圧力下で行うこ
とができ、その際に圧力は例えば10〜20バールの範囲内
であり得る。また高圧例えば100バールまでの圧力を用
いることができる。
この反応に使用し得る溶媒は不活性または実質的に不活
性の広範囲のタイプの溶媒である。適当な溶媒には例え
ばアルコール、エーテル、スルホン及び芳香族炭化水素
がある。
性の広範囲のタイプの溶媒である。適当な溶媒には例え
ばアルコール、エーテル、スルホン及び芳香族炭化水素
がある。
所望の反応生成物（複数）は例えば反応後に最初に冷却
し、圧力を放出し、次に溶媒を除去し、続いて好ましく
は減圧下で蒸留を行うことにより存在する反応混合物か
ら得ることができる。
し、圧力を放出し、次に溶媒を除去し、続いて好ましく
は減圧下で蒸留を行うことにより存在する反応混合物か
ら得ることができる。
変法ｂ）の式（II）の新規な出発生成物の製造に対する
先駆体として更に必要とされる式（VI）のフルオロベン
ズアルデヒドの殆んどは公知であり（例えばChem.Abst
r.100;209,388k＝特開昭58/222,045号参照）、かくて、
Chem.Abstr.において登録No.90,381−08−１を有する５
−フルオロ−２−トリフルオロメチルベンズアルデヒ
ド、No.90,390−49−１を有する３−クロロ−５−フル
オロベンズアルデヒド及びNo.96、515−79−６を有する
３−クロロ−６−フルオロベンズアルデヒドなどが挙げ
られる。式（VII）のシアノ酢酸は同様に一般的に公知
の有機化学の化合物である。
先駆体として更に必要とされる式（VI）のフルオロベン
ズアルデヒドの殆んどは公知であり（例えばChem.Abst
r.100;209,388k＝特開昭58/222,045号参照）、かくて、
Chem.Abstr.において登録No.90,381−08−１を有する５
−フルオロ−２−トリフルオロメチルベンズアルデヒ
ド、No.90,390−49−１を有する３−クロロ−５−フル
オロベンズアルデヒド及びNo.96、515−79−６を有する
３−クロロ−６−フルオロベンズアルデヒドなどが挙げ
られる。式（VII）のシアノ酢酸は同様に一般的に公知
の有機化学の化合物である。
式（III）は本発明による方法を行う際に出発物質とし
て更に必要とされるスルホニルメチルイソシアナイドに
対する一般的定義を与える。この式（III）において、R
1は好ましくはメチルまたは随時−置換されていてもよ
いフェニル例えば４−メチルフェニル、４−クロロフェ
ニルもしくはフェニルを表わす。
て更に必要とされるスルホニルメチルイソシアナイドに
対する一般的定義を与える。この式（III）において、R
1は好ましくはメチルまたは随時−置換されていてもよ
いフェニル例えば４−メチルフェニル、４−クロロフェ
ニルもしくはフェニルを表わす。
式（III）のスルホニルメチルイソシアナイドは公知で
ある［例えばシンセシス（Synthesis）1985、400−402;
オーガニック・シンセシズ（Org.Syntheses）57、102−
106（1977）；ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー42、1153〜1159（1977）；テトラヘドロン・レ
ターズ（Tetrahedron Lett.）1972、2367〜2368参
照］。
ある［例えばシンセシス（Synthesis）1985、400−402;
オーガニック・シンセシズ（Org.Syntheses）57、102−
106（1977）；ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー42、1153〜1159（1977）；テトラヘドロン・レ
ターズ（Tetrahedron Lett.）1972、2367〜2368参
照］。
本発明による方法を行う際に適する希釈剤は不活性有機
溶媒である。これらのものには殊に脂肪族、環式脂肪族
または芳香族の、随時ハロゲン化されていてもよい炭化
水素例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ジクロロメタン、クロロホルム及び四塩化炭素、
エーテル、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフランまたはエチレングリコールジメチルもし
くはジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリ
ド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸ト
リアミド、或いはスルホキシド例えばジメチルスルホキ
シドが含まれる。
溶媒である。これらのものには殊に脂肪族、環式脂肪族
または芳香族の、随時ハロゲン化されていてもよい炭化
水素例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ジクロロメタン、クロロホルム及び四塩化炭素、
エーテル、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフランまたはエチレングリコールジメチルもし
くはジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリ
ド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸ト
リアミド、或いはスルホキシド例えばジメチルスルホキ
シドが含まれる。
適当ならばまた、本発明による方法は適当ならば相間移
動触媒の存在下にて２相系例えば水／トルエンまたは水
／ジクロロメタン中で行い得る。挙げ得るかかる触媒の
例には次のものがある：ヨウ化テトラブチルアンモニウ
ム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリブチル−
メチルホスホニウム、トリメチル−塩化C13／C15−アル
キルアンモニウム、ジベンジルジメチルアンモニウムメ
チル硫酸、ジメチル−塩化C12／C14−アルキル−ベンジ
ルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、15
−クラウン−５、18−クラウン−６、塩化トリエチルベ
ンジルアンモニウム及び塩化トリメチルベンジルアンモ
ニウム。
動触媒の存在下にて２相系例えば水／トルエンまたは水
／ジクロロメタン中で行い得る。挙げ得るかかる触媒の
例には次のものがある：ヨウ化テトラブチルアンモニウ
ム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリブチル−
メチルホスホニウム、トリメチル−塩化C13／C15−アル
キルアンモニウム、ジベンジルジメチルアンモニウムメ
チル硫酸、ジメチル−塩化C12／C14−アルキル−ベンジ
ルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、15
−クラウン−５、18−クラウン−６、塩化トリエチルベ
ンジルアンモニウム及び塩化トリメチルベンジルアンモ
ニウム。
本発明による方法は好ましくは適当な塩基の存在下で行
う。通常に使用し得るすべての無機及び有機塩基がその
ままで適する。好ましくは、アルカリ金属の水素化物、
水酸化物、アミド、アルコラート、炭酸塩または炭酸水
素塩例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、水酸
化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラート、カリウムｔ−ブチラート、炭酸ナトリウムまた
は炭酸水素ナトリウム、及びまたは第三級アミン例えば
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオ
クタン（DABCO）、ジアザビシクロノネン（DBN）または
ジアザビシクロウンデセン（DBU）を用いる。
う。通常に使用し得るすべての無機及び有機塩基がその
ままで適する。好ましくは、アルカリ金属の水素化物、
水酸化物、アミド、アルコラート、炭酸塩または炭酸水
素塩例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、水酸
化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラート、カリウムｔ−ブチラート、炭酸ナトリウムまた
は炭酸水素ナトリウム、及びまたは第三級アミン例えば
トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオ
クタン（DABCO）、ジアザビシクロノネン（DBN）または
ジアザビシクロウンデセン（DBU）を用いる。
本発明による方法を行う場合、反応温度は比較的広い範
囲内で変え得る。一般に、本法は−30乃至120℃間の温
度、好ましくは−20乃至50℃間の温度で行う。
囲内で変え得る。一般に、本法は−30乃至120℃間の温
度、好ましくは−20乃至50℃間の温度で行う。
本発明による方法を行う際に、式（II）の置換されたフ
ルオロシンナモニトリル１モル当り1.0〜2.0モル、好ま
しくは1.0〜1.5モルの式（III）のスルホニルメチルイ
ソシアナイド及び1.0〜2.0モル、好ましくは1.0〜1.5モ
ルの塩基を一般に用いる。この方法において、保護ガス
雰囲気、例えばアルゴンの存在下で反応を行うことが有
利であり得る。反応を行い、反応生成物を処理し、そし
て一般的に通常の方法により単離する。
ルオロシンナモニトリル１モル当り1.0〜2.0モル、好ま
しくは1.0〜1.5モルの式（III）のスルホニルメチルイ
ソシアナイド及び1.0〜2.0モル、好ましくは1.0〜1.5モ
ルの塩基を一般に用いる。この方法において、保護ガス
雰囲気、例えばアルゴンの存在下で反応を行うことが有
利であり得る。反応を行い、反応生成物を処理し、そし
て一般的に通常の方法により単離する。
本発明による製造方法を用いる本発明による活性物質の
製造の他に、更に本発明による活性物質の製造に対する
種々の製造方法が考え得る。
製造の他に、更に本発明による活性物質の製造に対する
種々の製造方法が考え得る。
かくてまた例えば、本発明による式（Ｉ）の活性物質は
α−シアノケイ皮酸エステルを塩基の存在下及び銅（I
I）塩の存在下でｐ−トルエンスルホニルメチルイソシ
アナイドと反応させるか（J6−1030−571またはJ6−120
0−984参照）、またはα−置換されたシンナモニトリル
を水素化ナトリウムの存在下でイソシアノ酢酸エステル
と環化反応させ、生じるピロール−２−カルボン酸エス
テルを塩基で加水分解し、そして反応生成物を次に熱的
に脱カルボキシル化するか（特開昭59/212,468号参
照）、フェナシルアミン誘導体を適当に置換されたアク
リロニトリル誘導体と反応させるか（ヨーロッパ特許第
174,910号参照）、３−トリフルオロメチル−４−フェ
ニル−ピロールを昇温及び昇圧下でアンモニアと反応さ
せるか（ヨーロッパ特許第182,738号参照）、３−シア
ノ−４−フェニル−Δ2−ピロリンを銅（II）塩または
鉄（III）塩の存在下で酸化するか（ヨーロッパ特許第1
83,217号参照）、またはα−シアノアクリル酸誘導体を
塩基の存在下でイソシアノ酢酸エステルと反応させ、そ
して生じるΔ2−ピロリン−２−カルボン酸誘導体を第
二工程で塩基の存在下及び金属塩触媒の存在下で酸化的
に脱カルボキシル化する（1987年６月２日付け、ドイツ
国特許出願第P3,718,375号参照）場合に得られる。
α−シアノケイ皮酸エステルを塩基の存在下及び銅（I
I）塩の存在下でｐ−トルエンスルホニルメチルイソシ
アナイドと反応させるか（J6−1030−571またはJ6−120
0−984参照）、またはα−置換されたシンナモニトリル
を水素化ナトリウムの存在下でイソシアノ酢酸エステル
と環化反応させ、生じるピロール−２−カルボン酸エス
テルを塩基で加水分解し、そして反応生成物を次に熱的
に脱カルボキシル化するか（特開昭59/212,468号参
照）、フェナシルアミン誘導体を適当に置換されたアク
リロニトリル誘導体と反応させるか（ヨーロッパ特許第
174,910号参照）、３−トリフルオロメチル−４−フェ
ニル−ピロールを昇温及び昇圧下でアンモニアと反応さ
せるか（ヨーロッパ特許第182,738号参照）、３−シア
ノ−４−フェニル−Δ2−ピロリンを銅（II）塩または
鉄（III）塩の存在下で酸化するか（ヨーロッパ特許第1
83,217号参照）、またはα−シアノアクリル酸誘導体を
塩基の存在下でイソシアノ酢酸エステルと反応させ、そ
して生じるΔ2−ピロリン−２−カルボン酸誘導体を第
二工程で塩基の存在下及び金属塩触媒の存在下で酸化的
に脱カルボキシル化する（1987年６月２日付け、ドイツ
国特許出願第P3,718,375号参照）場合に得られる。
本発明による活性化合物は有害生物に対して強い作用を
示し、そして望ましくない有害な生物を防除する際に実
際に使用し得る。本活性化合物は植物保護剤、殊に殺菌
・殺カビ剤（fungicide）として用いる際に適してい
る。
示し、そして望ましくない有害な生物を防除する際に実
際に使用し得る。本活性化合物は植物保護剤、殊に殺菌
・殺カビ剤（fungicide）として用いる際に適してい
る。
植物保護の殺菌・殺カビ剤はプラスモジオフオロミセテ
ス（Plasmodiophoromycetes）、卵菌類（Oomycetes）、
チトリジオミセテス（Chytrid-jomycetes）、接合菌類
（Zygomycetes）、嚢子菌類（Ascomycetes）、担子菌類
（Basidomycetes）、及び不完全菌類（Deuteromycete
s）を防除する際に用いられる。
ス（Plasmodiophoromycetes）、卵菌類（Oomycetes）、
チトリジオミセテス（Chytrid-jomycetes）、接合菌類
（Zygomycetes）、嚢子菌類（Ascomycetes）、担子菌類
（Basidomycetes）、及び不完全菌類（Deuteromycete
s）を防除する際に用いられる。
上記の主な見出に含まれる菌・カビ病のある原因生物を
非限定例として下に挙げる：ピチウム（Pythium）種例
えば苗立枯病（Pythium ulti-mum）；フイトフトラ（Ph
ytophthora）種例えば疫病（Phytophthora infestan
s）；プソイドペロノスポラ（Pseudoperonospora）種例
えばべと病（Pseud-operonospora humuliまたはPseudop
eronosporacubense）；プラスモパラ（Plasmopara）種
例えばべと病（Plasmopara viticola）；プロノスポラ
（Pe-ronospora）種例えばべと病（Peronospora pisiま
たはP.brassicae）；エリシフエ（Erysiphe）種例えば
うどんこ病（Erysiphe graminis）；スフエロテカ（Sph
aerotheca）種例えばうどんこ病（Sp-haerotheca fulig
inea）；ポドスフエラ（Podosph-aera）種例えばうどん
こ病（Podosphaera leucot-richa）；ベンチユリア（Ve
nturia）種例えば黒星病（Venturia inaequalis）；ピ
レノフオラ（Pyreno-phora）種例えば網斑病（Pyrenoph
ora teresまたはP.graminea）；（分生胞子器状:Drechs
lera、同義:Helminthosporium）；コクリオボルス（Coc
-hliobolus）種例えば斑点病（Cochliobolus sati-vu
s）（分生胞子状:Drechslera、同義:Helminth-osporiu
m）；ウロマイセス（Uromyces）種例えばさび病（Uromy
ces appendiculatus）；プシニア（Puccinia）種例えば
赤さび病（Puccinia recon-dita）；ティレティア（Til
letia）種例えば網なまぐさ黒穂病（Tilletia carie
s）；ウスティラゴ（Ustilago）種例えば裸黒穂病（Ust
ilago nudaまたはUstilago avenae）；ピリキユラリア
（Pellicularia）種例えば紋枯病（Pellicularia sasak
ii）；ピリキユラリア（Pyricularia）種例えばみち病
（Pyricularia oryzae）；フーザリウム（Fusarium）種
例えばフーザリウム・クルモルム（Fusarium culmoru
m）；ポツリティス（Botry-tis）種例えば灰色かび病
（Botrytis cineres）；セプトリア（Septoria）種例え
ばふ枯病（Septoria nodorum）；レプトスフエリア（Le
ptosphaeria）種例えばレプトスフエリア・ノドルム（L
eptospha-eria nodorum）；セルコスポラ（Cercospor
a）種例えばセルコスポラ・カネセンス（Cercospora ca
nescens）；アルテルナリア（Alternaria）種例えば黒
斑病（Alternaria brassicae）及びプソイドセルコスポ
レラ（Pseudocercosporella）種例えばプソイドセルコ
スポレラ・ヘルポトリコイデス（Pseudocercosporella
herpotrichoides）。
非限定例として下に挙げる：ピチウム（Pythium）種例
えば苗立枯病（Pythium ulti-mum）；フイトフトラ（Ph
ytophthora）種例えば疫病（Phytophthora infestan
s）；プソイドペロノスポラ（Pseudoperonospora）種例
えばべと病（Pseud-operonospora humuliまたはPseudop
eronosporacubense）；プラスモパラ（Plasmopara）種
例えばべと病（Plasmopara viticola）；プロノスポラ
（Pe-ronospora）種例えばべと病（Peronospora pisiま
たはP.brassicae）；エリシフエ（Erysiphe）種例えば
うどんこ病（Erysiphe graminis）；スフエロテカ（Sph
aerotheca）種例えばうどんこ病（Sp-haerotheca fulig
inea）；ポドスフエラ（Podosph-aera）種例えばうどん
こ病（Podosphaera leucot-richa）；ベンチユリア（Ve
nturia）種例えば黒星病（Venturia inaequalis）；ピ
レノフオラ（Pyreno-phora）種例えば網斑病（Pyrenoph
ora teresまたはP.graminea）；（分生胞子器状:Drechs
lera、同義:Helminthosporium）；コクリオボルス（Coc
-hliobolus）種例えば斑点病（Cochliobolus sati-vu
s）（分生胞子状:Drechslera、同義:Helminth-osporiu
m）；ウロマイセス（Uromyces）種例えばさび病（Uromy
ces appendiculatus）；プシニア（Puccinia）種例えば
赤さび病（Puccinia recon-dita）；ティレティア（Til
letia）種例えば網なまぐさ黒穂病（Tilletia carie
s）；ウスティラゴ（Ustilago）種例えば裸黒穂病（Ust
ilago nudaまたはUstilago avenae）；ピリキユラリア
（Pellicularia）種例えば紋枯病（Pellicularia sasak
ii）；ピリキユラリア（Pyricularia）種例えばみち病
（Pyricularia oryzae）；フーザリウム（Fusarium）種
例えばフーザリウム・クルモルム（Fusarium culmoru
m）；ポツリティス（Botry-tis）種例えば灰色かび病
（Botrytis cineres）；セプトリア（Septoria）種例え
ばふ枯病（Septoria nodorum）；レプトスフエリア（Le
ptosphaeria）種例えばレプトスフエリア・ノドルム（L
eptospha-eria nodorum）；セルコスポラ（Cercospor
a）種例えばセルコスポラ・カネセンス（Cercospora ca
nescens）；アルテルナリア（Alternaria）種例えば黒
斑病（Alternaria brassicae）及びプソイドセルコスポ
レラ（Pseudocercosporella）種例えばプソイドセルコ
スポレラ・ヘルポトリコイデス（Pseudocercosporella
herpotrichoides）。
植物の病気を防除する際に必要な濃度で、本活性化合物
の植物による良好な許容性があるために、植物の地上部
分、生長増殖茎及び種子、並びに土壌の処理が可能であ
る。
の植物による良好な許容性があるために、植物の地上部
分、生長増殖茎及び種子、並びに土壌の処理が可能であ
る。
本発明による活性化合物は果物及び植物生長における病
気を防除する際、例えば豆の灰色かび病（Botrytis cin
erea）またはイネの病気例えばイネのいもち病の病原細
菌（Pyriculeria oryzae）に対して殊に有利に用いるこ
とができる。
気を防除する際、例えば豆の灰色かび病（Botrytis cin
erea）またはイネの病気例えばイネのいもち病の病原細
菌（Pyriculeria oryzae）に対して殊に有利に用いるこ
とができる。
本活性化合物はその特定の物理的及び／または化学的特
性に依存して普通の組成物例えば、溶液、乳液、懸濁
剤、粉剤、包沫剤、塗布剤、顆粒、エアロゾル、種子用
の重合物質中の極く細かいカプセルおよびコーテイング
組成物、並びにULV組成物に変えることができる。
性に依存して普通の組成物例えば、溶液、乳液、懸濁
剤、粉剤、包沫剤、塗布剤、顆粒、エアロゾル、種子用
の重合物質中の極く細かいカプセルおよびコーテイング
組成物、並びにULV組成物に変えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／ま
たは発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水
を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いる
こともできる。液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素
例えばキシレン、トルエンもしくはアルキルナフタレ
ン、塩素化された芳香族もしくは塩素化された脂肪族炭
化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチレンもしくは
塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、
またはパラフイン例えば鉱油留分、鉱油及び植物油、ア
ルコール例えばブタノールもしくあグリコール並びにそ
のエーテル及びエステル、ケトン例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトンもしくはシク
ロヘキサノン、強い有極性溶媒例えばジメチルホルムア
ミド及びジメチルスルホキシド並びに水が適している；
液化した気体の伸展剤または担体とは、常温及び常圧で
は気体である液体を意味し、例えばハロゲン化された炭
化水素並びにブタン、プロパン、窒素及び二酸化炭素の
如きエアロゾル噴射基剤である；固体の担体として、粉
砕した天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チ
ヨーク、石英、アタパルジヤイト、モントモリロナイ
ト、またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高
度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適してい
る；粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別し
た天然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白
雲石並びに無機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物
質の顆粒例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸
及びタバコ茎が適している；乳化剤及び／または発泡剤
として例えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポ
リオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキルアリールポ
リグリコールエーテル、アルキルスルホネート、アルキ
ルスルフエート、アリールスルホネート並びにアルブミ
ン加水分解生成物が適している；分散剤として、例えば
リグニンスルフアイト廃液及びメチルセルロースが適し
ている。
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／ま
たは発泡剤と混合して製造される。また伸展剤として水
を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いる
こともできる。液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素
例えばキシレン、トルエンもしくはアルキルナフタレ
ン、塩素化された芳香族もしくは塩素化された脂肪族炭
化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチレンもしくは
塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、
またはパラフイン例えば鉱油留分、鉱油及び植物油、ア
ルコール例えばブタノールもしくあグリコール並びにそ
のエーテル及びエステル、ケトン例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトンもしくはシク
ロヘキサノン、強い有極性溶媒例えばジメチルホルムア
ミド及びジメチルスルホキシド並びに水が適している；
液化した気体の伸展剤または担体とは、常温及び常圧で
は気体である液体を意味し、例えばハロゲン化された炭
化水素並びにブタン、プロパン、窒素及び二酸化炭素の
如きエアロゾル噴射基剤である；固体の担体として、粉
砕した天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チ
ヨーク、石英、アタパルジヤイト、モントモリロナイ
ト、またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高
度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適してい
る；粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別し
た天然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白
雲石並びに無機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物
質の顆粒例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸
及びタバコ茎が適している；乳化剤及び／または発泡剤
として例えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポ
リオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキルアリールポ
リグリコールエーテル、アルキルスルホネート、アルキ
ルスルフエート、アリールスルホネート並びにアルブミ
ン加水分解生成物が適している；分散剤として、例えば
リグニンスルフアイト廃液及びメチルセルロースが適し
ている。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質、例えばセフアリン及びレシ
チン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができ
る。他の添加物は鉱油及び植物油であることができる。
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質、例えばセフアリン及びレシ
チン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができ
る。他の添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染
料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、並びに微量
の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、
モリブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染
料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、並びに微量
の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、
モリブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量％間、好まし
くは0.5乃至90重量％間を含有する。
くは0.5乃至90重量％間を含有する。
本発明による活性化合物は他の公知の活性化合物、例え
ば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤、殺ダニ剤（acaricide）及
び除草剤との混合物として、並びに肥料及び生長調節剤
との混合物として調製物中に存在することができる。
ば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤、殺ダニ剤（acaricide）及
び除草剤との混合物として、並びに肥料及び生長調節剤
との混合物として調製物中に存在することができる。
本活性化合物はそのままで、その調製物の形態或いは該
調製物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製
済液剤、懸濁剤、水和剤、塗布剤、可溶性粉剤、粉剤及
び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは
普通の方法において、例えば液剤散布、スプレー、アト
マイジング、粒剤散布、粉剤散布、フオーミング（foam
ing）、はけ塗り等によつて施用される。更に、超低容
量法に従って活性化合物を施用するか、或いは活性化合
物の調製物または活性化合物自体を土壌中に注入するこ
とができる。また植物の種子を処理することもできる。
調製物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製
済液剤、懸濁剤、水和剤、塗布剤、可溶性粉剤、粉剤及
び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは
普通の方法において、例えば液剤散布、スプレー、アト
マイジング、粒剤散布、粉剤散布、フオーミング（foam
ing）、はけ塗り等によつて施用される。更に、超低容
量法に従って活性化合物を施用するか、或いは活性化合
物の調製物または活性化合物自体を土壌中に注入するこ
とができる。また植物の種子を処理することもできる。
植物の部分を処理する場合、施用形態における活性化合
物濃度は実質的な範囲内で変えることができる。一般に
濃度は１乃至0.0001重量％、好ましくは0.5乃至0.001重
量％間である。
物濃度は実質的な範囲内で変えることができる。一般に
濃度は１乃至0.0001重量％、好ましくは0.5乃至0.001重
量％間である。
種子を処理する際には、一般に種子1k当り0.001〜50g、
好ましくは0.01〜10gの活性化合物を必要とする。
好ましくは0.01〜10gの活性化合物を必要とする。
土壌を処理する際には、一般に作用場所に0.00001〜0.1
重量％、好ましくは0.001〜0.02重量％の活性化合物濃
度を必要とする。
重量％、好ましくは0.001〜0.02重量％の活性化合物濃
度を必要とする。
製造実施例 実施例１ テトラヒドロフラン／ジメチルスルホキシド（5:1）か
らなる混合物20ml中の３−（２−フルオロ−３−クロロ
フェニル）−アクリロニトリル6.0g（0.0331モル）及び
ｐ−トルエンスルホニルメチルイソシアナイド7.8g（0.
0431モル）の溶液を滴下し、そして攪拌しながら−10〜
−20℃の温度及びアルゴン保護ガス雰囲気下にてテトラ
ヒドロフラン17.5ml中の水素化ナトリウム（鉱油中80
％）1.4g（0.0464モル）に加えた。添加が完了した場
合、反応混合物を室温に加熱し、水を加え、混合物を酢
酸エチルで数回抽出し、一緒にした酢酸エチル相を水で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃
縮した。残渣をシリカゲル上でのクロマトグラフィー
（移動相：シクロヘキサン／酢酸エチル5:1）により精
製した。
らなる混合物20ml中の３−（２−フルオロ−３−クロロ
フェニル）−アクリロニトリル6.0g（0.0331モル）及び
ｐ−トルエンスルホニルメチルイソシアナイド7.8g（0.
0431モル）の溶液を滴下し、そして攪拌しながら−10〜
−20℃の温度及びアルゴン保護ガス雰囲気下にてテトラ
ヒドロフラン17.5ml中の水素化ナトリウム（鉱油中80
％）1.4g（0.0464モル）に加えた。添加が完了した場
合、反応混合物を室温に加熱し、水を加え、混合物を酢
酸エチルで数回抽出し、一緒にした酢酸エチル相を水で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃
縮した。残渣をシリカゲル上でのクロマトグラフィー
（移動相：シクロヘキサン／酢酸エチル5:1）により精
製した。
融点180〜181℃の３−シアノ−４−（２−フルオロ−３
−クロロフェニル）−ピロール3.3g（理論値の45％）が
得られた。
−クロロフェニル）−ピロール3.3g（理論値の45％）が
得られた。
対応する方法及び製造に対する一般的な指示に従って、
次の一般式（Ｉ）の３−シアノ−４−フェニル−ピロー
ルが得られた： 同様にして、次の一般式（Ｉ）の３−シアノ−４−フエ
ニル−ピロールが得られた： 出発化合物の製造 実施例II−Ｉ ピペリジン2.5ml及びシアノ酢酸22.9g（0.27モル）をピ
リジン170ml中の２−フルオロ−３−クロロベンズアル
デヒド40.1g（0.25モル）の溶液に加え、そして混合物
を還流下で14時間加熱した。処理のために、混合物を真
空中で濃縮し、残渣を酢酸エチル中に取り入れ、続いて
1N塩酸、亜硫酸水素ナトリウム水溶液並びに水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮し
た。残った油はシリカゲル上でのクロマトグラフィー
（移動相：シクロヘキサン／酢酸エチル5:1）により精
製できた。
次の一般式（Ｉ）の３−シアノ−４−フェニル−ピロー
ルが得られた： 同様にして、次の一般式（Ｉ）の３−シアノ−４−フエ
ニル−ピロールが得られた： 出発化合物の製造 実施例II−Ｉ ピペリジン2.5ml及びシアノ酢酸22.9g（0.27モル）をピ
リジン170ml中の２−フルオロ−３−クロロベンズアル
デヒド40.1g（0.25モル）の溶液に加え、そして混合物
を還流下で14時間加熱した。処理のために、混合物を真
空中で濃縮し、残渣を酢酸エチル中に取り入れ、続いて
1N塩酸、亜硫酸水素ナトリウム水溶液並びに水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮し
た。残った油はシリカゲル上でのクロマトグラフィー
（移動相：シクロヘキサン／酢酸エチル5:1）により精
製できた。
融点90〜92℃の３−（２−フルオロ−３−クロロフェニ
ル）−アクリロニトリル16.9g（理論値の37％）が得ら
れた。
ル）−アクリロニトリル16.9g（理論値の37％）が得ら
れた。
実施例II−２ テトラヒドロフラン150ml中のジアザビシクロウンデセ
ン18.2g（0.12モル）を滴下し、室温で攪拌しながらテ
トラヒドロフラン100ml中の２−クロロ−３−（４−フ
ルオロ−２−メチルフェニル）−プロピオニトリル21.7
g（0.11モル）に加え、添加が完了した場合に混合物を
室温で15時間攪拌し、過し、液を真空中で蒸発さ
せ、残渣を酢酸エチル中に取り入れ、続いて1N塩酸及び
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を
真空中で除去した。
ン18.2g（0.12モル）を滴下し、室温で攪拌しながらテ
トラヒドロフラン100ml中の２−クロロ−３−（４−フ
ルオロ−２−メチルフェニル）−プロピオニトリル21.7
g（0.11モル）に加え、添加が完了した場合に混合物を
室温で15時間攪拌し、過し、液を真空中で蒸発さ
せ、残渣を酢酸エチル中に取り入れ、続いて1N塩酸及び
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を
真空中で除去した。
融点86〜87℃の３−（４−フルオロ−２−メチルフェニ
ル）−アクリロニトリル34.6g（理論値の96％）が得ら
れた。
ル）−アクリロニトリル34.6g（理論値の96％）が得ら
れた。
対応する方法及び製造に対する一般的な指示に従って、
次の一般式（II）のフルオロシンナモニトリルが得られ
た： 実施例IV−１ フッ化カリウム20gをテトメチレンスルホン100ml中に懸
濁させ、そして溶媒約20mlを15ミリバールで留去した。
次に３−トリフルオロメチルメルカプト−４−クロロ−
ニトロベンゼン30gを加え、そして混合物を湿気を除去
して190℃で６時間攪拌した。混合物が25℃に冷却した
場合、このものを水300ml中に注ぎ、そしてトルエンで
数回抽出した。トルエン相を水で２回洗浄し、次に乾燥
し、そして蒸留した。18ミリバールで115〜120℃の沸点
で、２−フルオロ−５−ニトロ−トリフルオロメチルチ
オベンゼン20gが留去した。
次の一般式（II）のフルオロシンナモニトリルが得られ
た： 実施例IV−１ フッ化カリウム20gをテトメチレンスルホン100ml中に懸
濁させ、そして溶媒約20mlを15ミリバールで留去した。
次に３−トリフルオロメチルメルカプト−４−クロロ−
ニトロベンゼン30gを加え、そして混合物を湿気を除去
して190℃で６時間攪拌した。混合物が25℃に冷却した
場合、このものを水300ml中に注ぎ、そしてトルエンで
数回抽出した。トルエン相を水で２回洗浄し、次に乾燥
し、そして蒸留した。18ミリバールで115〜120℃の沸点
で、２−フルオロ−５−ニトロ−トリフルオロメチルチ
オベンゼン20gが留去した。
ａ）で製造したニトロ化合物20gをジオキサン10ml、水1
50ml、鉄粉末17g及び塩化アンモニウム2gと一緒に攪拌
装置中に導入し、次に混合物を５時間還流した。溶液を
冷却し、過し、そして過残渣をジクロロメタンで数
回洗浄した。生成物をジクロロメタンを用いて水相から
抽出し、一緒にした有機相を乾燥し、そして溶媒を除去
した。生成物の精密蒸留16ミリバールで融点112〜114℃
の２−フルオロ−５−アミノ−トリフルオロメチルチオ
−ベンゼン14gが生じた。
50ml、鉄粉末17g及び塩化アンモニウム2gと一緒に攪拌
装置中に導入し、次に混合物を５時間還流した。溶液を
冷却し、過し、そして過残渣をジクロロメタンで数
回洗浄した。生成物をジクロロメタンを用いて水相から
抽出し、一緒にした有機相を乾燥し、そして溶媒を除去
した。生成物の精密蒸留16ミリバールで融点112〜114℃
の２−フルオロ−５−アミノ−トリフルオロメチルチオ
−ベンゼン14gが生じた。
実施例IV−２ ２−フルオロ−４−ヒドロキシ−アニリン100g、無水フ
ッ化水素500ml及びテトラクロロメタン500mlをフッ素装
置中に導入し、そして窒素３バールを送入した。次に混
合物を400rpmで攪拌しながら120℃で７時間加熱し、そ
して生じた塩化水素を連続的に38バールで放出した。反
応が完了した場合、混合物を20℃に冷却し、圧力を放出
し、そして過剰のフッ化水素を四塩化炭素と一緒に80℃
までで留去した。冷却後、残渣を氷水500ml中に注ぎ、
そして冷却しながら水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性
にした。次に有機相をジクロロメタンで抽出し、乾燥
し、そして真空中で精密蒸留した。20ミリバールで68〜
69℃の沸点で３−フルオロ−４−アミノートリフルオロ
メトキシ−ベンゼン53gが留出した。
ッ化水素500ml及びテトラクロロメタン500mlをフッ素装
置中に導入し、そして窒素３バールを送入した。次に混
合物を400rpmで攪拌しながら120℃で７時間加熱し、そ
して生じた塩化水素を連続的に38バールで放出した。反
応が完了した場合、混合物を20℃に冷却し、圧力を放出
し、そして過剰のフッ化水素を四塩化炭素と一緒に80℃
までで留去した。冷却後、残渣を氷水500ml中に注ぎ、
そして冷却しながら水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性
にした。次に有機相をジクロロメタンで抽出し、乾燥
し、そして真空中で精密蒸留した。20ミリバールで68〜
69℃の沸点で３−フルオロ−４−アミノートリフルオロ
メトキシ−ベンゼン53gが留出した。
実施例IV−３ ４−トリフルオロメトキシ−フルオロベンゼン90gを攪
拌装置中に導入し、そして混合した酸（硝酸33重量％、
硫酸67重量％）105gを10〜15℃で滴下しながら加えた。
混合物を20℃で更に２時間攪拌し、次に氷上に注いだ。
有機相をジクロロメタンを用いて分別し、溶液を乾燥
し、そして蒸留した。３−ニトロ−４−フルオロ−トリ
フルオロメトキシ−ベンゼン43重量％及び２−ニトロ−
４−フルオロ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン54重量
％からなる112gの量の混合物を15ミリバールで90〜94℃
の沸点範囲で留出した。
拌装置中に導入し、そして混合した酸（硝酸33重量％、
硫酸67重量％）105gを10〜15℃で滴下しながら加えた。
混合物を20℃で更に２時間攪拌し、次に氷上に注いだ。
有機相をジクロロメタンを用いて分別し、溶液を乾燥
し、そして蒸留した。３−ニトロ−４−フルオロ−トリ
フルオロメトキシ−ベンゼン43重量％及び２−ニトロ−
４−フルオロ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン54重量
％からなる112gの量の混合物を15ミリバールで90〜94℃
の沸点範囲で留出した。
メタノール450ml中のａ）で得られたニトロ化合物112g
をラネー・ニッケル12gと一緒に水素化装置中に導入
し、そして水素化を30バールの水素を用いて25〜45℃で
行った。冷却し、そして圧力を放出した後、混合物を
過し、次に液を精密蒸留した。14ミリバールで58〜60
℃の沸点範囲で２−アミノ−４−フルオロ−トリフルオ
ロメトキシ−ベンゼンが留去し、そして64〜65℃及び15
ミリバールで中間カットした後に３−アミノ−４−フル
オロ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン28gが留出し
た。
をラネー・ニッケル12gと一緒に水素化装置中に導入
し、そして水素化を30バールの水素を用いて25〜45℃で
行った。冷却し、そして圧力を放出した後、混合物を
過し、次に液を精密蒸留した。14ミリバールで58〜60
℃の沸点範囲で２−アミノ−４−フルオロ−トリフルオ
ロメトキシ−ベンゼンが留去し、そして64〜65℃及び15
ミリバールで中間カットした後に３−アミノ−４−フル
オロ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン28gが留出し
た。
実施例IV−４ ３−トリフルオロメトキシ−フルオロベンゼン83gを実
施例IV−３と同時にニトロ化酸100gを用いて15℃でニト
ロ化した。反応混合物は同様に処理し、そして３−フル
オロ−４−アミノ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン78
重量％及び３−フルオロ−６−ニトロ−トリフルオロメ
トキシ−ベンゼン20重量％からなっていた。全収量は99
gであった。
施例IV−３と同時にニトロ化酸100gを用いて15℃でニト
ロ化した。反応混合物は同様に処理し、そして３−フル
オロ−４−アミノ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン78
重量％及び３−フルオロ−６−ニトロ−トリフルオロメ
トキシ−ベンゼン20重量％からなっていた。全収量は99
gであった。
メタノール350ml中で、ａ）で製造したニトロ化合物99g
を水素化装置中で、そしてラネー・ニッケル10gの存在
下で25〜45℃及び30〜50バールの水素を用いて水素化し
た。水素の取込みが完了した場合、混合物を冷却し、圧
力を放出し、反応混合物の固体成分を別し、次に溶媒
を蒸留により除去した。10ミリバールで53〜54℃の沸点
範囲において、残渣の精密蒸留により３−フルオロ−６
−アミノ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン5gが生じ、
そして10ミリバールで56〜57℃の沸点範囲において、及
び中間カット後に３−フルオロ−４−アミノ−トリフル
オロメトキシ−ベンゼン38gが生じた。
を水素化装置中で、そしてラネー・ニッケル10gの存在
下で25〜45℃及び30〜50バールの水素を用いて水素化し
た。水素の取込みが完了した場合、混合物を冷却し、圧
力を放出し、反応混合物の固体成分を別し、次に溶媒
を蒸留により除去した。10ミリバールで53〜54℃の沸点
範囲において、残渣の精密蒸留により３−フルオロ−６
−アミノ−トリフルオロメトキシ−ベンゼン5gが生じ、
そして10ミリバールで56〜57℃の沸点範囲において、及
び中間カット後に３−フルオロ−４−アミノ−トリフル
オロメトキシ−ベンゼン38gが生じた。
実施例IV−５ テトラヒドロフラン300ml中の2,6−ジフルオロベンゾト
リフルオライド100gをステンレス・スチール製オートク
レーブ中に導入し、そして液体アンモニア30mlを送入し
た。混合物を段階的に125℃に加熱し、そしてこの温度
で更に５時間攪拌した。混合物を20℃に冷却し、圧力を
放出し、そして溶液を減圧下で蒸留した。８ミリバール
で49〜50℃の沸点で２−アミノ−６−フルオロ−ベンゾ
トリフルオライド46gが留出した。
リフルオライド100gをステンレス・スチール製オートク
レーブ中に導入し、そして液体アンモニア30mlを送入し
た。混合物を段階的に125℃に加熱し、そしてこの温度
で更に５時間攪拌した。混合物を20℃に冷却し、圧力を
放出し、そして溶液を減圧下で蒸留した。８ミリバール
で49〜50℃の沸点で２−アミノ−６−フルオロ−ベンゾ
トリフルオライド46gが留出した。
実施例IV−６ ２−フルオロ−５−クロロ−ベンゾトリフルオライド10
0gを攪拌装置中に導入し、そしてニトロ化酸（硝酸33重
量％及び硫酸67重量％）120gを40℃で滴下しながら加え
た。混合物を40〜45℃で更に１時間攪拌し、次に冷却
し、そして氷上に注いだ。有機相をジクロロメタンで抽
出し、乾燥し、そして蒸留した。18ミリバールで92〜94
℃の沸点で、２−フルオロ−５−クロロ−３−ニトロ−
ベンゾトリフルオライド91.3重量％に含むニトロ化合物
112gが留出した。
0gを攪拌装置中に導入し、そしてニトロ化酸（硝酸33重
量％及び硫酸67重量％）120gを40℃で滴下しながら加え
た。混合物を40〜45℃で更に１時間攪拌し、次に冷却
し、そして氷上に注いだ。有機相をジクロロメタンで抽
出し、乾燥し、そして蒸留した。18ミリバールで92〜94
℃の沸点で、２−フルオロ−５−クロロ−３−ニトロ−
ベンゾトリフルオライド91.3重量％に含むニトロ化合物
112gが留出した。
ａ）で得られたニトロ化合物111gを水素化装置中のテト
ラヒドロフラン500ml中に導入し、そしてトリエチルア
ミン50g及びラネー・ニッケル15gを順次加えた。装置に
水素を吹き込み、そして反応混合物を30〜80バールの水
素圧力にて25〜120℃で水素化した。水素の取込みが完
了した場合、混合物を冷却し、そして圧力を放出した。
反応混合物を過し、過残渣をテトラヒドロフランで
洗浄し、液を一緒にし、そして殆んどのテトラヒドロ
フランを大気圧下にてカラム上で留去した。残渣を水20
0mlと共に攪拌し、次に有機相を分別し、乾燥し、そし
て減圧下で精密蒸留した。16ミリバールで70〜72℃の沸
点で２−フルオロ−３−アミノ−ベンゾトリフルオライ
ド52gが留出した。
ラヒドロフラン500ml中に導入し、そしてトリエチルア
ミン50g及びラネー・ニッケル15gを順次加えた。装置に
水素を吹き込み、そして反応混合物を30〜80バールの水
素圧力にて25〜120℃で水素化した。水素の取込みが完
了した場合、混合物を冷却し、そして圧力を放出した。
反応混合物を過し、過残渣をテトラヒドロフランで
洗浄し、液を一緒にし、そして殆んどのテトラヒドロ
フランを大気圧下にてカラム上で留去した。残渣を水20
0mlと共に攪拌し、次に有機相を分別し、乾燥し、そし
て減圧下で精密蒸留した。16ミリバールで70〜72℃の沸
点で２−フルオロ−３−アミノ−ベンゾトリフルオライ
ド52gが留出した。
実施例Ｖ−１ 25％塩酸40ml及びアクリロニトリル28.8ml（0.37モル）
をアセトン40ml中の４−フルオロ−２−メチルアニリン
15g（0.12モル）に加え、次に水17ml中の亜硝酸ナトリ
ウム8.7g（0.13モル）を滴下し、そして攪拌しながら０
〜10℃で１時間にわたって加え、混合物を０〜10℃で更
に１時間攪拌し、次にある部分の酸化銅（II）粉末を加
え、その際に窒素ガスが激しく発生した。ガスの発生が
完了した場合、混合物を室温で更に15分間攪拌し、次に
ジクロロメタンを加え、混合物を水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、真空中で濃縮し、そして油状残渣を
シリカゲル上でのクロマトグラフィー（移動相：シクロ
ヘキサン／酢酸エチル1:1）により精製した。
をアセトン40ml中の４−フルオロ−２−メチルアニリン
15g（0.12モル）に加え、次に水17ml中の亜硝酸ナトリ
ウム8.7g（0.13モル）を滴下し、そして攪拌しながら０
〜10℃で１時間にわたって加え、混合物を０〜10℃で更
に１時間攪拌し、次にある部分の酸化銅（II）粉末を加
え、その際に窒素ガスが激しく発生した。ガスの発生が
完了した場合、混合物を室温で更に15分間攪拌し、次に
ジクロロメタンを加え、混合物を水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、真空中で濃縮し、そして油状残渣を
シリカゲル上でのクロマトグラフィー（移動相：シクロ
ヘキサン／酢酸エチル1:1）により精製した。
２−クロロ−３−（４−フルオロ−２−メチルフェニ
ル）−プロピオニトリル44.2g（理論値の89.3％）が油
として得られた。1 H−NMR*（CDCl3/TMS）：δ＝3.3（2H）;6.9（2H）;4.5
（1H）;7.2（1H）;2.4（3H）ppm。
ル）−プロピオニトリル44.2g（理論値の89.3％）が油
として得られた。1 H−NMR*（CDCl3/TMS）：δ＝3.3（2H）;6.9（2H）;4.5
（1H）;7.2（1H）;2.4（3H）ppm。
対応する方法で、実施例Ｖ−２が得られた： 1H−NMR*（CDCl3/TMS）：δ＝2.3（3H）;3.35（2H）;4.
5（1H）;7.0（2H）;7.15（1H）ppm。
5（1H）;7.0（2H）;7.15（1H）ppm。
＊）1H−NMRスペクトルは内標準としてテトラメチルシ
ラン（TMS）を用いて重クロロホルム（CDCl3）中で記録
した。データは化学シフトをδ値としてppmで表わす。
ラン（TMS）を用いて重クロロホルム（CDCl3）中で記録
した。データは化学シフトをδ値としてppmで表わす。
使用例 実施例Ａ 灰色かび病試験（豆）／保護 溶媒：アセトン4.7重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル0.3
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、灰色かび病（Botrytis ciner
ea）でおおわれた寒天の２個の少片を各葉の上に置い
た。接種した植物を20℃で暗くした湿った室に置いた。
接種して３日後、葉の上の感染したスポットの大きさを
評価した。
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、灰色かび病（Botrytis ciner
ea）でおおわれた寒天の２個の少片を各葉の上に置い
た。接種した植物を20℃で暗くした湿った室に置いた。
接種して３日後、葉の上の感染したスポットの大きさを
評価した。
活性化合物、活性化合物濃度及び結果を次の表に示す。
実施例Ｂ レプトスフェリア・ノドルム 溶媒：ジメチルホルムアミド100重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル0.25
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、植物にレプトスフェリア・ノ
ドルム（Leptosphaeria nodorum）の胞子懸濁液を噴霧
した。植物を20℃及び相対湿度100℃で培養室に48時間
保持した。
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、植物にレプトスフェリア・ノ
ドルム（Leptosphaeria nodorum）の胞子懸濁液を噴霧
した。植物を20℃及び相対湿度100℃で培養室に48時間
保持した。
植物を温度約15℃及び相対湿度約80％の温床に置いた。
評価を接種して10日後に行った。
活性化合物、活性化合物濃度及び結果を次の表に示す。
実施例Ｃ 紅色雪腐病（Fusarium nivale）試験（ライ麦）／種子
処理 活性化合物を乾式塗沫として用いた。このものは特定の
活性化合物を粉砕した鉱物で伸展し、種子の表面に均一
な散布を確実にする細かく粉砕された混合物にした。
処理 活性化合物を乾式塗沫として用いた。このものは特定の
活性化合物を粉砕した鉱物で伸展し、種子の表面に均一
な散布を確実にする細かく粉砕された混合物にした。
塗沫を施用するために、感染した種子を塗沫剤と共に封
じたガラス容器中で３分間振盪した。
じたガラス容器中で３分間振盪した。
ライ麦100粒づつの２バッチを標準土壌中に1cmの深さに
まき、１日当り15時間光線にさらされた種子箱中で、約
10℃及び相対湿度95％の温床中にて栽培した。
まき、１日当り15時間光線にさらされた種子箱中で、約
10℃及び相対湿度95％の温床中にて栽培した。
種をまいて約３週間後、植物を紅色雪腐病の徴候に対し
て評価した。
て評価した。
活性化合物、活性化合物の濃度及び結果を次の表に示
す。
す。
実施例Ｄ プラズモパラ（Plasmopara）試験（ぶどう）／保護 溶媒：アセトン4.7重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル0.3
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、べと病（Plasmopara viticol
a）の水性胞子懸濁液を植物に接種し、次いで温度20〜2
2℃、相対温度100％の湿つた室中に１日間保持した。次
いで植物を温度22℃、湿度約80％の温床中に５日間置い
た。次いで植物を湿らせ湿つた室中に１日間置いた。評
価を接種して７日後に行なつた。
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、べと病（Plasmopara viticol
a）の水性胞子懸濁液を植物に接種し、次いで温度20〜2
2℃、相対温度100％の湿つた室中に１日間保持した。次
いで植物を温度22℃、湿度約80％の温床中に５日間置い
た。次いで植物を湿らせ湿つた室中に１日間置いた。評
価を接種して７日後に行なつた。
活性化合物、活性化合物濃度及び結果を次の表に示す。
実施例Ｅ 黒星病（Venturia）試験（りんご）／保護 溶媒：アセトン4.7重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル0.3
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、植物にりんご黒星病原因組織
（Venturia inaequalis）の水性胞子懸濁液を接種し、
次いで温度20、相対湿度100％の培養キヤビネツト中に
１日間保持した。
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、植物にりんご黒星病原因組織
（Venturia inaequalis）の水性胞子懸濁液を接種し、
次いで温度20、相対湿度100％の培養キヤビネツト中に
１日間保持した。
次いで植物を温度20℃、相対湿度約70％の温床中に置い
た。接種から12日後に評価を行なつた。
た。接種から12日後に評価を行なつた。
活性化合物、活性化合物濃度及び結果を次の表に示す。
実施例Ｆ うどんこ病（Erysiphe）試験（小麦）／保護 溶媒：ジメチルホルムアミド100重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル0.25
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この濃
厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
保護活性を試験するために、若い植物に活性化合物の調
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、植物にうどんこ病（Erysiphe
graminis f.sp.tritici）の胞子をふりかけた。
製物をしたたり落る程度にぬれるまで噴霧した。噴霧コ
ーテイングが乾燥した後、植物にうどんこ病（Erysiphe
graminis f.sp.tritici）の胞子をふりかけた。
植物を温度約20℃、相対湿度約80％の温床中に置いて、
粉末状のうどんこ病濃疱の成長を促進した。
粉末状のうどんこ病濃疱の成長を促進した。
接種から７日後に評価を行なつた。
活性化合物、活性化合物濃度及び結果を次の表に示す。
本発明による主なる特徴及び態様は以下のとおりであ
る。
る。
1.一般式（Ｉ） 式中、Ｒはハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の３−シアノ−４−フェニル−ピロール。
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の３−シアノ−４−フェニル−ピロール。
2.式（Ｉ）において、Ｒがフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素、各々の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状の各々炭素原
子１〜４個を有する、アルキル、アルコキシまたはアル
キルチオ、或いは各々の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状
の各々炭素原子１〜４個及び同一もしくは相異なるハロ
ゲン原子１〜９個を有するハロゲノアルキル、ハロゲノ
アルコキシまたはハロゲノアルキルチオを表わす、上記
１に記載の３−シアノ−４−フェニル−ピロール。
素、各々の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状の各々炭素原
子１〜４個を有する、アルキル、アルコキシまたはアル
キルチオ、或いは各々の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状
の各々炭素原子１〜４個及び同一もしくは相異なるハロ
ゲン原子１〜９個を有するハロゲノアルキル、ハロゲノ
アルコキシまたはハロゲノアルキルチオを表わす、上記
１に記載の３−シアノ−４−フェニル−ピロール。
3.式（Ｉ）において、Ｒがフッ素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシまたはトリフルオ
ロメチルチオを表わす、上記１に記載の３−シアノ−４
−フエニル−ピロール。
ル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシまたはトリフルオ
ロメチルチオを表わす、上記１に記載の３−シアノ−４
−フエニル−ピロール。
4.式（Ｉ）において、Ｒがフッ素、塩素、メチル、トリ
フルオロメチルまたはトリフルオロメトキシを表す、上
記１に記載の３−シアノ−４−フェニル−ピロール。
フルオロメチルまたはトリフルオロメトキシを表す、上
記１に記載の３−シアノ−４−フェニル−ピロール。
5.一般式（Ｉ） 式中、Ｒはハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを製造する際
に、式（II） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを塩基の存在下
及び適当ならば希釈剤の存在下で式（III） R1−SO2−CH2−NC （III） 式中、R1はアルキルまたは随時置換されていてもよいア
リールを表わす、 のスルホニルメチルイソアナイドと反応させることを特
徴とする、式（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピロ
ールの製造方法。
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを製造する際
に、式（II） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを塩基の存在下
及び適当ならば希釈剤の存在下で式（III） R1−SO2−CH2−NC （III） 式中、R1はアルキルまたは随時置換されていてもよいア
リールを表わす、 のスルホニルメチルイソアナイドと反応させることを特
徴とする、式（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピロ
ールの製造方法。
6.少なくとも１つの上記１及び５に記載の式（Ｉ）の３
−シアノ−４−フエニル−ピロールを含有することを特
徴とする、有害生物防除剤。
−シアノ−４−フエニル−ピロールを含有することを特
徴とする、有害生物防除剤。
7.有害生物を防除する際の、上記１及び５に記載の式
（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピロールの使用。
（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピロールの使用。
8.上記１及び５に記載の式（Ｉ）の３−シアノ−４−フ
エニル−ピロールを有害生物及び／またはその環境上に
作用させることを特徴とする、有害生物の防除方法。
エニル−ピロールを有害生物及び／またはその環境上に
作用させることを特徴とする、有害生物の防除方法。
9.上記１及び５に記載の式（Ｉ）の３−シアノ−４−フ
エニル−ピロールを増量剤及び／または表面活性剤と混
合することを特徴とする、有害生物防除剤の製造方法。
エニル−ピロールを増量剤及び／または表面活性剤と混
合することを特徴とする、有害生物防除剤の製造方法。
10.一般式（II） 式中、Ｒはハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリル。
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリル。
11.一般式（II） 式中、Ｒはハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを製造する際
に、 ａ）式（IV） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロアニリンを最初に第一工程でジアゾ化に通常
の条件下で、そして適当な金属塩触媒の存在下及び適当
ならば適当な希釈剤の存在下にて−20乃至50℃間の温度
でアクリロニトリルと反応させ、次に第二工程でかくて
得られる式（Ｖ） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたα−クロロ−β−フェニル−プロピオニト
リルを適当ならば希釈剤の存在下にて０乃至50℃間の温
度で塩基を用いて脱水ハロゲン化するか、または ｂ）式（VI） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロベンズアルデヒド及び式（VII） NC−CH2−COOH （VII） のシアノ酢酸を50乃至120℃間の温度で塩基の存在下及
び適当ならば適当な希釈剤の存在下にて同時に脱カルボ
キシル化しながら縮合反応させることを特徴とする、一
般式（II）のフルオロシンナモニトリルの製造方法。
チオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシまたはハ
ロゲノアルキルチオを表わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを製造する際
に、 ａ）式（IV） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロアニリンを最初に第一工程でジアゾ化に通常
の条件下で、そして適当な金属塩触媒の存在下及び適当
ならば適当な希釈剤の存在下にて−20乃至50℃間の温度
でアクリロニトリルと反応させ、次に第二工程でかくて
得られる式（Ｖ） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたα−クロロ−β−フェニル−プロピオニト
リルを適当ならば希釈剤の存在下にて０乃至50℃間の温
度で塩基を用いて脱水ハロゲン化するか、または ｂ）式（VI） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロベンズアルデヒド及び式（VII） NC−CH2−COOH （VII） のシアノ酢酸を50乃至120℃間の温度で塩基の存在下及
び適当ならば適当な希釈剤の存在下にて同時に脱カルボ
キシル化しながら縮合反応させることを特徴とする、一
般式（II）のフルオロシンナモニトリルの製造方法。
Claims (7)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の３−シアノ−４−フエニル−ピロール。 - 【請求項２】一般式（Ｉ） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを製造する際
に、式（II） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを塩基の存在下
及び適当ならば希釈剤の存在下で式（III） R1−SO2−CH2−NC （III） 式中、R1はアルキルまたは随時置換されていてもよいア
リールを表わす、 のスルホニルメチルイソシアナイドと反応させることを
特徴とする、式（Ｉ）の３−シアノ−４−フエニル−ピ
ロールの製造方法。 - 【請求項３】少なくとも１つの一般式（Ｉ） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを含有すること
を特徴とする、有害生物防除剤。 - 【請求項４】一般式（Ｉ） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の３−シアノ−４−フエニル−ピロールを有害生物及び
／またはその環境上に作用させることを特徴とする、有
害生物の防除方法。 - 【請求項５】一般式（II） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリル。 - 【請求項６】一般式（II） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを製造する際
に、 式（IV） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロアニリンを最初に第一工程でジアゾ化に通常
の条件下で、そして適当な金属塩触媒の存在下及び適当
ならば適当な希釈剤の存在下にて−20乃至50℃間の温度
でアクリロニトリルと反応させ、次に第二工程でかくて
得られる式（Ｖ） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の置換されたα−クロロ−β−フエニル−プロピオニト
リルを適当ならば希釈剤の存在下にて０乃至50℃間の温
度で塩基を用いて脱水ハロゲン化することを特徴とす
る、一般式（II）のフルオロシンナモニトリルの製造方
法。 - 【請求項７】一般式（II） 式中、Ｒはフツ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メト
キシ、エトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルチオを表
わす、 の置換されたフルオロシンナモニトリルを製造する際
に、 式（VI） 式中、Ｒは上記の意味を有する、 のフルオロベンズアルデヒド及び式（VII） NC−CH2−COOH （VII） のシアノ酢酸を50乃至120℃間の温度で塩基の存在下及
び適当ならば適当な希釈剤の存在下にて同時に脱カルボ
キシル化しながら縮合反応させることを特徴とする、一
般式（II）のフルオロシンナモニトリルの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01157954A JPH01157954A (ja) | 1989-06-21 |
| JPH0725734B2 true JPH0725734B2 (ja) | 1995-03-22 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63277592A Expired - Fee Related JPH0725734B2 (ja) | 1987-11-09 | 1988-11-04 | ３―シアノ―４―フエニル―ピロール |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0318704B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0725734B2 (ja) |
| BR (1) | BR8805813A (ja) |
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| BR8906202A (pt) * | 1988-12-05 | 1990-09-25 | American Cyanamid Co | Processo e composicao para o controle de pragas de insetos,acaros e moluscos,composto para tal controle e processo para sua preparacao |
| US5166395A (en) * | 1989-04-13 | 1992-11-24 | Bayer Aktiengesellschaft | Fungicidal 3-cyano-4-phenyl-pyrroles |
| DE3912156A1 (de) * | 1989-04-13 | 1990-10-25 | Bayer Ag | 3-cyano-4-phenyl-pyrrol-derivate |
| DE3934714A1 (de) * | 1989-10-18 | 1991-04-25 | Bayer Ag | Fungizide wirkstoffkombinationen |
| DE4008867A1 (de) * | 1990-03-20 | 1991-09-26 | Bayer Ag | Fungizide wirkstoffkombinationen |
| DE4107398A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-11-05 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von in 3-stellung substituierten 4-cyano-pyrrolverbindungen |
| US6204397B1 (en) | 1991-03-08 | 2001-03-20 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the preparation of 3-substituted 4-cyano-pyrrole compounds |
| DE4444911A1 (de) * | 1994-12-16 | 1996-06-27 | Basf Ag | Fungizide Mischung |
| DE19824488A1 (de) | 1998-06-02 | 1999-12-09 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Perfluoralkyl-aryl-sulfiden und neue Perfluoralkyl-aryl-sulfide |
| JP6793218B2 (ja) | 2019-04-18 | 2020-12-02 | 株式会社リケン | 摺動部材 |
| CN111499554B (zh) * | 2020-04-24 | 2023-06-23 | 黑龙江大学 | 苯基吡咯类化合物及其杀菌活性的应用 |
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| CN114920655A (zh) * | 2022-07-07 | 2022-08-19 | 南京正荣医药化学有限公司 | 一种2-氟-3-三氟甲基苯胺的制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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