JPH07223151A - 金属電解用母板研磨機 - Google Patents
金属電解用母板研磨機Info
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- JPH07223151A JPH07223151A JP1196394A JP1196394A JPH07223151A JP H07223151 A JPH07223151 A JP H07223151A JP 1196394 A JP1196394 A JP 1196394A JP 1196394 A JP1196394 A JP 1196394A JP H07223151 A JPH07223151 A JP H07223151A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- mother plate
- sander
- main body
- support
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 研磨むらを減少させるとともに、研磨の作業
環境を向上させる。 【構成】 上下シリンダ31によって、サンダ21を、
母板1の表面に押圧して研磨する。研磨作業中におい
て、走行シリンダ73および横行シリンダ63により、
サンダ21を、母板1に対して相対的に移動させる。こ
れにより、母板1の所定範囲を研磨することができる。
ついで、回転軸54を中心として、母板1を90゜回転
させる。これにより、少なくとも2方向から母板1をサ
ンダ21によって研磨でき、研磨ムラを減少させること
ができる。
環境を向上させる。 【構成】 上下シリンダ31によって、サンダ21を、
母板1の表面に押圧して研磨する。研磨作業中におい
て、走行シリンダ73および横行シリンダ63により、
サンダ21を、母板1に対して相対的に移動させる。こ
れにより、母板1の所定範囲を研磨することができる。
ついで、回転軸54を中心として、母板1を90゜回転
させる。これにより、少なくとも2方向から母板1をサ
ンダ21によって研磨でき、研磨ムラを減少させること
ができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅、亜鉛、ニッケル、
金、銀などの金属の電解精錬工程において、陰極として
用いられている金属電解用母板(以下母板と略称す
る。)の研磨機に関するものである。
金、銀などの金属の電解精錬工程において、陰極として
用いられている金属電解用母板(以下母板と略称す
る。)の研磨機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】こうした母板は、主に、ステンレス、
銅、チタン、アルミニウム等の材質で構成されている。
母板は、電解槽中にある程度以上の間浸漬されている
と、良く知られているように、その表面が酸性の電解液
で腐食したり、また、その表面に、電解液に添加された
有機物の添加剤等が付着してくる。この状態を放置する
と、電着物(目的金属)の剥離性が低下し、電解工程の
操業効率が悪化する。このため、通常は、母板の両面を
定期的に研磨している。こうした研磨作業は、現在、人
手によって行なわれている。
銅、チタン、アルミニウム等の材質で構成されている。
母板は、電解槽中にある程度以上の間浸漬されている
と、良く知られているように、その表面が酸性の電解液
で腐食したり、また、その表面に、電解液に添加された
有機物の添加剤等が付着してくる。この状態を放置する
と、電着物(目的金属)の剥離性が低下し、電解工程の
操業効率が悪化する。このため、通常は、母板の両面を
定期的に研磨している。こうした研磨作業は、現在、人
手によって行なわれている。
【0003】ところで、従来では、人手によって研磨作
業を行なっているために、研磨むらを生じやすく、電着
物の剥離などにおける問題を生じていた。また、研磨に
伴う粉塵等が生じるため、所定の安全対策は講じている
ものの、作業環境が悪いという問題があった。
業を行なっているために、研磨むらを生じやすく、電着
物の剥離などにおける問題を生じていた。また、研磨に
伴う粉塵等が生じるため、所定の安全対策は講じている
ものの、作業環境が悪いという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した事
情に鑑みてなされたもので、研磨作業を機械化し、研磨
むらを減少させ、作業環境を向上させることができる金
属電解用母板研磨機を提供することを目的としている。
情に鑑みてなされたもので、研磨作業を機械化し、研磨
むらを減少させ、作業環境を向上させることができる金
属電解用母板研磨機を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る金属電解
用母板研磨機は、支持体または研磨機構のいずれか一方
に、他方に対して、互いに離間接近させる離間接近機構
を取り付け、支持体または研磨機構のいずれか一方に、
他方に対して、支持体に支持されるべき金属電解用母板
の面方向における少なくとも一方向に相対移動させる移
動機構を取り付け、支持体または研磨機構のいずれか一
方に、他方に対して、金属電解用母板の面方向に水平な
面内において相対的に回転させる回転機構を取り付ける
構成とした。
用母板研磨機は、支持体または研磨機構のいずれか一方
に、他方に対して、互いに離間接近させる離間接近機構
を取り付け、支持体または研磨機構のいずれか一方に、
他方に対して、支持体に支持されるべき金属電解用母板
の面方向における少なくとも一方向に相対移動させる移
動機構を取り付け、支持体または研磨機構のいずれか一
方に、他方に対して、金属電解用母板の面方向に水平な
面内において相対的に回転させる回転機構を取り付ける
構成とした。
【0006】請求項2に係る金属電解用母板研磨機は、
請求項1記載の研磨機において、研磨機構に、支持体に
支持されるべき金属電解用母板にほぼ平行な軸を中心と
して少なくとも一方向に前記研磨機構を回動させる回動
機構を取り付ける構成とした。
請求項1記載の研磨機において、研磨機構に、支持体に
支持されるべき金属電解用母板にほぼ平行な軸を中心と
して少なくとも一方向に前記研磨機構を回動させる回動
機構を取り付ける構成とした。
【0007】請求項3に係る金属電解用母板研磨機は、
請求項1または2記載の研磨機において、移動機構によ
る、支持体または研磨機構の移動ストロークを可変とす
る構成とした。
請求項1または2記載の研磨機において、移動機構によ
る、支持体または研磨機構の移動ストロークを可変とす
る構成とした。
【0008】
【作用】離間接近機構によって、研磨機構を、母板の表
面に押圧して研磨する。研磨作業中において、移動機構
により、研磨機構を、母板に対して相対的に移動させ
る。これにより、母板の所定範囲を研磨することができ
る。一方向の研磨が終了した後、回転機構により、所定
角度だけ、母板を、その面内において回転させる。する
と、少なくとも2方向から母板を研磨でき、研磨ムラを
減少させることができる。
面に押圧して研磨する。研磨作業中において、移動機構
により、研磨機構を、母板に対して相対的に移動させ
る。これにより、母板の所定範囲を研磨することができ
る。一方向の研磨が終了した後、回転機構により、所定
角度だけ、母板を、その面内において回転させる。する
と、少なくとも2方向から母板を研磨でき、研磨ムラを
減少させることができる。
【0009】
【実施例】本発明の一実施例に係る金属電解用母板研磨
機を添付の図面に基づいて説明する。まず、本例の装置
によって研磨される母板1について、図8に基づいて説
明する。この母板1は、良く知られているように、矩形
板状の本体1aと、この本体1aに取り付けられたクロ
スバー1bと、クロスバー1bに対向する側縁を除く本
体1aの周囲に嵌め込まれたゴム製のプロテクタ1cと
を主体として構成されている。プロテクタ1cは、本体
1aに対して脱着可能となっている。プロテクタ1cを
外した母板1を図6に示す。
機を添付の図面に基づいて説明する。まず、本例の装置
によって研磨される母板1について、図8に基づいて説
明する。この母板1は、良く知られているように、矩形
板状の本体1aと、この本体1aに取り付けられたクロ
スバー1bと、クロスバー1bに対向する側縁を除く本
体1aの周囲に嵌め込まれたゴム製のプロテクタ1cと
を主体として構成されている。プロテクタ1cは、本体
1aに対して脱着可能となっている。プロテクタ1cを
外した母板1を図6に示す。
【0010】本例の装置は、床面上に設置された主フレ
ーム10と、この主フレーム10によって所定の高さに
支持され、かつ、研磨されるべき母板1を支持する支持
体50と、この支持体50の上方に、これと対向して配
置されて、母板1を研磨する研磨機構20と、この研磨
機構20を上下動させて、支持体50に対して離間接近
させる離間接近機構30と、前記研磨機構20を所定の
角度範囲で正逆方向に回動させる回動機構40と、支持
体50を、これに支持された母板1の面方向に沿う一方
向に移動させる横行機構(移動機構)60と、この横行
機構60による母板1の移動方向と直交する方向に支持
体50を移動させる走行機構70とを主体として構成さ
れている。
ーム10と、この主フレーム10によって所定の高さに
支持され、かつ、研磨されるべき母板1を支持する支持
体50と、この支持体50の上方に、これと対向して配
置されて、母板1を研磨する研磨機構20と、この研磨
機構20を上下動させて、支持体50に対して離間接近
させる離間接近機構30と、前記研磨機構20を所定の
角度範囲で正逆方向に回動させる回動機構40と、支持
体50を、これに支持された母板1の面方向に沿う一方
向に移動させる横行機構(移動機構)60と、この横行
機構60による母板1の移動方向と直交する方向に支持
体50を移動させる走行機構70とを主体として構成さ
れている。
【0011】研磨機構20は、離間接近機構50によっ
て上下動されるフレーム22(図1および図2参照)
と、このフレーム22によって支持された5つの保持体
23(図4参照)と、各保持体23に保持されたサンダ
21と、各保持体23の上部に2本づつ取り付けられ、
かつ、前記フレーム22の内部に軸方向に移動自在に挿
通されたガイドロッド24(図5参照)と、各ガイドロ
ッド24の側方にそれぞれ2本づつ配置され、下端が前
記保持体23の上部に取り付けられ、上端がフレーム2
2の内部に軸方向に移動自在に挿通されたガイドピン2
5と、ガイドピン25の外周側に配置された圧縮バネ
(弾性部材)としてのコイルスプリング26とを主体と
して構成されている。サンダ21は、その底面(図3お
よび図4中下面)にエメリー紙(サンドペーパ)を取り
付けて使用するもので、具体的には、日立工機株式会社
製「オービタルサンダ(商品名)」が用いられている。
サンダ21は、その底面に取り付けられたエメリー紙を
振動させて、母板1の研磨を行なえるようになってい
る。サンダ21は、本例の装置における各アクチュエー
タ(シリンダ等)の動作を制御している制御盤(図示せ
ず)に接続されており、制御盤によって、始動および停
止が制御されるようになっている。サンダ21に取り付
けられたエメリー紙どうしの離間間隔は、各サンダ21
の配列方向における幅(横幅)よりも小さく設定されて
いる。サンダ21は、U字状に形成された取付具23a
および23b(図5参照)によって、保持体23に取り
付けられている。フレーム22の両端(図2中左右方向
における両端)には、後述するガイドシャフト33が挿
通されたスライダ22aが設けられている。ガイドロッ
ド24の上端には、このガイドロッド24の、フレーム
22からの脱落を防止する抜け止め用リング24a(図
5参照)が取り付けられている。
て上下動されるフレーム22(図1および図2参照)
と、このフレーム22によって支持された5つの保持体
23(図4参照)と、各保持体23に保持されたサンダ
21と、各保持体23の上部に2本づつ取り付けられ、
かつ、前記フレーム22の内部に軸方向に移動自在に挿
通されたガイドロッド24(図5参照)と、各ガイドロ
ッド24の側方にそれぞれ2本づつ配置され、下端が前
記保持体23の上部に取り付けられ、上端がフレーム2
2の内部に軸方向に移動自在に挿通されたガイドピン2
5と、ガイドピン25の外周側に配置された圧縮バネ
(弾性部材)としてのコイルスプリング26とを主体と
して構成されている。サンダ21は、その底面(図3お
よび図4中下面)にエメリー紙(サンドペーパ)を取り
付けて使用するもので、具体的には、日立工機株式会社
製「オービタルサンダ(商品名)」が用いられている。
サンダ21は、その底面に取り付けられたエメリー紙を
振動させて、母板1の研磨を行なえるようになってい
る。サンダ21は、本例の装置における各アクチュエー
タ(シリンダ等)の動作を制御している制御盤(図示せ
ず)に接続されており、制御盤によって、始動および停
止が制御されるようになっている。サンダ21に取り付
けられたエメリー紙どうしの離間間隔は、各サンダ21
の配列方向における幅(横幅)よりも小さく設定されて
いる。サンダ21は、U字状に形成された取付具23a
および23b(図5参照)によって、保持体23に取り
付けられている。フレーム22の両端(図2中左右方向
における両端)には、後述するガイドシャフト33が挿
通されたスライダ22aが設けられている。ガイドロッ
ド24の上端には、このガイドロッド24の、フレーム
22からの脱落を防止する抜け止め用リング24a(図
5参照)が取り付けられている。
【0012】離間接近機構30は、後述する回動フレー
ム41の上部に、ロッドを下方に向けて取り付けられた
上下シリンダ31と、この上下シリンダ31の下端にヒ
ンジ結合され、かつ、フレーム22に取り付けられたブ
ラケット32と、回動フレーム41の内側面に、上下方
向に延長され、かつ、前記フレーム22のスライダ22
aが挿通されたガイド部材としてのガイドシャフト33
とから構成されている。前記上下シリンダ31として
は、エアシリンダが用いられており、ブラケット32を
介して研磨機構20を上下動させることができるように
なっている。
ム41の上部に、ロッドを下方に向けて取り付けられた
上下シリンダ31と、この上下シリンダ31の下端にヒ
ンジ結合され、かつ、フレーム22に取り付けられたブ
ラケット32と、回動フレーム41の内側面に、上下方
向に延長され、かつ、前記フレーム22のスライダ22
aが挿通されたガイド部材としてのガイドシャフト33
とから構成されている。前記上下シリンダ31として
は、エアシリンダが用いられており、ブラケット32を
介して研磨機構20を上下動させることができるように
なっている。
【0013】回動機構40は、前記した回動フレーム4
1と、回動フレーム41に取り付けられた回動軸41a
を回動自在に支持する、主フレーム10側に取り付けら
れたピローブロック(軸受)42と、一端(図3中下
端)が主フレーム10側にヒンジ結合され、他端(図3
中上端)が回動フレーム41側にヒンジ結合された回動
シリンダ43とから構成されている。回動シリンダ43
としては、エアシリンダが用いられている。
1と、回動フレーム41に取り付けられた回動軸41a
を回動自在に支持する、主フレーム10側に取り付けら
れたピローブロック(軸受)42と、一端(図3中下
端)が主フレーム10側にヒンジ結合され、他端(図3
中上端)が回動フレーム41側にヒンジ結合された回動
シリンダ43とから構成されている。回動シリンダ43
としては、エアシリンダが用いられている。
【0014】支持体50は、平面視して矩形状に構成さ
れて、上面に母板1を載置させる本体51(図2および
図6参照)と、この本体51の上面の隣接する2つの側
縁にそれぞれ立設されたガイド52(図6参照)と、各
ガイド52に対向する位置に2つづつ配設された位置決
めシリンダ(エアシリンダ)53と、本体51の下面に
取り付けられ、下方に向けて突出された回転軸54と、
後述する上部基台62の上面に取り付けられて本体51
の下面を支持する4つの支持具(図2中では2つのみ示
す。)55とから構成されている。本体51の所定の箇
所には、下端が主フレーム10側に挿通されたピン(図
示せず)が、脱着可能な状態で挿入されており、運転中
における本体51の不意の回転を防止している。各位置
決めシリンダ53は、本体51の上面に載置された母板
1の側縁を、対向するガイド52に向けて押圧して母板
1を所定位置に位置決めするようになっている。回転軸
54の位置は、前記本体51における所定位置に位置決
めされた母板1の一隅部1d1(図7参照)が、隣接す
る他の隅部1d2と、回転軸54を中心とする回転軌跡
上においてほぼ同一回転軌跡を通る位置に設定されてお
り、回転前の隅部1d1と、回転後の隅部1d2とが、
研磨装置20の位置制御における原点位置O(後述)近
傍を通るようになっている。支持具55は、上部基台6
2側に取り付けられたケーシングの上面に球体が回転自
在に保持されており、この球体によって本体51の下面
を支持する周知の構成のものである。
れて、上面に母板1を載置させる本体51(図2および
図6参照)と、この本体51の上面の隣接する2つの側
縁にそれぞれ立設されたガイド52(図6参照)と、各
ガイド52に対向する位置に2つづつ配設された位置決
めシリンダ(エアシリンダ)53と、本体51の下面に
取り付けられ、下方に向けて突出された回転軸54と、
後述する上部基台62の上面に取り付けられて本体51
の下面を支持する4つの支持具(図2中では2つのみ示
す。)55とから構成されている。本体51の所定の箇
所には、下端が主フレーム10側に挿通されたピン(図
示せず)が、脱着可能な状態で挿入されており、運転中
における本体51の不意の回転を防止している。各位置
決めシリンダ53は、本体51の上面に載置された母板
1の側縁を、対向するガイド52に向けて押圧して母板
1を所定位置に位置決めするようになっている。回転軸
54の位置は、前記本体51における所定位置に位置決
めされた母板1の一隅部1d1(図7参照)が、隣接す
る他の隅部1d2と、回転軸54を中心とする回転軌跡
上においてほぼ同一回転軌跡を通る位置に設定されてお
り、回転前の隅部1d1と、回転後の隅部1d2とが、
研磨装置20の位置制御における原点位置O(後述)近
傍を通るようになっている。支持具55は、上部基台6
2側に取り付けられたケーシングの上面に球体が回転自
在に保持されており、この球体によって本体51の下面
を支持する周知の構成のものである。
【0015】横行機構60は、後述する下部基台72の
上面に取り付けられ、前記サンダ21の配列方向(図2
中左右方向)に延長された4つのスライドガイド61
と、このスライドガイド61によって、サンダ21の配
列方向に移動可能な状態で支持された前記上部基台62
と、下部基台72の上面に支持されて、上部基台62
を、スライドガイド61の延長方向に沿って往復動させ
る横行シリンダ63とを主体として構成されている。横
行シリンダ63のロッドの先端は、上部基台62の下面
にブラケットを介してヒンジ結合されている。横行シリ
ンダ63としては、そのロッドの突出ストロークが、制
御盤によって予め設定された範囲で可変とされた周知の
エアシリンダが用いられている。
上面に取り付けられ、前記サンダ21の配列方向(図2
中左右方向)に延長された4つのスライドガイド61
と、このスライドガイド61によって、サンダ21の配
列方向に移動可能な状態で支持された前記上部基台62
と、下部基台72の上面に支持されて、上部基台62
を、スライドガイド61の延長方向に沿って往復動させ
る横行シリンダ63とを主体として構成されている。横
行シリンダ63のロッドの先端は、上部基台62の下面
にブラケットを介してヒンジ結合されている。横行シリ
ンダ63としては、そのロッドの突出ストロークが、制
御盤によって予め設定された範囲で可変とされた周知の
エアシリンダが用いられている。
【0016】走行機構70は、機構的には、横行機構6
0とほぼ同様の構成を有するものであって、主フレーム
10側に取り付けられた2つのスライドガイド71と、
このスライドガイド71によって、前記スライドガイド
61の延長方向(すなわち、サンダ21の配列方向)に
直交する方向に移動可能な状態で支持された下部基台7
2と、主フレーム10側に支持され、下部基台72およ
び横行機構60全体を、スライドガイド71の延長方向
に沿って移動させる走行シリンダ73とを主体として構
成されている。走行シリンダ73のロッドの先端は、下
部基台72の下面にブラケットを介してヒンジ結合され
ている(図1参照)。走行シリンダ73としては、その
ロッドの突出ストロークが、制御盤によって予め設定さ
れた範囲で可変とされた周知のエアシリンダが用いられ
ている。
0とほぼ同様の構成を有するものであって、主フレーム
10側に取り付けられた2つのスライドガイド71と、
このスライドガイド71によって、前記スライドガイド
61の延長方向(すなわち、サンダ21の配列方向)に
直交する方向に移動可能な状態で支持された下部基台7
2と、主フレーム10側に支持され、下部基台72およ
び横行機構60全体を、スライドガイド71の延長方向
に沿って移動させる走行シリンダ73とを主体として構
成されている。走行シリンダ73のロッドの先端は、下
部基台72の下面にブラケットを介してヒンジ結合され
ている(図1参照)。走行シリンダ73としては、その
ロッドの突出ストロークが、制御盤によって予め設定さ
れた範囲で可変とされた周知のエアシリンダが用いられ
ている。
【0017】つぎに、前記のように構成された本例の研
磨機の動作の動作について説明する。まず、本体1aか
らプロテクタ1cを取り外した状態の母板1を研磨する
動作を、主に図7および図8に基づいて説明する。始め
に、プロテクタ1cが取り外された母板1を、支持体5
0の本体51の上面に水平に載置する。ついで、支持体
50の位置決めシリンダ53を伸長させ、対向するガイ
ド52に向けて母板1を押し付ける。これにより母板1
を所定位置に位置決めすることができる。この状態にお
ける母板1の状態を図7に示す。
磨機の動作の動作について説明する。まず、本体1aか
らプロテクタ1cを取り外した状態の母板1を研磨する
動作を、主に図7および図8に基づいて説明する。始め
に、プロテクタ1cが取り外された母板1を、支持体5
0の本体51の上面に水平に載置する。ついで、支持体
50の位置決めシリンダ53を伸長させ、対向するガイ
ド52に向けて母板1を押し付ける。これにより母板1
を所定位置に位置決めすることができる。この状態にお
ける母板1の状態を図7に示す。
【0018】つづいて、制御盤が各サンダ21の電源を
オン状態とし、各サンダ21に取り付けられたエメリー
紙を細かく振動させる。ついで、離間接近機構30の上
下シリンダ31のロッドを伸長させてフレーム22を下
降させ、フレーム22に取り付けられているサンダ21
の下面を母板1の本体1aの表面に押圧する。この状態
における、各サンダ21の当接領域を、図7において符
号Ssで示している。このとき、サンダ21の配列方向
における一端側(図7中上端側)のサンダ21は、母板
1の本体1aの一隅部1d1の近傍に位置している。ま
た、この状態における、一端側のサンダ21の図中右上
隅部の位置を、以下における説明の便宜上、X−Y平面
の座標系(水平面内における、主フレーム10側に対し
て固定された座標系)における原点Oと定義しておく。
一方、サンダ21の配列方向における他端側(図7中下
端側)のサンダ21と、母板1の本体1aとの間には、
距離Q1COの間隙が形成されている。この距離Q1C
Oは、1つのサンダ21の横幅よりも小さい距離に設定
されている。また、各サンダ21と、クロスバー1b側
における本体1aの端部との距離を、図7において符号
Q1ROを用いて示している。
オン状態とし、各サンダ21に取り付けられたエメリー
紙を細かく振動させる。ついで、離間接近機構30の上
下シリンダ31のロッドを伸長させてフレーム22を下
降させ、フレーム22に取り付けられているサンダ21
の下面を母板1の本体1aの表面に押圧する。この状態
における、各サンダ21の当接領域を、図7において符
号Ssで示している。このとき、サンダ21の配列方向
における一端側(図7中上端側)のサンダ21は、母板
1の本体1aの一隅部1d1の近傍に位置している。ま
た、この状態における、一端側のサンダ21の図中右上
隅部の位置を、以下における説明の便宜上、X−Y平面
の座標系(水平面内における、主フレーム10側に対し
て固定された座標系)における原点Oと定義しておく。
一方、サンダ21の配列方向における他端側(図7中下
端側)のサンダ21と、母板1の本体1aとの間には、
距離Q1COの間隙が形成されている。この距離Q1C
Oは、1つのサンダ21の横幅よりも小さい距離に設定
されている。また、各サンダ21と、クロスバー1b側
における本体1aの端部との距離を、図7において符号
Q1ROを用いて示している。
【0019】以上の動作により、領域Ssにおける、母
板1の本体1aの表面を、サンダ21によって研磨する
ことができる。ここで、本例の装置では、サンダ21
を、保持体23を介して、コイルスプリング26によっ
て弾性的に支持しているので、本体1aの凹凸に沿って
サンダ21を移動させることが可能であり、したがっ
て、研磨ムラを減少させることができるという利点があ
る。
板1の本体1aの表面を、サンダ21によって研磨する
ことができる。ここで、本例の装置では、サンダ21
を、保持体23を介して、コイルスプリング26によっ
て弾性的に支持しているので、本体1aの凹凸に沿って
サンダ21を移動させることが可能であり、したがっ
て、研磨ムラを減少させることができるという利点があ
る。
【0020】つづいて、走行機構70の走行シリンダ7
1のロッドを伸長させ、下部基台72をスライドガイド
71に沿って移動させる。これにより、横行機構60の
上部基台62および支持体50の本体51を介して、母
板1を、サンダ21の配置方向に直交する方向(図7に
おける右方)に移動させる。ここで、走行シリンダ71
のロッドの往復ストロークは、制御盤により、前記距離
Q1ROとほぼ等しく設定されている。このため、本例
の装置によれば、各サンダ21を、クロスバー1b側に
おける本体1aの端部近傍まで相対的に移動させること
ができる。また、各サンダ21の移動経路における本体
1aの表面を、各サンダ21の移動中において研磨する
ことができる。
1のロッドを伸長させ、下部基台72をスライドガイド
71に沿って移動させる。これにより、横行機構60の
上部基台62および支持体50の本体51を介して、母
板1を、サンダ21の配置方向に直交する方向(図7に
おける右方)に移動させる。ここで、走行シリンダ71
のロッドの往復ストロークは、制御盤により、前記距離
Q1ROとほぼ等しく設定されている。このため、本例
の装置によれば、各サンダ21を、クロスバー1b側に
おける本体1aの端部近傍まで相対的に移動させること
ができる。また、各サンダ21の移動経路における本体
1aの表面を、各サンダ21の移動中において研磨する
ことができる。
【0021】ついで、横行シリンダ63のロッドを伸長
させる。これにより、上部基台62および本体51を介
して、母板1の本体1aを、サンダ21の配列方向に沿
う方向(図7中上方)に移動させることができる。ここ
で、横行シリンダ63の移動ストロークは、前記距離Q
1COに等しく設定されている。これにより、母板1に
おける、図7中下端の側縁を、サンダ21の下方に位置
させることができる。同時に、この移動により、初期位
置におけるサンダ21どうしの間の領域に、各サンダ2
1の底面を対向させることができる。
させる。これにより、上部基台62および本体51を介
して、母板1の本体1aを、サンダ21の配列方向に沿
う方向(図7中上方)に移動させることができる。ここ
で、横行シリンダ63の移動ストロークは、前記距離Q
1COに等しく設定されている。これにより、母板1に
おける、図7中下端の側縁を、サンダ21の下方に位置
させることができる。同時に、この移動により、初期位
置におけるサンダ21どうしの間の領域に、各サンダ2
1の底面を対向させることができる。
【0022】ついで、走行シリンダ73のロッドを初期
位置まで収縮させる。これにより、研磨領域S1O(図
7参照)内を全て研磨することができる。つづいて、横
行シリンダ63を初期位置まで収縮させ、サンダ21を
処置位置に戻す。ここまでの動作が1つのサイクルとな
る。このサイクルを、必要回数繰り返すことにより、必
要な程度まで、母板1の本体1aの表面を研磨すること
ができる。
位置まで収縮させる。これにより、研磨領域S1O(図
7参照)内を全て研磨することができる。つづいて、横
行シリンダ63を初期位置まで収縮させ、サンダ21を
処置位置に戻す。ここまでの動作が1つのサイクルとな
る。このサイクルを、必要回数繰り返すことにより、必
要な程度まで、母板1の本体1aの表面を研磨すること
ができる。
【0023】以上の研磨が終了した後、つづいて、つぎ
の動作を行なう。すなわち、支持体50の本体51と主
フレーム10とを固定していたピン(図示せず)を取り
外した後、回転軸54を中心として、本体51を、初期
位置に対して水平面内において90゜回転させる(図8
参照)。この状態で、本体51を、主フレーム10側に
対して再度固定する。この状態では、サンダ21の配列
方向における一端側(図8中上端側)のサンダ21は、
母板1の本体1aの一隅部1d2の近傍に位置してい
る。本例では、回転軸54の位置を予め所定の位置に設
定しているので、一隅部1d2の位置を、前記した原点
Oの近傍に位置させることができる。これにより、本例
の装置では、回転の前後におけるサンダ21と母板1と
の原点位置を再調整することなく、研磨動作を行なうこ
とができ、装置構成を簡略化することができるという利
点がある。
の動作を行なう。すなわち、支持体50の本体51と主
フレーム10とを固定していたピン(図示せず)を取り
外した後、回転軸54を中心として、本体51を、初期
位置に対して水平面内において90゜回転させる(図8
参照)。この状態で、本体51を、主フレーム10側に
対して再度固定する。この状態では、サンダ21の配列
方向における一端側(図8中上端側)のサンダ21は、
母板1の本体1aの一隅部1d2の近傍に位置してい
る。本例では、回転軸54の位置を予め所定の位置に設
定しているので、一隅部1d2の位置を、前記した原点
Oの近傍に位置させることができる。これにより、本例
の装置では、回転の前後におけるサンダ21と母板1と
の原点位置を再調整することなく、研磨動作を行なうこ
とができ、装置構成を簡略化することができるという利
点がある。
【0024】サンダ21の配列方向における他端側(図
8中下端側)のサンダ21と、母板1の本体1aの側縁
との間には、距離Q1CRの間隙が形成されている。こ
の距離Q1CRは、1つのサンダ21の横幅よりも小さ
い距離に設定されている。また、各サンダ21と、サン
ダ21から離間した側における本体1aの端部との距離
を、図8において符号Q1RRを用いて示している。
8中下端側)のサンダ21と、母板1の本体1aの側縁
との間には、距離Q1CRの間隙が形成されている。こ
の距離Q1CRは、1つのサンダ21の横幅よりも小さ
い距離に設定されている。また、各サンダ21と、サン
ダ21から離間した側における本体1aの端部との距離
を、図8において符号Q1RRを用いて示している。
【0025】つづいて、前記と同様にして、サンダ21
による、母板1の本体1aの研磨動作を行なう。この動
作においては、走行シリンダ73のロッド73の突出ス
トロークを、前記した研磨動作における距離Q1ROか
ら、距離Q1RRに変更しておく。また、横行シリンダ
63の突出ストロークを、前記した研磨動作における距
離Q1COから、距離Q1CRに変更しておく。母板1
の回転後における研磨動作のサイクルは、前記と同様な
ので、詳細についての説明を省略する。
による、母板1の本体1aの研磨動作を行なう。この動
作においては、走行シリンダ73のロッド73の突出ス
トロークを、前記した研磨動作における距離Q1ROか
ら、距離Q1RRに変更しておく。また、横行シリンダ
63の突出ストロークを、前記した研磨動作における距
離Q1COから、距離Q1CRに変更しておく。母板1
の回転後における研磨動作のサイクルは、前記と同様な
ので、詳細についての説明を省略する。
【0026】以上の動作により、母板1の本体1aの表
面を、縦横の方向から研磨することができる。通常、本
体1aの表面は、使用を重ねるにつれて、次第に、振幅
は小さいものの、波打ってくる。このため、本体1aを
一方向からのみ研磨した場合には、研磨ムラが大きいと
いう不都合が生じる。これに対し、本例の装置によれ
ば、本体1aの表面を、縦横から研磨することができる
ので、研磨ムラを減少させることができ、一層適正な表
面に仕上げることができるという利点がある。
面を、縦横の方向から研磨することができる。通常、本
体1aの表面は、使用を重ねるにつれて、次第に、振幅
は小さいものの、波打ってくる。このため、本体1aを
一方向からのみ研磨した場合には、研磨ムラが大きいと
いう不都合が生じる。これに対し、本例の装置によれ
ば、本体1aの表面を、縦横から研磨することができる
ので、研磨ムラを減少させることができ、一層適正な表
面に仕上げることができるという利点がある。
【0027】以上の動作により、母板1の本体1aにお
ける2つの表面のうちの一方を研磨した後、上下シリン
ダ31のロッドを収縮させ、さらに、サンダ21の運転
を一旦停止させる。ついで、支持体50の本体51を、
回転軸54を中心として、前回の回転とは逆方向に回転
させ、初期位置まで戻す。ついで、ホイストなどの任意
の吊り上げ手段によって母板1を吊り上げ、母板1の表
裏を反転させて、支持体50の本体51の上面に、前記
と同様にして載置する。これにより、本体1aにおける
未研磨の面を上方に向けることができる。続いて、前記
と同様に、走行シリンダ73や横行シリンダ63等を駆
動することにより、サンダ21を用いて本体1aの研磨
作業を行なうことができる。この作業も、既に前記した
通りなので詳細の説明を省略する。
ける2つの表面のうちの一方を研磨した後、上下シリン
ダ31のロッドを収縮させ、さらに、サンダ21の運転
を一旦停止させる。ついで、支持体50の本体51を、
回転軸54を中心として、前回の回転とは逆方向に回転
させ、初期位置まで戻す。ついで、ホイストなどの任意
の吊り上げ手段によって母板1を吊り上げ、母板1の表
裏を反転させて、支持体50の本体51の上面に、前記
と同様にして載置する。これにより、本体1aにおける
未研磨の面を上方に向けることができる。続いて、前記
と同様に、走行シリンダ73や横行シリンダ63等を駆
動することにより、サンダ21を用いて本体1aの研磨
作業を行なうことができる。この作業も、既に前記した
通りなので詳細の説明を省略する。
【0028】つぎに、プロテクタ1cを取り付けた状態
の母板1の本体1aを研磨する動作について、図9およ
び図10を参照して説明する。この場合には、プロテク
タ1cとサンダ21とが干渉しないように、支持体50
の本体51における、母板1の位置決めがなされる。本
体51上に位置決めされた母板1を図9に示す。この状
態においては、サンダ21の配列方向における他端側
(図9中下端側)のサンダ21と、母板1の本体1aの
側縁との間に、距離Q2COの間隙が形成されている。
この距離Q2COは、1つのサンダ21の横幅よりも小
さい距離に設定されている。また、各サンダ21と、サ
ンダ21から離間した側における本体1aの端部との距
離を、図9において符号Q2ROを用いて示している。
の母板1の本体1aを研磨する動作について、図9およ
び図10を参照して説明する。この場合には、プロテク
タ1cとサンダ21とが干渉しないように、支持体50
の本体51における、母板1の位置決めがなされる。本
体51上に位置決めされた母板1を図9に示す。この状
態においては、サンダ21の配列方向における他端側
(図9中下端側)のサンダ21と、母板1の本体1aの
側縁との間に、距離Q2COの間隙が形成されている。
この距離Q2COは、1つのサンダ21の横幅よりも小
さい距離に設定されている。また、各サンダ21と、サ
ンダ21から離間した側における本体1aの端部との距
離を、図9において符号Q2ROを用いて示している。
【0029】ついで、走行シリンダ73および横行シリ
ンダ63のロッドを順次突出させて、本体1aの研磨動
作を行なう。ここで、走行シリンダ73のロッドの突出
ストロークは、距離Q2ROに変更されており、横行シ
リンダ63の突出ストロークは、距離Q2COに変更さ
れている。これにより、サンダ21とプロテクタ1cと
の干渉を防止することができ、プロテクタ1cを装着し
たままでの母板1の研磨が可能となり、研磨作業の効率
を向上させることができる。
ンダ63のロッドを順次突出させて、本体1aの研磨動
作を行なう。ここで、走行シリンダ73のロッドの突出
ストロークは、距離Q2ROに変更されており、横行シ
リンダ63の突出ストロークは、距離Q2COに変更さ
れている。これにより、サンダ21とプロテクタ1cと
の干渉を防止することができ、プロテクタ1cを装着し
たままでの母板1の研磨が可能となり、研磨作業の効率
を向上させることができる。
【0030】図9に示した状態での研磨作業が終了した
後、支持体50の回転軸54を中心として、前記と同様
に、母板1を90゜回転させる。回転後の状態を図10
に示す。この状態では、サンダ21の配列方向における
他端側(図10中下端側)のサンダ21と、母板1の本
体1aの側縁との間に、距離Q2CRの間隙が形成され
ている。この距離Q2CRは、1つのサンダ21の横幅
よりも小さい距離に設定されている。また、各サンダ2
1と、サンダ21から離間した側における本体1aの端
部との距離を、図9において符号Q2RRを用いて示し
ている
後、支持体50の回転軸54を中心として、前記と同様
に、母板1を90゜回転させる。回転後の状態を図10
に示す。この状態では、サンダ21の配列方向における
他端側(図10中下端側)のサンダ21と、母板1の本
体1aの側縁との間に、距離Q2CRの間隙が形成され
ている。この距離Q2CRは、1つのサンダ21の横幅
よりも小さい距離に設定されている。また、各サンダ2
1と、サンダ21から離間した側における本体1aの端
部との距離を、図9において符号Q2RRを用いて示し
ている
【0031】ついで、走行シリンダ73および横行シリ
ンダ63のロッドを順次突出させて、本体1aの研磨動
作を行なう。ここで、走行シリンダ73のロッドの突出
ストロークは、距離Q2RRに変更されており、横行シ
リンダ63の突出ストロークは、距離Q2CRに変更さ
れている。その他の動作は、既に前記したところと同様
なので詳細の説明を省略する。
ンダ63のロッドを順次突出させて、本体1aの研磨動
作を行なう。ここで、走行シリンダ73のロッドの突出
ストロークは、距離Q2RRに変更されており、横行シ
リンダ63の突出ストロークは、距離Q2CRに変更さ
れている。その他の動作は、既に前記したところと同様
なので詳細の説明を省略する。
【0032】以上の研磨作業により、サンダ21に取り
付けたエメリー紙を交換するか、目詰りを除去する必要
が生じた場合には、つぎの作業を行なう。すなわち、上
下シリンダ31を収縮させてサンダ21を初期位置まで
上昇させた後、回動機構40の回動シリンダ43を収縮
させ、回動フレーム41を、回動軸41aを中心とし
て、図3中時計方向に回動させる。したがって、サンダ
21の底面を側方に向けることができる。これにより、
エメリー紙の交換または目詰り除去作業を効率良く行な
うことができるという利点がある。また、これにより、
サンダ21自体の交換作業も容易となる。
付けたエメリー紙を交換するか、目詰りを除去する必要
が生じた場合には、つぎの作業を行なう。すなわち、上
下シリンダ31を収縮させてサンダ21を初期位置まで
上昇させた後、回動機構40の回動シリンダ43を収縮
させ、回動フレーム41を、回動軸41aを中心とし
て、図3中時計方向に回動させる。したがって、サンダ
21の底面を側方に向けることができる。これにより、
エメリー紙の交換または目詰り除去作業を効率良く行な
うことができるという利点がある。また、これにより、
サンダ21自体の交換作業も容易となる。
【0033】本例の装置によれば、前記したように、横
行機構60および走行機構70によって移動させられる
サンダ21によって母板1の表面を研磨する構成とした
ので、研磨作業の労力を軽減することができ、また、研
磨時に作業者が付近に居る必要がないので、粉塵の影響
を未然に防止することができる。
行機構60および走行機構70によって移動させられる
サンダ21によって母板1の表面を研磨する構成とした
ので、研磨作業の労力を軽減することができ、また、研
磨時に作業者が付近に居る必要がないので、粉塵の影響
を未然に防止することができる。
【0034】さらに、本例の装置によれば、前記のよう
に、上下シリンダ31によって母板1の本体1aに押圧
されるサンダ21によって研磨作業を行なっているの
で、エメリー紙の荒さを適切に選択することにより、母
板1を目的の荒さに精度良く研磨することが可能であ
り、したがって、電着物の剥離工程における、剥離不良
等の問題を確実に低減させることができるという利点が
ある。
に、上下シリンダ31によって母板1の本体1aに押圧
されるサンダ21によって研磨作業を行なっているの
で、エメリー紙の荒さを適切に選択することにより、母
板1を目的の荒さに精度良く研磨することが可能であ
り、したがって、電着物の剥離工程における、剥離不良
等の問題を確実に低減させることができるという利点が
ある。
【0035】なお、前記実施例において用いた各種のエ
アシリンダは、リニアモータなどの他の種類のアクチュ
エータであっても良い。
アシリンダは、リニアモータなどの他の種類のアクチュ
エータであっても良い。
【0036】
【発明の効果】請求項1に係る金属電解用母板研磨機
は、支持体または研磨機構のいずれか一方に、他方に対
して、互いに離間接近させる離間接近機構を取り付け、
支持体または研磨機構のいずれか一方に、他方に対し
て、支持体に支持されるべき金属電解用母板の面方向に
おける少なくとも一方向に相対移動させる移動機構を取
り付け、支持体または研磨機構のいずれか一方に、他方
に対して、金属電解用母板の面方向に水平な面内におい
て相対的に回転させる回転機構を取り付ける構成とした
ので、離間接近機構によって、研磨機構を、母板の表面
に押圧して、母板を研磨することができる。また、研磨
作業中において、移動機構により、研磨機構を、母板に
対して相対的に移動させることにより、母板の所定範囲
を研磨することができる。さらに、一方向の研磨が終了
した後、回転機構により、所定角度だけ、母板を、その
面内において回転させることにより、少なくとも2方向
から母板を研磨でき、研磨ムラを減少させることができ
る。これにより、母板の表面を適切に仕上げることがで
き、母板からの電着物の剥離工程における問題を減少さ
せることができる。さらに、各機構によって母板を自動
的に研磨することが可能なので、作業者への粉塵の影響
を未然に防止することができ、作業の安全確保が容易で
あるという効果もある。
は、支持体または研磨機構のいずれか一方に、他方に対
して、互いに離間接近させる離間接近機構を取り付け、
支持体または研磨機構のいずれか一方に、他方に対し
て、支持体に支持されるべき金属電解用母板の面方向に
おける少なくとも一方向に相対移動させる移動機構を取
り付け、支持体または研磨機構のいずれか一方に、他方
に対して、金属電解用母板の面方向に水平な面内におい
て相対的に回転させる回転機構を取り付ける構成とした
ので、離間接近機構によって、研磨機構を、母板の表面
に押圧して、母板を研磨することができる。また、研磨
作業中において、移動機構により、研磨機構を、母板に
対して相対的に移動させることにより、母板の所定範囲
を研磨することができる。さらに、一方向の研磨が終了
した後、回転機構により、所定角度だけ、母板を、その
面内において回転させることにより、少なくとも2方向
から母板を研磨でき、研磨ムラを減少させることができ
る。これにより、母板の表面を適切に仕上げることがで
き、母板からの電着物の剥離工程における問題を減少さ
せることができる。さらに、各機構によって母板を自動
的に研磨することが可能なので、作業者への粉塵の影響
を未然に防止することができ、作業の安全確保が容易で
あるという効果もある。
【0037】請求項2に係る金属電解用母板研磨機は、
請求項1記載の研磨機において、研磨機構に、支持体に
支持されるべき金属電解用母板にほぼ平行な軸を中心と
して少なくとも一方向に前記研磨機構を回動させる回動
機構を取り付ける構成としたので、研磨機構における目
詰りの除去や、研磨部分の交換等の作業を容易に行なう
ことができる。
請求項1記載の研磨機において、研磨機構に、支持体に
支持されるべき金属電解用母板にほぼ平行な軸を中心と
して少なくとも一方向に前記研磨機構を回動させる回動
機構を取り付ける構成としたので、研磨機構における目
詰りの除去や、研磨部分の交換等の作業を容易に行なう
ことができる。
【0038】請求項3に係る金属電解用母板研磨機は、
請求項1または2記載の研磨機において、移動機構によ
る、支持体または研磨機構の移動ストロークを可変とす
る構成としたので、プロテクタの有無に拘らず、母板を
研磨することができる。したがって、研磨作業を効率的
に行なうことができる。
請求項1または2記載の研磨機において、移動機構によ
る、支持体または研磨機構の移動ストロークを可変とす
る構成としたので、プロテクタの有無に拘らず、母板を
研磨することができる。したがって、研磨作業を効率的
に行なうことができる。
【図1】本発明の一実施例に係る金属電解用母板研磨機
の概要を示す斜視図である。
の概要を示す斜視図である。
【図2】図1のA方向矢視における要部の一部切り欠き
拡大図である。
拡大図である。
【図3】図2のB方向矢視における要部の概略図であ
る。
る。
【図4】図1のA方向矢視における、研磨機構の要部拡
大図である。
大図である。
【図5】図4のC方向矢視図である。
【図6】本発明の一実施例において用いる支持体および
走行機構の概要を示す平面図である。
走行機構の概要を示す平面図である。
【図7】本発明の一実施例に用いる金属電解用母板の平
面図である。
面図である。
【図8】本発明の一実施例に用いる金属電解用母板の平
面図である。
面図である。
【図9】本発明の一実施例に用いる金属電解用母板の平
面図である。
面図である。
【図10】本発明の一実施例に用いる金属電解用母板の
平面図である。
平面図である。
1 金属電解用母板 20 研磨装置 30 離間接近機構 40 回動機構 50 支持体 54 回転軸(回転機構) 60 横行機構(移動機構) 70 走行機構(移動機構)
フロントページの続き (72)発明者 田中 浩 東京都千代田区大手町一丁目5番1号 三 菱マテリアル株式会社内 (72)発明者 清水 文彦 福島県いわき市小名浜字渚1−1 小名浜 製錬株式会社小名浜製錬所内 (72)発明者 新妻 遵一 福島県いわき市小名浜字渚1−1 小名浜 製錬株式会社小名浜製錬所内
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体に支持された金属電解用母板を、
前記金属電解用母板に対向して設置された研磨機構によ
って研磨する金属電解用母板研磨機であって、前記支持
体または前記研磨機構のいずれか一方には、他方に対し
て、互いに離間接近させる離間接近機構が取り付けら
れ、前記支持体または前記研磨機構のいずれか一方に
は、他方に対して、前記支持体に支持されるべき金属電
解用母板の面方向における少なくとも一方向に相対移動
させる移動機構が取り付けられ、前記支持体または前記
研磨機構のいずれか一方には、他方に対して、前記金属
電解用母板の面方向に水平な面内において相対的に回転
させる回転機構が取り付けられていることを特徴とする
金属電解用母板研磨機。 - 【請求項2】 前記研磨機構には、前記支持体に支持さ
れるべき金属電解用母板にほぼ平行な軸を中心として少
なくとも一方向に前記研磨機構を回動させる回動機構が
取り付けられていることを特徴とする請求項1記載の金
属電解用母板研磨機。 - 【請求項3】 前記移動機構による、前記支持体または
前記研磨機構の移動ストロークは可変とされていること
を特徴とする請求項1または2記載の金属電解用母板研
磨機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1196394A JPH07223151A (ja) | 1994-02-03 | 1994-02-03 | 金属電解用母板研磨機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1196394A JPH07223151A (ja) | 1994-02-03 | 1994-02-03 | 金属電解用母板研磨機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07223151A true JPH07223151A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11792281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1196394A Pending JPH07223151A (ja) | 1994-02-03 | 1994-02-03 | 金属電解用母板研磨機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07223151A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009122472A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | シャープ株式会社 | 研磨装置および研磨方法 |
CN103465127A (zh) * | 2012-09-10 | 2013-12-25 | 宇环数控机床股份有限公司 | 柔性随形恒压力抛光装置 |
JP2014172143A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 研磨工具用治具 |
CN115476257A (zh) * | 2022-10-06 | 2022-12-16 | 湖南新融创科技有限公司 | 一种功能手机主板生产用端面抛光设备 |
-
1994
- 1994-02-03 JP JP1196394A patent/JPH07223151A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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