JPH0721965A - 電子ビーム装置における物体構造試験方法及び装置 - Google Patents
電子ビーム装置における物体構造試験方法及び装置Info
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- JPH0721965A JPH0721965A JP6128858A JP12885894A JPH0721965A JP H0721965 A JPH0721965 A JP H0721965A JP 6128858 A JP6128858 A JP 6128858A JP 12885894 A JP12885894 A JP 12885894A JP H0721965 A JPH0721965 A JP H0721965A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H5/00—Holographic processes or apparatus using particles or using waves other than those covered by groups G03H1/00 or G03H3/00 for obtaining holograms; Processes or apparatus for obtaining an optical image from them
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/151—Electrostatic means
- H01J2237/1514—Prisms
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 物体構造を一層正確に特定できる電子ビーム
装置における物体構造試験方法を提供する。 【構成】 相互にコヒーレントな２本の電子ビームを用
いて物体に付けて定在波を照射する。２本のビームは試
験すべき物体の表面の内部又は近傍に干渉パターンを形
成する。この干渉パターンの方向及びパターンピッチは
物体の結晶構造に対応し、物体構造の位相及び振幅情報
を決定することができる。
装置における物体構造試験方法を提供する。 【構成】 相互にコヒーレントな２本の電子ビームを用
いて物体に付けて定在波を照射する。２本のビームは試
験すべき物体の表面の内部又は近傍に干渉パターンを形
成する。この干渉パターンの方向及びパターンピッチは
物体の結晶構造に対応し、物体構造の位相及び振幅情報
を決定することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、相互にコヒーレントな
２本の電子ビームにより電子ビーム装置において物体構
造を試験する方法に関するものである。また、本発明
は、このような方法を実施するための電子ビーム装置に
関するものである。
２本の電子ビームにより電子ビーム装置において物体構
造を試験する方法に関するものである。また、本発明
は、このような方法を実施するための電子ビーム装置に
関するものである。
【０００２】欧州特許出願第４７２２３５号明細書に焦
点変化再生を利用して、透過型電子顕微鏡において試料
から出射する電子ビームの波動関数の位相及び振幅を観
察する方法が開示されている。この既知の方法は物体構
造に関する情報を収集することを目的としているが、こ
の方法は相互にコヒーレントな電子ビームを利用してい
ないし、透過型電子顕微鏡にしか適用することができな
い。
点変化再生を利用して、透過型電子顕微鏡において試料
から出射する電子ビームの波動関数の位相及び振幅を観
察する方法が開示されている。この既知の方法は物体構
造に関する情報を収集することを目的としているが、こ
の方法は相互にコヒーレントな電子ビームを利用してい
ないし、透過型電子顕微鏡にしか適用することができな
い。
【０００３】別の公知文献として、１９９１年１１月４
日に発行された雑誌「アプライドフィジクス レター」
５９（１９）、第２３７２頁〜２３７４頁に記載されて
いる文献がある。この文献には、相互にコヒーレントな
２本の電子ビームを用いてホログラムを形成し、物体を
通過した電子ビームの位相及び振幅を試験する方法が記
載されている。
日に発行された雑誌「アプライドフィジクス レター」
５９（１９）、第２３７２頁〜２３７４頁に記載されて
いる文献がある。この文献には、相互にコヒーレントな
２本の電子ビームを用いてホログラムを形成し、物体を
通過した電子ビームの位相及び振幅を試験する方法が記
載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記方法は、直接結像
法を超える優れた利点があるが、本質的に固有の制約を
受ける。ホログラム法の主要な制約は、注目する領域を
電子ビームが相互作用することなく通過できる領域に接
近させる必要があること、並びに情報の多くが用いられ
る電子光学系の色収差に起因して喪失してしまうことで
ある。さらに、この方法を実施するための装置は基本的
な適合性が必要であり、球面収差により試料の点情報が
ずれてしまい、さらに、この方法では記録されるべき画
素の数を大幅に超える数の検出素子を有する画像検出器
を必要とする。焦点変化再生法の主な制約は、低い空間
周波数域において位相コントラストが得られないこと、
及び高い空間周波数域において色収差により情報の多く
が喪失してしまうことである。さらに、多数の画像情報
（１０倍又はそれ以上）を結合する必要があるため、点
情報がずれてしまう問題もある。さらに、非線形効果の
場合、反復計算法を用いなければならず、画像の再構成
に長時間かかる欠点もある。
法を超える優れた利点があるが、本質的に固有の制約を
受ける。ホログラム法の主要な制約は、注目する領域を
電子ビームが相互作用することなく通過できる領域に接
近させる必要があること、並びに情報の多くが用いられ
る電子光学系の色収差に起因して喪失してしまうことで
ある。さらに、この方法を実施するための装置は基本的
な適合性が必要であり、球面収差により試料の点情報が
ずれてしまい、さらに、この方法では記録されるべき画
素の数を大幅に超える数の検出素子を有する画像検出器
を必要とする。焦点変化再生法の主な制約は、低い空間
周波数域において位相コントラストが得られないこと、
及び高い空間周波数域において色収差により情報の多く
が喪失してしまうことである。さらに、多数の画像情報
（１０倍又はそれ以上）を結合する必要があるため、点
情報がずれてしまう問題もある。さらに、非線形効果の
場合、反復計算法を用いなければならず、画像の再構成
に長時間かかる欠点もある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、上述し
た制約及び困難性を解決することにある。この目的を達
成するため、本発明による電子ビーム装置における物体
構造試験方法は、相互にコヒーレントな２本の電子ビー
ムを物体の共通部分に照射して干渉パターンを発生さ
せ、試験させる物体の構造と相関する情報を検出するこ
とを特徴とする。
た制約及び困難性を解決することにある。この目的を達
成するため、本発明による電子ビーム装置における物体
構造試験方法は、相互にコヒーレントな２本の電子ビー
ムを物体の共通部分に照射して干渉パターンを発生さ
せ、試験させる物体の構造と相関する情報を検出するこ
とを特徴とする。
【０００６】本発明による方法は、物体の第１の電子ビ
ームが入射した位置と同一の位置に入射する基準ビーム
を用いる。基準ビームは、第１のビーム又は第１のビー
ムによって形成される回折ビームと関連して干渉パター
ンが形成されるように予め定めた角度だけ傾斜させる。
この干渉パターンから、物体の構造に関連する情報を有
する信号を検出する。基準ビームが第１ビームから形成
される回折ビームと同一線上にある場合、位相及び振幅
情報を物体の像面で観察することができる。
ームが入射した位置と同一の位置に入射する基準ビーム
を用いる。基準ビームは、第１のビーム又は第１のビー
ムによって形成される回折ビームと関連して干渉パター
ンが形成されるように予め定めた角度だけ傾斜させる。
この干渉パターンから、物体の構造に関連する情報を有
する信号を検出する。基準ビームが第１ビームから形成
される回折ビームと同一線上にある場合、位相及び振幅
情報を物体の像面で観察することができる。
【０００７】一般的に、基準ビームの回折現像を考慮す
る必要がある。２本のビームの回折プロセス又は散乱プ
ロセスは、全体として互いに独立しており、例えば対物
レンズの後側焦点面に２個の回折パターンが生ずるもの
と考えることができる。２本の照射ビームが相互にコヒ
ーレントな場合、２個の回折パターンは干渉し合うこと
になる。
る必要がある。２本のビームの回折プロセス又は散乱プ
ロセスは、全体として互いに独立しており、例えば対物
レンズの後側焦点面に２個の回折パターンが生ずるもの
と考えることができる。２本の照射ビームが相互にコヒ
ーレントな場合、２個の回折パターンは干渉し合うこと
になる。
【０００８】好適実施例においては、第１の電子ビーム
を物体に照射し、この第１の電子ビームの回折された電
子ビームの方向と同一線上の方向に基準電子ビームを前
記物体に照射して結合されたビームを形成し、結合され
たビーム中の電子流を回折された電子ビームと基準電子
ビームとの間の相対位相差の関数として測定し、前記回
折された電子ビームの振幅及び位相を共に決定する。
を物体に照射し、この第１の電子ビームの回折された電
子ビームの方向と同一線上の方向に基準電子ビームを前
記物体に照射して結合されたビームを形成し、結合され
たビーム中の電子流を回折された電子ビームと基準電子
ビームとの間の相対位相差の関数として測定し、前記回
折された電子ビームの振幅及び位相を共に決定する。
【０００９】この方法は、前述した既知のホログラム法
及び焦点ずれ法に対して直接置き換わるものであり、こ
れら既知の方法の欠点を生ずることなく位相及び振幅情
報を得ることができる。ＣＣＤカメラの形態のものを用
いてビーム電流の位置感知測定を行うことができる。結
合ビーム中の局部電流が適切に測定されれば、画像の再
構成や画像積分を行うことなく位相及び振幅に関する全
ての情報が得られる。
及び焦点ずれ法に対して直接置き換わるものであり、こ
れら既知の方法の欠点を生ずることなく位相及び振幅情
報を得ることができる。ＣＣＤカメラの形態のものを用
いてビーム電流の位置感知測定を行うことができる。結
合ビーム中の局部電流が適切に測定されれば、画像の再
構成や画像積分を行うことなく位相及び振幅に関する全
ての情報が得られる。
【００１０】好適実施例において、測定はフーリエ変換
計算によって実行される。この計算は、結合ビームによ
って物体の像面中に発生する予定の画像について行う。
第１の電子ビームの零次回折ビームを絞ることにより信
号を増強することができる。この信号増強は、例えばス
リット条の絞りにより行うことができる。同様に、基準
ビームからの回折ビームは、第１の照射ビームの零次照
射ビームの方向に回折されたビームのように測定すべき
信号に対して反対の効果を有するので、開口を有する部
材により遮蔽することができる。
計算によって実行される。この計算は、結合ビームによ
って物体の像面中に発生する予定の画像について行う。
第１の電子ビームの零次回折ビームを絞ることにより信
号を増強することができる。この信号増強は、例えばス
リット条の絞りにより行うことができる。同様に、基準
ビームからの回折ビームは、第１の照射ビームの零次照
射ビームの方向に回折されたビームのように測定すべき
信号に対して反対の効果を有するので、開口を有する部
材により遮蔽することができる。
【００１１】試験すべき物体を相互にコヒーレントな２
本の電子ビームで照射して物体上に干渉パターンを形成
すると、上述した弾性散乱ビーム以外の信号を検出する
ことができる。例えば、後方散乱電子、非弾性散乱電
子、Ｘ線又はオージェ電子を検出することができる。非
弾性散乱電子は物体中でのエネルギー喪失量に基づき取
り出すことができる。
本の電子ビームで照射して物体上に干渉パターンを形成
すると、上述した弾性散乱ビーム以外の信号を検出する
ことができる。例えば、後方散乱電子、非弾性散乱電
子、Ｘ線又はオージェ電子を検出することができる。非
弾性散乱電子は物体中でのエネルギー喪失量に基づき取
り出すことができる。
【００１２】物体がｙ方向にｄの原子間隔を有する結晶
体の場合、本発明によればピッチｄのラインを有する干
渉パターンを物体表面上に発生させることができる。電
子が結晶体の原子上に入射するように干渉パターンのラ
インを配置すれば、電子が結晶体の原子と原子との間に
入射すると、例えばＸ線のような信号は一層大きくな
る。この結果、相対間隔ｄの特定の種類の原子の数及び
これら原子の干渉パターンの位置に対する相対位置を検
出することができる。
体の場合、本発明によればピッチｄのラインを有する干
渉パターンを物体表面上に発生させることができる。電
子が結晶体の原子上に入射するように干渉パターンのラ
インを配置すれば、電子が結晶体の原子と原子との間に
入射すると、例えばＸ線のような信号は一層大きくな
る。この結果、相対間隔ｄの特定の種類の原子の数及び
これら原子の干渉パターンの位置に対する相対位置を検
出することができる。
【００１３】上述した方法は、１９８８年に発行された
雑誌「ウルトラ マイクロスコピー」２４に記載されて
いるＡＬＣＨＥＭＩ法にある程度類似している。しかし
ながら、ＡＬＣＨＥＭＩ法では、干渉パターンは試験す
べき物体である結晶性物体の上部層構造によって発生さ
せている。従って、このＡＬＣＨＥＭＩ法は本発明によ
る方法とは本質的に相違しほとんど本発明に適用するこ
とはできない。この理由は、試料が結晶構造であること
が干渉パターン形成の因子になっているからである。
雑誌「ウルトラ マイクロスコピー」２４に記載されて
いるＡＬＣＨＥＭＩ法にある程度類似している。しかし
ながら、ＡＬＣＨＥＭＩ法では、干渉パターンは試験す
べき物体である結晶性物体の上部層構造によって発生さ
せている。従って、このＡＬＣＨＥＭＩ法は本発明によ
る方法とは本質的に相違しほとんど本発明に適用するこ
とはできない。この理由は、試料が結晶構造であること
が干渉パターン形成の因子になっているからである。
【００１４】好適実施例によれば、結晶表面構造から出
射する信号が振幅又はエネルギー識別を受ける測定方法
をもちいることができるので、例えば結晶表面構造につ
いて一層基本的な試験を行うことができる。この方法に
より、特にオージェ電子の発生深さを決定することがで
き、従って表面構造の試験を一層改良することができ
る。
射する信号が振幅又はエネルギー識別を受ける測定方法
をもちいることができるので、例えば結晶表面構造につ
いて一層基本的な試験を行うことができる。この方法に
より、特にオージェ電子の発生深さを決定することがで
き、従って表面構造の試験を一層改良することができ
る。
【００１５】本発明による試験方法を実施する装置の好
適実施例は、例えば回転可能な結晶体、二重ビーム選択
絞り及び前記結晶体を物体上に結像する電子光学系を有
し、二重ビーム照射を行なうことを特徴とする。電子バ
イプリズムを物体に対して僅かに焦点をずらして結像し
て２本の干渉ビームを形成する必要がある。結晶体は、
例えば二重ビーム選択絞り及び結像光学系を用いて物体
上に結像させる。
適実施例は、例えば回転可能な結晶体、二重ビーム選択
絞り及び前記結晶体を物体上に結像する電子光学系を有
し、二重ビーム照射を行なうことを特徴とする。電子バ
イプリズムを物体に対して僅かに焦点をずらして結像し
て２本の干渉ビームを形成する必要がある。結晶体は、
例えば二重ビーム選択絞り及び結像光学系を用いて物体
上に結像させる。
【００１６】好適実施例では、非回転結晶体及びレンズ
磁界を用いて結像電子ビームに外乱作用を与えることな
く結晶体の像を回転させる。
磁界を用いて結像電子ビームに外乱作用を与えることな
く結晶体の像を回転させる。
【００１７】別の実施例では、ビーム傾斜装置を用いて
両方の照射ビームを対物レンズを対称的に通過させ、対
物レンズによって生ずる色収差に起因するエネルギー依
存性位相シフトの発生を防止する。
両方の照射ビームを対物レンズを対称的に通過させ、対
物レンズによって生ずる色収差に起因するエネルギー依
存性位相シフトの発生を防止する。
【００１８】測定されるべき信号は、多重極磁界を用い
ることにより及び／又は結晶体中又は別の光学素子中で
生ずる色収差を予め補償することにより増強することが
できる。
ることにより及び／又は結晶体中又は別の光学素子中で
生ずる色収差を予め補償することにより増強することが
できる。
【００１９】
【実施例】図１は電子鏡から放出された電子ビーム２を
示す。電子銃４は、好ましくは電界放出チィップ６を有
する電界放射型電子鏡で構成する。電子ビームは、照射
系１０により、電子バイプリズム又はビーム分割素子と
して作用する結晶体のような電子ビーム分割装置８に向
けて進行する。本例では、照射系１０は、２個のコンデ
ンサレンズ１２及び１４と第１の“２重（twin)"レンズ
系１８の上側部分１６とを備える。この“２重”レンズ
系は米国特許第４３０６１４９号明細書に記載されてい
る。ビームストップ絞り１５をコンデンサレンズ系に付
加することができる。２本の電子ビーム２０及び２２が
ビーム分割装置８から出射し、これら２本のビームが交
差すると干渉ラインパターンが形成される。これら２本
の電子ビームは第２の照射系２６により物体２４に向け
て入射する。本例では、第２の照射系２６は第１の“二
重”レンズ系１８の下側部分２８と、２個のコンデンサ
レンズ３０及び３２と、第２の“二重”レンズ系３６の
上側部分３４とを具える。コンデンサレンズ３０及び３
２の励起により干渉パターンのラインピッチが制御され
る。第２の照射系２６は、ラインピッチが変化すること
なく干渉パターンが回転するように動作する。本例で
は、この動作は、二重の磁気ギャップ及び２個の励起コ
イルを有するコンデンサレンズを用いることにより行な
う。偏向コイル３８は試験されるべき物体の照射領域の
位置を決定する。同時に、偏向コイル３８は２本の照射
ビーム２０及び２２の相対位相を決定する。本例の装置
はＸ線検出器４０も具える。尚、このＸ線検出器は電子
検出器で置き換えることもできる。この電子レンズ系の
回折面１２にビームストップ４４を配置することがで
き、結像動作モード又は回折動作モード中に通常のＴＥ
Ｍ系の一部を構成するレンズ４６を配置することができ
る。２本のビームは面４８で再度交差する。好ましい回
折モード中に２本の照射ビームの相対位相に応じてつま
り２本の照射ビーム間の位相シフトに応じて物体の回折
パターンが面４２において検出され或いは面４８に拡大
像として結像され、この結果物体に関する一般的な情報
が与えられる。
示す。電子銃４は、好ましくは電界放出チィップ６を有
する電界放射型電子鏡で構成する。電子ビームは、照射
系１０により、電子バイプリズム又はビーム分割素子と
して作用する結晶体のような電子ビーム分割装置８に向
けて進行する。本例では、照射系１０は、２個のコンデ
ンサレンズ１２及び１４と第１の“２重（twin)"レンズ
系１８の上側部分１６とを備える。この“２重”レンズ
系は米国特許第４３０６１４９号明細書に記載されてい
る。ビームストップ絞り１５をコンデンサレンズ系に付
加することができる。２本の電子ビーム２０及び２２が
ビーム分割装置８から出射し、これら２本のビームが交
差すると干渉ラインパターンが形成される。これら２本
の電子ビームは第２の照射系２６により物体２４に向け
て入射する。本例では、第２の照射系２６は第１の“二
重”レンズ系１８の下側部分２８と、２個のコンデンサ
レンズ３０及び３２と、第２の“二重”レンズ系３６の
上側部分３４とを具える。コンデンサレンズ３０及び３
２の励起により干渉パターンのラインピッチが制御され
る。第２の照射系２６は、ラインピッチが変化すること
なく干渉パターンが回転するように動作する。本例で
は、この動作は、二重の磁気ギャップ及び２個の励起コ
イルを有するコンデンサレンズを用いることにより行な
う。偏向コイル３８は試験されるべき物体の照射領域の
位置を決定する。同時に、偏向コイル３８は２本の照射
ビーム２０及び２２の相対位相を決定する。本例の装置
はＸ線検出器４０も具える。尚、このＸ線検出器は電子
検出器で置き換えることもできる。この電子レンズ系の
回折面１２にビームストップ４４を配置することがで
き、結像動作モード又は回折動作モード中に通常のＴＥ
Ｍ系の一部を構成するレンズ４６を配置することができ
る。２本のビームは面４８で再度交差する。好ましい回
折モード中に２本の照射ビームの相対位相に応じてつま
り２本の照射ビーム間の位相シフトに応じて物体の回折
パターンが面４２において検出され或いは面４８に拡大
像として結像され、この結果物体に関する一般的な情報
が与えられる。
【００２０】別の動作モード中において、Ｘ線、オージ
ュ電子、２次電子又は反射電子のような物体からの信号
が２本の照射ビーム間の位相差の関数として検出され
る。この試験により、例えば結晶中のある原子形態のよ
うな別の情報が比較的低いＳ／Ｎ比で発生する。
ュ電子、２次電子又は反射電子のような物体からの信号
が２本の照射ビーム間の位相差の関数として検出され
る。この試験により、例えば結晶中のある原子形態のよ
うな別の情報が比較的低いＳ／Ｎ比で発生する。
【００２１】別の動作モードにおいて、物体の拡大像が
形成され、フーリエ成分の振幅が２本の照射ビームの相
対位相の関数として決定される。このモードにおいて、
基準ビーム及び回折したビームを、既知の照射系の一部
を構成する傾き検出コイル系を用いて光軸５０に沿って
進行させることが望ましい。
形成され、フーリエ成分の振幅が２本の照射ビームの相
対位相の関数として決定される。このモードにおいて、
基準ビーム及び回折したビームを、既知の照射系の一部
を構成する傾き検出コイル系を用いて光軸５０に沿って
進行させることが望ましい。
【図１】本発明による物体試験装置を実施するのに好適
な透過型電子顕微鏡装置を示す線図である。
な透過型電子顕微鏡装置を示す線図である。
４ 電子銃 ６ 電子放出チィップ ８ 電子ビーム分割装置 １０ 第１の照射系 １２，１４，３０，３２ コンデンサレンズ １８ 二重レンズ系 ２４ 物体 ２６ 第２の照射系 ３８ 偏向コイル ４４ ヒーム絞り
Claims (12)
- 【請求項１】 相互にコヒーレントな２本の電子ビーム
により電子ビーム装置において物体構造を試験するに際
し、 相互にコヒーレントな２本の電子ビームを物体の共通部
分に照射して干渉パターンを発生させ、試験させるべき
物体の構造と相関する情報を検出することを特徴とする
電子ビーム装置における物体構造試験方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の方法において、第１の
電子ビームを物体に照射し、この第１の電子ビームの回
折された電子ビームの方向と同一線上の方向に基準電子
ビームを前記物体に照射して結合されたビームを形成
し、結合されたビーム中の電子流を、回折された電子ビ
ームと基準電子ビームとの間の相対位相差の関数として
測定し、前記回折された電子ビームの振幅及び位相を共
に決定することを特徴とする電子ビーム装置における物
体構造試験方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の方法において、基準電
子ビームを物体を経て照射し、前記回折した電子ビーム
を用いて物体の像面に干渉パターンを発生させ、干渉パ
ターンの像のフーリエ変換によって取り出した干渉パタ
ーンの振幅を、回折したビームと基準ビームとの間の相
対位相差の関数として表わすことを特徴とする電子ビー
ム装置における物体構造試験方法。 - 【請求項４】 請求項２又は３に記載の方法において、
前記第１の電子ビームから取り出された零次回折ビーム
を絞りにより絞ることを特徴とする電子ビーム装置にお
ける物体構造試験方法。 - 【請求項５】 請求項２，３又は４に記載の方法におい
て、基準ビームによって形成され、第１の電子ビームの
零次回折ビームとの干渉によって物体の結像面に同様な
干渉パターンを形成する回折されたビームを開口を有す
る部材によって遮蔽することを特徴とする電子ビーム装
置における物体構造試験方法。 - 【請求項６】 請求項１に記載の方法において、前記物
体に関する干渉パターンを形成し、物体の原子構造の特
性である信号を、物体の干渉パターンの位置の関数とし
て検出することを特徴とする電子ビーム装置における物
体構造試験方法。 - 【請求項７】 請求項１から６までのいずれか１項に記
載の方法を実施するための電子ビーム装置において、前
記物体上に僅かに焦点をずらして結像される回転可能な
電子バイプリズムを具え、定在波の照射を行なうことを
特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項８】 請求項１から４までのいずれか１項に記
載の方法を実施するための電子ビーム装置において、回
転可能な結晶体、二重ビーム選択絞り及び前記結晶体を
物体上に結像する電子光学系を有し、二重ビーム照射を
行なうことを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項９】 請求項１から４までのいずれか１項に記
載の方法を実施するための電子ビーム装置において、回
転不能な結晶体及び絞りと、前記結晶体と物体との間に
磁界を発生させる手段とを具え、結像性、倍率又は焦点
に影響を与えることなく前記結晶体の像を回転させるこ
とを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項１０】 請求項７，８又は９に記載の電子ビー
ム装置において、ビーム傾斜装置を具え、回折されたビ
ーム及び基準ビームを対物レンズを対称的に通過させ、
色収差により前記対物レンズに生ずるエネルギー依存性
相対位相シフトを除去するように構成したことを特徴と
する電子ビーム装置。 - 【請求項１１】 請求項７，８又は９に記載の電子ビー
ム装置において、複数の多重極レンズを有することを特
徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項１２】 請求項７，８，９，１０又は１１に記
載の電子ビーム装置において、対物レンズの色収差を、
前記結晶体及び／又は別の光学素子の色効果によって補
償するように構成したことを特徴とする電子ビーム装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP93201652 | 1993-06-10 | ||
| NL93201652:0 | 1993-06-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721965A true JPH0721965A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=8213884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6128858A Pending JPH0721965A (ja) | 1993-06-10 | 1994-06-10 | 電子ビーム装置における物体構造試験方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0628984A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0721965A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008021626A (ja) * | 2006-06-15 | 2008-01-31 | Tohoku Univ | 電子顕微鏡、電子線ホログラム作成方法及び位相再生画像作成方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010077675A2 (en) * | 2008-12-09 | 2010-07-08 | Zygo Corporation | Two grating lateral shearing wavefront sensor |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2651154B2 (ja) * | 1987-09-04 | 1997-09-10 | 株式会社日立製作所 | 電子線ホログラフィ装置 |
| NL9001800A (nl) * | 1990-08-10 | 1992-03-02 | Philips Nv | Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop. |
-
1994
- 1994-06-03 EP EP94201585A patent/EP0628984A1/en not_active Withdrawn
- 1994-06-10 JP JP6128858A patent/JPH0721965A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008021626A (ja) * | 2006-06-15 | 2008-01-31 | Tohoku Univ | 電子顕微鏡、電子線ホログラム作成方法及び位相再生画像作成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0628984A1 (en) | 1994-12-14 |
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