JPH07248412A - Color filter and its production - Google Patents
Color filter and its productionInfo
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- JPH07248412A JPH07248412A JP6040199A JP4019994A JPH07248412A JP H07248412 A JPH07248412 A JP H07248412A JP 6040199 A JP6040199 A JP 6040199A JP 4019994 A JP4019994 A JP 4019994A JP H07248412 A JPH07248412 A JP H07248412A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、透光性支持体の上に多
数の透光性着色樹脂パターンを形成したカラーフィルタ
とそのカラーフィルタの製造方法、特に透光性着色樹脂
パターンの間の遮光性パターン（ブラックマスクパター
ン）とその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter in which a large number of light-transmitting colored resin patterns are formed on a light-transmitting support and a method for producing the color filter, and more particularly, a color filter between the light-transmitting colored resin patterns The present invention relates to a light-shielding pattern (black mask pattern) and a method for manufacturing the same.
【０００２】近年、液晶表示パネルに使用されるカラー
フィルタは、表示装置の急速な進歩によって低コストと
共に、ＣＲＴに近い性能（コントラスト）が要求される
ようになった。In recent years, color filters used in liquid crystal display panels have been required to have a performance (contrast) close to that of a CRT with a low cost due to rapid progress of display devices.
【０００３】[0003]
【従来の技術】液晶表示パネル等に使用するカラーフィ
ルタにおいて、画素（着色樹脂パターン）間に形成され
た従来のブラックマスクパターンは、一般に、ガラス等
にてなる透光性支持体に金属クローム膜を成膜し、フォ
トリソグラフィ技術を用いてそのクローム膜をエッチン
グし形成されていた。2. Description of the Related Art In a color filter used for a liquid crystal display panel or the like, a conventional black mask pattern formed between pixels (coloring resin patterns) is generally a metal chrome film on a translucent support made of glass or the like. Was formed, and the chrome film was etched by using a photolithography technique.
【０００４】しかし、金属クロームにてなる従来の前記
ブラックマスクパターンは、支持体の裏面から入射した
光の吸収性に問題があり、表示画像のコントラストが損
なわれるという問題点があった。However, the conventional black mask pattern made of metal chrome has a problem in that it absorbs light incident from the back surface of the support, and the contrast of the displayed image is impaired.
【０００５】そこで、前記ブラックマスクパターンの問
題点を解決する方法、即ち透光性のカラーフィルタを用
いた表示画像のコントラストを向上させる方法として、
近年、金属クロームより反射率の低い低反射金属膜（一
般にＣr2Ｏ3 膜) と遮光性金属膜 (一般にＣr 膜）の積
層膜を支持体の表面に被着し、その積層膜から一回のエ
ッチング処理でブラックマスクパターンを形成する方法
が用いられるようになった。Therefore, as a method of solving the problem of the black mask pattern, that is, a method of improving the contrast of a display image using a translucent color filter,
In recent years, a laminated film of a low-reflection metal film (generally a Cr 2 O 3 film) and a light-shielding metal film (generally a Cr film), which has a lower reflectance than that of metal chrome, has been applied to the surface of a support, and then once the laminated film The method of forming a black mask pattern by the etching process of 1 has come to be used.
【０００６】図３は積層金属膜からブラックマスクパタ
ーンを形成する従来技術の説明図である。図３(イ) にお
いて、一般に透明ガラスまたは透明フィルムが用いられ
るカラーフィルタ用支持体１の表面に、酸化クロム（Ｃ
r2Ｏ3)にてなる低反射膜２を成膜し、その上に金属クロ
ム（Ｃr)にてなる高遮光性膜３を成膜する。一般に、低
反射膜２に高遮光性膜３を積層した積層厚さは、１５０
０Å程度である。FIG. 3 is an explanatory view of a conventional technique for forming a black mask pattern from a laminated metal film. In FIG. 3 (a), chromium oxide (C
A low reflection film 2 made of r 2 O 3 ) is formed, and a high light-shielding film 3 made of metallic chromium (Cr) is formed thereon. Generally, the laminated thickness of the high light-shielding film 3 laminated on the low reflective film 2 is 150
It is about 0Å.
【０００７】次いで、図３(ロ) に示す如く高遮光性膜３
の上に、フォトレジストパターン４を形成したのち、図
３(ハ) に示す如く、レジストパターン４を用いて低反射
膜２と高遮光性膜３の不要部をウエットエッチングによ
り溶去する。Next, as shown in FIG. 3B, the high light-shielding film 3
After a photoresist pattern 4 is formed on the above, unnecessary portions of the low reflection film 2 and the high light-shielding film 3 are removed by wet etching using the resist pattern 4 as shown in FIG.
【０００８】しかるのち、レジストパターン４を除去す
ると図３(ニ) に示す如く、支持体１の表面にはブラック
マスクパターン５が形成され、ブラックマスクパターン
５の透孔部を埋めるように透光性の着色樹脂パターン、
例えば図５(ホ) に示す如く赤色樹脂パターンＲと緑色樹
脂パターンＧと青色樹脂パターンＢを所定配列に形成
し、カラーフィルタ６が完成する。After that, when the resist pattern 4 is removed, as shown in FIG. 3D, a black mask pattern 5 is formed on the surface of the support 1, and light is transmitted so as to fill the through holes of the black mask pattern 5. Colored resin pattern,
For example, as shown in FIG. 5E, the red resin pattern R, the green resin pattern G, and the blue resin pattern B are formed in a predetermined arrangement to complete the color filter 6.
【０００９】このようなカラーフィルタ６の製造に際
し、低反射膜２と高遮光性膜３とをエッチングしてなる
ブラックマスクパターン５、即ち低反射層２ａに高遮光
層３ａが重なるブラックマスクパターン５は、垂辺が支
持体１に対し垂直に形成され難い、例えば拡大して図３
(ヘ) に示す如く、厚さ方向の中央部が膨らんだ団子形状
の低反射層２ａと高遮光層３ａを積み重ねたようにな
る。In manufacturing such a color filter 6, a black mask pattern 5 formed by etching the low reflection film 2 and the high light shielding film 3, that is, a black mask pattern 5 in which the high light shielding layer 3a overlaps the low reflection layer 2a. Is difficult to form the hanging side perpendicular to the support 1, for example, in an enlarged manner in FIG.
As shown in (f), the low-reflecting layer 2a and the high light-shielding layer 3a, which have a bulge shape at the central portion in the thickness direction, are stacked.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
支持体１の上にブラックマスクパターン５を形成する従
来方法は、エッチング特性の異なる低反射膜２と高遮光
膜３を同一エッチング液でパターニングするため、断面
の垂辺が支持体１の表面に対し垂直に形成し難く、低反
射層２ａと高遮光層３ａおよび支持体１と低反射層２ａ
との被着面積が縮小し、密着力が低下する等によって信
頼性が良くないという問題点があった。As described above,
In the conventional method of forming the black mask pattern 5 on the support 1, since the low reflection film 2 and the high light-shielding film 3 having different etching characteristics are patterned by the same etching solution, the vertical side of the cross section is on the surface of the support 1. On the other hand, it is difficult to form vertically, and the low reflection layer 2a and the high light shielding layer 3a and the support 1 and the low reflection layer 2a are formed.
There is a problem that the reliability is not good due to a reduction in the adhered area and the adhesion.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】前記問題点の解決を目的
とした本発明の第１の基本構成は、透光性支持体の表面
にブラックマスクパターンと透光性着色樹脂パターンを
形成したカラーフィルタにおいて、該ブラックマスクパ
ターンの構成を、光吸収性を有するフォトレジスト層の
上に遮光性金属層が積層するものにしたことである。The first basic constitution of the present invention for solving the above-mentioned problems is a color in which a black mask pattern and a light-transmitting colored resin pattern are formed on the surface of a light-transmitting support. In the filter, the structure of the black mask pattern is such that a light-shielding metal layer is laminated on a photoresist layer having a light absorbing property.
【００１２】本発明の第２の基本構成は、光吸収性レジ
スト膜を透光性支持体の表面に成膜する第１の成膜工程
と、該レジスト膜を選択的に露光させる露光工程と、該
レジスト膜の上に遮光性金属の薄膜を成膜する第２の成
膜工程と、該レジスト膜の露光部または非露光部を除去
すると共にその除去部に被着した該金属薄膜をリフトオ
フさせる現像工程と、該現像処理により形成された該レ
ジスト膜の除去部を埋めるように透光性着色樹脂パター
ンを形成する工程とを含むこと、を特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法である。A second basic structure of the present invention comprises a first film-forming step of forming a light-absorbing resist film on the surface of a light-transmitting support, and an exposing step of selectively exposing the resist film. A second film forming step of forming a thin film of a light-shielding metal on the resist film, and removing the exposed or unexposed part of the resist film and lifting off the metal thin film deposited on the removed part And a step of forming a translucent colored resin pattern so as to fill the removed portion of the resist film formed by the developing treatment, the manufacturing method of the color filter.
【００１３】本発明の第３の基本構成は、形成使用とす
る透光性着色樹脂パターンに対応するフォトレジストパ
ターンを透光性支持体の表面に形成する工程と、該レジ
ストパターンが形成された該支持体の表面に遮光性金属
の薄膜を成膜する成膜工程と、該レジストパターンを溶
去すると共に該レジストパターンに被着した該金属薄膜
をリフトオフせしめ該支持体の表面に被着した該金属薄
膜にてなるブラックマスクパターンを形成する工程と、
該レジストパターンの溶去あとに透光性着色樹脂パター
ンを形成する工程とを含むこと、を特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法である。A third basic structure of the present invention is a step of forming a photoresist pattern corresponding to a light-transmitting colored resin pattern to be formed and used on the surface of a light-transmitting support, and the resist pattern is formed. A film forming step of forming a thin film of a light-shielding metal on the surface of the support, and the resist thin film was evaporated and the metal thin film adhered to the resist pattern was lifted off and applied to the surface of the support. A step of forming a black mask pattern made of the metal thin film,
And a step of forming a translucent colored resin pattern after the resist pattern is removed by evaporation.
【００１４】[0014]
【作用】前記本発明の第１の基本構成において、光吸収
性フォトレジスト層に遮光性金属層が積層されたブラッ
クマスクパターンは、フォトレジスト膜の現像処理によ
って形成可能となり、ブラックマスクパターンの遮光性
金属層の断面は、従来技術によりエッチング処理で形成
したとき生じるテーパが解消する。In the first basic structure of the present invention, the black mask pattern in which the light-shielding metal layer is laminated on the light-absorbing photoresist layer can be formed by developing the photoresist film. The cross-section of the conductive metal layer eliminates the taper that occurs when it is formed by etching according to the conventional technique.
【００１５】従って、本発明の第１の基本構成になるカ
ラーフィルタを表示装置に使用したときの表示画像は、
ブラックマスクパターンをエッチング処理で形成した従
来技術のカラーフィルタを使用した表示画像より、コン
トラストが良くなると共にフォトレジスト層と金属層の
被着面積が増し被着力が強くなる。Therefore, when the color filter having the first basic structure of the present invention is used in the display device, the display image is
Compared with a display image using a color filter of the prior art in which a black mask pattern is formed by etching, the contrast is improved and the deposition area of the photoresist layer and the metal layer is increased to increase the deposition force.
【００１６】前記本発明の第２の基本構成は、本発明の
第１の基本構成になるカラーフィルタの製造方法に関す
るもの、即ち、フォトレジスト層に遮光性金属層が積層
されたブラックマスクパターンをフォトレジスト膜の現
像処理によって形成する新規方法を提供したものであ
る。The second basic structure of the present invention relates to a method of manufacturing a color filter having the first basic structure of the present invention, that is, a black mask pattern in which a light shielding metal layer is laminated on a photoresist layer. The present invention provides a novel method of forming a photoresist film by developing treatment.
【００１７】従って、本発明の第２の基本構成により製
造したカラーフィルタを表示装置に使用したとき、その
表示画像は、前記本発明の第１の基本構成になるカラー
フィルタを表示装置に使用したときと同じく、ブラック
マスクパターンをエッチング処理で形成した従来技術の
カラーフィルタを使用した表示画像より、コントラスト
が良くなると共にフォトレジスト層と金属層の被着面積
が増し被着力が強くなる。Therefore, when the color filter manufactured according to the second basic constitution of the present invention is used for the display device, the display image is the color filter having the first basic constitution of the present invention for the display device. Similarly to the case, the contrast is better and the deposition area of the photoresist layer and the metal layer is increased and the deposition force is stronger than the display image using the conventional color filter in which the black mask pattern is formed by etching.
【００１８】前記本発明の第３の基本構成は、図３の従
来のカラーフィルタと同様に、支持体の表面に金属薄膜
より形成したブラックマスクパターンを有するカラーフ
ィルタの新規製造方法を提供したものであり、そのブラ
ックマスクパターンは、前記本発明の第２の基本構成に
おけるブラックマスクパターンと同様に、エッチング処
理によることなく形成する。The third basic constitution of the present invention provides a new manufacturing method of a color filter having a black mask pattern formed of a metal thin film on the surface of a support, like the conventional color filter of FIG. The black mask pattern is formed without etching as in the black mask pattern in the second basic configuration of the present invention.
【００１９】従って、本発明の第３の基本構成により製
造したカラーフィルタを表示装置に使用したとき、その
表示画像は、前記本発明の第１の基本構成になるカラー
フィルタを表示装置に使用したときと同じく、ブラック
マスクパターンをエッチング処理で形成した従来技術の
カラーフィルタを使用した表示画像より、コントラスト
が良くなると共にフォトレジスト層と金属層の被着面積
が増し被着力が強くなる。Therefore, when the color filter manufactured according to the third basic constitution of the present invention is used for the display device, the display image is the color filter having the first basic constitution of the present invention for the display device. Similarly to the case, the contrast is better and the deposition area of the photoresist layer and the metal layer is increased and the deposition force is stronger than the display image using the conventional color filter in which the black mask pattern is formed by etching.
【００２０】[0020]
【実施例】図１は本発明の第１の実施例によるカラーフ
ィルタとその製造方法の説明図である。FIG. 1 is an explanatory view of a color filter and a method of manufacturing the same according to a first embodiment of the present invention.
【００２１】図１(イ) において、支持体１に厚さが1.1m
m のソーダライムガラス板を使用した本実施例におい
て、支持体１の表面には、露光・現像処理によってパタ
ーン形成される光吸収性レジスト膜12を成膜（第１の成
膜工程）する。In FIG. 1 (a), the support 1 has a thickness of 1.1 m.
In this embodiment using a m 2 soda lime glass plate, a light-absorptive resist film 12 which is patterned by exposure and development is formed on the surface of the support 1 (first film forming step).
【００２２】支持体１の裏面からの入射光を吸収または
散乱させるレジスト膜12は、カーボンブラックまたは有
機顔料を分散させた感光性樹脂を使用し、好ましい実施
例においてレジスト膜12の厚さは１μm 程度であり、ス
ピンコート法または印刷法によって均一厚さに成膜させ
る。The resist film 12 that absorbs or scatters the incident light from the back surface of the support 1 is made of a photosensitive resin in which carbon black or an organic pigment is dispersed. In the preferred embodiment, the resist film 12 has a thickness of 1 μm. The film is formed to a uniform thickness by spin coating or printing.
【００２３】次いで、レジスト膜12のプレベーキング処
理、例えばレジスト膜12を90℃で10分程度加熱したの
ち、図１(ロ) の露光工程では、所定の透光部を有するマ
スク13をレジスト膜12に重ね、マスク13の上方から光14
を照射しレジスト膜12の露光処理を行う。レジスト膜12
がポジ型のとき、マスク13の透光部はレジスト膜12の溶
去領域に対応し、レジスト膜12がネガ型のとき、マスク
13の透光部はレジスト膜12の取り残し領域に対応する。Next, after prebaking the resist film 12, for example, heating the resist film 12 at 90 ° C. for about 10 minutes, in the exposure step of FIG. 1B, the mask 13 having a predetermined light transmitting portion is formed on the resist film 12. Light on the mask 12 from above the mask 13
And the resist film 12 is exposed. Resist film 12
Is a positive type, the light-transmitting part of the mask 13 corresponds to the ablated region of the resist film 12, and when the resist film 12 is a negative type,
The light transmitting portion 13 corresponds to the remaining region of the resist film 12.
【００２４】次いで、図１(ハ) に示す如く露光処理した
レジスト膜12の上に、レジスト膜12の現像処理によって
リフトオフされる遮光性の金属薄膜14、例えば金属クロ
ム (またはチタン) の反応性スパッタリング膜14を厚さ
1000〜1500Å程度に成膜（第２の成膜工程）したのち、
樹脂膜12の現像処理を行うと、ポジ型のレジスト膜12を
使用した本実施例では図１(ニ) に示す如く、レジスト膜
12の露光部分が溶去され支持体11の表面には、レジスト
層12a と金属薄膜層14a が積層したブラックマスクパタ
ーン15が形成される。Then, as shown in FIG. 1C, the light-shielding metal thin film 14 which is lifted off by the developing treatment of the resist film 12, for example, the reactivity of metal chromium (or titanium), is exposed on the exposed resist film 12. Sputtering film 14 thickness
After film formation (second film formation step) to about 1000-1500Å,
When the developing process of the resin film 12 is performed, in this embodiment using the positive type resist film 12, as shown in FIG.
The exposed portion of 12 is melted away, and a black mask pattern 15 in which a resist layer 12a and a metal thin film layer 14a are laminated is formed on the surface of the support 11.
【００２５】そこで、レジスト所要部12a のポストベー
キング処理、例えば 200℃で１時間程度加熱しレジスト
所要部12a を完全に硬化させるポストベーキング処理を
施したのち、レジスト膜12の不要部を溶去し形成された
ブラックマスクパターン15の透孔部に着色樹脂パター
ン、例えば赤色樹脂パターンＲと緑色樹脂パターンＧと
青色樹脂パターンＢを、フォトリソグラフィ技術を利用
する等の従来技術によって所定配列に形成し、カラーフ
ィルタ16が完成する。Therefore, after the resist required portion 12a is post-baked, for example, after the resist required portion 12a is completely cured by heating at 200 ° C. for about 1 hour, the unnecessary portion of the resist film 12 is removed. A colored resin pattern, for example, a red resin pattern R, a green resin pattern G, and a blue resin pattern B, is formed in a predetermined array in a through hole portion of the formed black mask pattern 15 by a conventional technique such as using a photolithography technique, The color filter 16 is completed.
【００２６】このようなカラーフィルタ16とその製造方
法、即ち光吸収性を有するレジスト層12a に遮光性金属
層14a を積層したブラックマスクパターン15を具えたカ
ラーフィルタ16は、レジスト膜12の現像処理によってブ
ラックマスクパターン15が形成可能となり、レジスト膜
12の現像処理によって形成されたブラックマスクパター
ン15の断面形状は、エッチングに依り形成した従来のブ
ラックマスクパターン５よりも滑らかになり、カラーフ
ィルタ16を使用した表示装置のコントラストは、ブラッ
クマスクパターン５を形成してなる従来のカラーフィル
タ６よりコントラストが良くなる。The color filter 16 and the manufacturing method thereof, that is, the color filter 16 having the black mask pattern 15 in which the light-shielding metal layer 14a is laminated on the resist layer 12a having a light absorbing property, is used to develop the resist film 12. The black mask pattern 15 can be formed by the
The cross-sectional shape of the black mask pattern 15 formed by the developing process of 12 becomes smoother than that of the conventional black mask pattern 5 formed by etching, and the contrast of the display device using the color filter 16 has the black mask pattern 5 The contrast is better than that of the conventional color filter 6 formed by.
【００２７】なお、本実施例ではレジスト膜12にポジ型
樹脂を使用したが、レジスト膜12にネガ型樹脂を使用し
ても前記実施例と同様にブラックマスクパターン15が形
成され、カラーフィルタ16が製造される。ただし、レジ
スト膜12がネガ型であるときその露光処理に使用するマ
スクは、透光部と遮光部がマスク13と逆のものを使用す
ることになる。In this embodiment, a positive type resin is used for the resist film 12, but even if a negative type resin is used for the resist film 12, the black mask pattern 15 is formed and the color filter 16 is used in the same manner as in the above embodiment. Is manufactured. However, when the resist film 12 is a negative type, the mask used for the exposure process has a transparent portion and a light shielding portion which are opposite to those of the mask 13.
【００２８】図２は本発明の第２の実施例によるカラー
フィルタとその製造方法の説明図である。図２(イ) にお
いて、支持体１に厚さが1.1mm のソーダライムガラス板
を使用した本実施例において、支持体１の表面には、露
光・現像処理によってパターン形成されるレジスト膜21
を成膜したのち、90℃で10分程度のプレベーキング処理
をした樹脂膜21に露光・現像処理をして図２(ロ) に示す
如く、前記カラーフィルタ16の着色樹脂パターンＲ，
Ｇ，Ｂに対応する樹脂パターン22を形成する。FIG. 2 is an explanatory diagram of a color filter and a method of manufacturing the same according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 2A, in the present embodiment in which a soda-lime glass plate having a thickness of 1.1 mm is used as the support 1, the surface of the support 1 has a resist film 21 formed into a pattern by exposure and development.
2B, the resin film 21 which has been prebaked at 90 ° C. for about 10 minutes is exposed and developed, and as shown in FIG. 2B, the colored resin pattern R of the color filter 16 is formed.
A resin pattern 22 corresponding to G and B is formed.
【００２９】次いで、例えば酸化クロムにてなる低反射
膜23と金属クロムにてなる高遮光性膜24を支持体11の表
面に成膜させるが、レジスト膜21の厚さを３μm 程度と
したときには図２(ハ) に示す如く、低反射膜23と高遮光
性膜24は、支持体11の表面に被着する部分とレジストパ
ターン22の上面に被着する部分とが連ならないよう（非
連続）になる。Next, a low reflection film 23 made of, for example, chromium oxide and a high light-shielding film 24 made of metallic chromium are formed on the surface of the support 11, but when the thickness of the resist film 21 is set to about 3 μm. As shown in FIG. 2C, the low-reflection film 23 and the high light-shielding film 24 are arranged so that the part adhered to the surface of the support 11 and the part adhered to the upper surface of the resist pattern 22 are not continuous (non-continuous). )become.
【００３０】次いで、レジストパターン22を溶去すると
図２(ニ) に示す如く、レジストパターン22の上に被着す
る低反射膜23と高遮光性膜24はリフトオフされ、支持体
11の表面には低反射膜23に高遮光性膜24を積層したブラ
ックマスクパターン25が形成され、レジストパターン22
を溶去したあと (ブラックマスクパターン25の透孔部)
に着色樹脂パターン、例えば赤色樹脂パターンＲと緑色
樹脂パターンＧと青色樹脂パターンＢを、フォトリソグ
ラフィ技術を利用する方法等の従来技術によって所定配
列に形成し、カラーフィルタ26が完成する。Next, when the resist pattern 22 is removed by evaporation, as shown in FIG. 2D, the low reflection film 23 and the high light-shielding film 24 deposited on the resist pattern 22 are lifted off, and the support is removed.
A black mask pattern 25 in which a high light-shielding film 24 is laminated on a low reflection film 23 is formed on the surface of the resist pattern 22.
After evaporating (through hole of black mask pattern 25)
Then, a colored resin pattern, for example, a red resin pattern R, a green resin pattern G, and a blue resin pattern B are formed in a predetermined array by a conventional technique such as a method using a photolithography technique, and the color filter 26 is completed.
【００３１】このようなカラーフィルタ26は、低反射膜
23と高遮光性膜24を積層せしめ、着色樹脂パターンに対
応する該積層膜の不要部を、レジストパターン22の溶去
によってリフトオフせしめ、支持体１にブラックマスク
パターン25を形成する。そのため、エッチングに依らず
形成したブラックマスクパターン25の断面形状は、エッ
チングに依り形成した従来のブラックマスクパターン５
よりも滑らかになり、カラーフィルタ26を使用した表示
装置のコントラストは、ブラックマスクパターン５を形
成してなる従来のカラーフィルタ６よりコントラストが
良くなる。The color filter 26 is a low reflection film.
23 and the high light-shielding film 24 are laminated, and unnecessary portions of the laminated film corresponding to the colored resin pattern are lifted off by melting away the resist pattern 22 to form a black mask pattern 25 on the support 1. Therefore, the cross-sectional shape of the black mask pattern 25 formed without etching is the same as that of the conventional black mask pattern 5 formed by etching.
The display becomes smoother, and the contrast of the display device using the color filter 26 is better than that of the conventional color filter 6 having the black mask pattern 5.
【００３２】なお、樹脂パターン22を形成する本発明方
法において、例えばレジスト膜21を薄くし支持体11の表
面に被着する部分と樹脂パターン22の上面に被着する部
分とが連なってもよいが、図２(ハ) に示す如く非連続と
することによって、支持体11の表面に形成したブラック
マスクパターン25、延いては樹脂パターンＲ，Ｇ，Ｂが
正確になる。In the method of the present invention for forming the resin pattern 22, for example, the resist film 21 may be thinned so that the portion adhered to the surface of the support 11 and the portion adhered to the upper surface of the resin pattern 22 may be continuous. However, by making them non-continuous as shown in FIG. 2 (c), the black mask pattern 25 formed on the surface of the support 11, and consequently the resin patterns R, G, B become accurate.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるカラ
ーフィルタとカラーフィルタの製造方法は、支持体の裏
面より入射しブラックマスクパターンに照射した光の乱
反射が減少し、表示装置に使用したときその表示画像の
コントラストがよくなると共に、低反射膜に高遮光性膜
を積層し形成したブラックマスクパターンを具えたもの
に比べ、ブラックマスクパターンの被着力が向上し、か
つ、低コスト化を可能にした。As described above, according to the color filter and the method of manufacturing the color filter of the present invention, the diffused reflection of the light incident from the back surface of the support and irradiating the black mask pattern is reduced, and the color filter is used in a display device. The contrast of the displayed image is improved, and the adhesion of the black mask pattern is improved and the cost can be reduced as compared with the one having the black mask pattern formed by laminating the high light shielding film on the low reflection film. did.
【図１】 本発明の第１の実施例によるカラーフィルタ
とその製造方法の説明図FIG. 1 is an explanatory diagram of a color filter and a method of manufacturing the same according to a first embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の第２の実施例によるカラーフィルタ
とその製造方法の説明図FIG. 2 is an explanatory view of a color filter and a method of manufacturing the same according to a second embodiment of the present invention.
【図３】 積層金属膜からブラックマスクパターンを形
成する従来技術の説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of a conventional technique for forming a black mask pattern from a laminated metal film.
１ 透光性支持体 12 光吸収性を有するフォトレジスト膜 12a 光吸収性を有するフォトレジスト層 14 遮光性金属の薄膜 14a 遮光性金属層 15,25 ブラックマスクパターン 22 フォトレジストパターン 23 低反射率の金属膜 24 高遮光性の金属膜 Ｂ，Ｇ，Ｒ 透光性着色樹脂パターン 1 Light-transmissive support 12 Photoresist film having light absorption 12a Photoresist layer having light absorption 14 Thin film of light-shielding metal 14a Light-shielding metal layer 15,25 Black mask pattern 22 Photoresist pattern 23 Low reflectance Metal film 24 Highly light-shielding metal film B, G, R Translucent colored resin pattern
Claims (7)
スクパターン(15)と透光性着色樹脂パターン(R,G,B) を
形成したカラーフィルタにおいて、 該ブラックマスクパターン(15)が、光吸収性を有するフ
ォトレジスト層(12a)の上に遮光性金属層(14a) が積層
されてなること、 を特徴とするカラーフィルタ。1. A color filter in which a black mask pattern (15) and a transparent colored resin pattern (R, G, B) are formed on the surface of a transparent support (1), the black mask pattern (15) ) Is formed by laminating a light-shielding metal layer (14a) on a photoresist layer (12a) having a light absorbing property.
て、 前記光吸収性を有するフォトレジスト層(12a) がカーボ
ンブラックを分散させたフォトレジスト層であり、前記
金属層(14a) が金属クロム層であること、 を特徴とするカラーフィルタ。2. The color filter according to claim 1, wherein the photoresist layer (12a) having a light absorbing property is a photoresist layer in which carbon black is dispersed, and the metal layer (14a) is a metal chromium layer. There is a color filter.
を透光性支持体(1)の表面に成膜する第１の成膜工程
と、 該レジスト膜(12)を選択的に露光させる露光工程と、 該レジスト膜(12)の上に遮光性金属の薄膜(14)を成膜す
る第２の成膜工程と、 該レジスト膜(12)の露光部または非露光部を除去し、そ
の除去部の上に被着した該金属薄膜(14)をリフトオフさ
せる現像工程と、 該現像処理により形成された該レジスト膜(12)の除去部
を埋める透光性着色樹脂パターン(R,G,B) の形成工程と
を含むこと、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。3. A photoresist film (12) having a light absorbing property.
First film forming step of forming a film on the surface of the transparent support (1), an exposing step of selectively exposing the resist film (12), and a light shielding property on the resist film (12) Second film forming step of forming a metal thin film (14), and the exposed or unexposed part of the resist film (12) is removed, and the metal thin film (14) deposited on the removed part And a step of forming a translucent colored resin pattern (R, G, B) that fills the removed portion of the resist film (12) formed by the developing treatment. Color filter manufacturing method.
法において、 前記第１の成膜工程にはカーボンブラックを分散させた
フォトレジストを使用し、 前記第２の成膜工程には金属クロムを使用すること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。4. The method of manufacturing a color filter according to claim 3, wherein a photoresist in which carbon black is dispersed is used in the first film forming step, and metallic chromium is used in the second film forming step. A method of manufacturing a color filter, comprising:
ン(R,G,B) に対応するフォトレジストパターン(22)を透
光性支持体(1) の表面に形成する工程と、 該レジストパターン(22)の上および露呈する該支持体
(1) の表面に遮光性金属の薄膜 (23と24) を成膜する成
膜工程と、 該レジストパターン(22)を溶去すると共に、該レジスト
パターン(22)に被着した該金属薄膜 (23と24) をリフト
オフせしめ、該透光性支持体(1) の表面に被着した該金
属薄膜 (23と24) にてなるブラックマスクパターン(25)
を形成する工程と、 該レジストパターン(22)の溶去跡に該透光性着色樹脂パ
ターン(R,G,B) を形成する工程とを含むこと、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。5. A step of forming a photoresist pattern (22) corresponding to a transparent colored resin pattern (R, G, B) to be formed on the surface of a transparent support (1), and the resist. The support on and exposed to the pattern (22)
A film-forming step of forming a thin film (23 and 24) of a light-shielding metal on the surface of (1), and a metal thin film deposited on the resist pattern (22) while the resist pattern (22) is ablated (23 and 24) are lifted off, and a black mask pattern (25) is formed by the metal thin films (23 and 24) deposited on the surface of the transparent support (1).
And a step of forming the translucent colored resin pattern (R, G, B) on the traces of the resist pattern (22) that have been ablated.
法において、 フォトレジスト膜の露光・現像処理によって形成された
前記レジストパターン(22)の断面形状が、該現像処理を
利用した逆テーパであり、 該レジストパターン(22)の厚さを、前記金属薄膜 (23と
24) を成膜させたとき該レジストパターン(22)の上に被
着した部分と前記支持体(1) の表面に被着した部分とが
連ながらない厚さにすること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。6. The method of manufacturing a color filter according to claim 5, wherein the cross-sectional shape of the resist pattern (22) formed by the exposure / development treatment of the photoresist film is an inverse taper utilizing the development treatment. The thickness of the resist pattern (22) is set to the metal thin film (23 and
When the film is formed, the thickness of the portion deposited on the resist pattern (22) and the portion deposited on the surface of the support (1) are not continuous with each other. Color filter manufacturing method.
法において、 低反射率膜(23)に高遮光膜(24)を積層して前記金属薄膜
とすること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。7. The method for manufacturing a color filter according to claim 5, wherein a high light-shielding film (24) is laminated on the low reflectance film (23) to form the metal thin film. Method.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6040199A JPH07248412A (en) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | Color filter and its production |
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| JP6040199A JPH07248412A (en) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | Color filter and its production |
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|---|---|
| JPH07248412A true JPH07248412A (en) | 1995-09-26 |
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| JP6040199A Withdrawn JPH07248412A (en) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | Color filter and its production |
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- 1994-03-11 JP JP6040199A patent/JPH07248412A/en not_active Withdrawn
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